JP2547125B2 - 2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレオシド類とその製造方法 - Google Patents
2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレオシド類とその製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】医薬品中間体として有用な新規
2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレ
オシド類とその製造方法に関する。
2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレ
オシド類とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、例えばアジドチミジンの様なウィ
ルス感染症に対する様々な化学療法剤が開発されている
が、現在使用が許可されている化学療法剤は、水への溶
解性が低いことや、副作用等の問題を有しており、更に
優れた抗ウィルス活性を有する新規化合物の開発が強く
求められている。従来、開発されたこれらの2’,3’
−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換一ヌクレオシド類の
合成法は天然に存在するヌクレオシド類を原科とする方
法、あるいは糖誘導体と核酸塩基をカップリングさせる
方法等がある。
ルス感染症に対する様々な化学療法剤が開発されている
が、現在使用が許可されている化学療法剤は、水への溶
解性が低いことや、副作用等の問題を有しており、更に
優れた抗ウィルス活性を有する新規化合物の開発が強く
求められている。従来、開発されたこれらの2’,3’
−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換一ヌクレオシド類の
合成法は天然に存在するヌクレオシド類を原科とする方
法、あるいは糖誘導体と核酸塩基をカップリングさせる
方法等がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
これらの方法では合成できる化合物の構造や置換基が制
限されること、あるいは反応の工程数が多い等の問題が
あり、工業的に必ずしも有利な方法とはいい難い。
これらの方法では合成できる化合物の構造や置換基が制
限されること、あるいは反応の工程数が多い等の問題が
あり、工業的に必ずしも有利な方法とはいい難い。
【0004】
【課題を解決するための手段】この様な理由から、新規
なヌクレオシド類を効率よく合成する方法について検討
した結果、従来ヌクレオシド類の合成に用いられたこと
のない1−チオグリコシド誘導体を用いることにより、
新規な2’, 3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換
−ヌクレオシド類の合成とその合成法を開発するに至っ
た。
なヌクレオシド類を効率よく合成する方法について検討
した結果、従来ヌクレオシド類の合成に用いられたこと
のない1−チオグリコシド誘導体を用いることにより、
新規な2’, 3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換
−ヌクレオシド類の合成とその合成法を開発するに至っ
た。
【0005】すなわち、本発明の要旨は下記一般式化1
で表される新規な2’,3’−ジデオキシ−2’,3’
−ジ置換−ヌクレオシド類であり、
で表される新規な2’,3’−ジデオキシ−2’,3’
−ジ置換−ヌクレオシド類であり、
【化1】(化1中、R1は低級アルキル、アセトキシメ
チル、ヒドロキシメチル基、R2はアシド、ハロゲン、
Bはチミンを示す。)また、下記一般式化2および化3
で表す様に、1−チオグリコシド誘導体とチミン誘導体
を活性化剤の存在下にカップリングすることを特徴とす
る2’,3’−ジデオキシ−2’,3’,ジ置換−ヌク
レオシド類の製造方法である。
チル、ヒドロキシメチル基、R2はアシド、ハロゲン、
Bはチミンを示す。)また、下記一般式化2および化3
で表す様に、1−チオグリコシド誘導体とチミン誘導体
を活性化剤の存在下にカップリングすることを特徴とす
る2’,3’−ジデオキシ−2’,3’,ジ置換−ヌク
レオシド類の製造方法である。
【化2】
【化3】(化2、化3中、R1は低級アルキル、アセト
キシメチル、ヒドロキシメチル基、R2はアシド、ハロ
ゲン、R3はアルキルまたはアリール基、P1、P2は
保護基、Bはチミンを示す。)
キシメチル、ヒドロキシメチル基、R2はアシド、ハロ
ゲン、R3はアルキルまたはアリール基、P1、P2は
保護基、Bはチミンを示す。)
【0006】本発明に使用される化2、化3に示す1−
チオグリコシド誘導体
チオグリコシド誘導体
【化2】
【化3】は公知の方法で合成することが出来る。式中の
R1で示される低級アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル等であり、R2で
示されるハロゲンとは塩素、フッ素、臭素等を挙げるこ
とが出来る。また、P1で示す保護基としては、通常の
糖水酸基の保護基として使用されるものであればよく、
アセチル、ピバロイル等のアシル基、トリチル等のアル
キル基、第三ブチル−ジメチルシリル等のシリル基が例
示出来る。また、P2で示す保護基としては、イソプロ
ピリデンあるいはベンシリデン基が挙げられる。
R1で示される低級アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル等であり、R2で
示されるハロゲンとは塩素、フッ素、臭素等を挙げるこ
とが出来る。また、P1で示す保護基としては、通常の
糖水酸基の保護基として使用されるものであればよく、
アセチル、ピバロイル等のアシル基、トリチル等のアル
キル基、第三ブチル−ジメチルシリル等のシリル基が例
示出来る。また、P2で示す保護基としては、イソプロ
ピリデンあるいはベンシリデン基が挙げられる。
【0007】 活性化剤としては、一般にチオグリコシド
のグリコシル化の際に用いられるものが挙げられる。す
なわち、酢酸水銀、硝酸水銀などの水銀塩、銀トリフル
オロメタンスルホナート等の銀塩、N−ブロモコハク酸
イミド(以下NBS)、N−ヨードコハク酸イミド−ト
リフルオロメタンスルホン酸塩、さらに臭素、ヨウ素等
があるが、NBSが特に有効である。
のグリコシル化の際に用いられるものが挙げられる。す
なわち、酢酸水銀、硝酸水銀などの水銀塩、銀トリフル
オロメタンスルホナート等の銀塩、N−ブロモコハク酸
イミド(以下NBS)、N−ヨードコハク酸イミド−ト
リフルオロメタンスルホン酸塩、さらに臭素、ヨウ素等
があるが、NBSが特に有効である。
【0008】 反応に用いるが媒はエーテル、ベンゼン、
トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、アセトニト
リル、ジメチルスルホキシド等周知の有機溶媒で、特に
制限はない。反応温度、反応時間は用いる触媒、溶媒等
により異なり、特に限定されないが、それぞれ0〜25
℃、10分〜1時間が適当である。活性化剤の使用量に
特に制限はないが、通常は1−チオグリコシド誘導体に
対して1.0〜2.0当量の範囲で添加する。1−チオ
グリコシド誘導体に対して核酸塩基を過剰に用いる方が
よく、通常は2.0〜5.0当量である。
トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、アセトニト
リル、ジメチルスルホキシド等周知の有機溶媒で、特に
制限はない。反応温度、反応時間は用いる触媒、溶媒等
により異なり、特に限定されないが、それぞれ0〜25
℃、10分〜1時間が適当である。活性化剤の使用量に
特に制限はないが、通常は1−チオグリコシド誘導体に
対して1.0〜2.0当量の範囲で添加する。1−チオ
グリコシド誘導体に対して核酸塩基を過剰に用いる方が
よく、通常は2.0〜5.0当量である。
【0009】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明は以下の実施例により何等制限を受
けるものではない。
説明するが、本発明は以下の実施例により何等制限を受
けるものではない。
【0010】
【実施例1】1−(3−アシド−2,3−ジデオキシ−
2−C−メチル−5−O−ピバロイル−D−エリトロ−
ペントフラノシル)チミン[2]の製造方法は化4に示
す通りである。
2−C−メチル−5−O−ピバロイル−D−エリトロ−
ペントフラノシル)チミン[2]の製造方法は化4に示
す通りである。
【化4】
【0011】チミン196mg(1.6mmol)にア
ルゴン雰囲気下、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチ
ルジシラザン0.9ml(4.3mmol)、N,N−
ジメチルホルムアミド(以下DMFと略す)0.1ml
(1.3mmol)を加え16時間加熱還流する。加熱
した状態で減圧下、過剰の1,1,1,3,3,3−ヘ
キサメチルジシラザンとDMFを除去し乾燥する。得ら
れたビス(トリメチルシリル)チミンを2mlのジクロ
ロメタンに溶解し、これを1−チオグリコシド誘導体
[1]268mg(0.78mmol)のジクロロメタ
ン溶液(8ml)の中へ加える。この溶液にモレキュラ
ーシーブス4Aを加え15分間撹はんした後、NBS1
59mg(0.89mmol)を加え、室温にて1時間
撹はんした後、濾過し、濾液をチオ硫酸ナトリウム水溶
液で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精製し
て1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−2−C−メ
チル−5−O−ピバロイル−D−エリトロ−ペントフラ
ノシル)チミン[2]を273mg(98モル%)得
る。
ルゴン雰囲気下、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチ
ルジシラザン0.9ml(4.3mmol)、N,N−
ジメチルホルムアミド(以下DMFと略す)0.1ml
(1.3mmol)を加え16時間加熱還流する。加熱
した状態で減圧下、過剰の1,1,1,3,3,3−ヘ
キサメチルジシラザンとDMFを除去し乾燥する。得ら
れたビス(トリメチルシリル)チミンを2mlのジクロ
ロメタンに溶解し、これを1−チオグリコシド誘導体
[1]268mg(0.78mmol)のジクロロメタ
ン溶液(8ml)の中へ加える。この溶液にモレキュラ
ーシーブス4Aを加え15分間撹はんした後、NBS1
59mg(0.89mmol)を加え、室温にて1時間
撹はんした後、濾過し、濾液をチオ硫酸ナトリウム水溶
液で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精製し
て1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−2−C−メ
チル−5−O−ピバロイル−D−エリトロ−ペントフラ
ノシル)チミン[2]を273mg(98モル%)得
る。
【0012】 1 HNMR(CDCl3):δ1.04
(d,J=7.3Hz,3H),1.24(s,9
H),1.89−1.98(m,3H),2.87−
3.17(m,1H),3.97−4.37(m,3
H),4.37−4.65(m,1H),5.88
(d,J=8.2Hz,0.1H),6.31(d,J
=7.3Hz,0.9H),7.17(s,0.1
H),7.28(d,J=1.2Hz,0.9H).
(d,J=7.3Hz,3H),1.24(s,9
H),1.89−1.98(m,3H),2.87−
3.17(m,1H),3.97−4.37(m,3
H),4.37−4.65(m,1H),5.88
(d,J=8.2Hz,0.1H),6.31(d,J
=7.3Hz,0.9H),7.17(s,0.1
H),7.28(d,J=1.2Hz,0.9H).
【0013】
【実施例2】1−(2−C−アセトキシメチル−3−ア
ジド−2,3−ジデオキシ−5−O−ピバロイル−D−
エリトロ−ペントフラノシル)チミン[4]
ジド−2,3−ジデオキシ−5−O−ピバロイル−D−
エリトロ−ペントフラノシル)チミン[4]
【化5】
【0014】チミン229mg(1.8mmol)、1
−チオグリコシド誘導体[3]310mg(0.9mm
ol)を用い、実施例1と同様の操作を行い、1−(2
−C−アセトキシメチル−3−アシド−2,3−ジデオ
キシ−5−O−ピバロイル−D−エリトロ−ペントフラ
ノシル)チミン[4]303mg(81モル%)を得
る。
−チオグリコシド誘導体[3]310mg(0.9mm
ol)を用い、実施例1と同様の操作を行い、1−(2
−C−アセトキシメチル−3−アシド−2,3−ジデオ
キシ−5−O−ピバロイル−D−エリトロ−ペントフラ
ノシル)チミン[4]303mg(81モル%)を得
る。
【0015】 1 HNMR(CDCl3):δ1.24
(s,9H),1.86−1.99(m,3H),1.
99−2.11(m,3H),3.07−3.48
(m,1H),3.90−4.73(m,7H)4.8
0−5.04(m,1H),5.99(d,J=7.9
Hz,0.4H),6.41(d,J=7.8Hz,
0.6H),7.16−7.38(m,1H).
(s,9H),1.86−1.99(m,3H),1.
99−2.11(m,3H),3.07−3.48
(m,1H),3.90−4.73(m,7H)4.8
0−5.04(m,1H),5.99(d,J=7.9
Hz,0.4H),6.41(d,J=7.8Hz,
0.6H),7.16−7.38(m,1H).
【0016】
【実施例3】1−(2,3−ジテオキシ−3,−ルオロ
−2−C−メチル−5−O−t−ブチルジメチルシリル
−D−エリトロ−ペントフラノシル)チミン[6]
−2−C−メチル−5−O−t−ブチルジメチルシリル
−D−エリトロ−ペントフラノシル)チミン[6]
【化6】
【0017】チミン180mg(1.4mmol)、1
−チオグリコシド誘導体[5]248mg(037mm
ol)を用い、実施例1と同様の操作を行い、1−
(2,3−ジデオキシ−3−フルオロ−2−C−メチル
−5−O−t−ブチルジメチルシリル−D−エリトロ−
ペントフラノシル)チミン[6]193mg(75モル
%)を得る。
−チオグリコシド誘導体[5]248mg(037mm
ol)を用い、実施例1と同様の操作を行い、1−
(2,3−ジデオキシ−3−フルオロ−2−C−メチル
−5−O−t−ブチルジメチルシリル−D−エリトロ−
ペントフラノシル)チミン[6]193mg(75モル
%)を得る。
【0018】 1 HNMR(CDCl3):δ0.09
(s,4.8H),0.14(s,1.2H),0.8
9(s,7.2H),0.94(s,1.8H),0.
96−1.29(m,3H),1.94(s,3H),
2.47−2.81(m,0.5H),2.86−3.
26(m,0.5H),3.50−3.92(m,2
H),4.38−4.84(m,1.5H),5.19
−−5.41(m,0.5H),6.12(d,J=1
0Hz,0.2H),6.43(d,J=8.0Hz,
0.8H),7.18(s,0.8H),7.44
(s,0.2H),9.80(s,1H).
(s,4.8H),0.14(s,1.2H),0.8
9(s,7.2H),0.94(s,1.8H),0.
96−1.29(m,3H),1.94(s,3H),
2.47−2.81(m,0.5H),2.86−3.
26(m,0.5H),3.50−3.92(m,2
H),4.38−4.84(m,1.5H),5.19
−−5.41(m,0.5H),6.12(d,J=1
0Hz,0.2H),6.43(d,J=8.0Hz,
0.8H),7.18(s,0.8H),7.44
(s,0.2H),9.80(s,1H).
【0019】
【実施例4】1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−
2−C−メチル−D−エリトロ−ペントフラノシル)チ
ミン[7]
2−C−メチル−D−エリトロ−ペントフラノシル)チ
ミン[7]
【化7】
【0020】化合物[2]186mg(0.51mmo
l)に、1規定の水酸化カリウムーエタノール溶液5m
lを加えて撹はんする。1時間後、陽イオン交換樹脂
(Dowex 50W)を加えて中和した後、濾過し、
濾液を濃縮する。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
により単離精製して1−(3−アジド−2,3−ジデオ
キシ−2−C−メチル−D−エリトロ−ペントフラノシ
ル)チミン[7]107mg(75モル%)を得る。
l)に、1規定の水酸化カリウムーエタノール溶液5m
lを加えて撹はんする。1時間後、陽イオン交換樹脂
(Dowex 50W)を加えて中和した後、濾過し、
濾液を濃縮する。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
により単離精製して1−(3−アジド−2,3−ジデオ
キシ−2−C−メチル−D−エリトロ−ペントフラノシ
ル)チミン[7]107mg(75モル%)を得る。
【0021】 1 HNMR(CD3OD):δ0.98
(d,J=7.0Hz,3H),1.91(d,J=
1.1Hz,3H),2.92−3.21(m,1
H),3.60−3.68(m,2H),6.25
(d,J=7.0Hz,1H),7.47(d,J=
1.1Hz,1H).
(d,J=7.0Hz,3H),1.91(d,J=
1.1Hz,3H),2.92−3.21(m,1
H),3.60−3.68(m,2H),6.25
(d,J=7.0Hz,1H),7.47(d,J=
1.1Hz,1H).
【0022】
【実施例5】1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−
2−C−ヒドロキシメチル−D−エリトロ−ペントフラ
ノシル)チミン[8]
2−C−ヒドロキシメチル−D−エリトロ−ペントフラ
ノシル)チミン[8]
【化8】
【0023】化合物[4]82mg(0.19mmo
l)を用い、実施例4と同様に処理して1−(3−アシ
ド−2,3−ジデオキシ−2−C−ヒドロキシメチル−
D−エリトロ−ペントフラノシル)チミン[8]45m
g(79モル%)を得る。
l)を用い、実施例4と同様に処理して1−(3−アシ
ド−2,3−ジデオキシ−2−C−ヒドロキシメチル−
D−エリトロ−ペントフラノシル)チミン[8]45m
g(79モル%)を得る。
【0024】 1 HNMR(CD3OD):δ1.81−
2.04(m,3H),2.50−3.44(m,1
H),3.46−4.14(m,5H),4.34−
4.60(m,1H),5.95(d,J=7.9H
z,0.4H),6.32(d,J=7.1Hz,0.
6H),7.50(s,0.6H),7.80(s,
0.4H).
2.04(m,3H),2.50−3.44(m,1
H),3.46−4.14(m,5H),4.34−
4.60(m,1H),5.95(d,J=7.9H
z,0.4H),6.32(d,J=7.1Hz,0.
6H),7.50(s,0.6H),7.80(s,
0.4H).
【0025】
【実施例6】1−(3−アシド−2,3−ジデオキシ−
2−C−エチル−D−エリトロ−ペントフラノシル)チ
ミン[14]
2−C−エチル−D−エリトロ−ペントフラノシル)チ
ミン[14]
【化9】
【0026】チミン750mg(6,0mmol)にア
ルゴン雰囲気下、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチ
ルシシラザン3.6ml(17mmol)、DMF0.
3m1(3.9mmol)を加え16時間加熱還流す
る。加熱した状態で減圧下、過剰の1,1,1,3,
3,3−ヘキサメチルジシラザンとDMFを除去し乾燥
する。得られたビス(トリメチルシリル)チミンを5m
lジクロロメタンに溶解し、これを1−チオグリコシド
誘導体[9]872mg(3.0mmol)のジクロロ
メタン溶液(30ml)の中へ加える。この溶液にモレ
キュラーシーブス4Aを加え15分間撹はんした後、N
BS581mg(3.3mmol)を加え、室温にて1
時間撹はんした後、濾過し、濾液をチオ硫酸ナトリウム
水溶液で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精
製して[10]919mg(100モル%)を得る。
ルゴン雰囲気下、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチ
ルシシラザン3.6ml(17mmol)、DMF0.
3m1(3.9mmol)を加え16時間加熱還流す
る。加熱した状態で減圧下、過剰の1,1,1,3,
3,3−ヘキサメチルジシラザンとDMFを除去し乾燥
する。得られたビス(トリメチルシリル)チミンを5m
lジクロロメタンに溶解し、これを1−チオグリコシド
誘導体[9]872mg(3.0mmol)のジクロロ
メタン溶液(30ml)の中へ加える。この溶液にモレ
キュラーシーブス4Aを加え15分間撹はんした後、N
BS581mg(3.3mmol)を加え、室温にて1
時間撹はんした後、濾過し、濾液をチオ硫酸ナトリウム
水溶液で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精
製して[10]919mg(100モル%)を得る。
【0027】 化合物[10]717mg(2.3mmo
l)をメタノール(23ml)、脱イオン水(7ml)
に溶解し、p−トルエンスルホン酸1.06g(5.6
mmol)を加え22時間撹はんする。炭酸水素ナトリ
ウムを加えて中和し、メタノールを除去した後クロロホ
ルムで抽出する。無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精製し
て[11]605mg(97モル%)を得る。
l)をメタノール(23ml)、脱イオン水(7ml)
に溶解し、p−トルエンスルホン酸1.06g(5.6
mmol)を加え22時間撹はんする。炭酸水素ナトリ
ウムを加えて中和し、メタノールを除去した後クロロホ
ルムで抽出する。無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精製し
て[11]605mg(97モル%)を得る。
【0028】 化合物[11]346mg(1.3mmo
l)をピリジン(4ml)に溶解し、4,4’−ジメト
キシトリフェニルメチルクロリド954mg(2.8m
mol)を加え20時間撹はんする。氷冷下、メタンス
ルホニルクロリド741mg(6.4mmol)を加え
る。3.5時間後、氷水に注ぎクロロホルムで抽出し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより単離精製して[12]79
1mg(95モル%)を得る。
l)をピリジン(4ml)に溶解し、4,4’−ジメト
キシトリフェニルメチルクロリド954mg(2.8m
mol)を加え20時間撹はんする。氷冷下、メタンス
ルホニルクロリド741mg(6.4mmol)を加え
る。3.5時間後、氷水に注ぎクロロホルムで抽出し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより単離精製して[12]79
1mg(95モル%)を得る。
【0029】 化合物[12]789mg(1.2mmo
l)をDMF(19ml)に溶解し、アシ化ナトリウム
789mg(12mmol)を加え、110℃で撹はん
する。8時間後室温に戻してクロロホルムで抽出し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより単離精製して[13]559m
g(72モル%)を得る。
l)をDMF(19ml)に溶解し、アシ化ナトリウム
789mg(12mmol)を加え、110℃で撹はん
する。8時間後室温に戻してクロロホルムで抽出し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより単離精製して[13]559m
g(72モル%)を得る。
【0030】 化合物[13]310mg(0.51mm
ol)を80%酢酸水溶液(7.5ml)に溶解し、8
5°Cで撹はんする。1時間後、無水炭酸水素ナトリウ
ムを加え、酢酸をトルエンと共沸させ除去した後、クロ
ロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精
製して1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−2−C
−エチル−D−エリトロ−ペントフラノシル)チミン
[14]110mg(72モル%)を得る。
ol)を80%酢酸水溶液(7.5ml)に溶解し、8
5°Cで撹はんする。1時間後、無水炭酸水素ナトリウ
ムを加え、酢酸をトルエンと共沸させ除去した後、クロ
ロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精
製して1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−2−C
−エチル−D−エリトロ−ペントフラノシル)チミン
[14]110mg(72モル%)を得る。
【0031】 1 HNMR(CD3OD):δ0.97
(t,J=6.3Hz,3H),1.16−1.81
(m,2H),1.91(d,J=1.1Hz,3
H),2.24−2.65(m,1H),3.64−
3.75(m,2H),4.01−4.16(m,1
H),4.35(dd,J=2.7Hz,J=6.3H
z,1H),5.88(d,J=9.0Hz,1H),
7.78(d,J=1.1Hz,1H).
(t,J=6.3Hz,3H),1.16−1.81
(m,2H),1.91(d,J=1.1Hz,3
H),2.24−2.65(m,1H),3.64−
3.75(m,2H),4.01−4.16(m,1
H),4.35(dd,J=2.7Hz,J=6.3H
z,1H),5.88(d,J=9.0Hz,1H),
7.78(d,J=1.1Hz,1H).
【0032】
【実施例7】1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−
2−C−イソプロピル−D−エリトロ−ペントフラノシ
ル)チミン[20]
2−C−イソプロピル−D−エリトロ−ペントフラノシ
ル)チミン[20]
【化10】
【0033】チミン626mg(5.0mmol)にア
ルゴン雰囲気下、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチ
ルシシラザン3.0ml(14mmol)、DMF0.
25ml(3.2mmol)を加え16時間加熱還流す
る。加熱した状態で減圧下、過剰の1,1,1,3,
3,3−ヘキサメチルシシラザンとDMFを除去し乾燥
する。得られたビス(トリメチルシリル)チミンを5m
lのジクロロメタンに溶解し、これを1−チオグリコシ
ド誘導体[15]765mg(2.5mmol)のシク
ロロメタン溶液(30ml)の中へ加える。この溶液に
モレキュラーシーブス4Aを加え15分間撹はんした
後、NBS486mg(2.8mmol)を加え、室温
にて1時間撹はんした後、濾過し、濾液をチオ硫酸ナト
リウム水溶液で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
単離精製して[16]702mg(87モル%)を得
る。
ルゴン雰囲気下、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチ
ルシシラザン3.0ml(14mmol)、DMF0.
25ml(3.2mmol)を加え16時間加熱還流す
る。加熱した状態で減圧下、過剰の1,1,1,3,
3,3−ヘキサメチルシシラザンとDMFを除去し乾燥
する。得られたビス(トリメチルシリル)チミンを5m
lのジクロロメタンに溶解し、これを1−チオグリコシ
ド誘導体[15]765mg(2.5mmol)のシク
ロロメタン溶液(30ml)の中へ加える。この溶液に
モレキュラーシーブス4Aを加え15分間撹はんした
後、NBS486mg(2.8mmol)を加え、室温
にて1時間撹はんした後、濾過し、濾液をチオ硫酸ナト
リウム水溶液で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
単離精製して[16]702mg(87モル%)を得
る。
【0034】 化合物[16]699mg(2.2mmo
l)をメタノール(22ml)に溶解し、p−トルエン
スルホン酸819mg(5.6mmol)を加え32時
間撹はんする。炭酸水素ナトリウムを加えて中和し、メ
タノールを除去した後クロロホルムで抽出する。無水硫
酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより単離精製して[17]437mg
(71モル%)を得る。
l)をメタノール(22ml)に溶解し、p−トルエン
スルホン酸819mg(5.6mmol)を加え32時
間撹はんする。炭酸水素ナトリウムを加えて中和し、メ
タノールを除去した後クロロホルムで抽出する。無水硫
酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより単離精製して[17]437mg
(71モル%)を得る。
【0035】 化合物[17]221mg(0.78mm
ol)をピリシン(2.5ml)に溶解し、トリフェニ
ルメチルクロリド1.1g(4.0mmol)を加え2
0時間撹はんする。氷冷下、メタンスルホニルクロリド
450mg(3.9mmol)を加える。3.5時間
後、氷水に注ぎクロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより単離精製して[18]456mg(97モ
ル%)を得る。
ol)をピリシン(2.5ml)に溶解し、トリフェニ
ルメチルクロリド1.1g(4.0mmol)を加え2
0時間撹はんする。氷冷下、メタンスルホニルクロリド
450mg(3.9mmol)を加える。3.5時間
後、氷水に注ぎクロロホルムで抽出し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより単離精製して[18]456mg(97モ
ル%)を得る。
【0036】 化合物[18]456mg(0.75mm
ol)をDMF(12ml)に溶解し、アジ化ナトリウ
ム491mg(7.6mmol)を加え、110℃で撹
はんする。9時間後室温に戻してクロロホルムで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより単離精製して[19]3
16mg(76モル%)を得る。
ol)をDMF(12ml)に溶解し、アジ化ナトリウ
ム491mg(7.6mmol)を加え、110℃で撹
はんする。9時間後室温に戻してクロロホルムで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより単離精製して[19]3
16mg(76モル%)を得る。
【0037】 化合物[19]313mg(0.57mm
ol)を80%酢酸水溶液(8.3ml)に溶解し、8
5°Cで撹はんする。1時間後、無水炭酸水素ナトリウ
ムを加え、酢酸をトルエンと共沸させ除去した後、クロ
ロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精
製して1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−2−C
−イソプロピル−D−エリトロ−ペントフラノシル)チ
ミン[20]176mg(65モル%)を得る。
ol)を80%酢酸水溶液(8.3ml)に溶解し、8
5°Cで撹はんする。1時間後、無水炭酸水素ナトリウ
ムを加え、酢酸をトルエンと共沸させ除去した後、クロ
ロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精
製して1−(3−アジド−2,3−ジデオキシ−2−C
−イソプロピル−D−エリトロ−ペントフラノシル)チ
ミン[20]176mg(65モル%)を得る。
【0038】 1 HNMR(CD3OD):δ0.81
(d,J=5.9Hz,3H),1.08(d,J=
5.9Hz,3H),1.88(d,J=1.1Hz,
3H),2.02−2.67(m,1H),3.70−
3.83(m,2H),4.04−4.20(m,1
H),4.29−4.34(m,1H),4.50−
4.70(m,2H),6.03(d,J=9.0H
z,1H),7.8.(d,J=1.1Hz,1H).
(d,J=5.9Hz,3H),1.08(d,J=
5.9Hz,3H),1.88(d,J=1.1Hz,
3H),2.02−2.67(m,1H),3.70−
3.83(m,2H),4.04−4.20(m,1
H),4.29−4.34(m,1H),4.50−
4.70(m,2H),6.03(d,J=9.0H
z,1H),7.8.(d,J=1.1Hz,1H).
【0039】
【発明の効果】本発明は、このように2’,3’−ジテ
オキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレオシド類を簡便に
しかも良好な収率で得るものであり、その工業的価値は
大である。また、この様にして合成された化合物は新規
な2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌク
レオシドであり、医薬品の中間体として貴重な化合物で
ある。
オキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレオシド類を簡便に
しかも良好な収率で得るものであり、その工業的価値は
大である。また、この様にして合成された化合物は新規
な2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌク
レオシドであり、医薬品の中間体として貴重な化合物で
ある。
Claims (5)
- 【請求項1】 下記一般式化1で表される2’,3’−
ジデオキシ−2’3’−ジ置換−ヌクレオシド類。 【化1】 (化1中、R1は低級アルキル、アセトキシメチル、ヒ
ドロキシルメチル基、R2はアジド、ハロゲン、Bはチ
ミンを示す。) - 【請求項2】 下記一般式化2で表される1−チオグ
リコシド誘導体とチミン誘導体とを活性化剤の存在下に
カップリングさせることを特徴とする2’,3’−ジデ
オキシ−2’,3’−ジ置換、ヌクレオシド類の製造方
法。 【化2】 (化2中、R1は低級アルキル、アセトキシメチル、ヒ
ドロキシメチル基、R2はアジド、ハロゲン、R3はア
ルキルまたはアリール基、P1は保護基、Bはチミンを
示す。) - 【請求項3】 活性化剤としてN−ブロモコハク酸イミ
ドを用いることを特徴とする特許請求の範囲第2項の製
造方法。 - 【請求項4】 下記一般式化3で表される1−チオグリ
コシド誘導体とチミン誘導体とを活性化剤の存在下にカ
ップリングさせることを特徴とする2’,3’−シデオ
キシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレオシド類の製造方
法。 【化3】 (化3中、R 1 は低級アルキル、アセトキシメチル、ヒ
ドロキシメチル基、R 2 はアジド、ハロゲン、R 3 はア
ルキルまたはアリール基、P 2 は保護基、Bはチミンを
示す。) - 【請求項5】 活性化剤としてN−ブロモコハク酸イミ
ドを用いることを特徴とする特許請求の範囲第4項の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3070535A JP2547125B2 (ja) | 1990-03-13 | 1991-03-11 | 2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレオシド類とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2-62122 | 1990-03-13 | ||
JP2062122A JPH03264582A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | 2’,3’―ジデオキシ―2’,3’―ジ置換―ヌクレオシド類とその製造方法 |
JP3070535A JP2547125B2 (ja) | 1990-03-13 | 1991-03-11 | 2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレオシド類とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0753552A JPH0753552A (ja) | 1995-02-28 |
JP2547125B2 true JP2547125B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=26403180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3070535A Expired - Fee Related JP2547125B2 (ja) | 1990-03-13 | 1991-03-11 | 2’,3’−ジデオキシ−2’,3’−ジ置換−ヌクレオシド類とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2547125B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-11 JP JP3070535A patent/JP2547125B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0753552A (ja) | 1995-02-28 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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