JPS5828279B2 - ウリジンユウドウタイノセイゾウホウ - Google Patents

ウリジンユウドウタイノセイゾウホウ

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JPS5828279B2
JPS5828279B2 JP10351075A JP10351075A JPS5828279B2 JP S5828279 B2 JPS5828279 B2 JP S5828279B2 JP 10351075 A JP10351075 A JP 10351075A JP 10351075 A JP10351075 A JP 10351075A JP S5828279 B2 JPS5828279 B2 JP S5828279B2
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JP
Japan
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deoxy
dryness
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riboepithiouridine
solvent
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JP10351075A
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英夫 井上
亨 上田
保 浅野
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Yamasa Shoyu KK
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Yamasa Shoyu KK
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ウリジン誘導体の1−(2・3−ジデオキシ
〜β−D−グリセロ−ベント−2−エノフラノシル)−
ウラシル(以下、z−イー不飽和ウリジンと略称する。
)新規な製造方法に関する。/・了−不飽和ウリジンは
、一般式CI)で表わされる化合物である。
該式中、R1は水素、ハロゲンまたはメチル基を示し、
R2は水素または保護基を示す。
ここで保護基としてはアセチル基、ベンゾイル基などの
アシル基、またはトリチル基、メトキシトリチル基など
のアルアルキル基などが例示される。
これらのグ・了−不飽和ウリジンは抗生物質などの種々
の生理活性を有する非天然型ウリジンの合成中間体とし
てきわめて有用なものであり、従来、その調製法に関し
ては多くの方法が知られている。
本発明者らは、本発明者らがその製法を開発した新規化
合物を原料とする新規なルートによる!・3′−不飽和
ウリジン製造法を発見し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、新規化合物の一般式R1は水素、
ハロゲンまたはメチル基を示し、R2は水素または保護
基を示す。
〕で表わされる2・3′−リボエピチオウリジン、グ・
了−リキソエピチオウリジン、3′−デオキシ−3′−
チオシアナート−アラビノフラノシルウラシルおよびグ
ーデオキシ−2−チオシアナ−1・−キシロフラノシル
ウラシルからなる化合物群から選ばれる化合物、またハ
前記化合物群のうちの了−デオキシ−3′−チオシアナ
ート−アラビノフラノシルウラシルとグチオキシ−2−
チオシアナート−キシロフラノシルウラシルとの混合物
を適当な溶媒中でl−IJフェニルホスフィンと加熱反
応せしめてグ・3′−不飽和ウリジンを得ることを特徴
とするものである。
本発明において用いられる原料化合物の調製法には特に
制約を設けるものではないが、その調製法の例示として
それぞれ次の方法を挙げることができる。
■ /・了−リキソエピチオウリジン 2・2’−(S)−サイクロ−2−チオウリジンをピリ
ジン系溶媒、あるいはアミド系溶媒との混合溶媒中でト
リチルクロリド、あるいはメトキシトリチルクロリドを
反応させて5′位水酸基を選択的にトリチルあるいはメ
トキシトリチル保護し、これを常法に従ってピリジン系
溶媒中でメシルクロリド、トシルクロリド、トリイソプ
ロピルベンゼンスルホニルクロリドなどのアルキルまた
はアルアルキルノ・ライドを反応させて3′位にスルホ
ン酸エステル残基を導入し、そのままか5′位を脱保護
して酸性水溶液中で加熱還流することにより得ることが
できる。
構造式は下記のとおりである。
[R,、R2−前記と同意義〕 ■ J−デオキシ−イーチオシアナート−アラビノフラ
ノシルウラシルおよび/−デオキシグーチオシアナート
−キシロフラノシルウラシル !・了−リキソエポキシウリジンをエーテル類(ジオキ
サン、テトラハイドロフランなど)溶媒中でロダン酸ア
ンモンと加熱反応せしめることにより、3′−デオキシ
−3′−チオシアナートアラビノフラノシルウラシルを
主成分とし、グチオキシ−l−チオシアナート−キシロ
フラノシルウラシルを副成分とする混合物を得ることが
できる。
構造式は次のとおりである。■ /・了−リボエピチオ
ウリジン 前記のようにして得られた3′−デオキシ−3′チオシ
アナート−アラビノフラノシルウラシルを常法どおりピ
リジン系溶媒中でメシルクロリド、トシルクロリド、ト
リイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド メシチレ
ンスルホニルクロリドなどのアルキルまたはアリルスル
ホニルハライドと反応させてノ位水酸基にスルホン酸エ
ステル残基を導入し、さらにこれを適当な溶媒中でチオ
酢酸アルカリ金属塩と反応させることにより、グ・了−
リボエピチオウリジンを得ることができる。
このようにして調製される原料化合物を適当な溶媒中で
トリフェニルホスフィンと加熱還流反応させることによ
り本発明は実施される。
本発明方法において使用される溶媒は、原料化合物およ
び反応試薬を溶解し、かつ本反応を阻害しないものであ
る限りいずれも適用することができ、特にその種類を限
定されるものではない。
このような溶媒の具体例としては、ジオキサン、テトラ
ハイドロフランなどのエーテル類溶媒、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、ピ
リジン、ピコリンなどのピリジン系溶媒などが挙げられ
る。
本反応は通常、50〜180℃の温度条件下、10分か
ら数十時間還流反応させることにより実施される。
目的物質は常法により、たとえば吸着クロマトグラフィ
ー、イオン交換クロマトグラフィー、溶媒への溶解度差
による分別、再結晶法などにより精製単離することがで
きる。
以下、本発明の原料物質の調製法を示す参考例と、本発
明方法の実施例を具体的に例示する。
参考例 1 2・2’−(S )−サイクロ−2−チオウリジン24
4■とトリチルクロリド334.6■をジメチルホルム
アミド8mlとピリジン2mlに溶解させ、40℃で1
晩放置した後、さらに100℃で2,5時間加温反応さ
せ、放冷後、氷水約200m1中に攪拌しながら性用し
、析出した沈澱を濾取し、冷水で洗い、沈澱にアセトン
、エタノール、ベンゼンを加えて溶解させて濃縮乾固す
る操作を繰返し、残渣からトリエチルアルコールを抽出
除去し、濾過後、n−ヘキサン−アセトンから5′−ト
リチル2・2’−(S)−サイクロ−2−チオウリジン
を結晶として得た。
(収率70%)融点 151〜154℃ 元素分析 C2s H240,s N2 Sとして計算
値 C,69,40;H,4,99;N。
5.78 ;S、 6.62 実測値 C,69,56;H,5,01;N。
5.87:S、668 5′−トリチル−2・2’ −(S )−サイクロ−2
チオウリジン968■をピリジン20m1に溶解し、水
冷下メシルクロリド0.3 mlを加え、0〜5℃で1
晩放置した後、少量の水を加え、濃縮乾固し、クロロホ
ルム−水で分配し、クロロホルム層を濃縮乾固後、エタ
ノールから3′−〇−メシル5′−0−トリチルー2・
2’−(S)−サイクロ−2−チオウリジンを得た。
(収率50%)融点 191〜193℃ 元素分析 C2,H2606N2S2として計算値 C
,67,91;H14,66;N。
4.98 ;S1] 1.40 実測j値 C,68,11;H14,69;N。
4.86 ;S、 11.38 了−O−メシル−5’−0−4リチルー2−2′(S)
−サイクロ−2−チオウリジン100■のメタノ−/L
/ 5 ml溶液に2N−4酸5rILlを加え、室温
で15分間放置した後、水−エタノールを加えて濃縮乾
固する操作を数回繰返し、クロロホルム−水でトリチル
アルコールを抽出除去し、水層を濃縮乾固して了−O−
メシル−2・2’−(S)−サイクロ−2−チオウリジ
ンを得た。
これを0.IN塩酸20m1に溶解し、40分間還流反
応させた後、塩基性イオン交換樹脂、アンバーライト1
RA410(商品名)(OH−型)で中和し、樹脂を濾
去し、濾液を濃縮乾固し、薄層クロマトグラフィー上単
−スポットで2′・/−リキソエピチオウリジン33■
を得た。
(収率76%)/・3′−リキソエピチオウリジン30
1vの無水ピリジン1r/ll溶液に無水酢酸1 rn
lを加え、室温で2時間反応させた後、冷却しながらメ
タノールを少量加え、濃縮乾固し、次いでエタノールを
加えて濃縮乾固する操作を数回繰返し、残渣をエタノー
ルから再結晶して5’−0−アセチル−2・3′リキノ
エピチオウリジン30■を得た。
(収率85%) 融点 214〜216℃ 元素分析 CI I HI205N2 Sとして計算値
C,46,47;H14,25;N。
9.85 ;S、 11.28 実測値 C,46,57;H,4,35;N。
9.78 ;S、 11.27 質量分析スペクトルm/e 284 (M+)tOH 紫外線吸収スペクトル λ 262nm(ε、aX 10400) 核磁気共鳴スペクトル (DMSO−d6) ppm2
.02(s、3H1−〇−アセチル) 4.8〜3.7 (5H,C2/H,C3/H,CIH
,CIH)s、62(a、IH1J56=7.8Hz、
C3H)6.21 (d、 C,/H) 7.59(d、I H、Ca H) 参考例 2 5′−〇−ベンゾイルー2・3′−リキソエポキシウリ
ジン32とロダン酸アンモン(アンモニウムチオシアネ
ート)l=38Pを無水ジオキサン1201rLlに懸
濁させ、一晩加熱還流させた後、濃縮乾固し、残渣から
クロロホルム−水で塩を抽出除去し、クロロホルム層を
濃縮乾固して5′−0ベンゾイル−3′−デオキシ−3
′〜チオシアナートアラビノフラノシルウラシルと5′
−〇−ペンンイルー2′−デオキシーl−チオシアナー
ト−キシロフラノシルウラシルの混合物2.59f?を
泡状で得た。
(収率73.3%)このうち1.51をクロロホルムに
溶解すせ、シリカケルカラム(ワコーゲルC−200(
商品名)45′iI、カラムサイズ2.5X20.51
)に付し、4%−エタノール−クロロホルムで溶出して
濃縮乾固した。
元素分析 C1□H15o、 6 N3 S として計
算値 C152,44;H,3,88;N。
10.29 ;S、823 実測値 Cl32−20;H13,84;N。
10.57 ; 3. 8.39 赤外線吸収スペクトル 2160CrrL−1(SCN
)核磁気共鳴スペクトル ppm C3H5,5(3’−チオシアナート体95、8 (2
’−チオシアナート体) 参考例 3 参考例2により得られた粗5′−〇−ベンゾイル3′−
デオキシ−3′−チオンアナ−1□−フラビノフラノシ
ルウラシル1y′を無水ピリジン4凧lに溶解させ、水
冷下、メシルクロリド0.24 mlを滴下し、0〜5
℃で一晩放置後、氷水約700m1に温州し、析出した
沈澱を濾取し、冷水で洗い、エタノールから結晶化して
5′−O−ベンゾイル−了−デオキシ−3′−チオシア
ナート−アラビノフラノシルウラシル−グーメタンスル
ホン酸エステル1.07♂を得た。
(収率88.0%)融点 174〜175℃ 元素分析 Cl8HI708N3S2として計算値 C
,46,25;H,3,66;N。
8.99 ; S、 13.72 実測値 C,46,23;H,3,59;N、9.03
;S、 13.63 5′−〇−ベンゾイルー3′−デオキシー3′−チオシ
アナート−アラビノフラノシルウラシル−2メタンスル
ホン酸エステル2グのジメチルホルムアミド50m1溶
液を一5℃に冷却し、チオ酢酸カリウム582■を加え
、0〜5℃に一晩放置後、反応液から酢酸エチル−水で
ジメチルホルムアミドを抽出除去し、酢酸エチル層を水
で2回洗い、濃縮乾固し、エタノールから結晶化してS
/ Oベンゾイル−/・/−リボエピチオウリジン1
.67y′を得た。
(収率96.0%)融点 166〜167℃ 元素分析 Cl8HI8N207 Sとして計算値 C
153,20;N1446;N、6.89;Sl 7.
89 実測値 C153,14;N14.50;N。
6.91 ; S、 7.91 質量分析スペクトル m/e 202(M−8base
) + 核磁気共鳴スペクトル (ppm ) 4.01(d、IH,C:IH) 4.21 (d、IH,Jl、3I−4,6H2,CI
H)4.9〜4.5 (3H,C4/H,CIH)5.
47(d、IH,J5.6=8.3Hz、C3H)5.
60(s、IH,C,/H) 7.74(d、IH,C,/H) 8.1.0−7.20 (m、5H,ベンゾイル)5’
−0−ベンゾイル−/・3′−リボエピチオウリジン5
001n?の無水メタノール50m1溶液に室温で2N
−酢酸ナトリウムの0.881rLlを加え、一晩放置
した後、反応液をカチオン交換樹脂、ダウエックス50
(H+型)(商品名)で中和し、アセトンを加え、樹脂
を濾去後、濾液を濃縮乾固し、メタノールから結晶化し
て/・了−リボエピチオウリジン270■を得た。
(収率77.6%)融点 184〜185℃ 元素分析 C0HI 0N204S として計算値 C
144,62;H,4,16;N、11.56 ;S、
13.24 実測値 C144,52;N14.18;N、11.7
2;S、13.09 質量分析スペクトル m/e 242(M+)核磁気
共鳴スペクトル(DMSOda ) (ppm )3.
60(d、2H,C5/H) 3.82(d、IH,C,IH) 4.03(d、IH,Jl、イー4.6Hz、C2/H
)4.28(t、l H,C4/H) 5.63(d、i H,J5.6 = s、 o Hz
、 C5H)5.99(s、IH,C,1H) 7.88(d、IH,C6H) 2’ −3’−リボエピチオウリジン50mJ?の無水
ピリジン2ml溶液に無水酢酸0.04m1を加え、一
晩放置後、メタノールを少量加え、濃縮し、エタノール
を加えて濃縮乾固する操作を数回繰返し、エタノールか
ら結晶化して5′−0−アセチル−/・了−リボエピチ
オウリジン57.3労を得た。
(収率96%) 融点 171〜1735℃ 元素分析 C1□H120,N2Sとして計算値 C1
46,47;H,4,25;N、9.85 ;S、
11.28 実測値 C,46,26;H,4,24;N。
9.86 ;S、 11.13 紫外線吸収スペクトル λEjOH259,5n ma
X (ε、10200) 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d a ) (pp
171 )3.86 (a、tH,CIH) 4.10 (d、 I H,Jl、:!= 4.6H
z、 C2’H)4.6〜4.1 (3H,C,/H,
CIH)5.62(d、IH,J5.6=8.1Hz、
C3H)5.94.(S、IH,C,/H) 7.73(d、IH,C6H) 実施例 1 5′−〇−アセチルー2’−3’〜リキソエピチオウリ
ジン1.25■とトリフェニルホスフィン231即を無
水ジオキサン4mlに懸濁させ、30分間還流反応させ
た後、反応液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルムに溶解
させ、シリカゲルカラム(ワコーゲルC−200,10
2、カラムサイズ0.7×20crrL)に付し、クロ
ロホルム−エタノールで展開溶出し、S/ O−アセ
チル−/・了−不飽和ウリジンの画分を濃縮乾固し、酢
酸エチルから結晶化して5′−〇−アセチルー/・了−
不飽和ウリジン60■を得た。
(収率54%)融点 128〜128.5℃ 元素分析 CIIH1□05N2として 計算値 C152,38;N14.80;N、11.1
1 実測値 C152,25;N14.78;N、11.1
4 質量分析スペクトル m/e 179(MCH3CO
CH2)+ 実施例 2 5’−0−アセチル−/・了−リボエピチオウリジン5
011L9とトリフェニルホスフィン92m9を無水ジ
オキサン2rnlに懸濁させ、30分間還流反応させた
後、反応液を濃縮乾固し、残渣を少量のクロロホルムに
溶解させ、エタノールから結晶化させて5’−0−アセ
チルーグ・了−不飽和ウリジン31■を得た。
(収率72%)実施例 3 参考例2で得た混合物200m9とトリフェニルホスフ
ィン262m9を無水ジオキサン]□m1K4%濁させ
、20時間還流反応させた後、反応液を減圧下濃縮乾固
し、残渣を少量のクロロホルムに溶解させ、薄層クロマ
トグラフィーに付し、目的物を単離し、エタノールから
結晶化して5′−〇−ベンゾイルー/・3′−不飽和ウ
リジン103rn9を得た。
(収率64%)融点 137.5〜139.5℃ 元素分析 C16H1405N2として 計算値 C161,14;H14,49;N、91 実測値 C161,04;H14,51;N。
8.92 質量分析スペクトル m / e 3]4(M+) 202 (M−base N 192 (M−BzOH) + 核磁気共鳴スペクトル(CDC13) 4.45(d、d、] H,J5/a、4/ = 3
Hz、C5/aH) 4.72(d、d、I H,J5’ a、5/ b=
12.7Hz、Ji’l)、+’ = 3Hz、 C3
jbH)5.12(m、1、C,/H) 5.32 (d、 1’H,J5.6=8.7Hz、
C3H)5.85(d、d、d、IH,C,IH)6.
35(d、d、d、IH,CIH)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 R1は水素、ハロゲンまたはメチル基を示し、R2は7
    水素または保護基を示す。 〕で表わされる/・3′−リボエピチオウリジン、/・
    3′−リキソエピチオウリジン、3′−デオキシ−了−
    チオシアナート−アラビノフラノシルウラシルおよび/
    −デオキシ−グーチオシアナート−キシロフラノシルウ
    ラシルからなる化合物群から選ばれる化合物、または前
    記化合物群のうちの了−デオキシ−了−チオシアナート
    −アラビノフラノシルウラシルと/−デオキシー/−チ
    オシアナート−キシロフラノシルウラシルとの混合物を
    溶媒中でトリフェニルホスフィンと加熱反応せしめ、一
    般式CI)〔式中、R4およびR2は前記と同意義。 〕で表わされた1−(2・3−ジデオキシ−β−D−グ
    リセローペンl−−2−エノフラノシル)−ウラシルを
    合成することを特徴とするウリジン誘導体の製造法。
JP10351075A 1975-08-28 1975-08-28 ウリジンユウドウタイノセイゾウホウ Expired JPS5828279B2 (ja)

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