JPS6029720B2 - 3′,4′‐ジデオキシカナマイシンbの新規な製造法 - Google Patents

3′,4′‐ジデオキシカナマイシンbの新規な製造法

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JPS6029720B2
JPS6029720B2 JP50146903A JP14690375A JPS6029720B2 JP S6029720 B2 JPS6029720 B2 JP S6029720B2 JP 50146903 A JP50146903 A JP 50146903A JP 14690375 A JP14690375 A JP 14690375A JP S6029720 B2 JPS6029720 B2 JP S6029720B2
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純夫 梅沢
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H15/00Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H15/20Carbocyclic rings
    • C07H15/22Cyclohexane rings, substituted by nitrogen atoms
    • C07H15/222Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms
    • C07H15/226Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with at least two saccharide radicals directly attached to the cyclohexane rings
    • C07H15/234Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with at least two saccharide radicals directly attached to the cyclohexane rings attached to non-adjacent ring carbon atoms of the cyclohexane rings, e.g. kanamycins, tobramycin, nebramycin, gentamicin A2
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は3,4′ージデオキシカナマィシンBの新規な
製法に関する。
3,4ージデオキシカナマイシンBは、本発明者らによ
って発明された耐性菌に有効な半合成抗生物質であって
広く臨床に使用されている薬剤である(特公昭50一7
595公報及び「ジャーナル・オブ・アンティバィオテ
ックス」2年藍485頁(1971年)参照)。
従来は3,4′−ジデオキシカナマイシンBの製法とし
ては{1} カナマイシンBを出発原料として用いて、
これとアルコキシカルボニルハロゲニドを反応させて5
個のアミノ基を保護し次いでアルデヒド、ケトンまたは
それらのアセタール又はケタールを反応させて3′,4
′位及び4″,6″位の水酸基を保護し、次いで2″位
の水酸基をアルカノィル基又はアロィル基で保護した後
、3′,4′位の水酸基の保護基を希酸で選択的に脱保
護し、次いで3′,4′位のスルホン酸ェステル化二重
結合化、水素添加を順次行い、次に4″,6″位の水酸
基の保護基を酸で脱保護した後、残余の保護基を脱離す
る方法が知られている(特公昭50−7595号公報参
照)。
‘2} またカナマイシンBを出発物質としアミノ基を
シッフ塩基化して保護し、次いで3,4位及び4″,が
位の水酸基をアセタール化又はケタ−ル化して保護し、
この誘導体を以後は前記の方法(1)と同機な工程によ
り処理して3′,4′ージデオキシカナマィシンB(以
下、DKBと略称することもある)を得る方法も知られ
ている(特関昭47一43286号公報参照)。
これらの従来方法は、アミノ基及び水酸基の保護及び脱
離が複雑でかつ収率も10%台と低い。本発明者等は、
上記従来法の欠点のない新しいDKB合成法を開発する
目的で研究した結果、カナマイシンBの5個のアミノ基
を低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基及
びアラルキルスルホニル基から選ばれたアミノ基の保護
基で保護された3,4′ージデオキシカナマイシンBを
調製し、こうして得られたペンターNースルホニル化カ
ナマイシンBに対して、4″,6″ーヒドロキシル基を
保護するためにアルキリデン化剤、アリーリデン化剤、
シク。へキシリデン化剤又はテトラヒドロピラニリデン
化剤を作用させ、これによってペンターNースルホニル
ー4″,6″ー○−保護カナマイシンBを生成させ、さ
らにこの4″,6″−0−保護体に対してピリジン中で
塩化ペンジルスルホニル又は塩化メタンスルホニル(即
ち塩化メシル)を低温で作用させて3′,4′ージ−0
ーベンジルスルホニル化生成物(又は3,4−ジ−○ー
メシル化生成物)あるいは3′,4′,2″ートリ−○
ーベンジルスルホニル化生成物(又は3′,4′,2″
−トリー○ーメシル化生成物)又はこれらの混合物を生
成させ得ることを知見した。このようにして得られたペ
ン夕−N−スルホニルー4″,6″−0−保護−3′,
4′ージー○ースルホニルー又は3′,4′,2″ート
リ−○ースルホニルカナマイシンBは、これに対して亜
鉛末を存在させることなく沃化ナトリウムのみを有機溶
剤中で作用させることによって3′,4′位のペンジル
スルホニルオキシ基又はメシルオキシ基を脱離して3,
4′位炭素結合を不飽和結合に転化できることを発見し
た。このように亜鉛末の使用を省略できることは、前出
の特公昭50−7595号及び特開昭47・−4328
6号の何れの方法でも3′,4′位不飽和結合化に際し
て亜鉛末を必要としたことから見ると全く予想外であり
、カナマイシンBのァミノ基がスルホニル化により保護
を受けていることの影響に由ると推定される。上記の3
,4′一不飽和結合化によって、ベンターNースルホニ
ル−4″,6″−○−保護−3,4′ージデオキシ−3
′−ェノカナマイシンB又はペンターNースルホニル−
4″,6″−○一味護−2″−0ースルホニルカナマィ
シンBが生成されるが、この3′−ェノ体を水素添加す
ると、対応の3′,4−ジデオキシカナマィシンB保護
体が生成され、さらにこの水素添加生成物から4″,6
″ー○−保護基を常法で脱離させると、ベンターNース
ルホニル−3,4′ージデオキシカナマイシンB又はペ
ン夕−N−スルホニルー2′一○ースルホニルー3′,
4′ージデオキシカナマィシンBが生成される。
これを液体アンモニア又はアルキルアミン、等の如き塩
基性試薬の存在下にアルカリ金属又はアルカリ士類金属
で処理すると、5個のアミノ基及び2″−ヒドロキシル
基上の保護基として存在するスルホニル基が一挙に脱離
できることも発見した。これらの知見に基づいて本発明
は完成された。従って、第1の本発明の要旨とするとこ
ろは、次の一般式(V)〔式中、RIは、低級アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基及びアラルキルス
ルホニル基から選ばれたアミノ基の保護基を表わし、R
2は水素原子、もしくは低級アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基又はアラルキルスルホニル基型のヒ
ドロキシル保護基を表わし、Yはペンジルスルホニル基
又はメシル基を表わし、×はアルキリデン基、アリーリ
デン基、シクロヘキシリデン基又はテトラヒドロピラニ
リデン基を表わす〕で表わされるペン夕−N−スルホニ
ルー4″,6″ー○−保護−3′,4′ージー○−ペン
ジルスルホニルー又はメシルーカナマィシンBを有機溶
媒中で沃化ナトリウムのみで処理することにより次の一
般式(W)〔式中、R1,R2及び×は前記と同じ意味
である〕で表わされる3,4′ージデオキシ−3−ェノ
カナマィシンB保護議導体を生成し、式(W)の化合物
を水素添加して次式(血)〔式中、R1,R2及び×は
前記と同じ意味である〕で表わされる3′,4′ージデ
オキシカナマィシンB保護誘導体を生成し、さらに式(
肌)の化合物から4″,6″−○−保護基(X)を公知
の脱保護法で脱離することによって次の一般式(0)〔
式中、RI及びR2は前記と同じ意味である〕で表わさ
れる3′,4−ジデオキシカナマィシンB保護誘導体を
生成し、式(0)の化合物を塩基性試薬の存在下にアル
カリ金属もしくはアルカリ士競金属で処理することによ
り保護基RI及びR2を脱離することを特徴とする、次
式(1)で示される3′,4′−ジデオキシカナマイシ
ンBの製造法を提供するものである。
次に第1の本発明をさらに具体的に説明する。
まず、第1の本発明の方法の出発物質である一般式(V
)で示される化合物の調製法について説明する。すなわ
ち、先づスルホニル型の保護基で5個のアミノ基を保護
された3′,4′ージデオキシカナマィシンB又はこれ
の2″−○ースルホニル化保護誘導体の調製を例えば次
の要領で行う。
カナマイシンB(遊離塩基)を炭酸ナトリウムの如きア
ルカリの存在下にジデオキサンの如き不活性の有機溶剤
中で−30〜5ぴ0の範囲で次式R3S02×〔式中、
R3S02一は前記のRIと同じスルホニル基である意
味をもち、×は塩素又は臭素である〕のスルホン酸と実
質的に化学量論的割合量で作用させる。
これによってペンターNースルホニル化カナマイシンB
が得られる。ここで基亥1及びR2の具体例を示すと、
RIについて低級アルキルスルホニル基としては例えば
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルス
ルホニル基、インプロピルスルホニル基、ブチルスルホ
ニル基があげられ、アリールスルホニル基としては例え
ばpートルェンスルホニル基、○−ニトロベンゼンスル
ホニル基、p−ニトロベンゼンスルホニル基、p−メト
キシベンゼンスルホニル基、1一又は2−ナフタレンス
ルホニル基があげられ、アラルキルスルホニル基として
はペンジルスルホニル基があげられる。
またR2について水素原子、低級アルキルスルホニル基
としては例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル
基、プロピルスルホニル基、インプロピルスルホニル基
、ブチルスルホニル基があげられ、アリールスルホニル
基としては例えばp−トルェンスルホニル基、0ーニト
。ベンゼンスルホニル基、p−ニトロベンゼンスルホニ
ル基、p−メトキシベンゼンスルホニル基、1一又は2
−ナフタレンスルホニル基があげられ、アラルキルスル
ホニル基としてはペンジルスルホニル基があげられる。
次に、ベンターNースルホニル化カナマイシンBに対し
て特公昭50−7595号公報に記載されるようにアセ
タール又はケタール基型のヒドロキシル保護基で4″,
6″−ヒドロキシル基を保護するために該公報に記載さ
れるアルキリデン化剤、アリーリデン化剤、シクロヘキ
シリデン化剤又はテトラヒド。ピラニリデン化剤を比較
的低温で例えば10〜80午○の範囲の温度で作用させ
る。これによって、4″,6″ーヒドロキシル基がアル
キリデン又はアリーリデン基、もしくはシクロヘキシリ
デン基又はテトラヒドロピラニリデン基Xで保護された
4″,6″−0一保護誘導体が生成される。さらに、こ
の4″,6″−○−保護誘導体に対して、ピリジン中で
塩化ペンジルスルホニル又は塩化メシルを低温で例えば
一30〜30qoの範囲の温度で作用させると、3′及
び4位のヒドロキシル基がペンジルスルホニル化又はメ
シル化を受け、また時には、2″位のヒドロキシル基も
ペンジルスルホニル化又はメシル化を受けるので、一般
式Vで表わされる3,4′ージー○ーベンジルスルホニ
ル(又はメシル)化生成物又はぎ,4′,2″−トリー
○ーベンジルスルホニル(又はメシル)化生成物又はこ
れらの混合物が生成される。第1の本発明の方法では、
この式Vの化合物をジメチルホルムアミドの如き不活性
の有機溶剤中で例えば50〜15ぴ0の範囲の温度で約
15分〜3時間沃化ナトリウムで処理する。これによっ
て、3,4′位から脱ペンジルスルホニルオキシ化又は
脱メシルオキシ化して式ので表わされる3′,4′ー不
飽和譲導体(3,4′−ジデオキシ−3′−ェノカナマ
ィシンB誘導体)が生成される。この式のの3′,4−
不飽和誘導体を公知の要領で、例えば特公昭50−75
95号公報の方法の接触水素還元工程と同様な反応条件
で水添すると、式Wで表わされる対応のペン夕−N−ス
ルホニルー4″,6″ー○−保護−3,4′ージデオキ
シカナマイシンBが生成される。
次にこの水添生成物から4″,6″−○−保護基を脱離
するために、該化合物を4″,6″−○−保護基の種類
に応じて公知の適当な脱保護法にかけると、前記一般式
0‘こ相当する化合物が生成されるのである。第1の本
発明の方法において、次いで反応は、塩基性試薬、例え
ばアンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
ジメチルアミン、ジエチルアミン、の如き低級ジアルキ
ルアミン;メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミ
ンの如き低級アルキルアミン;アニリン、メチルアニリ
ン、ジメチルアニリン、エチルアニリン、ジエチルアニ
リン、トルィジン、の如き低級アルキルアニリン、ベン
ジルアミン、ジベンジルアミン、ジフエニルアミン、ナ
フチルアミン、の如きアミン塩基のような塩基性試薬の
単独又はそれらの混合又は上記試薬とメタノール、エー
テル、ベンゼンなどの通常溶媒との混合体に式0の化合
物を溶解し、リチウム、ナトリウム、カリウムから選ば
れたアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム、バリウ
ムから選ばれたアルカリ士類金属のうちいずれか一種又
は二種以上を作用させて行わしめる。
この時の温度は−8ぴ〜十500で反応を行う。室温以
上で行う場合には封管内で行なう方がよい。反応時間は
0.5〜24時間が適当である。またアルカリ金属、ア
ルカリ士類金属の添加量は、一般式1の化合物に対して
10〜100モル位が適当である。さらに、これらの金
属片は、1〜数回に分けて使用することも可能である。
反応終了後、塩化アンモニウム等を加えて残余のアルカ
リ金属、アルカリ土類金属を分解し、次いで溶媒を除去
し、残溝を水に溶解し、通常用いられる精製手段例えば
カラムクロマトグラフ等で精製を行い3′,4′ージデ
オキシカナマィシンBを得る。これから硫酸塩、塩酸塩
、メタンスルホン酸塩等を製造する場合は、該化合物に
常法で酸を作用させる、例えば該化合物を水に溶解して
おき、硫酸、塩酸、メタンスルホン酸等を加えることに
よって製造することができる。さらに本発明は前記一般
式ロの化合物に対応する式mの3−ェノ誘導体を第1の
本発明の方法と同機に塩基性試薬の存在下にアルカリ金
属又はアルカリ士類金属で処理すると、同様に保護基R
I及びR2を一挙に脱離できること、またその脱保護生
成物を水素還元反応に付して3′−ェノ体の3′,4′
ー不飽和結合を飽和させると、DKBが生成することを
知見した。
次の一般式V 〔式中、RIは、低級アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基及びアラルキルスルホニル基から選ばれた
アミノ基の保護基を表わし、R2は水素原子、もしくは
低級アルキルスルホニル基、フリールスルホニル基又は
アラルキルスルホニル基型のヒドロキシル保護基を表わ
し、Yはペンジルスルホニル基又はメシル基を表わし、
×はアルキリデン基、アリーリデン基、シクロヘキシリ
デン基又はテトラヒドロピラニリデン基を表わす〕で表
わされるペン夕−N−スルホニル−4″,6″−○−保
護−3,4′−ジー0ーベンジルスルホニル一又はメシ
ルーカナマィシンBを有機溶媒中で沃化ナトリウムのみ
で処理することにより次の一般式(W)〔式中、R1,
R2及び×は前記と同じ意味である〕で表わされる3′
,4′ージデオキシー3′ーェノカナマィシンB保護誘
導体を生成し、式のの化合物から4″,6″−○−保護
基Xを公知の脱保護法で脱離することによって次の一般
式m〔式中、R1,及びR2は前記と同じ意味である〕
で表わされる3′,4′ージデオキシ−3′ーェノカナ
マィシンB保護誘導体を生成し、この式(m)の化合物
を塩基性試薬の存在下にアルカリ金属もしくはアルカリ
士類金属で処理することにより保護基RI及びR2を脱
離ごせて次式Wで示される3′,4′ージデオキシー3
′ーエノカナマィシンBを生成し、次いでこれを還元反
応に付すことを特徴とする、次式1で示される3,4−
ジデオキシカナマイシンBの製造法にある。
次に第二の本発明について具体的に説明するに、第2の
本発明の方法の各工程は第1の本発明方法の対応する工
程と同じ要領で実施できる。
ここで一般式V乃至mで示される化合物基RI及びR2
の具体例を示すと、RIについて低級アルキルスルホニ
ル基としては例えば、メチルスルホニル基、エチルスル
ホニル基、プロピルスルホニル基、インプロピルスルホ
ニル基、ブチルスルホニル基があげられ、アリールスル
ホニル基として例えばp−トルェンスルホニル基、0−
ニトロベンゼンスルホニル基、pーニトロベンゼンスル
ホニル基、pーメトキシベンゼンスルホニル基、1−又
は2−ナフタレンスルホニル基があげられ、アラルキル
スルホニル基としては、ベンジルスルホニル基があげら
れる。またR2について、水素原子、低級アルキルスル
ホニル基としては例えば、メチルスルホニル基、エチル
スルホニル基、プロピルスルホニル基、インプロピルス
ルホニル基、ブチルスルホニル基があげられ、アリール
スルホニル基としては例えばp−トルェンスルホニル基
、0−ニトロベンゼンスルホニル基、p−ニトロベンゼ
ンスルホニル基、pーメトキシベンゼンスルホニル基、
1一又は2−ナフタレンスルホニル基があげられアラル
キルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基があ
げられる。アミノ基脱保護工程の反応は第1の本発明で
用いられたと同じ塩基性試薬、例えばアンモニア、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアミン、ジ
エチルアミン、メチルアミン、エチルアミン、プロピル
アミン、アニリン、メチルアニリン、ジメチルアニリン
、エチルアニリン、ジエチルアニリン、トルイジン、ベ
ンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフエニルアミン、
ナフチルアミン等の如きアミン塩基のような塩基性試薬
の単独又はそれらの混合、又は上記試薬とメタノール、
エーテル、ベンゼンなどの通常溶媒との混合体に溶解し
、リチウム、ナトリウム、カリウムから選ばれたアルカ
リ金属、カルシウム、マグネシウム、バリウムから選ば
れたアルカリ士類金属のうちいずれか一種又は二種以上
を作用させて行わしめる。
この時の温度は−8000〜50qoで反応を行う。室
温以上で行う場合には封管内で行なう方がよい。反応時
間は0.5〜2岬時間が適当である。またアルカリ金属
、アルカリ士類金属の添加量は、一般式mの化合物に対
して10〜100モル位が適当である。さらにこれらの
金属片は、1〜数回に分けて使用することも可能である
。反応終了後、塩化アンモニウム等を加えて残余のアル
カリ金属、アルカリ士類金属を分解し、次いで溶媒を除
去し、残湾を水に溶解し、カラムクロマトグラフで精製
を行い前記の式Wで示される3,4′ージデオキシー3
−ェノカナマイシンBを得る。次いでこうして得られた
式Nの3′,4′−ジデオキシー3′ーェノカナマイシ
ンBを還元する。この還元反応は、水、メタノール、エ
タノール、ィソプロパノール、アセトン、ジオキサン、
ピリジン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド
、シクロヘキサン、酢酸エチルまたはこれらの混合溶媒
の如き不活性の溶媒に溶解し、ラネーニッケル、白金、
酸化白金、パラジウム炭素、コバルト、ロジウムコンプ
レックス、銅、鉄などの公知の水添触媒存在下に水素ガ
スを導入することにより行われる。水還元反応は−40
℃〜120℃の温度で行われるが、室温〜10ぴ0が好
ましい、。反応は常圧でも容易に進行するが5〜100
k9/洲の加圧下に行うこともできる。反応時間は0.
5〜48時間が適当である。かくして本発明の目的物質
である前記式1の3,4′−ジデオキシカナマィシンB
を得ることができる。
こうして得られた3,4′ージデオキシカナマイシンB
は、第一の本発明で述べた如く精製を行い、これから硫
酸塩、塩酸塩、メタンスルホン酸塩等の酸付加塩を製造
することができる。
以上述べた如く本発明は、カナマイシンBから収率よく
3′,4′ージデオキシカナマィシンBを製造する方法
を提供するものであるが、1 反応ステップが単純で全
収率は40%以上である2 2″位をアシル基などで保
護する工程を省略することが出釆るようになり工程が短
縮される。
3 アミノ基及び水酸基の脱保護が一度に行え、副反応
が生じない。
4 従来の方法で二重結合形成に必要であった亜鉛を必
要とせず、安価でしかも廃棄物の処理の問題も起らない
などの秀れた特長を有するものである。
参考例 1 1 ペンターN一トシルーカナマィシンBの製造カナマ
イシンB遊離塩基5.4gを水55の上に溶解し、炭酸
ソーダ6.7gを加えジオキサン110の‘を加えた。
氷冷後、塩化トシル1総(カナマイシンBIモルに対し
て約6モル)を加え1脚時間氷冷下かくはんした。反応
液を45oo付近で減圧濃縮し、濃縮液を水中に投入し
た。懸濁物(目的物)を炉取し、中性になるまで水洗し
て、さらにエーテルで洗った後、乾燥した。収量13.
8gこの物質をシリカゲルカラムクロマトによりクロロ
ホルムーェタノール(10:1)を展開系として精製し
、10.滋(73%)のペンターN一トシルーカナマイ
シンBを得た。2 ペンターN−トシル−4″,6″ー
○−シクロヘキシリデンカナマィシンBの製造ペンター
Nートシル−カナマイシンB(17雌)をジメチルホル
ムアミド17m‘に溶解し、よく乾燥したpートルェン
スルホン酸の触媒量53mg、シクロヘキサノンジメチ
ルケタール0.6の【を加え503仇hmHgで30分
間反応させた。
シリカゲル薄層クロマトグラフ(酢酸エチル;ベンゼン
=3:1)にてRfo.04のスポットがなくなりRf
o.38(目的物のスポット)とジシクロヘキシリデン
体(Rro.56)がほぼ2:1の比でできたら水0.
01の‘0.4倍モル、ジメチルホルムアミドにとかし
て加える)を加え室温で一夜放置した。重量125hg
の水飽和液をよく損辞しつつ一気に加え、溶液を減圧で
ほとんど濃縮し、これを水にそそいだ。
得られた固体を炉取、水洗し乾燥しペン夕−Nートシル
−4′′,6″一〇−シクロヘキシリデンカナマィシン
Bを得た。収量1.80g(定量的)、mp.175〜
176qo(分解)。〔Q〕客+130(CI,DMF
)元素分析 C5虹75N502oS5として計算値:
C53.10日5.66N5.25SI2.01% 実験値:C52.73日5.51 N4.83SII.68% 3 3,4′ージー○−ペンジルスルホニル−ペン夕−
N−トシル−4″,6″一〇−シクロヘキシリデンカナ
マィシンB及び3′,4′,2″−トリ−○ーベンジル
スルホニルーベンターNートシルー4″,6″一○ーシ
クロヘキシリデンカナマイシンBの製造ペン夕−Nート
シル−4″,6″−○ーシクロヘキシリデンカナマイシ
ンBI.7舵をピリジン36の‘に溶解し塩化ペンジル
スルホニル(505mg、2倍モル)を加え、一3〜一
5℃で2.5時間反応させた。
さらに塩化ペンジルスルホニル253mgを加え約3℃
で一夜放置し、反応液に水0.4の‘を加えた後、濃縮
し得られた階赤色のシロップをクロロホルム120の‘
に溶解し、10%硫酸水素カリウム液、5%重曹水、さ
らに水で順次洗糠し、硫酸マグネシウムで乾燥し、クロ
ロホルムを蟹去して3,イージー0−ペンジルスルホニ
ルーベンターN−トシル−4″,6′r−○−シクロヘ
キシリデンカナマイシンB及び3,4′,2′′−トリ
−○−ペンジルスルホニルーベン夕−Nートシルー4′
′,6′′一○ーシクロヘキシリデンカナマイシンBの
混合物を褐色固体2.16g(定量的)として得た。本
混合物2.1鍵をシリカゲルカラム(ワコーゲルC−2
00、14雌、ベンゼン;酢酸エチル=3:2を使用)
で精製し、3,4′ージ−○ーベンジルスルホニルーベ
ンターN−トシルー4″,ザー○ーシクロヘキシリデン
カナマイシンBを1.31g(61%)mp.169〜
17q0(分解)、〔Q〕色50o(CI,クロロホル
ム)、また3′,4′,2″ートリ−0ーベンジルスル
ホニルーベンタ−N−トシル−4″,6″−○ーシクロ
ヘキシリデンカナマイシンB473hg(20%)mp
.163〜I64O(分解)、〔Q〕容+20o(CI
1、クロロホルム)を得た。
これら二物質は上述の如く分離せず、混合物のまま以下
の反応を行なっても同一の結果が得られた。実施例 1
【11 ペンターN−トシルー4″,6′′−○ーシク
ロヘキシリデン−3,4ージデオキシ−3′ーエノカナ
マィシンBの製造参考例1の3)で得られた3′,4′
−ジー○−ペンジルスルホニル−ペンターNートシル−
4′′,6″一〇ーシクロヘキシリデンカナマイシンB
I99hgをジメチルホルムアミド4の‘に溶解し、乾
燥した沃化ナトリウム2.0総を加え縄拝しつつ100
qoにて30分反応せしめた。
2分後反応液は均一となり、次第に沃素が生成するため
反応液は赤褐色から黒褐色になる。
まだ反応液のなるべく温かいうちにクロロホルムを加え
、析出した沈澱を炉過又は遠心分離で除去した。除去固
体は充分クロロホルムで洗い、前の液と合した。クロロ
ホルム溶液を減圧で濃縮し、クロロホルムと随伴したジ
メチルホルムアミドを除去した。残澄をクロロホルムに
溶解し5%ハィポ水溶液で洗って沃素を除去し、さらに
水洗した後、クロロホルム溶液を無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去しペンターNートシルー4″,6
″−シクロヘキシリデン−3,4′ージデオキシー3′
ーエノカナマイシンB13.7mg(87%)を得た。
元素分析値:C5汎73Nや,8S5に対し計算値:C
,54.49;日,5.66;N,5.39:S,12
.33%実験値:C,54.32:日,5.51:N,
5.16:S,11.97%(2} 2″一○ーベンジ
ルスルホニルーベンタ−N−トシルー4″,6″一○ー
シクoヘキシリデンー3′,4′ージデオキシー3′−
エノカナマイシンBの製造参考例1の3)で得られた3
′,4′,2″ートリ−○ーベンジルスルホニルーベン
タ−Nートシルー4″,6″‐0−シクoヘキシリデン
カナマイシンB232mgをジメチルホルムアミド4.
6地に溶解し沃化ナトリウム2.4蜜を加え、100o
oで1時間反応せしめた。
クロロホルム20の上を加えた後5%ハィポ液を加えよ
く振糧した。クロロホルム層を取り、水洗後硫酸マグネ
シウムで乾燥し、濃縮した。さらにトルェンで共沸して
ジメチルホルムアミドを留去し、淡褐色固体197mg
を得た。これをシリカゲルカラム(ワコーゲルC−20
0,log,ベンゼン:酢酸エチル=2:1)で精製し
、無色固体164mg(87%)を得た。mP.:15
6〜1570(分解) 〔Q〕奪:−15o(CI,クロロホルム)元素分析値
C66日79N502oS6に対し計算値:C,54
.49;日,5.47:N,4.81;S,13.22
%実験値:C,54.17;日,5.49;N,4.5
0;S,12.95%(3l ペン夕−N−トシルー4
″,6″−0ーシクロヘキシリデン−3,4−ジデオキ
シカナマイシンBの製造ペン夕−Nートシルー4″,6
″−○−シクロヘキシリデンー3′,4′一ジデオキシ
ー3′ーエノカナマィシンB157mgを酢酸エチル1
.5机【とジオキサン0.5の‘の混液に溶解し、酸化
白金3仇hgを加え、3.5気圧の水素気圧下、室温で
1時間反応させた。
反応液にジオキサンを加えて加熱し、溶解せしめた後炉
過して白金を除く。炉液を濃縮するとシロップを得た。
これに水を加え沈澱を生ぜしめ、遠沈し乾燥すると白色
固体のペンターN−トシルー4″,6″−○−シクロヘ
キシリデン−3,4′ージデオキシカナマィシンB12
4mg(収率:84%)を得た。mP.:155〜15
が0 〔Q〕客:00(CO.4,ジメチルホルムアミド)元
素分析値 C5虹75N50,8S5に対し計算値:C
,54.40;日,5.80;N,5.38;S,12
.31%実験値:C,53.91:日,5.79;N,
4.96:S,il.74%(4ー 2′′−○ーベン
ジルスルホニル−ペンターN−トシルー4″,6″−0
−シクロヘキシリデン−3,4′−ジデオキシカナマィ
シンBの製造前項■で得られた2′一○ーベンジルスル
ホニルーベンターNートシルー4″,6″一〇ーシクロ
ヘキシリデン一3,4′ージデオキシ−3′ーエノカナ
マィシンBI12の9をジオキサン2泌に溶解し、酸化
白金3仇hgを加え、3.5気圧下水素で1時間反応し
た。
触媒をシリカゲルカラムで除き、ジオキサンで洗う。溶
液からジオキサンを留去すると無色固体の2″−○ーベ
ンジルスルホニルーベンターN−トシルー4″,6″一
○−シクロヘキシリデンー3′,4′ージデオキシカナ
マィシンBI13hgを得た。mP.:156〜157
つ0(分解)〔Q〕客:十160(CI,クロロホルム
)元素分析 C66日8,N502oS6に対し計算値
:C,54.42:日,5.60:N,4.81;S,
13.20%実験値:C,54.56:日,5.57;
N,4.69;S,13.01%‘5’ ペン夕−N−
トシルー3,4′−ジデオキシカナマィシンBの製造前
項で得られたペン夕−Nートシルー4″,が−○−シク
ロヘキシリデンー3,4′ージデオキシカナマィシンB
39.肌gを酢酸1.1奴‐水0.3の‘に懸濁せしめ
8000で1時間反応せしめた。
反応液は約10分でほとんど溶解するか不熔分を除き炉
液を濃縮し乾燥するとペン夕−N−トシル−3,4′ー
ジデオキシカナマィシンB31.仇hg(収率;85%
)を得た。‘6} 2′′−○ーベンジルスルホニルー
ベンターN−トシル−3,4′−ジデオキシカナマイシ
ンBの製造前項で得られた2″−○ーベンジルスルホニ
ル−ペン夕−N−トシル−4″,6′′一〇−シクロヘ
キシリデン−3′,4−ジデオキシカナマイシンBI1
3hgを80%酢酸2の上中8000で1.5時間処理
した。
懸濁液が均一となった後、反応液を減圧で濃縮し、トル
ェソで共雛すると無色固体の2″−○−ペンジルスルホ
ニルーベンターN−トシルー3,4′ージデオキシカナ
マィシンBI04mg(収率:97%)を得た。【7)
ペンターNートシル−3′,4′ージデオキシ−3ーェ
ノカナマィシンBの製造前項【1}で得られたペンター
Nートシルー4″,6″ー○−シクロヘキシリデン−3
′,4−ジデオキシー3−ェノカナマィシンB42hg
を酢酸1の【一水0.3机に懸濁せしめ8000で1時
間反応せしめた反応後不溶部を除き炉液を濃縮し乾燥す
るとペンターN−トシルー3,4′ージデオキシー3−
エノカナマィシンB32hgを得た。
{8’ 2″−0ーベンジルスルホニルーベンタ−N−
トシルー3,4′ージデオキシ−3′ーエノカナマイシ
ンBの製造前項■で得られた2″−○−ペンジルスルホ
ニル−ペン夕−N−トシル−4′′,6″−○ーシクロ
ヘキシリデン−3,4′ージデオキシ−3′−エノカナ
マィシンB38mgを{7}で述べた方法と全く同機に
処理して2″−○−ペンジルスルホニルーベン夕−Nー
トシルー3,4′−ジデオキシ−3′ーエノカナマイシ
ンB29hgを得た。
参考例 2 14′′,パー○−シクロヘキシリデンカナマイシンB
ペンタトシレートの製造カナマイシンBペンタトシレ−
,ト(1.錐)をジメチルホルムアミド25机上に溶解
し、トルェンスルホン酸1水塩45仇hg、シクロヘキ
サノンジメチルケタール0.7肌を加え、5000で7
印hmHgで30分間反応させた。
大量のエーテルを加えて固体を沈澱せしめ、この固体を
炉取し、よくエーテルで洗液し、乾燥し、4″,6″−
○−シクロヘキシリデンカナマィシンBペンタトシレー
ト1.15gを得た。2 ペンターN−ペンジルスルホ
ニルー3,4ージー○−ペンジルスルホニルー4″,6
″−○−シクロヘキシリデンカナマイシンB及びペン夕
−N−ペンジルスルホニルー3,4,2″−トリー○ー
ベンジルスルホニル一4′′,6′′一〇ーシクロヘキ
シリデンカナマイシンBの製造但しQ=Hor聡,Bs
=C6日5CH2S024″,6″ー○ーシクロヘキシ
リデンカナマイシンBペンタトシレート1.1雌をピリ
ジソ40私に溶解し、溶液を氷冷後トリェチルアミン0
.鍵と塩化ペンジルスルホニル1.5gを徐々に加えた
5時間後さらに塩化ペンジルスルホニル1.0gとトリ
ェチルアミン0.5gを加え、約3℃に一夜放置した。
反応液に水0.5地を加えた後濃縮し、得られた脂赤色
シロップをクロロホルムに溶解し、10%硫酸水素カリ
ウム液、5%重曹水、さらに水で厭次洗修し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、クロロホルムを蟹去して固体を得た
。本固体をシリカゲルカラム(ワコーゲルC−200,
ベンゼン:酢酸エチル5:2を使用)で精製し、ベン夕
−N−ペンジルスルホニル−3′,4′ージ−○ーベン
ジルスルホニル−4″,6″−○−シクロヘキシリデン
カナマイシンBを得た。0.31g〔Q〕色5十5o(
CI:クロロホルム),またペン夕−N−ペンジルスル
ホニル−3,4,2″ートリ−ペンジルスルホニル−4
′′,6″一○ーシクoヘキシリデンカナマイシンBO
.13gを得た。
〔Q〕色5十1が(CI,クロロホルム)実施例 2 ‘1) ベンタ−Nーベンジルスルホニル−4″,6″
ー0−シクロヘキシリデン−3,4−ジデオキシ−3−
ェノカナマィシンBの製造参考例2の2)で得られたペ
ン夕−N−ペンジルスルホニル−3,4′ージー○−ペ
ンジルスルホニル−4″,6″−○ーシクロヘキシリデ
ンカナマイシンB20靴gをジメチルホルムァミド4の
‘に溶解し、沃化ナトリウム滋を加え100℃にて3粉
ご反応せしめた。
以下実施例1の(1}と同様に処理してペンターN−ペ
ンジルスルホニル−4′′,6′一○ーシクoヘキシリ
デン−3,4−ジデオキシ−3′−エノカナマィシンB
145hgを得た。元素分析値 C5虹73N50,8
S5に対し計算値:C,54.39;日,5.66:N
,5.39:S,12.33%実験値:C,53.91
;日,5.40:N,5.07;S,11.83%{2
) ペン夕−N−ペンジルスルホニルー3,4′ージデ
オキシカナマィシンBの製造前項‘1}で得られたペン
夕−N−ペンジルスルホニル−4″,6″−○−シクロ
ヘキシリデン3,4−ジデオキシ−3−ェノカナマィシ
ンBを実施例1の{3’と全く同様に処理して二重結合
を還元した後、得られたシロップ状物質を精製すること
なく実施例1の{5’と全く同様に処理してシクロヘキ
シリデン基を加水分解で脱離しペン夕−N−ペンジルス
ルホニル−3,4′−ジデオキシカナマイシンBを得た
参考例 3 1 4″,6″ー○−シクロヘキシリデン−ペンターN
−メシルー3,4,2′′ートリー○−メシルカナマィ
シンBの製造4″,6″ー○ーシクロヘキシリデンカナ
マイシンBペンタトシレート1.40gをピリジン40
の上に溶解し、溶液を氷冷し、トリェチルアミン0.7
柳ロえた後氷冷し、塩化メタンスルホニル1gを徐々に
加えた。
5時間後、さらにトリェチルアミン0.5gと塩化メタ
ンスルホニル0.6gを加え冷蔵庫中に一夜放置した。
反応液に水0.5奴‘を加えた後濃縮し、得られたシロ
ップをクロロホルムに溶解し、この溶液を水で洗って後
硫酸マグネシウムで乾燥し、クロロホルムを蟹去して固
体を得た。本固体をシリカゲルカラム(クロロホルムを
使用)で精製し、4′′,6″一〇ーシクロヘキシリデ
ン−ペン夕−N−メシル−3,4,2′′−トリ−○−
メシ/ルカナマイシンBO.26g(〔Q〕色5十25
0(CI,クロロホルム))を得た。実施例 3 {1’4″,6″−○−シクロヘキシリデン−3,4−
ジデオキシー3′ーエノーベンターNーメシル−2″−
○−メシルカナマィシンBの製造参考例3の1)で得ら
れた4″,6′′−○−シクロヘキシリデン−ペン夕−
Nーメシル−3,42″ートリ−○−メシルカナマイシ
ンB188hgをジメチルホルムアミド4の‘に溶解し
、沃化ナトリウム滋を加え10000にて3帖テ反応せ
しめた。
以下実施例1のmと同様に処理して4″,6″ー○ーシ
クロヘキシリデン一3,4ージデオキシ−3ーエノーペ
ンタ−N−メチル一2′′一○ーメシルカナマイシンB
14仇hgを得た。元素分析値 C3日55N502o
S6に対し計算値:C,36.11;日,5.56;N
,7.02;S,19.24%実験値:C,36.35
;日,5.71;N,7.29;S,18.80%{2
)ペン夕−N−メシル−2″−○−メシルカナマイシン
Bの製造前項(1’で得られた4″,6″−○−シクロ
ヘキシリデン−3,4−ジデオキシー3−エノーベンタ
−Nーメシルーメー○ーメシルカナマイシンB14仇h
gを水−ジオキサン(1:4)5肌に溶解し、酸化白金
を加え3.5気圧の水素圧下室温で1時間反応させた。
溶液を炉過後濃縮し、シロップを得た。このシロップを
水−酢酸(1:3)に溶解し、8000で1時間反応せ
しめた後濃縮乾団しペン夕−Nーメシル−2′′一〇−
メシルカナマイシンBI07mgを得た。実施例 2 実施例1の{5}で得られたペン夕−N−トシル−3,
4−ジデオキシカナマイシンB26.3hgを5Mの液
体アンモニア(一6000)に溶解し、金属ナトリウム
約5mgを加えた。
約15分後ナトリウムは完全に熔解し反応液が淡黄色に
なったので、さらに金属ナトリウム約5hgを加えた。
3び分後反応液は階青色のままだったので反応完了とみ
なし、塩化アンモニウムを少量づつ加え黄色液にもちき
たした。
徐々に常温にし、アンモニアを留去した。残澄を水に溶
解し、酢酸で中和後、CM−セフアデックスC−25の
カラムに加え30叫の水で洗った後0.03→0.3規
定のアンモニアで展開しIQhgの3,4−ジデオキシ
カナマィシンBI炭酸塩を得た。本物質は、シリカゲル
薄層クロマトグラフ(n−ブタノール:エタノール:ク
ロロホルム:17%アンモニア=4:4:2:3,二度
あげ)にてRfo.19を示し、3,4′ージデオキシ
カナマイシンBの標品の値と全く一致した。また抗菌ス
ペクトルも3′,4′ージデオキシカナマィシンBのそ
れと完全に一致した。
実施例 2 実施例1の■で得られた2″−○−ペンジルスルホニル
−ペン夕−N−トシルー3,4′ージデオキシカナマィ
シンB21.軌hgを液体アンモニア2の‘に溶解し以
下実施例1と同様に処理し8仇hgの3′,4′−ジデ
オキシカナマィシンBを無色の固体として得た。
薄層クロマトグラム、抗菌スベクトラム共3′,4ージ
デオキシカナマィシンBの1炭酸塩の標品と完全に一致
した。実施例 62″一○−ペンジルスルホニルーベン
夕−N−トシル−3,4−ジデオキシカナマイシンB3
2hgをエチルアミン2.5地と液体アンモニア3の‘
の冷却泥液(約一3000)に溶解し、金属ナトリウム
約10mgを加え、粥拝しつつ温度を徐々に上昇せしめ
た。
金属ナトリウムは次第に溶解し、反応は極めて徐々に進
行した。3時間後加溢して溶媒を留去し、残澄を水に熔
解し、pートルヱンスルホン酸で中和した。
溶液を濃縮乾固し、得られた固体を充分乾燥後、ジメチ
ルホルムアミドを加え、約5000で3回抽出した。抽
出液を合し濃縮乾固した。かくして得られた、ほぼ脱塩
された物質をCMーセフアデックスC−25のカラムに
加え水洗後0.03→0.3規定のアンモニアで展開し
、3,4′−ジデオキシカナマィシンBを1炭酸塩とし
て、11.5mg得た。実施例 7 2′′−○−ペンジルスルホニル−ペン夕−N−トシル
−3,4ージデオキシカナマイシンB31.7mgをエ
チルアミン4地に0℃にて溶解し、金属リチウム約■h
gを加え、燈拝しつつ温度を徐々に上昇せしめた。
3時間後加溢して溶媒を蟹去し、以下実施例6と全く同
様に処理して3,4−ジデオキシカナマイシンBを1炭
酸塩として11mg得た。
実施例 8 2′′−○ーベンジルスルホニルーベン夕−Nートシル
ー3,4′−ジデオキシカナマイシンB31.3hgを
エチルアミン4の‘に0℃にて溶解し、金属カルシウム
約1比hgを加え、以下実施例6と全く同様に処理して
3,4′ージデオキシカナマイシンBを1炭酸塩として
10.8hg得た。
実施例 9 ペン夕−Nーベンジルスルホニル一3,4′ージデオキ
シカナマィシンB29hgを実施例4と全く同様に処理
して3′,4ージデオキシカナマィシンBI炭酸塩8.
5mgを得た。
薄層クロマトグラム、抗菌スベクトラム共3,4′−ジ
デオキシカナマィシンBの標品と完全に一致した。また
参考例2の2)で得られた、カラムクロマトグラフで分
離前のペン夕−N−ペンジルスルホニル−3,4′ージ
ー○ーベンジルスルホニルー4″,ザー○−シクロヘキ
シリデンカナマイシンB及びペン夕−N−ペンジルスル
ホニル−3′,イー,2′′ートリ−○−ペンジルスル
ホニルー4″,6″ー○−シクロヘキシリデンカナマイ
シンBの混合物1.53gを実施例2の(1},(2}
と全く同様に処理して得られたペン夕−N−ペンジルス
ルホニルー3,4′−ジデオキシカナマイシンBとペン
夕−Nーベンジルスルホニル−2″一〇ーベンジルスル
ホニル−3,4′ージデオキシカナマイシンBの混合物
0.88gを上述と同様に処理し3,4−ジデオキシカ
ナマイシンBを1炭酸塩として0.31gを得た。
実施例 10実施例9で述べたと同一の、ベンタ−N−
ペンジルスルホニルー3,4ージデオキシカナマイシン
Bとペン夕−Nーベンジルスルホニル−2″−0−ペン
ジルスルホニル−3′,4′−ジデオキシカナマィシン
Bの混合物62仇hgをエチルアミン30の上に溶解し
金属リチウムを徐々に加え反応せしめた。
以下実施例7と全く同様に処理して3,4′ージデオキ
シカナマイシンBを1炭酸塩として229hgを得た。
実施例 11 実施例3の{2)で得られたペン夕−N−メシル−2″
−○−メシルカナマイシンB27・7mgを5の【の液
体アンモニア(一6000)に溶解し、実施例4と全く
同様に処理して3′,4−ジデオキシカナマィシンB・
1炭酸塩13.7脚を得た。
薄層クロマトグラム、抗菌スベクトラムは3′,4−ジ
デオキシカナマィシンBの標品と完全に一致した。実施
例 12 1 3,4′−ジデオキシー3−エノカナマイシンBの
製造実施例1の【7ーで得られたペン夕−Nートシル−
3,4ージデオキシ−3′ーエノカナマイシンB26m
gをエチルアミン4叫に0℃にて溶解し、金属リチウム
約弧gを加え同温度で濃伴しっっ反応せしめた。
3時間後実施例6と同様に処理し、3′,4′ージデオ
キシ−3−エノカナマイシンBを1炭酸塩として9.6
hg得た。
2 3,4′ージデオキシカナマィシンBの製造上述1
)で得た3,4′ージデオキシ−ゴーェノカナマィシン
B炭酸塩11.肌gを水0.5の‘に溶解し、酢酸1適
を加えて後酸化白金2hgを加え3.5気圧の水素圧下
室温で1時間反応せしめた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は、低級アルキルスルホニル基、アリー
    ルスルホニル基及びアラルキルスルホニル基から選ばれ
    たアミノ基の保護基を表わし、R^2は水素原子、もし
    くは低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基
    又はアラルキルスルホニル基型のヒドロキシル保護基を
    表わし、Yはベンジルスルホニル基又はメシル基を表わ
    し、Xはアルキリデン基、アリーリデン基、シクロヘキ
    シリデン基又はテトラヒドロピラニリデン基を表わす〕
    で表わされるペンタ−N−スルホニル−4″,6″−O
    −保護−3′,4′−ジ−O−ベンジルスルホニル−又
    はメシル−カナマイシンBを有機溶媒中で沃化ナトリウ
    ムのみで処理することにより次の一般式(VI)▲数式、
    化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1,R^2及びXは前記と同じ意味である
    〕で表わされる3′,4′−ジデオキシ−3′−エノカ
    ナマイシンB保護誘導体を生成し、式(VI)の化合物を
    水素添加して次式(VII)▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ 〔式中、R^1,R^2及びXは前記と同じ意味である
    〕で表わされる3′,4′−ジデオキシカナマイシンB
    保護誘導体を生成し、さらに式(VII)の化合物から4
    ″,6″−O−保護基(X)を公知の脱保護法で脱離す
    ることによつて次の一般式(II)▲数式、化学式、表等
    があります▼ 〔式中、R^1及びR^2はは前記と同じ意味である〕
    で表わされる3′,4′−ジデオキシカナマイシンB保
    護誘導体を生成し、式(II)の化合物を塩基性試薬の存
    在下にアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属で処理す
    ることにより保護基R^1及びR^2を一挙に脱離する
    ことを特徴とする、次式(I)▲数式、化学式、表等が
    あります▼ で示される3′,4′−ジデオキシカナマイシンBの製
    造法。 2 次の一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は、低級アルキルスルホニル基、アリー
    ルスルホニル基及びアラルキルスルホニル基から選ばれ
    たアミノ基の保護基を表わし、R^2は水素原子、もし
    くは低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基
    又はアラルキルスルホニル基型のヒドロキシル保護基を
    表わし、Yはベンジルスルホニル基又はメシル基を表わ
    し、Xはアルキリデン基、アリーリデン基、シクロヘキ
    シリデン基又はテトラヒドロピラニリデン基を表わす〕
    で表わされるペンタ−N−スルホニル−4″,6″−O
    −保護−3′,4′−ジ−O−ベンジルスルホニル−又
    はメシル−カナマイシンBを有機溶媒中で沃化ナトリウ
    ムのみで処理することにより次の一般式(VI)▲数式、
    化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1,R^2及びXは前記と同じ意味である
    〕で表わされる3′,4′−ジデオキシ−3′−エノカ
    ナマイシンB保護誘導体を生成し、式(VI)の化合物か
    ら4″,6″−O−保護基(X)を公知の脱保護法で脱
    離することによつて次の一般式(III)▲数式、化学式
    、表等があります▼〔式中、R^1,及びR^2は前記
    と同じ意味である〕で表わされる3′,4′−ジデオキ
    シ−3′−エノカナマイシンB保護誘導体を生成し、こ
    の式(III)の化合物を塩基性試薬の存在下にアルカリ
    金属もしくはアルカリ土類金属で処理することにより保
    護基R^1及びR^2を一挙に脱離させて次式(IV)▲
    数式、化学式、表等があります▼で示される3′,4′
    −ジデオキシ−3′−エノカナマイシンBを生成し、次
    いでこれを還元反応に付すことを特徴とする、次式(I
    )▲数式、化学式、表等があります▼ で示される3′,4′−ジデオキシカナマイシンBの製
    造法。
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