JPH0320031A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
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- JPH0320031A JPH0320031A JP15545189A JP15545189A JPH0320031A JP H0320031 A JPH0320031 A JP H0320031A JP 15545189 A JP15545189 A JP 15545189A JP 15545189 A JP15545189 A JP 15545189A JP H0320031 A JPH0320031 A JP H0320031A
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- JP
- Japan
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- cleaning
- solution
- ultrasonic
- tank
- vessel
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- Pending
Links
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 40
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 16
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は超クリーンな表面処理を行う超音波洗浄装置に
関するものである。
関するものである。
従来の技術
近年、半導電集積回路の高集積化，高密度化の進展は目
覚ましく、その製造に用いられるフォトマスクやウェー
ハを超クリーンに洗浄する技術が重要視されている。
覚ましく、その製造に用いられるフォトマスクやウェー
ハを超クリーンに洗浄する技術が重要視されている。
以下に従来の超音波洗浄装置について説明する。
従来の超音波洗浄装置では洗浄槽に水溶液もしくは有機
溶液を入れオーバーフローさせながら、この中に洗浄し
たい試料を浸して単一あるいは複数の周波数の超音波で
励振し、洗浄を行っている。
溶液を入れオーバーフローさせながら、この中に洗浄し
たい試料を浸して単一あるいは複数の周波数の超音波で
励振し、洗浄を行っている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来の構或では、周波数が固定されて
いるうえ、洗浄槽内の溶液の量も常に一定であるから、
洗浄槽内部には常に一定の定在波が生じ、洗浄力が洗浄
槽内の位置によって異なるという欠点を有していた。
いるうえ、洗浄槽内の溶液の量も常に一定であるから、
洗浄槽内部には常に一定の定在波が生じ、洗浄力が洗浄
槽内の位置によって異なるという欠点を有していた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、洗浄力が
場所によらず均一な超音波洗浄装置を提供することを目
的とする。
場所によらず均一な超音波洗浄装置を提供することを目
的とする。
課題を解決するための手段
この目的を達或するために本発明の超音波洗浄装置は、
容器の側壁に洗浄溶液液面の高さを変化させる機構を設
けた構或をしている。
容器の側壁に洗浄溶液液面の高さを変化させる機構を設
けた構或をしている。
作 用
との構或によって、洗浄槽に現れる定在波を変化させ、
超音波強度のムラの位置を変え、全体として均一な洗浄
効果を得ることができる。
超音波強度のムラの位置を変え、全体として均一な洗浄
効果を得ることができる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
図は本発明の一実施例を示すものである。図中、１は超
音波洗浄槽容器（以下洗浄槽容器１という）、２は洗浄
槽容器１の底部に超音波振動する超音波振動板、３は洗
浄溶液液面の高さを変える仕切りで、洗浄槽容器の側壁
に上下動可能に設けられている。４は水溶液１たぱ有機
溶液等の洗浄溶液である。
音波洗浄槽容器（以下洗浄槽容器１という）、２は洗浄
槽容器１の底部に超音波振動する超音波振動板、３は洗
浄溶液液面の高さを変える仕切りで、洗浄槽容器の側壁
に上下動可能に設けられている。４は水溶液１たぱ有機
溶液等の洗浄溶液である。
以上のように構或された超音波洗浄装置について、以下
その動作を説明する。
その動作を説明する。
１ず、洗浄槽容器１を洗浄溶液４で満たす。この時の仕
切り板３の位置は任意である。次に試料（図示せず）を
洗浄槽容器１の中にいれ、洗浄溶液４をオーバーフロー
させながら超音波で励振する。そして、励振しながら仕
切ｂ板３を上下に移動させる。
切り板３の位置は任意である。次に試料（図示せず）を
洗浄槽容器１の中にいれ、洗浄溶液４をオーバーフロー
させながら超音波で励振する。そして、励振しながら仕
切ｂ板３を上下に移動させる。
洗浄槽内の定在波は、励振の周波数と超音波振動板から
洗浄溶液液面筐での距離によって決筐る。
洗浄溶液液面筐での距離によって決筐る。
従って、仕切り板の動きに合わせて定在波はその腹と節
の位置を変えることになる。洗浄溶液中の超音波の波長
と同じだけ仕切り板を動かせば、洗浄槽内の全位置で定
在波の一周期分だけ変化するので、仕切シ板を動かす距
離は超音波の波長以上Ｗよい。例えば、洗浄溶液に水を
使い、超音波周波数が３０ＫＨｚの場合で約４０１１で
ある。
の位置を変えることになる。洗浄溶液中の超音波の波長
と同じだけ仕切り板を動かせば、洗浄槽内の全位置で定
在波の一周期分だけ変化するので、仕切シ板を動かす距
離は超音波の波長以上Ｗよい。例えば、洗浄溶液に水を
使い、超音波周波数が３０ＫＨｚの場合で約４０１１で
ある。
以上のように本実施例によれば、超音波洗浄の洗浄力を
洗浄槽内均一にできる。
洗浄槽内均一にできる。
発明の効果
以上のように本発明は、洗浄容器に洗浄溶液液面を制御
する仕切ｂ板を設けることにより、洗浄力を洗浄槽内均
一にできる優れた超音波洗浄装置を実現できる。
する仕切ｂ板を設けることにより、洗浄力を洗浄槽内均
一にできる優れた超音波洗浄装置を実現できる。
図は本発明の一実施例を示す超音波洗浄装置の斜視図で
ある。 １・・・・・・超音波洗浄槽容器、２・・・・・・超音
波振動板、３・・・・・・仕切り、４・・・・・・洗浄
容液。
ある。 １・・・・・・超音波洗浄槽容器、２・・・・・・超音
波振動板、３・・・・・・仕切り、４・・・・・・洗浄
容液。
Claims (1)
- 容器底部に超音波振動する振動板を有し、前記容器内に
水溶液または有機溶液を満たしオーバーフローさせなが
らこれに被洗浄物を浸して洗浄を行う超音波洗浄装置で
あって、前記容器の側壁に洗浄溶液液面の位置を変化さ
せる機構を備えた超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15545189A JPH0320031A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15545189A JPH0320031A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320031A true JPH0320031A (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=15606333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15545189A Pending JPH0320031A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0320031A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997039840A1 (de) * | 1996-04-24 | 1997-10-30 | Steag Microtech Gmbh | Vorrichtung zum behandeln von substraten in einem fluid-behälter |
| WO2001008200A1 (de) * | 1999-07-21 | 2001-02-01 | Steag Microtech Gmbh | Vorrichtung zum behandeln von substraten |
| US6503310B1 (en) | 1999-06-22 | 2003-01-07 | Dmc2 Degussa Metals Catalysts Cerdec Ag | Laser marking compositions and method |
| JP2009070557A (ja) * | 2008-11-17 | 2009-04-02 | Panasonic Corp | 光ピックアップヘッド装置及び光情報装置 |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP15545189A patent/JPH0320031A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997039840A1 (de) * | 1996-04-24 | 1997-10-30 | Steag Microtech Gmbh | Vorrichtung zum behandeln von substraten in einem fluid-behälter |
| US6503310B1 (en) | 1999-06-22 | 2003-01-07 | Dmc2 Degussa Metals Catalysts Cerdec Ag | Laser marking compositions and method |
| WO2001008200A1 (de) * | 1999-07-21 | 2001-02-01 | Steag Microtech Gmbh | Vorrichtung zum behandeln von substraten |
| JP2003505881A (ja) * | 1999-07-21 | 2003-02-12 | ステアーグ ミクロテヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板を処理するための装置 |
| JP4651252B2 (ja) * | 1999-07-21 | 2011-03-16 | アイメック | 基板を処理するための装置 |
| JP2009070557A (ja) * | 2008-11-17 | 2009-04-02 | Panasonic Corp | 光ピックアップヘッド装置及び光情報装置 |
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