JP3040788B2 - 洗浄乾燥装置 - Google Patents
洗浄乾燥装置Info
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- JP3040788B2 JP3040788B2 JP2042477A JP4247790A JP3040788B2 JP 3040788 B2 JP3040788 B2 JP 3040788B2 JP 2042477 A JP2042477 A JP 2042477A JP 4247790 A JP4247790 A JP 4247790A JP 3040788 B2 JP3040788 B2 JP 3040788B2
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- Japan
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- tank
- cleaning
- washing
- processing chamber
- inert gas
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は洗浄乾燥装置に関するものである。
（従来の技術） 従来の洗浄槽の多くは上部開放型であり、薬液を混
合、昇温させて洗浄を行っていた。
合、昇温させて洗浄を行っていた。
一方、洗浄槽に音響エネルギーを印加して洗浄を行う
手段、加減圧を利用した洗浄手段、或いはスプレーを用
いた洗浄手段等もそれぞれ単独で用いられていた。
手段、加減圧を利用した洗浄手段、或いはスプレーを用
いた洗浄手段等もそれぞれ単独で用いられていた。
（発明家解決しようとする手段） 前記の各種洗浄手段は夫々別々に実施されるので、環
境的にも、効率的にもそれぞれ下記に示すような問題が
あつた。
境的にも、効率的にもそれぞれ下記に示すような問題が
あつた。
（１）大気開放型の場合、薬液飛散量及び排気量が大き
くなる欠点がある。
くなる欠点がある。
（２）大気圧下で音響エネルギーを印加しても化学反応
温度は低下し、高アスペクト比微細ホール内への液の浸
入は難かしい。
温度は低下し、高アスペクト比微細ホール内への液の浸
入は難かしい。
（３）密閉構造内において加減圧を利用して薬液洗浄を
行う場合には、薬液の高アスペクト比微細ホール内への
浸入は可能であるが、微細ホール内からの除去汚染物の
拡散及び微細ホール内での反応効率は悪かった。
行う場合には、薬液の高アスペクト比微細ホール内への
浸入は可能であるが、微細ホール内からの除去汚染物の
拡散及び微細ホール内での反応効率は悪かった。
（４）従来のテフロン密閉槽は耐薬性は高いが、ヤング
率が小さく、ボアソン比が大きく、耐圧強度が低かっ
た。又、音響エネルギの印加も困難であった。
率が小さく、ボアソン比が大きく、耐圧強度が低かっ
た。又、音響エネルギの印加も困難であった。
（５）種々の洗浄液の処理及びリンス工程のために槽数
が増加してしまい、それに伴い、設置スペースも増大す
る。
が増加してしまい、それに伴い、設置スペースも増大す
る。
（６）過大な薬液収容量を必要としていた。
本発明は、従来の単一洗浄技術では不可能であった高
アスペクト比微細ホール内洗浄を加減圧スイープ洗浄、
音響振動エネルギー印加洗浄、光化学反応洗浄などを複
合的に用いることにより可能にする洗浄乾燥装置を提供
するのを目的とする。
アスペクト比微細ホール内洗浄を加減圧スイープ洗浄、
音響振動エネルギー印加洗浄、光化学反応洗浄などを複
合的に用いることにより可能にする洗浄乾燥装置を提供
するのを目的とする。
（課題を解決するための手段） この発明は、蓋２で密閉できる有底筒形をした石英製
の洗浄槽１の槽内を高さの低い一対の隔壁14、14で仕切
って、高さの低い処理室Ａとその両側に位置した高さの
高い外室Ｂとに分離し、これら処理室Ａ及び外室Ｂの底
面にそれぞれ真空ポンプに接続した処理室ドレーン７及
び外室ドレーン８を設けると共に、切換バルブを介して
不活性ガス、各種洗浄液、純水を処理槽Ａ内に選択的に
注入できる注入管９を前記処理室Ａ内に配設し、更に洗
浄槽１内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給管10を
前記外室Ｂの上部壁面に開口せしめ、単一の洗浄槽で各
種洗浄工程を順次実施し得る様にすることにより、上記
課題を解決せんとするものである。
の洗浄槽１の槽内を高さの低い一対の隔壁14、14で仕切
って、高さの低い処理室Ａとその両側に位置した高さの
高い外室Ｂとに分離し、これら処理室Ａ及び外室Ｂの底
面にそれぞれ真空ポンプに接続した処理室ドレーン７及
び外室ドレーン８を設けると共に、切換バルブを介して
不活性ガス、各種洗浄液、純水を処理槽Ａ内に選択的に
注入できる注入管９を前記処理室Ａ内に配設し、更に洗
浄槽１内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給管10を
前記外室Ｂの上部壁面に開口せしめ、単一の洗浄槽で各
種洗浄工程を順次実施し得る様にすることにより、上記
課題を解決せんとするものである。
（作用） 本発明は前記のように構成したもので、ウエハーを処
理室内にセットして蓋で密閉し、注入管及び不活性ガス
供給管を閉じ、処理室ドレーンと外室ドレーンから真空
ポンプで減圧し、その後注入管から洗浄液を処理室に注
入して洗浄を行い、外室Ｂに洗浄液をオーバーフローさ
せ、外室ドレーンを開放して大気圧に戻す。
理室内にセットして蓋で密閉し、注入管及び不活性ガス
供給管を閉じ、処理室ドレーンと外室ドレーンから真空
ポンプで減圧し、その後注入管から洗浄液を処理室に注
入して洗浄を行い、外室Ｂに洗浄液をオーバーフローさ
せ、外室ドレーンを開放して大気圧に戻す。
次に、処理室ドレーン及び外室ドレーンを開放し、注
入管及び不活性ガス供給管から不活性ガスを注入して残
液を全て強制的に排出する。
入管及び不活性ガス供給管から不活性ガスを注入して残
液を全て強制的に排出する。
次に、処理室ドレーンと外室ドレーンを閉じ、注入管
のバルブを切換えて純水を処理室内に注入してウエハー
をリンスすると共に注入管もリンスする。その後、処理
室ドレーンと外室ドレーンを開放してリンス後の純水を
排出させ、注入管及び不活性ガス供給管から不活性ガス
を注入して残液を強制的に排出させる。
のバルブを切換えて純水を処理室内に注入してウエハー
をリンスすると共に注入管もリンスする。その後、処理
室ドレーンと外室ドレーンを開放してリンス後の純水を
排出させ、注入管及び不活性ガス供給管から不活性ガス
を注入して残液を強制的に排出させる。
前記サイクルを注入管から注入する洗浄液の種類を代
えて所望回数実施し、その後ウエハーを乾燥させる。
えて所望回数実施し、その後ウエハーを乾燥させる。
尚、洗浄及びリンス中に音響エネルギー発生素子を駆
動させて被洗浄物に音響振動エネルギーを与えることも
できる。
動させて被洗浄物に音響振動エネルギーを与えることも
できる。
又、光反応エネルギー発生源を駆動して洗浄、リンス
及び乾燥工程中に光化学反応を起こさせることもでき
る。
及び乾燥工程中に光化学反応を起こさせることもでき
る。
（実施例） 本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
蓋２で密閉できる有底筒形をした石英製の洗浄槽１の
槽内は、高さの低い一対の隔壁14,14で仕切られ、高さ
の低い処理室Ａとその両側に位置した高さの高い外室Ｂ
とに分離されている。
槽内は、高さの低い一対の隔壁14,14で仕切られ、高さ
の低い処理室Ａとその両側に位置した高さの高い外室Ｂ
とに分離されている。
３は蓋２と洗浄槽１の上端縁との間に設けられたシー
ル材である。この洗浄槽１はそれより内径及び高さが大
きい間接槽４内の中央にその底面を浮かした状態でセッ
トされ、音響エネルギー伝搬媒体である水５にその下部
が浸漬されている。
ル材である。この洗浄槽１はそれより内径及び高さが大
きい間接槽４内の中央にその底面を浮かした状態でセッ
トされ、音響エネルギー伝搬媒体である水５にその下部
が浸漬されている。
この洗浄槽１の底面６は第２図に示すように傾斜して
おり、その下方寄りには処理室ドレーン７と外室ドレー
ン8,8′とが設けられており、他端を間接槽４外に延設
して処理室Ａからオーバーフローした液を外室ドレーン
8,8′により間接槽４外に排出するようになっている。
おり、その下方寄りには処理室ドレーン７と外室ドレー
ン8,8′とが設けられており、他端を間接槽４外に延設
して処理室Ａからオーバーフローした液を外室ドレーン
8,8′により間接槽４外に排出するようになっている。
又、処理室Ａ内の下部には、下向きにスプレーする注
入管９が配設されており、この注入管９により、N2のよ
うな不活性ガス、各種の洗浄液、純水等を切換えバルブ
（図示省略）を介して処理室Ａ内に供給できるようにな
っている。
入管９が配設されており、この注入管９により、N2のよ
うな不活性ガス、各種の洗浄液、純水等を切換えバルブ
（図示省略）を介して処理室Ａ内に供給できるようにな
っている。
更に、外室Ｂとなっている洗浄槽１の上部壁面には不
活性ガス供給管10が開口せしめられている。
活性ガス供給管10が開口せしめられている。
一方、洗浄槽１の外周にはIRヒータ及びUVランプを交
互或いは単独に巻付けた光反応エネルギー発生源11が囲
繞せしめられており、その外側には反射メタルが蒸着さ
れている。なお、洗浄槽１は石英製なので光反応エネル
ギーはその壁面を十分に透過し、槽内に到達できる。
互或いは単独に巻付けた光反応エネルギー発生源11が囲
繞せしめられており、その外側には反射メタルが蒸着さ
れている。なお、洗浄槽１は石英製なので光反応エネル
ギーはその壁面を十分に透過し、槽内に到達できる。
図中12は超音波振動子のような音響エネルギー発生素
子である。
子である。
本実施例は前記のように構成したもので、被洗浄物で
あるウエハー13を処理室Ａにセットし、蓋２を閉じて密
閉する。その後、注入管９及び不活性ガス供給管10を閉
じ、処理室ドレーン７と外室ドレーン8,8′を真空ポン
プ（図示省略）に接続して規定の減圧値まで吸引する。
その後、注入管９より洗浄液を注入して処理室Ａ内に洗
浄液を充満させて規定時間の洗浄を行い、洗浄液を外室
Ｂにオーバーフローさせ、大気圧に戻す。この大気圧に
戻す際には、外室ドレーン8,8′を開き且つ不活性ガス
供給管10から微圧のN2ガスを洗浄槽１内に注入し、外室
Ｂ内からの洗浄液の排出を容易にする。
あるウエハー13を処理室Ａにセットし、蓋２を閉じて密
閉する。その後、注入管９及び不活性ガス供給管10を閉
じ、処理室ドレーン７と外室ドレーン8,8′を真空ポン
プ（図示省略）に接続して規定の減圧値まで吸引する。
その後、注入管９より洗浄液を注入して処理室Ａ内に洗
浄液を充満させて規定時間の洗浄を行い、洗浄液を外室
Ｂにオーバーフローさせ、大気圧に戻す。この大気圧に
戻す際には、外室ドレーン8,8′を開き且つ不活性ガス
供給管10から微圧のN2ガスを洗浄槽１内に注入し、外室
Ｂ内からの洗浄液の排出を容易にする。
次に、洗浄槽１内及び配管内の洗浄液を排出するため
に、処理室ドレーンと外質ドレーン8,8′を開放して洗
浄液を排出させ、開放状態のまま、注入管９と不活性ガ
ス供給管10とからN2ガスを注入して残液を全て強制的に
排出させる。
に、処理室ドレーンと外質ドレーン8,8′を開放して洗
浄液を排出させ、開放状態のまま、注入管９と不活性ガ
ス供給管10とからN2ガスを注入して残液を全て強制的に
排出させる。
その後、N2ガスの注入を停止し、処理室ドレーン７と
外室ドレーン8,8′を閉じ、注入管９のバルブを切換え
純水を処理室Ａに注入し、ウエハー13もリンスする。そ
の際、減圧を併用することも可能である。
外室ドレーン8,8′を閉じ、注入管９のバルブを切換え
純水を処理室Ａに注入し、ウエハー13もリンスする。そ
の際、減圧を併用することも可能である。
リンス終了後は、処理室ドレーン７と外室ドレーン8,
8′を開放し、注入管９及び不活性ガス供給管10よりN2
ガスを注入して残純水を強制的に排出する。
8′を開放し、注入管９及び不活性ガス供給管10よりN2
ガスを注入して残純水を強制的に排出する。
前記サイクルで注入管９より注入する洗浄液の種類を
変えて所望の回数洗浄を行う。この洗浄及びリンス中に
は音響振動エネルギー発生素子12及び光反応エネルギー
発生源11を駆動することにより、洗浄槽１内に音響エネ
ルギー及び光化学反応エネルギーを単独或いは複合的に
印加し、各工程における処理をより効果的に行うことも
できる。
変えて所望の回数洗浄を行う。この洗浄及びリンス中に
は音響振動エネルギー発生素子12及び光反応エネルギー
発生源11を駆動することにより、洗浄槽１内に音響エネ
ルギー及び光化学反応エネルギーを単独或いは複合的に
印加し、各工程における処理をより効果的に行うことも
できる。
前記全洗浄工程終了後、乾燥のために処理室ドレーン
７と外室ドレーン8,8′を開放して真空ポンプで減圧す
る。その際、ウエハー13への乾燥熱供給のために、光反
応エネルギー発生源11を駆動する。規定の乾燥時間経過
後、不活性ガス供給管10よりN2ガスを注入して大気圧に
戻し、蓋２を開放して洗浄及び乾燥の終わったウエハー
13を取出し、一連の洗浄乾燥作業を終了する。
７と外室ドレーン8,8′を開放して真空ポンプで減圧す
る。その際、ウエハー13への乾燥熱供給のために、光反
応エネルギー発生源11を駆動する。規定の乾燥時間経過
後、不活性ガス供給管10よりN2ガスを注入して大気圧に
戻し、蓋２を開放して洗浄及び乾燥の終わったウエハー
13を取出し、一連の洗浄乾燥作業を終了する。
（発明の効果） 本発明は前記のような構成、作用を有するから、洗浄
槽は単独槽ではあるが、種々の洗浄液を順次供給でき、
高アスペクト比微細ホール内の完全洗浄が可能となる。
又、各種処理液使用毎に純水リンス、減圧、不活性ガス
置換を同一配管、同一槽で行うため、槽内及び配管内は
いつも清潔に保持され、洗浄液ミストの発生がない。
槽は単独槽ではあるが、種々の洗浄液を順次供給でき、
高アスペクト比微細ホール内の完全洗浄が可能となる。
又、各種処理液使用毎に純水リンス、減圧、不活性ガス
置換を同一配管、同一槽で行うため、槽内及び配管内は
いつも清潔に保持され、洗浄液ミストの発生がない。
更に、完全密閉構造のため、種々の薬液ミストによる
外部汚染もなく、槽外部の構造物の耐薬性を特に考慮し
なくても良い。
外部汚染もなく、槽外部の構造物の耐薬性を特に考慮し
なくても良い。
又、耐圧性にすぐれた石英で洗浄槽を形成し、洗浄室
を２室化したので使用洗浄液の減量が可能となり、下部
からの音響エネルギーの効果的な印加も可能となる。
又、減圧に伴う熱量損失分を外周の光反応エネルギー発
生源から槽内に供給することにより、薬液反応効率を高
めることもできる、等の効果を有し、極めて実用的であ
る。
を２室化したので使用洗浄液の減量が可能となり、下部
からの音響エネルギーの効果的な印加も可能となる。
又、減圧に伴う熱量損失分を外周の光反応エネルギー発
生源から槽内に供給することにより、薬液反応効率を高
めることもできる、等の効果を有し、極めて実用的であ
る。
第１図は本発明に係る洗浄乾燥装置の一実施例の縦断正
面図、第２図は縦断側面図、第３図は平面図である。 １……洗浄槽、２……蓋、３……シール材、４……間接
槽、５……水、６……底面、７……処理室ドレーン、8,
8′……外室ドレーン、９……注入管、10……不活性ガ
ス、11……光反応エネルギー発生源、12……音響エネル
ギー発生素子、13……ウエハー、14……隔壁、Ａ……処
理室、Ｂ……外室。
面図、第２図は縦断側面図、第３図は平面図である。 １……洗浄槽、２……蓋、３……シール材、４……間接
槽、５……水、６……底面、７……処理室ドレーン、8,
8′……外室ドレーン、９……注入管、10……不活性ガ
ス、11……光反応エネルギー発生源、12……音響エネル
ギー発生素子、13……ウエハー、14……隔壁、Ａ……処
理室、Ｂ……外室。
Claims (3)
- 【請求項１】蓋２で密閉できる有底筒形をした石英製の
洗浄槽１の槽内を高さの低い一対の隔壁14、14で仕切っ
て、高さの低い処理室Ａとその両側に位置した高さの高
い外室Ｂとに分離し、これら処理室Ａ及び外室Ｂの底面
にそれぞれ真空ポンプに接続した処理室ドレーン７及び
外室ドレーン８を設けると共に、切換バルブを介して不
活性ガス、各種洗浄液、純水を処理槽Ａ内に選択的に注
入できる注入管９を前記処理室Ａ内に配設し、更に洗浄
槽１内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給管10を前
記外室Ｂの上部壁面に開口せしめ、単一の洗浄槽で各種
洗浄工程を順次実施し得る様にしたことを特徴とする洗
浄乾燥装置。 - 【請求項２】洗浄槽１の外周に光反応エネルギー発生源
を囲繞せしめたことを特徴とする請求項（１）記載の洗
浄乾燥装置。 - 【請求項３】洗浄槽１をそれより内径及び高さが大きい
間接槽４内の中央にその底面を浮かした状態で固定し、
該間接槽４の底面外側に音響エネルギー発生素子12を設
けると共に、該間接槽４内に前記洗浄槽１の下部が浸漬
する様に音響エネルギー伝搬媒体を充填せしめたことを
特徴とする請求項（１）記載の洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2042477A JP3040788B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2042477A JP3040788B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 洗浄乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03246939A JPH03246939A (ja) | 1991-11-05 |
| JP3040788B2 true JP3040788B2 (ja) | 2000-05-15 |
Family
ID=12637145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2042477A Expired - Fee Related JP3040788B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3040788B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2541238Y2 (ja) * | 1992-12-18 | 1997-07-16 | 株式会社スガイ | 基板洗浄槽の基板浮き上がり防止装置 |
| US6138698A (en) * | 1997-11-20 | 2000-10-31 | Tokyo Electron Limited | Ultrasonic cleaning apparatus |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP2042477A patent/JP3040788B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03246939A (ja) | 1991-11-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |