JPH07252293A - デオキシリボヌクレオシド誘導体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 下記一般式で示されるデオキシリボヌクレオ
シド誘導体。 （式中、Ｒ^１は水素原子、−ＣＯＣＨ（ＣＨ_３）_２、又
は−ＣＯＣＨ_２ＯＡｒ（Ａｒはアリール基を示す）を表
し；Ｒ^２は水素原子又は−Ｐ（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＮ）Ｎ
（ＣＨ（ＣＨ_３）_２）_２を表し；Ｒ^３は水素原子又はジ
メトキシトリチル基を表し；Ｒ^４およびＲ^５は水素原子
又は＝ＣＨＮ（Ｒ^６）_２を表し；Ｒ^６はアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表
す。） 【効果】 通常の脱保護条件（５５℃、８時間程度）
で、収率良くｄＡ^ＮＨ２を複数個含むＤＮＡを与えるこ
とが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、オリゴヌクレオチドな
いしポリヌクレオチドの合成に有用なモノマーユニット
たる、デオキシリボヌクレオシド誘導体およびその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】２−アミノアデニン（２−ａｍｉｎｏ
Ａ）は、下記式（化７）に示すようにチミン２位のカル
ボニル基と３本目の水素結合を形成する。したがって、
２本の水素結合しか形成しない塩基対（化８）に比較し
て、２−ａｍｉｎｏ Ａを含むポリヌクレオチド（以下
においては、「オリゴヌクレオチド」を包含する意味で
用いる）は、チミンを含むポリヌクレオチドと、より安
定な塩基対を形成することが可能である。このような３
本目の水素結合を形成するポリヌクレオチドは、アンチ
センス法ないしハイブリダイゼーション用のプローブと
して、より有効であると考えられている。

【０００３】

【化７】

【０００４】

【化８】 従来より、２−アミノ−２′−デオキシアデノシン（ｄ
Ａ^ＮＨ２）を含むＤＮＡの合成（例えば、２−ａｍｉｎ
ｏ Ａを複数個含むＤＮＡの合成）は、酵素法（Ｋ．
Ｈ．Ｓｃｈｅｉｔ ａｎｄ Ｈ．−Ｒ．Ｒａｃｋｗｉｔ
ｚ，Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓ．，１０，４
０５９−４０６９，１９８２）あるいはトリエステル法
（Ｂ．Ｌ．Ｇａｆｆｎｅｙｅｔ．ａｌ． Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ，４０，３−１３，１９８４；Ａ．ｃｈｏｌ
ｌｏｔ ｅｔ．ａｌ．Ｃｈｅｍｉｃａ Ｓｃｒｉｐｔ
ａ，２６，３７−４０，１９８６）により行われて来
た。

【０００５】しかしながら、前者の酵素法では、ＤＮＡ
配列の所望の部分（サイト）に２−ａｍｉｎｏ Ａを導
入することができず、また大量の合成が困難であった。

【０００６】また、後者のトリエステル法では、２−ａ
ｍｉｎｏ Ａを所望の部分に導入可能であるが、用いる
試薬の反応性が低いため、長鎖のＤＮＡ（２０量体以
上）を合成することは困難であった。

【０００７】上述した酵素法あるいはトリエステル法の
欠点を解消する目的で、ホスホロアミダイト法を用いた
ＤＮＡ合成法が検討されており、特にこのホスホロアミ
ダイト法を用いたＤＮＡ合成機による自動合成が強く望
まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来報
告されたホスホロアミダイト法による合成（Ｗ．Ｊ．Ｃ
ｈａｚｉｎ，Ｍ．Ｒａｎｃｅ，Ａ，ｃｈｏｌｌｅｔ，
Ｗ．Ｌｅｕｐｉｎ，Ｎｕｃｌｅｉｃ ａｃｉｄｓ Ｒｅ
ｓ．，１９，５５０７−５５１３，１９９１）において
は、脱保護条件が過酷（５５°Ｃ、２〜５日間）なた
め、２−ａｍｉｎｏＡを複数個含むＤＮＡ、更には他の
不安定な修飾ヌクレオシドをも含むＤＮＡを収率よく得
ることはできなかった。

【０００９】したがって、本発明の目的は、上述した従
来技術の欠点を解消できるデオキシリボヌクレオシド誘
導体およびその製造方法を提供することにある。

【００１０】本発明の他の目的は、ポリヌクレオチドの
合成に好適に使用可能なモノマーユニットたるデオキシ
リボヌクレオシド誘導体、およびその製造方法を提供す
ることにある。

【００１１】本発明の更に他の目的は、温和な条件で脱
保護が可能なホスホロアミダイト保護基を有するモノマ
ーユニットたるデオキシリボヌクレオシド誘導体、およ
びその製造方法を提供することにある。

【００１２】本発明の更に他の目的は、ポリヌクレオチ
ドないしＤＮＡを収率よく合成可能なモノマーユニット
たるデオキシリボヌクレオシド誘導体、およびその製造
方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、アリロキシアセチル基（−ＣＯＣＨ_２ＯＡｒ）等
を、従来脱保護が困難であったアデニン２−位のアミノ
基保護基として用いることが極めて有効であることを見
出した。

【００１４】本発明のデオキシリボヌクレオシド誘導体
は上記知見に基づくものであり、より詳しくは、下記一
般式で示されるものである。

【００１５】

【化２３】 （上記式中、Ｒ^１は水素原子、−ＣＯＣＨ（Ｃ
Ｈ_３）_２、又は−ＣＯＣＨ_２ＯＡｒ（Ａｒはアリール基
を示す）を表し；Ｒ^２は水素原子又は−Ｐ（ＯＣＨ_２Ｃ
Ｈ_２ＣＮ）Ｎ（ＣＨ（ＣＨ_３）_２）_２を表し；Ｒ^３は水
素原子又はジメトキシトリチル基を表し；Ｒ^４およびＲ
^５は水素原子又は＝ＣＨＮ（Ｒ^６）_２を表し；Ｒ^６はア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、叉はアラル
キル基を表す。）本発明によれば、更に、下記一般式
（１）で示されるデオキシリボヌクレオシド化合物にト
リメチルクロロシランを反応させた後、１−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）およびフェノキシアセ
チルクロリド（ＰＡＣｌ）を更に反応させて、下記一般
式（２）で示されるデオキシリボヌクレオシド誘導体を
得ることを特徴とするデオキシリボヌクレオシド誘導体
の製造方法が提供される。

【００１６】

【化２６】

【００１７】

【化２７】 （上記式中、Ｒ^３は水素原子又はジメトキシトリチル基
を表す。）以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発
明を詳細に説明する。（デオキシリボヌクレオシド誘導
体）本発明のデオキシリボヌクレオシド誘導体は、下記
一般式で示される構造を有する。

【００１８】

【化９】 上記式中、Ｒ^１は水素原子、−ＣＯＣＨ（ＣＨ_３）_２、
又は−ＣＯＣＨ_２ＯＡｒ（Ａｒはアリール基を示す）を
表す。このアリール基は、炭素数６〜１４（更には６〜
１０）のアリール基が好ましく、フェニル基が特に好ま
しい。このフェニル基の環上には、適宜置換基が結合し
ていてもよい。置換基がある場合には、該置換基はオル
ト位、メタ位、および／又はパラ位のいずれ（ないしは
２以上の位置）に結合していてもよいが、特にパラ位が
好ましい。この置換基がアルキル基である場合には、炭
素数１〜４の低級アルキル基が好ましい。デオキシリボ
ヌクレオシド誘導体の溶媒への溶解性等の点からは、該
アルキル基はブチル基（特にターシャリーブチル基）が
好ましい。

【００１９】上記式中、Ｒ^２は水素原子又は−Ｐ（ＯＣ
Ｈ_２ＣＨ_２ＣＮ）Ｎ（ＣＨ（ＣＨ_３）_２）_２を表す。

【００２０】上記式中、Ｒ^３は水素原子又はジメトキシ
トリチル基を表し；Ｒ^４およびＲ^５は水素原子又は＝Ｃ
ＨＮ（Ｒ^６）_２を表す。このＲ^６はアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれで
あってもよいが、アルキル基としては、炭素数１〜４の
低級アルキル基が好ましく、炭索数２〜４の低級アルキ
ル基が更に好ましく、炭素数４のブチル基（例えば、ｎ
＝ブチル基）が特に好ましい。

【００２１】Ｒ^６のシクロアルキル基は、炭素数４〜７
（更には５〜６）のシクロアルキル基が好ましく、シク
ロヘキシル基が特に好ましい。Ｒ^６のアリール基は、炭
素数６〜１４（更には６〜１０）のアリール基が好まし
く、フェニル基が特に好ましい。Ｒ^６のアラルキル
（ａｒａｌｋｙｌ）基は、炭素数７〜８のアラルキル基
が好ましく、ベンジル基 （−ＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_５）が特に
好ましい。

【００２２】本発明のデオキシリボヌクレオシド誘導体
の特に好ましい態様を、下記式（化１０）〜（化１４）
に示す。

【００２３】

【化１０】

【００２４】

【化１１】

【００２５】

【化１２】

【００２６】

【化１３】

【００２７】

【化１４】 （デオキシリボヌクレオシド誘導体の合成）上記式（化
１０）〜（化１４）に示すデオキシリボヌクレオシド誘
導体は、例えば、以下のようにして合成することが好ま
しい。

【００２８】すなわち、アデニン２位のアミノ基の保護
にフェノキシアセチル基、６位のアミノ基の保護にＮ，
Ｎ−ブチルホルムアミジル基（Ｌ．Ｊ．ＭｃＢｒｉｄｅ
ｅｔ．ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１０８，
２０４０−２０４８，１９８６；Ｅ．Ｃ．Ｆｌｏｅｈｌ
ｅｒ ｅｔ．ａｌ．Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅ
ｓｅａｒｃｈ １１，８０３１．８０３６，１９８３）
を用いて、下記式（化１５）〜（化２０）に示すよう
に、２′−デオキシグアノシンからホスホロアミダイド
化を行なうことが、収率の点から好ましい。下記式にお
いて、化合物（２）の合成は、Ｊｏｎｅｓらの方法（Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、１９８４、４０、３〜１３）に
より行うことが好ましい。

【００２９】

【化１５】

【００３０】

【化１６】

【００３１】

【化１７】

【００３２】

【化１８】

【００３３】

【化１９】

【００３４】

【化２０】 上記（化１５）〜（化２０）式中、ＩｂＣｌはイソブチ
ルクロリド、ｐｙはピリジン、ＭｓＣｌはメシチレンス
ルホニルクロリド、Ｅｔ_３Ｎはトリエチルアミン、ＤＭ
ＡＰはジメチルアミノピリジン、Ｍｅ_３Ｎはトリメチル
アミン、ＤＭＴｒＣｌはジメトキシトリチルクロリド、
ＰＡＣｌはフェノキシアセチルクロリド、ＨＯＢＴは１
−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ＴＭＳＣｌはトリメ
チルクロロシランをそれぞれ示す。

【００３５】なお、上記化合物（３）の合成は、文献
（Ｂ．Ｌ．Ｇａｆｆｎｅｙ ｅｔ．ａｌ．Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ，４０，３−１３，１９８４）に従い、その
後２位をいったん脱保護し、改めて２位および６位に保
護基をかけ直している。本発明者の知見によれば、化合
物（４）の６位を保護した後のホスホロアミダイト合成
は、保護基が通常の脱保護条件で外れにくいと考えられ
る。

【００３６】上記化合物（１２）を合成して、モノマー
ユニットとして用いることは、本発明者の実験によれ
ば、ホスホロアミダイト化において少量の分解物が確認
され、また該化合物の精製もその不安定性のため困難で
あった。

【００３７】化合物（６）をベンゾイル化してホスホロ
アミダイト化することは、本発明者の実験によれば、適
切なベンゾイル化は困難であった。これは、本発明者の
知見によれば、立体障害、もしくは酸クロライドの反応
性によるものと考えられた。これに対して、Ｎ，Ｎ−ジ
ブチルホルムアミジル基を使用した場合には、上記のよ
うな問題点は生じなかった。

【００３８】上記した反応（化１８）を用いることによ
り、２位アミノ基の選択的保護が可能となり、化合物
（５）から化合物（６）を効率的に合成することができ
る。

【００３９】また、化合物（７）を精製するに際して
は、逆相クロマトグラフィーが特に好ましく使用可能で
ある。（脱保護条件）

【００４０】

【化２１】 ２−アミノ−２′−デオキシアデノシンを含むＤＮＡの
合成については、化合物（９）〜（１１）がモノマーユ
ニットとして使用可能である。しかしながら、その保護
基が過酷な脱保護条件（例えば、２８％ＮＨ_４ＯＨ，５
５℃，２〜５日間）を必要とする場合には、オリゴマー
は低収率でしか得られない。

【００４１】上記化合物（７）がどの程度の反応時間な
いし条件で脱保護されるかを、確認するため、ｄ２−ａ
ｍｉｎｏ ＡＴとｄＧＴという２種のダイマーを作製
し、２８％ＮＨ_４ＯＨ中、３７℃に加熱し、ＨＰＬＣ
（高性能液体クロマトグラフィー）を用いて原料の経時
変化を調べ、脱保護の半減期および終了時間を求めた。
この場合のＨＰＬＣ分析条件は、グラジェント ＣＨ_３
ＣＮ ０−２５％／１５ｍｉｎ，緩衝液：５０ｍＭ Ａ
ｍｍｏｎｉｕｍ ｆｏｒｍａｔｅであった。

【００４２】この結果、以下の半減期および反応終了時
間が得られた。 ２−ａｍｉｎｏ Ａ 半減期＝２０分，終了時間＝２
時間 Ｇ 半減期＝２時間，終了時間＝１６時間 以上の結果から、化合物（７）の保護基は通常の脱保護
条件（５５℃，８ｈ）で脱保護されることが確認され
た。すなわち、この化合物（７）の保護基は、２−ａｍ
ｉｎｏ Ａの保護として特に好ましい。

【００４３】以下実施例により、本発明を更に具体的に
説明する。

【００４４】

【実施例】実施例１ ２−Ｎ−Ｉｓｏｂｕｔｙｒｙｌ−２−ａｍｉｎｏ−２′
−ｄｅｏｘｙａｄｅｎｏｓｉｎｅ（３）の合成 化合物（２） ４．４５ｇ （９．３４ｍｍｏｌ）に１
Ｎ ＮａＯＨ（Ｐｙｒｉｄｉｎｅ：ＭｅＯＨ：Ｈ_２Ｏ＝
６５：３０：５）４６．７ｍｌを加え０℃，１０ｍｉｎ
撹拌した。５％ ＮＨ_４Ｃｌａｑ １８８ｍｌを加えた
後、溶媒を留去した。ＡｃＯＥｔ（酢酸エチル） ５０
ｍｌ，Ｈ_２Ｏ ５０ｍｌで分液し、水層を冷却して一晩
放置して再結晶したものを集めた。

【００４５】収量 ２．３６ｇ（７．０１ｍｍｏｌ）収
率７５．１％^１ Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ１．０５（ｄ，６
Ｈ，（ＣＨ_３）_２，Ｊ＝８．５Ｈｚ），２．２４（ｍ，
１Ｈ，Ｈ３′），４．９４（ｔ，１Ｈ，５′−ＯＨ，Ｊ
＝５Ｈｚ），５．３０（ｄ，１Ｈ，３′−ＯＨ，Ｊ＝５
Ｈｚ），６．２７（ｔ，１Ｈ，Ｈｌ′，Ｊ＝８Ｈｚ），
８．２４（ｓ，１Ｈ，Ｈ８）実施例２ ２−Ｎ−Ｉｓｏｂｕｔｙｒｙｌ−５′−Ｏ−ｄｉｍｅｔ
ｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ−２−ａｍｉｎｏ−２′−ｄｅｏ
ｘｙａｄｅｎｏｓｉｎｅ（４）の合成 化合物（３） ２．３６ｇ（７．０１ｍｍｏｌ）にｄｒ
ｙ ｐｙｒｉｄｉｎｅ２０ｍｌを加えて２回共沸した。
ｄｒｙ ｐｙｒｉｄｉｎｅ ５５ｍｌを加えてＤｉｍｅ
ｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ ３．５２
ｇ（１０．３ｍｍｏｌ，１．５ｅｑ），Ｅｔ_３Ｎ １，
４３ｍｌ（１０．５ｍｍｏｌ，１．５ｅｑ），４−ｄｉ
ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｙｒｉｄｉｎｅ ４０ｍｇを
加えて、室温で一晩撹拌した。冷却して水を少量加えた
後、溶媒を留去した。ＡｃＯＥｔ ７０ｍｌ，Ｈ_２Ｏ
７０ｍｌで分液し、ＡｃＯＥｔ層をさらにＨ_２Ｏ ７０
ｍｌで２回分液した後、無水Ｎａ_２ＳＯ_４で乾燥し、Ａ
ｃＯＥｔを留去した。残渣をカラムクロムトグラフィー
で精製した（ＭｅＯＨ ｉｎ ＣＨ_２Ｃｌ_２ ４％）
が、一部精製しきれない部分が残った。この不純物は、
本発明者の知見によれば、アデニン６位のアミノ基にＤ
ｉｍｅｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ基が結合して生成したも
のと推定された。

【００４６】粗収量２．６７ｇ（４．１８ｍｍｏｌ）、
粗収率６０．０％^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ _３）δ１．１８（ｑ，６Ｈ，
（ＣＨ_３） _２ Ｃ，Ｊ＝５Ｈｚ），２．５３（ｍ，１
Ｈ，Ｈ２’’），２．７０−３．０８（ｍ，２Ｈ，Ｈ
２’，Ｍｅ ２ＣＨ），３．３５（ｍ，２Ｈ，Ｈ
５’），３．７８（ｓ，６Ｈ，２０ＣＨ_３），４．１２
（ｍ，１Ｈ，Ｈ４’），４．６９（ｂｒ，１Ｈ，Ｈ
３’），５，６９（ｂｒ，２Ｈ，ＮＨ_２），６．２７
（ｔ，１Ｈ，Ｈ１’，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．７８
（ｍ，４Ｈ，ｐｈ），７．１３−７．４５（ｍ，９Ｈ，
ｐｈ），７．８６（ｓ １Ｈ，Ｈ８），８．３８（ｂ
ｒ，１Ｈ，Ｎ^２Ｈ）実施例３ ５’−Ｏ−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙ１−２−ａｍ
ｉｎｏ−２’−ｄｅｏｘｙａｄｅｎｏｓｉｎｅ（５）の
合成 化合物（４） ２．５７ｇ（４．１８ｍｍｏｌ）に１Ｎ
ＮａＯＨ（Ｐｙｒｉｄｉｎｅ：ＭｅＯＨ：Ｈ_２ Ｏ＝
６５：３０：５）２２．７ｍｌを加え、室温で４ｈ撹
拌。ＡｃＯＥｔ １００ｍｌ，Ｈ_２Ｏ １００ｍｌで分
液し、ＡｃＯＥｔ層をさらにＨ_２Ｏ １００ｍｌで２回
分液した後、無水Ｎａ_２ ＳＯ_４で乾燥し、ＡｃＯＥｔ
を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し
た。（ＭｅＯＨ ｉｎ ＣＨ_２ Ｃｌ_２ ５％）

【００４７】収量 １．８７ｇ（３．２９ｍｍｏｌ）収
率４７．２％（化合物（３）に対して）^１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ_３ ＯＤ）δ２．４３（ｄｄｄ，１
Ｈ，Ｈ２’，Ｊ＝７．１，４，５，２．ＯＨｚ），２．
８０（ｍ，１Ｈ，Ｈ２’）３．７５（ｓ，６Ｈ，２ＯＣ
Ｈ_３），４．０６（ｍ，１Ｈ，Ｈ４’）４．６２（ｍ，
１Ｈ，Ｈ３’）６．２７（ｔ，１Ｈ，Ｈ１’，Ｊ＝７．
１Ｈｚ），６．７８（ｍ，４Ｈ，ｐｈ），７．１３ ４
５（ｍ，９Ｈ，ｐｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ，Ｈ８）実施例４ ２−Ｎ−Ｐｎｅｎｏｘｙａｃｅｔｙｌ−５’−Ｏ−ｄｉ
ｍｅｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ−２−ａｍｉｎｏ−２’−
ｄｅｏｘｙａｄｅｎｏｓｉｎｅ（６）の合成化合物
（５）１．８７ｇ（３．２９ｍｍｏｌ）をｄｒｙ ｐｙ
ｒｉｄｉｎｅに溶かして３回共沸した。ｄｒｙ ｐｙｒ
ｉｄｉｎｅ ２０ｍｌに溶かし、Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｃ
ｈｌｏｒｏｓｉｌａｎｅ ２．０８ｍｌ（１６．４ｍｍ
ｏｌ，５ｅｇ）を加え、室温で２５ｍｉｎ撹拌。その後
溶液を冷却（溶液Ａ）１−Ｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｔ
ｒｉａｚｏｌｅ １．４２ｇ（１０．５ｍｍｏｌ，３．
２ｅｇ）にｄｒｙ ＣＨ_３ ＣＮ を加えて２回共沸し
た。ｄｒｙ ＣＨ_３ ＣＮ５ｍｌ，ｄｒｙ ｐｙｒｉｄ
ｉｎｅ ５ｍｌに溶かしＰｈｅｎｏｘｙａｃｅｔｙｌ
ｃｈｌｏｒｉｄｅ １．３７ｍｌ（９．９ｍｍｏｌ，３
ｅｑ）を加え、室温で５ｍｉｎ撹拌。その後溶液を冷却
（溶液Ｂ）氷冷下、溶液Ａを溶液Ｂにゆっくり加え、室
温で一晩撹拌した。冷却しながら飽和重曹水９０ｍｌを
加え、水９０ｍｌ，ＡｃＯＥｔ １８０ｍｌで分液。Ａ
ｃＯＥｔを留去した。このようにして合成した２，６−
Ｎ−Ｄｉｐｈｅｎｏｘｙａｃｅｔｙｌ−５’−ｄｉｍｅ
ｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ−２−ａｍｉｎｏ−２’−ｄｅ
ｏｘｙａｄｅｎｏｓｉｎｅをＥｔＯＨ １００ｍｌ，Ｃ
Ｈ_２Ｃｌ_２ ４０ｍｌに溶かして、よく冷却しＮＨ
_{３ａｑ ３０ｍｌを加えた。約３−４時間撹拌してＴＬ
Ｃ（薄層クロマトグラフィー、ＥｔＯＨ ｉｎ ＣＨ ２}
Ｃｌ_２ ５％）で２，６−Ｄｉｐｈｅｎｏｘｙａｃｅ
ｔｙｌ−５’−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ−２−
ａｍｉｎｏ−２’−ｄｅｏｘｙａｄｅｎｏｓｉｎｅの消
失を確認した後、熱を加えずにＮＨ_３だけ留去し、その
後熱を加え溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラ
フィーで精製した。（ＥｔＯＨ ｉｎ ＣＨ_２Ｃｌ_２
５％） 収量２．０４ｇ（２．９１ｍｍｏｌ）収率８８．４％ １Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ２．４６−２．７８
（ｍ，２Ｈ，Ｈ２’），３．３５（ｍ，２Ｈ，Ｈ
５’），３．７３（ｓ，６Ｈ，２０ＣＨ_３），４．１６
（ｄ，１Ｈ，Ｈ ，ｊ＝３Ｈｚ），４．７０（ｂｒ，３
Ｈ’，Ｈ３’，ＰｈＯＣＨ_２），６．２５（ｂｒ，２
Ｈ，ＮＨ _２），６．４４（ｔ，１Ｈ，Ｈ１’，Ｊ＝
６．ＯＨｚ），６．７０−７．４４（ｍ，１８Ｈ，ｐ
ｈ），７．８８（ｓ，１，Ｈ８），９．２０（ｂｒ，
１，Ｎ_２ Ｈ）

【００４８】実施例５ ２−Ｎ−Ｐｈｅｎｏｘｙａｃｅｔｙｌ−６−Ｎ−（Ｎ，
Ｎ−ｄｉｂｕｔｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｙｌ）−５’−Ｏ
−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ−２ａｍｉｎｏ−
２’−ｄｅｏｘｙａｄｅｎｏｓｉｎｅ（７）の合成 化合物（６）２．０４ｇ（３．２９ｍｍｏｌ）をｄｒｙ
ｐｙｒｉｄｉｎｅに溶かして３回共沸した。ｄｒｙ
ｐｙｒｉｄｉｎｅ １２ｍｌに溶かし、Ｎ，Ｎ−Ｄｉｂ
ｕｔｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅ
ｔａｌ １．８２ｍｌ（８．７３ｍｍｏｌ，３ｅｇ）を
加え、室温で２ｄａｙｓ撹拌。ｐｙｒｉｄｉｎｅを留去
し、残渣をカラムクロマトグラフィー（ＥｔＯＨ ｉｎ
ＣＨ２Ｃｌ２ ５％）で精製した。この精製の際、化
合物（７）と近いＲｆ値を持つ不純物を分離するため、
更に逆相カラムクロマトグラフィーで精製した（ＭｅＯ
Ｈｉｎ Ｈ_２ ０８５％）。この際化合物（７）はＭｅ
ＯＨ８５％溶液にはほとんど溶けなかったが、そのまま
担体上に配置（ｌｏａｄ）して、カラムの管壁を少量の
ＭｅＯＨで洗浄した。

【００４９】なお、上記で用いたＮ，Ｎ−Ｄｉｂｕｔｙ
ｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｌ
は、Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄ Ｒｅｓ．，１９８
３、１１、８０３１〜３６の方法で得た。すなわち、Ｄ
ｉ−ｎ−ｂｕｔｙｌａｍｉｎｅ２５ｍｌ（０．１５ｍｍ
ｏｌ）と、Ｎ，Ｎ−Ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄ
ｅ ｄｉｍｅｔｈｙｌ ａｃｅｔａｌ ２１．７ｍｌ
（０．１６ｍｍｏｌ）とを混合して、１００℃，３日間
加熱した。減圧蒸留でＮ，Ｎ−Ｄｉｂｕｔｙｌｆｏｒｍ
ａｍｉｄｅ ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｌ（ｂ．Ｐ．
９０−９２℃／１０ｍｍＨｇ）を７．７９ｇ（３８．５
ｍｍｏｌ）得た（収率２６％）。

【００５０】収量：１．７２ｇ（２．０５ｍｍｏｌ）
収率７０．４％^１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ_３ ＯＤ）δ０．９５（ｔｄ，６
Ｈ，２ＣＨ_３，Ｊ＝７．３，３．５Ｈｚ），１．４０
（ｍ，４Ｈ，２Ｃ−ＣＨ_２−Ｃ），１．７０（ｍ，４
Ｈ，２Ｃ−ＣＨ_３−Ｃ），２．４８（ｍ，１Ｈ，Ｈ
２’），３．０３（ｍ，１Ｈ，Ｈ２’），３．２９
（ｍ，２Ｈ，Ｈ５’），３．７３（ｓ，６Ｈ，２０ＣＨ
_３），４．１４（ｍ，１Ｈ，Ｈ４’），６．４５（ｔ，
１Ｈ，Ｈ１’，Ｊ＝６Ｈｚ），６．６−７．５（ｍ，１
８Ｈ，ｐｈ），８．２３（ｓ，１Ｈ，Ｈ８），８．９８
（ｓ，１Ｈ，Ｎ＝ＣＨ＝Ｎ）実施例６ ２−Ｎ−Ｐｈｅｎｏｘｙａｃｅｔｙｌ−６−Ｎ−（Ｎ，
Ｎ−ｄｉｂｕｔｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｙｌ）−５’−Ｏ
−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｔｒｉｔｙｌ−２−ａｍｉｎｏ−
２’−ｄｅｏｘｙａｄｅｎｏｓｉｎｅ−３’−Ｎ，Ｎ−
ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌ（ｃｙａｎｏｅｔｈｙｌ）ｐｈ
ｏｓｐｈｏｒａｍｉｄｉｔｅ（８）の合成 化合物（７）１３９ｍｇ（０．１６６ｍｍｏｌ）をゴム
シールドボトルに入れ、ｄｒｙ ｐｙｒｉｄｉｎｅに溶
かして３回共沸した。ボトルにＡｒ（アルゴン）を充填
し、ｄｒｙ ｐｙｒｉｄｉｎｅ １．５ｍｌに溶かし、
０．５Ｍ Ｔｅｔｒａｚｏｌｅ／ＣＨ_３ ＣＮ ４００
μｌ，２−ｃ ａｎｏｅｔｈｙｌ−Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏ
ｐｒｏｐｙｌ ｃｈｌｏｒｏｐｈｏｒａｍｉｄｉｔｅ
６０μｌを加え、室温で３０ｍｉｎ撹拌した。ＴＬＣで
原料の消失を確認した。

【００５１】飽和重曹水で酢酸を除いたＡｃＯＥｔ １
０ｍｌと飽和重曹水１５ｍｌで分液し、ＡｃＯＥｔ層を
飽和重曹水１５ｍｌで分液した。無水Ｎａ_２ ＳＯ_４で
乾燥し、ＡｃＯＥｔを留去した。残渣をｄｒｙ ＣＨ_３
ＣＮに溶かしてゴムシールドボトルに入れ、３回共沸
した（この後、上記ボトルに、再度Ａｒを充填しておい
た）。 粗収量１６０ｍｇ粗収率９３．６％

【００５２】実施例７ （ＤＮＡ合成）上記実施例で得た化合物を用い、市販の
自動ＤＮＡ合成装置（Ａｐｐ ｉｅｄＢｉｏｓｙｓｔｅ
ｍ ３８１Ａ ａｕｔｏｍａｔｉｃ ｓｙｎｔｈｅｓｉ
ｚｅｒ）によりＤＮＡ合成を行った。１５分ごとに担体
を２８％ ＮＨ_４ ＯＨ １ｍｌで溶出し、このＤＮＡ
合成操作を計５回行なった。 得られた精製物を６０
℃，４ｈで脱保護し、その後真空濃縮機で溶媒を留去し
た。オリゴマーの生成はＨＰＬＣ（ＴＯＳＯＨ ＣＣＰ
Ｅ）で確認した。（分析条件；ｇｒａｄｉｅｎｔＣＨ_３
ＣＮ Ｏ−２０％／２０ｍｉｎ，Ｂｕｆｆｅｒ：５０
ｍＭ Ａｍｍｏｎｉｕｍ ｆｏｒｍａｔｅ）

【００５３】実施例８ （脱保護の条件検討）ｄ２−ａｍｉｎｏＡＴ，ｄＧＴと
いう２つのダイマーを上記したＤＮＡ自動合成機で作製
し、その担体に０．４ｍｌの２８％ＮＨ_４ＯＨを加え、
１５ｍｉｎ後に精製物を担体から切り出した。このよう
にして得た精製物を含む溶液を３７℃に保温した（保温
し始めた時刻をｔ＝１５ｍｉｎとする）。時間を測定し
ながら、溶液を３６μｌとり、１Ｎ酢酸２８４μｌ，
０．５Ｍカコジル酸バッファー（ｐＨ＝７．０）８０μ
ｌを加えて中和し、このようにして採取した溶液のうち
２０μｌをＨＰＬＣで分析した（ＴＯＳＯＨ ＣＣＰ
Ｅ，Ｃｏｌｕｍｎ−Ｃｈｅｍｃｏ ＯＤＳ−Ｈ，ｇｒａ
ｄｉｅｎｔ：ＣＨ_３ＣＮ Ｏ−２５％／１５ｍｉｎ，Ｂ
ｕｆｆｅｒ：５０ｍＭ Ａｍｍｏｎｉｕｍ ｆｏｒｍａ
ｔｅ）。化合物の物性値 上記の実施例で得られた化合物の物性値は、以下の通り
である。化合物（６） ^１ Ｈ−ＮＭＲチャートを図１に示す。化合物（７） ＦＡＢ−ＭＳ（ｐｏｓｉｔｉｖｅ）８４２（Ｍ＋１） ＦＡＢマススペクトル・チャートを図２に、４００ＭＨ
ｚ^１Ｈ−ＮＭＲチャートを図３に、４００ＭＨｚ^１Ｈ−
ＮＭＲデータを図８に示す。化合物（８） ＦＡＢマススペクトル・チャートを図４に、^１Ｈ−ＮＭ
Ｒチャートを図５に、ＩＲチャートを図６に、ＵＶチャ
ートを図７に、２００ＭＨｚ^１Ｈ−ＮＭＲデータを図９
に示す。’Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９３
（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１２Ｈ ＣＨ_３（ｉｐｒ）），
１．０４〜１．５０（ｍ，１０ Ｈ，ＣＨ_３ＣＨ_２），
１．５２−１．７３（ｍ，４Ｈ，ＮＣＮ_２ ＣＨ_２ Ｃ
Ｈｅ ＣＨ_３ ），１．８０−１．９５（ｍ，ＩＨ，
２’），２．４１（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，ＩＨ，−ＣＨ
_２ＣＮ），２．６０（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，ＩＨ，−Ｃ
Ｈ_２ ＣＮ），２．６４−２．８９（ｍ，３Ｈ，ＨＮ，
２’），３．２５−３．４４（ｍ，４Ｈ，Ｎ−ＣＮ _２
，ＣＨ_２ ，ＣＮ_２ ，ＣＨ_３ ），３．４５−３．
７２（ｍ，４Ｈ，５’，−ＯＣＨ_２ ＣＨ_２ ＣＮ），
３．７４（Ｓ，６Ｈ ＯＣＨ_３ ），４．１７−４．３
０（ｍ，ＩＨ，４’），４．５２−４．８４（ｍ，３
Ｈ，３’，），６．４６（ｔ，Ｊ＝４．７Ｈｚ，ＩＨ，
１’），６．７４（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，４Ｈ，
），６．９２−７．０８（ｍ，３Ｈ， ），７．１０
−７．４３（ｍ，６Ｈ， ），７．９９（Ｓ，１／２
Ｈ，８），８．００（Ｓ，１／２Ｈ，８），８．７９
（ｂｒｓ， ，ＩＨ），９．１１（Ｓ，ＩＨ， ）
^３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＯＣｌ_３）（Ｈ_３ＰＯ_４外部標準）
δ １４９．２８，１４９．３８ ＩＲ （ＣＨＣｌ_３ ）３４０，２９６８，１５６６，
１５０９，１４０３，１２９９，１２４９，１１７８，
１０３６，９７９（Ｐ−Ｎ），８３２ｃｍ^−１ＵＶ（Ｃ
Ｈ_３ ＯＨ）２８６００（３２１ｎｍ）２４５００（２
６０ｎｍ）２９０００（２３４ｎｍ） ＦＡＢＭＳ（ｐｏｓｉｔｉｖｅ）（Ｍ＋１） （光学活性により、２つの異性体の１：１混合物）

【００５４】

【発明の効果】上述したように本発明によれば、ポリヌ
クレオチドの合成に好適に使用可能なモノマーユニット
たるデオキシリボヌクレオシド誘導体、およびその製造
方法が提供される。

【００５５】本発明のデオキシリボヌクレオシド誘導体
は、通常の脱保護条件（５５℃，８時間程度）で、収率
良くｄＡ^ＮＨ２を複数個含むＤＮＡを与えることが可能
である（従来の保護基では通常の脱保護条件で、２日〜
５日間の長い反応時間が必要であった）。

【００５６】本発明のデオキシリボヌクレオシド誘導体
を用いることにより、長いポリヌクレオチド（５０ｍｅ
ｒ程度）が容易に合成できる。

【００５７】本発明のデオキシリボヌクレオシド誘導体
においては、アデニンの２位にアミノ基を導入すること
によりチミンとの間の水素結合が増加し、水素結合に基
づく相互の塩基の認識性が向上するため、アンチセンス
法、ハイブリダイゼーション用のプローブとして、特に
好適に使用可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例で得られた化合物（６）の^１Ｈ−ＮＭＲ
チャートである。

【図２】実施例で得られた化合物（７）のＦＡＢマスス
ペクトルを示すチャートである。

【図３】実施例で得られた化合物（７）の４００ＭＨｚ
の^１Ｈ−ＮＭＲチャートである。

【図４】実施例で得られた化合物（８）のＦＡＢマスス
ペクトルを示すチャートである。

【図５】実施例で得られた化合物（８）の^１Ｈ−ＮＭＲ
チャートである。

【図６】実施例で得られた化合物（８）のＩＲチャート
である。

【図７】実施例で得られた化合物（８）のＵＶチャート
である。

【図８】実施例で得られた化合物（７）の４００ＭＨｚ
の^１Ｈ−ＮＭＲデータである。

【図９】実施例で得られた化合物（８）の２００ＭＨｚ
の^１Ｈ−ＮＭＲデータ等の物性データである。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式で示されるデオキシリボヌク
   レオシド誘導体。 【化１】 （上記式中、Ｒ^１は水素原子、−ＣＯＣＨ（Ｃ
   Ｈ_３）_２、又は−ＣＯＣＨ_２ＯＡｒ（Ａｒはアリール基
   を示す）を表し；Ｒ^２は水素原子又は−Ｐ（ＯＣＨ_２Ｃ
   Ｈ_２ＣＮ）Ｎ（ＣＨ（ＣＨ_３）_２）_２を表し；Ｒ^３は水
   素原子又はジメトキシトリチル基を表し；Ｒ^４およびＲ
   ^５は水素原子又は＝ＣＨＮ（Ｒ^６）_２を表し；Ｒ^６はア
   ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラル
   キル基を表す。）
2. 【請求項２】 前記Ｒ^４およびＲ^５が＝ＣＨＮ（Ｒ^６）
   _２である請求項１記載のデオキシリボヌクレオシド誘導
   体。
3. 【請求項３】 前記Ｒ^６が炭素数１〜４の低級アルキル
   基である請求項２記載のデオキシリボヌクレオシド誘導
   体。
4. 【請求項４】 前記Ｒ^６がブチル基である請求項３記載
   のデオキシリボヌクレオシド誘導体。
5. 【請求項５】 前記Ｒ^６がフェニル基である請求項２記
   載のデオキシリボヌクレオシド誘導体。
6. 【請求項６】 前記Ｒ^６がシクロヘキシル基である請求
   項２記載のデオキシリボヌクレオシド誘導体。
7. 【請求項７】 下記式で示される請求項１記載のデオキ
   シリボヌクレオシド誘導体。 【化２】
8. 【請求項８】 下記式で示される請求項１記載のデオキ
   シリボヌクレオシド誘導体。 【化３】
9. 【請求項９】 下記式で示される請求項１記載のデオキ
   シリボヌクレオシド誘導体。 【化４】
10. 【請求項１０】 下記式で示される請求項１記載のデオ
    キシリボヌクレオシド誘導体。 【化５】
11. 【請求項１１】 下記式で示される請求項１記載のデオ
    キシリボヌクレオシド誘導体。 【化６】
12. 【請求項１２】 下記一般式（１）で示されるデオキシ
    リボヌクレオシド化合物にトリメチルクロロシランを反
    応させた後、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯ
    ＢＴ）およびフェノキシアセチルクロリド（ＰＡＣｌ）
    を更に反応させて、下記一般式（２）で示されるデオキ
    シリボヌクレオシド誘導体を得ることを特徴とするデオ
    キシリボヌクレオシド誘導体の製造方法。 【化２４】 【化２５】 （上記式中、Ｒ^３は水素原子又はジメトキシトリチル基
    を表す。）