JPS584962B2 - 一つの形状に対しあるオフセット量を有する仮想形状の測定方法及びその測定装置 - Google Patents

一つの形状に対しあるオフセット量を有する仮想形状の測定方法及びその測定装置

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JPS584962B2
JPS584962B2 JP8220077A JP8220077A JPS584962B2 JP S584962 B2 JPS584962 B2 JP S584962B2 JP 8220077 A JP8220077 A JP 8220077A JP 8220077 A JP8220077 A JP 8220077A JP S584962 B2 JPS584962 B2 JP S584962B2
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virtual
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佐藤真
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Makino Milling Machine Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は一つの立体形状に対し任意のオフセット量を
有する仮想形状を数値的に求める測定法及びその測定装
置に関する。
一対の金型の形状、例えばオス型の形状とそれに対応す
るメス型の形状を測定する場合や、放電加工に用いる一
対の電極形状の測定の場合に、それらの間のクリアラン
スとして一つのオフセット量を考え、一方の形状にオフ
セット量を加えたものが他方の形状と正しく一致するか
どうかを知る必要がある。
ところで、一つの立体形状を数値的に測定し、その測定
値に基いて上記形状に対しあるオフセット量を有する形
状(以下仮想形状と称する)を測定しようとする際に、
従来技術ではもとの形状が2次元形状の場合はそれほど
問題はないが、もとの形状が3次元形状を含む複雑な形
状の場合はもとの形状そのものを完全に精度よく測定す
ることに問題があり、まして、それを基とする仮想形状
の測定は殆んど不可能とされていた。
本願発明者はさきに、測定ヘッドに自由支持された測定
子を使用し、その球部による接触点がつねに測定子の仮
想中心となるように球部を変位させて上記測定子を移動
することにより、複雑な形状を全く誤差なく測定する方
法を提案(特願昭48−18541:特開昭49−10
7558)した。
この発明はこの技術をさらに一歩進めて、上記測定法に
より得られる測定ヘッドと球部との相対変位ベクトル値
をオフセット量を与える場合の修正量として利用するこ
とに着目して前記問題を解決したものである。
この発明の一つの目的はいかなる複雑な形状に対しても
それと任意のオフセット量をもつ仮想形状を精度よく数
値的に測定する方法の提供にあり他の目的は上記測定法
に専ら使用する測定装置の提供にある。
この発明の一つの構成は、一つの形状表面に測定子を接
触させてその表面に対しあるオフセット量を有する仮想
形状を数値的に求める方法において、測定ヘッドに自由
支持され先端に球部を有する測定子を測定ヘッドと一つ
の表面との相対移動によりその球部でその表面に接触さ
せ、測定ヘッドと球部との相対変位のベクトル値εの絶
対値が球部の半径rと等しくなったときの前記相対移動
のベクトル値X、Y、Z軸方向の各成分をその接触点の
座標直として求め、上記ベクトル値εとオフセット量f
/設定値ε。
とを積算して得たオフセットベクトルFのX、Y、Z軸
方向の各成分を上記接触点の座標値にそれぞれ加算して
得た座標値を前記仮想形状のある一点とすることを特徴
とするものである。
この発明は他の一つの構成は、一つの形状に対しあるオ
フセット量を有する仮想形状の測定装置において、測定
ヘッドに対し求心作用をもって自由支持された先端に球
部を有する測定子と、測定ヘッドと上記球部との相対変
位のベクトル値εの絶対値が前記球部の半径と等しい値
になるように測定ヘッドを被測定装置との相対移動を行
わせるサーボ系と、上記ベクトル値εとオフセット量り
設定値ε。
とを積算して得たオフセットベクトルFのx、y、z軸
方向の各成分上記相対移動のベクトル値のX、Y、Z軸
方向の各成分にそれぞれ加算する演算系とを具備するこ
とを特徴とする。
以下実施例にそって本発明を具体的に説明する。
第1図においてテーブル上に載置された被測定物と測定
ヘッドとは、三次元方向に相対移動可能であり、またそ
の相対移動のベクトル値のX、Y。
Z軸方向の各成分の長さを読取ることができる囲路の移
動量測定器(例えばX、Y、Zの各軸に設けた位置読取
スケール)を有する。
まず、X、Y方向の座標が固定され、Z方向のみに移動
する測定ヘッドにより先端に半径rの球部2を有する測
定子1を、上記球部で被測定物上の一つの曲面Soに接
触させ、この曲面S。
に対しあるオフセット量fを有する仮想曲面Sを測定し
ようとする場合について説明する。
ここで測定子1は図示されない測定ヘッドに対して水土
作用をもって三次元方向に自由に変位できるように支持
される機構を有するものを使用する。
したがって測定子1が曲面S。に接触すると測定子1と
測定ヘッドとの相対変位は必ずその接触点の法線方向に
発生する。
上記測定子を軸Zにそって曲面S。
に対し移動することにより、球部2(中心M)が曲面S
上の点Qで接触する。
ここに曲面S。と軸Zとは直交していないために点Qは
軸Zを通るS。
上の点Poとは一致しない。
測定子1は前述したように測定ヘッドに対して自由に変
位し得るから、測定ヘッドのその後の移動によって測定
子1の球部2が曲面S。
に接触を保った状態で同図の測定子3、球部4で示す位
置に変位する。
この球部の変位は測定ヘッドの仮想中心Mが軸2にそっ
て下降変位した球部の各中心とを結ぶ変位ベクトル群ε
1、ε2・・・・・・であられされ、その変位ベクトル
εが球体の半径rと等しくなったとき、そのときの球部
の中心点Nは軸Zが通る曲面S。
に立てた点P。上の法線上にある。
一方、曲面S。
に対しオフセット量fを有する仮想曲面Sの上の上記P
どの対応点は、Poを通る法線、すなわち、PoNの方
向にあり、オフセット量fだけP。
から隔てた点Pとして求められる。
したがって、ε−rの時点で測定ヘッドと曲面Soどの
相対移動のベクトル値X、Y、Z軸方向の各成分を前記
移動量測定器でを上記接触点P。
の座標値(x□、yO,zo)として測定するとともに
、上記変位ベクトルεを前記測定ヘッドで同時に測定し
て、このεとオフセント量fとの相乗値としてのオフセ
ットベクトルF(−P。
P)を求める。このベクトルFのXYZ方向の成分FX
、Fy、Fzを前記座標値X。
NVo、Zoにそれぞれ加えた値(XO+FX、Yo+
Fy、ZO+Fz)がPの座標値(X、y、z)として
求められる。
第2図は前記測定ヘッドと球部を使用して、一つの形状
に対し任意のオフセット量fを有する仮想形状の測定を
行なう場合に使用する測定装置において、測定ヘッドと
球部との相対変位ベクトル値εが、前記球部の半径rと
等しい値となるように測定ヘッドと一つの形状表面を有
する被測定物を載置したテーブルとの相対移動を行わせ
て上記形状の座標値を求めるサーボ系■と、上記変位ベ
クトル値εを取出してこれにオフセット量を掛は合せる
と共にその値を前記座標値に加算する演算系■とから成
る測定回路をブロック線図により示すものである。
すなわち、一つの破線ブロックで囲むサーボ系Iはまず
、設定値ε。
(−r)を制御部5に入力し、モータ6を駆動し、測定
ヘッド7を移動させる。
同時に測定ヘッドに対する球部の変位ε(εえ、このε
を制御部5に帰還することにより、測定ヘッド7と球部
との相対変位が設定値ε。
(−r)になるようにサーボコントロールする。
そしてこのときのP。
の座標値xQ、yo、ZoをX、Y、Zの各軸に設けら
れた移動量測定器(回路)によって得る。
一方、他の破線ブロックで囲む演算系■においては、オ
フセット量fを、C=f/ε。
の形で積算部8に入力し、測定ヘッド7から取出した相
対変位ベクトルε(εえ、ε9、εZ)とCとを積算入
力する。
また前記ε。
−rのときのP。の座標値X。、yo、z□を加算部9
に入力し、前記FX、Fy、Fzと下記のようにそれぞ
れ加算する。
X−Xo+FX y−yo+Fy Z=ZO+F2 このようにして一つの曲面上の点P。
に対応する仮想曲面上のある点Pの座標値x、y、zが
数値的に求められる。
上記のような測定装置を使用することにより、測定子の
球部を一つの立体形状(曲面S。
)表面に接触させて得られる座標値とそのときの測定ヘ
ッドの変位ベクトル量とで求められる測定値群により、
誤差を全く含まない仮想形状(曲面S)が数値的に測定
される。
以上、実施例で説明したように本発明によれば下記のよ
うにその目的が達成できるとともにその諸効果が得られ
る。
(1)従来、測定ができないとされた一つの複雑な立体
形状に対し任意のオフセット量をもつ仮想形状の測定が
可能となった。
(2)上記測定においては、もとの立体形状に対する測
定で測定ヘッドの仮想中心を測定の座標値を得るための
接触点と一致させてもとの形状の誤差のない座標値を得
、この測定で得られた相対変位ベクトル値をオフセット
量を与える場合の修正量として用いることにより理論的
に全く誤差を含まない測定値が得られる。
(3)上記(2)より高精度の測定及び連続測定のでき
る測定装置が実現可能となった。
(4)測定装置においてサーボ系と演算系を組合せるこ
とにより自動測定が可能となった。
(5)クリアランスをもつ形状間の比較測定に広く利用
できる。
例えばオス型、メス型の合致性の測定、放電加工の場合
に放電ギャップを考慮して製品形状と対応する電極形状
の測定が可能となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による測定法の原理説明図、第2図は本
発明による測定装置の要部のブロック線図である。 1・・・・・・測定子、2・・・・・・球部、3・・・
・・・変位後の測定子、4・・・・・・変位後の球部、
5・・・・・・制御部、6・・・・・・モータ、I・・
・・・・測定ヘッド、8・・・・・・積算部、9・・・
・・・加算部、So・・・・・・もとの曲面、S・・・
・・・仮想曲面、■・・・・・・制御系、■・・・・・
・演算系。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一つの形状表面に測定子を接触させてその表面に対
    しあるオフセット量を有する仮想形状を数値的に求める
    にあたって、測定ヘッドに自由支持され、先端に球部を
    有する測定子を測定ヘッドと一つの表面との相対移動に
    よりその球部でその表面に接触させ、測定ヘッドと球部
    との相対変位のベクトル値εの絶対値が球部の半径rと
    等しくなったときの前記相対移動のベクトル値のX、Y
    、Z軸方向の各成分をその接触点の座標値として求め、
    上記ベクトル値εとオフセット量f/設定値ε0とを積
    算して得たオフセットベクトルFのXY、Z軸方向の各
    成分を上記接触点の座標値にそれぞれ加算して得た座標
    値を前記仮想形状のある一点とすることを特徴とする一
    つの形状に対しであるオフセット量を有する仮想形状の
    測定法。 2 一つの形状に対しあるオフセット量を有する仮想形
    状の測定装置において、測定ヘッドに対し求心作用をも
    って自由支持された先端に球部を有する測定子と、測定
    ヘッドと上記球部との相対変位のベクトル値εの絶対値
    が前記球部の半径工と等しい値になるように測定ヘッド
    と被測定形状との相対移動を行わせるサーボ系と、上記
    ベクトル値εとオフセット量f/設定値ε。 とを積算して得たオフセットベクトルFのX、Y、Z軸
    方向の各成分を上記相対移動のベクトル値のX、Y、Z
    軸方向の各成分にそれぞれ加算する演算系とを具備する
    ことを特徴とする一つの形状に対しであるオフセット量
    を有する仮想形状の測定装置。
JP8220077A 1977-07-09 1977-07-09 一つの形状に対しあるオフセット量を有する仮想形状の測定方法及びその測定装置 Expired JPS584962B2 (ja)

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JPH02306106A (ja) * 1989-05-19 1990-12-19 Mitsubishi Motors Corp 表面寸法割り出し装置
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