JPS6027809A - 表面形状測定装置 - Google Patents
表面形状測定装置Info
- Publication number
- JPS6027809A JPS6027809A JP13563683A JP13563683A JPS6027809A JP S6027809 A JPS6027809 A JP S6027809A JP 13563683 A JP13563683 A JP 13563683A JP 13563683 A JP13563683 A JP 13563683A JP S6027809 A JPS6027809 A JP S6027809A
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- JP
- Japan
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- measured
- measuring
- measurement
- point
- movement
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B21/00—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
- G01B21/20—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring contours or curvatures, e.g. determining profile
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は表面形状測定方法に係り、特に、表面が曲面状
に形成された被測定物の表面形状を測定するのに好適な
表面形状測定方法に関する。
に形成された被測定物の表面形状を測定するのに好適な
表面形状測定方法に関する。
表面が曲面状に形成された被測定物の表面形状を測定す
る場合、三次元測定機などが従来から用いられていた。
る場合、三次元測定機などが従来から用いられていた。
従来の三次元測定機によって被測定物の表面形状を測定
する場合、第１図に示されるように、被測定物１０の測
定点１２に対する測定基準点１４の測定情報として三次
元の座標値を定めると共に、被測定物１０の形状に合わ
せて、座標軸ｘ、ｙ。
する場合、第１図に示されるように、被測定物１０の測
定点１２に対する測定基準点１４の測定情報として三次
元の座標値を定めると共に、被測定物１０の形状に合わ
せて、座標軸ｘ、ｙ。
２のうち１つの座標軸を測定座標軸として定め、三次元
方向に移動可能な測定子１６を基準座標軸に垂直となる
ように移動させ、測定子１６が被測定物１００表面に当
接したときの座標値をめ、この座標値と測定基準点１４
の座標値との偏差によシ被測定物の表面形状を測定する
方式が採られていた。
方向に移動可能な測定子１６を基準座標軸に垂直となる
ように移動させ、測定子１６が被測定物１００表面に当
接したときの座標値をめ、この座標値と測定基準点１４
の座標値との偏差によシ被測定物の表面形状を測定する
方式が採られていた。
この方式によって被測定物１０の表面形状を測定する場
合、被測定物１０の表面がほぼ平面状に形成されている
ときは、被測定物１０の表面形状を精密に測定すること
ができる。しかし、被測定物１０の表面が曲面状に形成
され、測定点１２０部位が急な傾斜となっているときに
は、測定子１６が測定点１２に当接した際、測定子１６
の先端が滑り、被測定物１０の表面形状を高精度に測定
することができなかった。
合、被測定物１０の表面がほぼ平面状に形成されている
ときは、被測定物１０の表面形状を精密に測定すること
ができる。しかし、被測定物１０の表面が曲面状に形成
され、測定点１２０部位が急な傾斜となっているときに
は、測定子１６が測定点１２に当接した際、測定子１６
の先端が滑り、被測定物１０の表面形状を高精度に測定
することができなかった。
そこで、測定子１６が被測定物１０を表面に当接した除
屑るのを防止するために、被測定物１０の形状とは無関
係に被測定物１０に干渉しない位置から長時間かけて徐
々に測定子１６を被測定物１０側に近づけ、測定子１６
が被測定物１００表面に当接した際、滑るのを防止する
ようにして被測定物１０の表面形状を測定する方法が採
用された。しかし、この方法では測定時間が長くなるの
で、測定作業を円滑に効率良（行なうことができない。
屑るのを防止するために、被測定物１０の形状とは無関
係に被測定物１０に干渉しない位置から長時間かけて徐
々に測定子１６を被測定物１０側に近づけ、測定子１６
が被測定物１００表面に当接した際、滑るのを防止する
ようにして被測定物１０の表面形状を測定する方法が採
用された。しかし、この方法では測定時間が長くなるの
で、測定作業を円滑に効率良（行なうことができない。
本発明は、前記従来の課題に鑑みて為されたものであシ
、その目的は、表面が曲面状に形成された被測定物の表
面形状を高精度にかつ短時間で測定することができる表
面形状測定方法を提供することにある。
、その目的は、表面が曲面状に形成された被測定物の表
面形状を高精度にかつ短時間で測定することができる表
面形状測定方法を提供することにある。
前記目的を達成するために、本発明は、三次元の測定エ
リア内における位置が三次元の座標値で定められた測定
子を、測定エリア内の被測定物の表面に当接する棟で移
動し、被測定物の表面に当接したときの測定子の座標値
を基に、被測定物の表面形状を測定する表面形状測定方
法において、被測定物の測定点に対する測定基準点の測
定情報として少な（とも三次元の座標値と三次元の各座
標軸に対して垂直になる面直ベクトルを定め、との測定
情報を基に、被測定物の測定点に対する測定子の移動量
と少な（とも被測定物に当接するときの測定子の移動方
向が面直ベクトルに従った方向になる移動方向とをめ、
前記移動量と前記移動方向に従って測定子を移動させて
被測定物に当接したときの測定子の座標値をめ、この座
標値と測定基準点の座標値の偏差により被測定物の表面
形状を測定するようにしたととを特徴とする。
リア内における位置が三次元の座標値で定められた測定
子を、測定エリア内の被測定物の表面に当接する棟で移
動し、被測定物の表面に当接したときの測定子の座標値
を基に、被測定物の表面形状を測定する表面形状測定方
法において、被測定物の測定点に対する測定基準点の測
定情報として少な（とも三次元の座標値と三次元の各座
標軸に対して垂直になる面直ベクトルを定め、との測定
情報を基に、被測定物の測定点に対する測定子の移動量
と少な（とも被測定物に当接するときの測定子の移動方
向が面直ベクトルに従った方向になる移動方向とをめ、
前記移動量と前記移動方向に従って測定子を移動させて
被測定物に当接したときの測定子の座標値をめ、この座
標値と測定基準点の座標値の偏差により被測定物の表面
形状を測定するようにしたととを特徴とする。
以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例を説明する
。
。
第２図には、本発明を適用した表面形状測定システムの
構成が示されている。
構成が示されている。
第２図において、三次元の測定エリア内における位置が
三次元の座標値で定められた測定子２０を有する三次元
測定機２２の測定台２４上には、表面が曲面状に形成さ
れた被測定物２６が載置されている。三次元測定機２２
は、後述する制御装置からの指令により測定子２０を三
次元の各座標軸に沿って移動させることができる。
三次元の座標値で定められた測定子２０を有する三次元
測定機２２の測定台２４上には、表面が曲面状に形成さ
れた被測定物２６が載置されている。三次元測定機２２
は、後述する制御装置からの指令により測定子２０を三
次元の各座標軸に沿って移動させることができる。
ことで、本実施例においては、三次元測定機２２をオン
ラインによって作動させるために、２群の制御装置２８
．３０を備え、制御装置２８とｒ ζ ） 制御装置３０とがインターフェイス回路３２、回線３３
を介して接続されておシ、制御装置３０と三次元測定機
２２とが回線３４、インターフェイス回路３４を介して
接続されている。
ラインによって作動させるために、２群の制御装置２８
．３０を備え、制御装置２８とｒ ζ ） 制御装置３０とがインターフェイス回路３２、回線３３
を介して接続されておシ、制御装置３０と三次元測定機
２２とが回線３４、インターフェイス回路３４を介して
接続されている。
制御装［２８ｔｉＲＡＭ３６、ＣＰＵ３８、ＲＯＭ４０
を備え、ＣＰＵ３８が入力装置４２と外部記憶装置４４
に接続されている。ＲＯＭ４０にはＣＰＵ３８を制御す
るための各種の制御プログラムが格納されており、ＣＰ
Ｕ３８は、この制御プログラムに従って８部記憶装置４
４から必要とされるデータをＲＡＭ３６に欧り込んだり
、あるいはインターフェイス回路３２からＲＡＭ３６に
取り込んだデータの演算を行ない、演算結果を外部記憶
装置４４に出力するように構成されている。
を備え、ＣＰＵ３８が入力装置４２と外部記憶装置４４
に接続されている。ＲＯＭ４０にはＣＰＵ３８を制御す
るための各種の制御プログラムが格納されており、ＣＰ
Ｕ３８は、この制御プログラムに従って８部記憶装置４
４から必要とされるデータをＲＡＭ３６に欧り込んだり
、あるいはインターフェイス回路３２からＲＡＭ３６に
取り込んだデータの演算を行ない、演算結果を外部記憶
装置４４に出力するように構成されている。
外部記憶装置１４４の基準データベース情報記憶領域４
４ａには、第３図に示されるように、被測定物２６の測
定点４６に対する測定基準点４８の測定情報として、第
４図に示されるように、三次元の座標値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）
と、三次元の各座標値に対して垂直となる面直ベクトル
（１％ ｊ％ｋ）（６） のデータが格納されている。
４ａには、第３図に示されるように、被測定物２６の測
定点４６に対する測定基準点４８の測定情報として、第
４図に示されるように、三次元の座標値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）
と、三次元の各座標値に対して垂直となる面直ベクトル
（１％ ｊ％ｋ）（６） のデータが格納されている。
制御装ｆｉｆ３０はＲＡＭ５０、ＣＰＵ５２、ＲＯＭ５
４を備え、各部がパスラインで接続されている。ＲＯＭ
５４には、ＣＰＵ５２を制御するだめの各種制御プログ
ラム及び各種データが格納されている。ＣＰＵ５２は、
制御プログラムに従って、回線３３を介してインターフ
ェイス回路３２から供給される各種のデータをＲＡＭ５
０に取り込むと共に、ＲＡＭ５０に取シ込まれたデータ
と、ＲＯＭ５４に予め格納された各種データとの演算を
行ない、演算結果を回線３４、インターフェイス回路３
５を介して三次元測定機２２に出力するように構成され
ている。即ち、制御装置３０は、外部記憶装置４４の基
準データベース情報記憶領域４４ｍに格納された測定情
報を基に、被測定物２６の測定点４６に対する測定子２
０の移動量と、少なくとも被測定物２６に当接するとき
の測定子２６の移動方向が面直ベクトル（ｔ、ｊｂ ｋ
）に従ったあ向になる移動方向とを演算し、この演算結
果を回線３４、インターフェイス回路３５を介して三次
元測定機２２に伝送するように構成されている。そのた
め、三次元測定機２２は、前記移動量と前記移動方向が
定められた指令に従って測定子２０を移動させることが
でき、又測定子２０が被測定物２６の表面に当接したと
きには、被測定物２６に当接したときの測定子２０の座
標値がインターフェイス回路３５、回線３４、制御装置
３０、回線３３、インターフェイス回路３２、制御装置
２８を介して外部記憶装置４４の測定データ記憶領域４
４ｂに格納されるように構成されている。
４を備え、各部がパスラインで接続されている。ＲＯＭ
５４には、ＣＰＵ５２を制御するだめの各種制御プログ
ラム及び各種データが格納されている。ＣＰＵ５２は、
制御プログラムに従って、回線３３を介してインターフ
ェイス回路３２から供給される各種のデータをＲＡＭ５
０に取り込むと共に、ＲＡＭ５０に取シ込まれたデータ
と、ＲＯＭ５４に予め格納された各種データとの演算を
行ない、演算結果を回線３４、インターフェイス回路３
５を介して三次元測定機２２に出力するように構成され
ている。即ち、制御装置３０は、外部記憶装置４４の基
準データベース情報記憶領域４４ｍに格納された測定情
報を基に、被測定物２６の測定点４６に対する測定子２
０の移動量と、少なくとも被測定物２６に当接するとき
の測定子２６の移動方向が面直ベクトル（ｔ、ｊｂ ｋ
）に従ったあ向になる移動方向とを演算し、この演算結
果を回線３４、インターフェイス回路３５を介して三次
元測定機２２に伝送するように構成されている。そのた
め、三次元測定機２２は、前記移動量と前記移動方向が
定められた指令に従って測定子２０を移動させることが
でき、又測定子２０が被測定物２６の表面に当接したと
きには、被測定物２６に当接したときの測定子２０の座
標値がインターフェイス回路３５、回線３４、制御装置
３０、回線３３、インターフェイス回路３２、制御装置
２８を介して外部記憶装置４４の測定データ記憶領域４
４ｂに格納されるように構成されている。
本実施例は以上の構成から為り、次に、第５図のフロー
チャートに基づいてその作用を説明する。
チャートに基づいてその作用を説明する。
第５図において、まずＣＰＵ３８が制御プログラムに従
って処理の実行を開始するとステップ１００の処理が行
なわれる。叩ち、ステップ１００においては、外部記憶
装置４４の基準データベース情報記憶装置４４ａから測
定情報が読与出されＲＡＭ３６内に格納される。次にス
テップ１０２に移りＲＡＭ３６に格納された測定情報が
インク−フェイス回路３２、回線３３を介して制御装置
３０のＲＡＭ５０に格納されステップ１０４に移る。
って処理の実行を開始するとステップ１００の処理が行
なわれる。叩ち、ステップ１００においては、外部記憶
装置４４の基準データベース情報記憶装置４４ａから測
定情報が読与出されＲＡＭ３６内に格納される。次にス
テップ１０２に移りＲＡＭ３６に格納された測定情報が
インク−フェイス回路３２、回線３３を介して制御装置
３０のＲＡＭ５０に格納されステップ１０４に移る。
ステップ１０４においてはＲＡＭ５０に格納された測定
情報を基に被測定物２６の測定点４６に対する測定子２
０の移動量と、少な（とも被測定物２６に当接するとき
の測定子２０の移動方向が面ｉベクトル（１、Ｊ％ ｋ
）に従った方向になるす動方向とが演算される。即ち、
第３図に示される測定動作点６０．６２．６４、移動方
向Ｄ１、Ｄ２がめられ、これらの情報が回線３４、イン
ターフェイス回路３５を介して三次元測定機２２に伝送
される。
情報を基に被測定物２６の測定点４６に対する測定子２
０の移動量と、少な（とも被測定物２６に当接するとき
の測定子２０の移動方向が面ｉベクトル（１、Ｊ％ ｋ
）に従った方向になるす動方向とが演算される。即ち、
第３図に示される測定動作点６０．６２．６４、移動方
向Ｄ１、Ｄ２がめられ、これらの情報が回線３４、イン
ターフェイス回路３５を介して三次元測定機２２に伝送
される。
次にステップ１０６に移シ三次元測定機２２による測定
が開始される。即ち、測定子２０を測定動作点６０から
移動方向Ｄ１に沿って移動させると共に測定動作点６２
で測定子２０の移動方向をＤ２方回に定めて測定子２０
を測定動作点６４側に移動させる。この移動によって測
定子２０が被測定物２６の表面に当接したとき、測定子
２０は（９） 移動方向Ｄ３に沿って測定動作点６６まで移動する。測
定子２０が被測定物２６に当接した測定点４６の三次元
の座標値が測定データとしてインターフェイス回路３５
、回線３４を介して制御装置３０に伝送される（ステッ
プ１０８）、制御装置３０に伝送された測定データはさ
らに回線３３、インターフェイス回路３２を介して制御
装置２８に伝送され、この測定データがＲＡＭ３６に格
納される（ステップ１１０）。
が開始される。即ち、測定子２０を測定動作点６０から
移動方向Ｄ１に沿って移動させると共に測定動作点６２
で測定子２０の移動方向をＤ２方回に定めて測定子２０
を測定動作点６４側に移動させる。この移動によって測
定子２０が被測定物２６の表面に当接したとき、測定子
２０は（９） 移動方向Ｄ３に沿って測定動作点６６まで移動する。測
定子２０が被測定物２６に当接した測定点４６の三次元
の座標値が測定データとしてインターフェイス回路３５
、回線３４を介して制御装置３０に伝送される（ステッ
プ１０８）、制御装置３０に伝送された測定データはさ
らに回線３３、インターフェイス回路３２を介して制御
装置２８に伝送され、この測定データがＲＡＭ３６に格
納される（ステップ１１０）。
次にＣＰＵ３８はＲＡＭ３６に格納された測定データと
、外部記憶装置４４の基準データベース情報記憶領域４
４＆に格納された測定基準点の座標値との偏差をめ、こ
の偏差を被測定物２６の測定点２６に対する表面形状の
測定値として外部記憶装置４４の測定データ記憶領域４
４ｂに伝送する（ステップ１１２）。この後ステップ１
１４に移り、ＲＯＭ４０に格納された制御プログラムに
基づいて次の測定点に対する測定情報の読み出しを行な
い、前述したステップを繰り返すことによって各測定点
の表面形状の測定を行なう。そしく１０） て各測定点に対する表面形状の測定が終了した場合（ス
テップ１１６）、被測定物２６に対する表面形状の測定
を全て終了することになる。
、外部記憶装置４４の基準データベース情報記憶領域４
４＆に格納された測定基準点の座標値との偏差をめ、こ
の偏差を被測定物２６の測定点２６に対する表面形状の
測定値として外部記憶装置４４の測定データ記憶領域４
４ｂに伝送する（ステップ１１２）。この後ステップ１
１４に移り、ＲＯＭ４０に格納された制御プログラムに
基づいて次の測定点に対する測定情報の読み出しを行な
い、前述したステップを繰り返すことによって各測定点
の表面形状の測定を行なう。そしく１０） て各測定点に対する表面形状の測定が終了した場合（ス
テップ１１６）、被測定物２６に対する表面形状の測定
を全て終了することになる。
このように本実施例においては、被測定物２６の測定点
４６に対する測定基準点４８の測定情報として少な（と
も三次元の座標値と三次元の各座標軸に対して垂直にな
る面直ベクトル（１，ｊ、ｋ）を定め、この測定情報を
基に被測定物２６の測定点４６に対する測定子２０の移
動量と、少なくとも被測定物２６に当接するときの測定
子２０の移動方向が面直ベクトルに従った方向になる移
動方向とをめ、前記移動量と前記移動方向に従って測定
子２０を移動させるようにしたので、測定子２０を高速
度で移動させても測定子２０が被測定物２６に当接した
除屑ることがなく、被測定物２６の表面形状を短時間で
かつ爾精度に測定することができる。
４６に対する測定基準点４８の測定情報として少な（と
も三次元の座標値と三次元の各座標軸に対して垂直にな
る面直ベクトル（１，ｊ、ｋ）を定め、この測定情報を
基に被測定物２６の測定点４６に対する測定子２０の移
動量と、少なくとも被測定物２６に当接するときの測定
子２０の移動方向が面直ベクトルに従った方向になる移
動方向とをめ、前記移動量と前記移動方向に従って測定
子２０を移動させるようにしたので、測定子２０を高速
度で移動させても測定子２０が被測定物２６に当接した
除屑ることがなく、被測定物２６の表面形状を短時間で
かつ爾精度に測定することができる。
又前記実施例においては、制御装＃２８．３０、三次元
測定機２２とのデータの授受をオンラインによって行な
うようにしたので、三次元測定機２２をオフラインによ
って作動する場合よりも、高速度で被測定物２６の表面
形状を自動測定することができる。
測定機２２とのデータの授受をオンラインによって行な
うようにしたので、三次元測定機２２をオフラインによ
って作動する場合よりも、高速度で被測定物２６の表面
形状を自動測定することができる。
以上説明したように、本発明によれば、被測定物の測定
点に対する測定基準点の測定情報として少なくとも三次
元の座標軸と三次元の各座標軸に対して垂直になる面直
ベクトルを定め、この測定情報を基に、被測定物の測定
点に対する測定子の移動量と少なくとも被測定物に当接
するときの測定子の移動方向が面直ベクトルに従った方
向になる移動方向とをめ、前記移動量を前記移動方向に
従って測定子を移動させるようにしたので、測定子を高
速度で移動させても測定子が被測定物に当接した際清る
ことが寿（、被測定物の表面形状を短時間でかつ亮精度
に測定することができるという優れた効果がある。
点に対する測定基準点の測定情報として少なくとも三次
元の座標軸と三次元の各座標軸に対して垂直になる面直
ベクトルを定め、この測定情報を基に、被測定物の測定
点に対する測定子の移動量と少なくとも被測定物に当接
するときの測定子の移動方向が面直ベクトルに従った方
向になる移動方向とをめ、前記移動量を前記移動方向に
従って測定子を移動させるようにしたので、測定子を高
速度で移動させても測定子が被測定物に当接した際清る
ことが寿（、被測定物の表面形状を短時間でかつ亮精度
に測定することができるという優れた効果がある。
第１図は従来の表面形状測定システムによる測定方法を
説明するための図、第２図は本発明が適用された表面形
状測定システムの構成図、第３図は第２図Ｖこ示ずシス
テムの作用を説明するだめの図、第４図は第２図の外部
記憶装置に格納される測定情報の構成を説明するだめの
回、第５図は第２図に示すシステムの作用を説明するた
めのフローチャー１・である。 ２０・・・泪１１定子、２２・・・三次元測定機、２６
・・・被測定物、２８．３０・・・制御装置、３２．３
５・・・インターフェイス回路、３３．３４・・・回ｍ
、４４・・・外部記憶装置。 代理人 鵜 沼 辰 之 （ほか１名） （］３）
説明するための図、第２図は本発明が適用された表面形
状測定システムの構成図、第３図は第２図Ｖこ示ずシス
テムの作用を説明するだめの図、第４図は第２図の外部
記憶装置に格納される測定情報の構成を説明するだめの
回、第５図は第２図に示すシステムの作用を説明するた
めのフローチャー１・である。 ２０・・・泪１１定子、２２・・・三次元測定機、２６
・・・被測定物、２８．３０・・・制御装置、３２．３
５・・・インターフェイス回路、３３．３４・・・回ｍ
、４４・・・外部記憶装置。 代理人 鵜 沼 辰 之 （ほか１名） （］３）
Claims (1)
- （１）三次元の測定エリア内における位置が三次元の座
標値で定められた測定子を、測定エリア内の被測定物の
表面に当接するまで移動し、被測定物の表面に当接した
ときの測定子の座標値を基に、被測定物の表面形状を測
定する表面形状測定方法において、被測定物の測定点に
対する測定基準点の測定情報として少なくとも三次元の
座標値と三次元の各座標軸に対して垂直になる面直ベク
トルを定め、この測定情報を基に、被測定物の測定点に
対する測定子の移動量と少な（とも被測定物に当接する
ときの測定子の移動方向が面直ベクトルに従った方向に
なる移動方向とをめ、前記移動量と前記移動方向に従っ
て測定子を移動させて被測定物に当接したときの測定子
の座標値をめ、この座標値と測定基準点の座標値との偏
差によシ被測定物の表面形状を測定することを特徴とす
る表面形状測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13563683A JPS6027809A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 表面形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13563683A JPS6027809A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 表面形状測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6027809A true JPS6027809A (ja) | 1985-02-12 |
| JPH0410568B2 JPH0410568B2 (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=15156437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13563683A Granted JPS6027809A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 表面形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6027809A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6283609A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Yaskawa Electric Mfg Co Ltd | 軌跡アナライザ |
| JPS62276405A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-12-01 | ランク・テイラ−・ホブソン・リミテツド | 測定装置 |
| JPS62282216A (ja) * | 1986-05-31 | 1987-12-08 | Jiro Ishikawa | 歯車の歯形および歯すじ誤差の評価方法および装置 |
| JPS6454305A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-01 | Nec Corp | Method and device for pattern size measurement |
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