JPS60261521A - セラミツクフイルタ−の製造方法 - Google Patents
セラミツクフイルタ−の製造方法Info
- Publication number
- JPS60261521A JPS60261521A JP11649784A JP11649784A JPS60261521A JP S60261521 A JPS60261521 A JP S60261521A JP 11649784 A JP11649784 A JP 11649784A JP 11649784 A JP11649784 A JP 11649784A JP S60261521 A JPS60261521 A JP S60261521A
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- JP
- Japan
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- filter
- ceramic
- alumina sol
- ceramic filter
- molded
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｃ本発明の技術分野〕
本発明は空気清浄装置あるいは液体ろ過装置に用いるセ
ラミックフィルターの製造方法に関する。
ラミックフィルターの製造方法に関する。
現在、半導体分野あるいはバイオテクノロジーの分野等
においては清浄な空気及び水が必要とされ、空気あるい
は水中のほこル、菌、ちシなどの微粒子を取シ除くため
フィルターが使用されている。
においては清浄な空気及び水が必要とされ、空気あるい
は水中のほこル、菌、ちシなどの微粒子を取シ除くため
フィルターが使用されている。
この種のフィルターは細菌が存在すると不都合である場
合の細菌のろ過材として、また、発酵終了後の発酵生成
物のろ過材（酒類のろ過材）あるいは家庭、工場、事務
所の飲料水、井戸水、河川水の浄水装置更には純水製造
装置などに使用されている。また、気体のろ過材として
はクリーンルーム用、清浄空気製造装置あるいは電子部
品の焼結炉雰囲気ガス除しん装置として利用されている
。
合の細菌のろ過材として、また、発酵終了後の発酵生成
物のろ過材（酒類のろ過材）あるいは家庭、工場、事務
所の飲料水、井戸水、河川水の浄水装置更には純水製造
装置などに使用されている。また、気体のろ過材として
はクリーンルーム用、清浄空気製造装置あるいは電子部
品の焼結炉雰囲気ガス除しん装置として利用されている
。
従来この種のフィルターはセラミックの粉末 。
を焼結して固めたものであシ、細孔径は最低１μｍ程度
であシ分布も不均一であった。
であシ分布も不均一であった。
Ｃ本発明の目的〕
本発明者等は超微粒子物質をろ過するフィルターとして
セラミック焼結体を考え鋭意研究を行った結果本発明を
完成したものである。すなわち、本発明は、細孔径Ｑ、
０５〜［１３μｍの大きさに制御することができ、かつ
、その細孔径分布も均一なセラミックフィルターを製造
スる方法を提供することを目的とする。
セラミック焼結体を考え鋭意研究を行った結果本発明を
完成したものである。すなわち、本発明は、細孔径Ｑ、
０５〜［１３μｍの大きさに制御することができ、かつ
、その細孔径分布も均一なセラミックフィルターを製造
スる方法を提供することを目的とする。
そして、本発明は、上記目的を達成する手段として、ア
ルミナゾルとセラミック粉末とを焼成する点にある。す
なわち、本発明は、アルミナゾルと粒径が１〜５μｍの
セラミック粉末とを、固形分重量として、アルミナゾル
／セラミック粉末の値が１〜−Ｌになるように混合した
後、フィルターを成形し、１０００〜１３００°０の温
度で焼成することを特徴とするセラミックフィルターの
製造方法である。
ルミナゾルとセラミック粉末とを焼成する点にある。す
なわち、本発明は、アルミナゾルと粒径が１〜５μｍの
セラミック粉末とを、固形分重量として、アルミナゾル
／セラミック粉末の値が１〜−Ｌになるように混合した
後、フィルターを成形し、１０００〜１３００°０の温
度で焼成することを特徴とするセラミックフィルターの
製造方法である。
本発明の詳細な説明すると、本発明は、アルミニウム水
酸化物粒子を含有するアルミナゾルと粒径１〜５μｍの
アルミナあるいはシリカ等のセラミック粉末を固形分重
量比としてアルミナゾル：セラミック粉末を１＝１〜１
：３の割合に混合し、押し出し成形機等によシフイルタ
ー −の形状に成形した後、乾燥し１０００〜１３００
°０の温度で焼成する方法である。
酸化物粒子を含有するアルミナゾルと粒径１〜５μｍの
アルミナあるいはシリカ等のセラミック粉末を固形分重
量比としてアルミナゾル：セラミック粉末を１＝１〜１
：３の割合に混合し、押し出し成形機等によシフイルタ
ー −の形状に成形した後、乾燥し１０００〜１３００
°０の温度で焼成する方法である。
本発明で使用するアルミナゾルとは、アルミン酸ソーダ
の中和分解によシ得られたアルミニウム水酸化物沈殿お
るいはアルミニウムアルコラードの加水分解によシ生成
するアルミニウム水酸化物沈殿あるいはその他の方法に
よるアルミニウム水酸化物沈殿でかまわないｏｆた、ア
ルミニウム水酸化物としてはベーマイ） （Ａ１０ＯＨ
）あるいはパイヤライト（ムｊ！（ｏｎ）ｓ）のように
結晶形の異なるものがあるがいずれであってもよい０本
発明で重要なのは焼成温度を１０００〜１３００°０と
することであり、この焼成条件を制御することによシア
ルミナの粒子成長を制御すると同時に細孔径の制御を行
なう。
の中和分解によシ得られたアルミニウム水酸化物沈殿お
るいはアルミニウムアルコラードの加水分解によシ生成
するアルミニウム水酸化物沈殿あるいはその他の方法に
よるアルミニウム水酸化物沈殿でかまわないｏｆた、ア
ルミニウム水酸化物としてはベーマイ） （Ａ１０ＯＨ
）あるいはパイヤライト（ムｊ！（ｏｎ）ｓ）のように
結晶形の異なるものがあるがいずれであってもよい０本
発明で重要なのは焼成温度を１０００〜１３００°０と
することであり、この焼成条件を制御することによシア
ルミナの粒子成長を制御すると同時に細孔径の制御を行
なう。
また、フィルターの母材として使用する骨材としてはア
ルミナあるいはシリカ等のセラミック粉末が使用される
が、セラミックフィルターの焼成温度である１０００〜
１３００°０において分解あるいは溶融しない材料であ
って粒径が１〜５μｍであれば何を使用してもかまわな
い。
ルミナあるいはシリカ等のセラミック粉末が使用される
が、セラミックフィルターの焼成温度である１０００〜
１３００°０において分解あるいは溶融しない材料であ
って粒径が１〜５μｍであれば何を使用してもかまわな
い。
本発明の製造方法によシ得られるセラミックフィルター
は細孔径［１０５〜ａ３μｍの大きさに制御可能である
ことが特徴でアシ、半導体分野において除去しなければ
ならないａ１μｍのちシの除去も可能である。
は細孔径［１０５〜ａ３μｍの大きさに制御可能である
ことが特徴でアシ、半導体分野において除去しなければ
ならないａ１μｍのちシの除去も可能である。
本発明の製造方法によって得られるセラミックフィルタ
ーの特徴を更に述べると、細孔径はα０５〜α３μｍで
非常に小さく、更に細孔の大きさも揃っている。
ーの特徴を更に述べると、細孔径はα０５〜α３μｍで
非常に小さく、更に細孔の大きさも揃っている。
以下本発明の実施例をあげて、本発明をよシ具体的に説
明する０ 実施例１ アルミニウムイソプロピレート１重量部を７０°０の温
水５重量部に入れて加水分解を行った。加水分解によシ
得られたアルミニウム水酸化物は白色沈殿であ夛フロッ
クを作っているので７０°０において２４時間保持して
分散を行なわせた。
明する０ 実施例１ アルミニウムイソプロピレート１重量部を７０°０の温
水５重量部に入れて加水分解を行った。加水分解によシ
得られたアルミニウム水酸化物は白色沈殿であ夛フロッ
クを作っているので７０°０において２４時間保持して
分散を行なわせた。
次に粒径が１〜５μｍの市販ムム０．粉末を準備し、ア
ルミナゾルの固形分とアルミナ粉末の重量比を変えて混
合し、押し出し成形機により押し出し成形可能な硬さに
なるまで水分を除去した後１０簡φｘ３００ｇＬｘ１咽
ｔのフィルターパイプを成形した０次に、乾燥した後、
１００゛０／Ｈの昇温速度で１２００ ’０まで昇温し
、その温度において３時間保持した後炉冷を行った。
ルミナゾルの固形分とアルミナ粉末の重量比を変えて混
合し、押し出し成形機により押し出し成形可能な硬さに
なるまで水分を除去した後１０簡φｘ３００ｇＬｘ１咽
ｔのフィルターパイプを成形した０次に、乾燥した後、
１００゛０／Ｈの昇温速度で１２００ ’０まで昇温し
、その温度において３時間保持した後炉冷を行った。
このようにして得たセラミックフィルター〇′細孔径分
布を水銀圧入法によシ測定した０この場合の水銀の表面
張力は４ Ｂ ４ ａｇ５ｎｅ／ｍ、接触角は１３０度
とした０この細孔径測定結果を第１図に示す。第１図に
おいて横軸はアルミナ／アルミナゾルの重量比（固形分
）であシ、縦軸は細孔径（μＴｎ）である。アルミナ／
アルミナゾルの重量比が１〜３では、細孔径があまヤ変
化しないことがわかる。また、１以下では小さくなシ、
また、３以上では大きくなるので、細孔径の安定する１
〜３が望ましい。
布を水銀圧入法によシ測定した０この場合の水銀の表面
張力は４ Ｂ ４ ａｇ５ｎｅ／ｍ、接触角は１３０度
とした０この細孔径測定結果を第１図に示す。第１図に
おいて横軸はアルミナ／アルミナゾルの重量比（固形分
）であシ、縦軸は細孔径（μＴｎ）である。アルミナ／
アルミナゾルの重量比が１〜３では、細孔径があまヤ変
化しないことがわかる。また、１以下では小さくなシ、
また、３以上では大きくなるので、細孔径の安定する１
〜３が望ましい。
セラミックフィルターの細孔径分布を第２図に示す。第
２図において横軸は細孔径（μｍ）でアシ、縦軸は微分
細孔容積（任意スケール）である。第２図からもわかる
ように細孔径分布の幅が小さくシャープな分布をしてい
ることがわかる。
２図において横軸は細孔径（μｍ）でアシ、縦軸は微分
細孔容積（任意スケール）である。第２図からもわかる
ように細孔径分布の幅が小さくシャープな分布をしてい
ることがわかる。
実施例２
３０％アルミン酸ソーダ水溶液を５規定の塩酸により中
和してアルミニウム水酸化物沈殿を得た。次に沈殿に含
まれるソーダ及び塩素を水によシ洗浄して取り除いた。
和してアルミニウム水酸化物沈殿を得た。次に沈殿に含
まれるソーダ及び塩素を水によシ洗浄して取り除いた。
アルミニウム水酸化物沈殿（固形分）１重量部に対し、
粒径１〜５μｍのシリカ２重量部を混合し、押し出し成
形機により１０ｒｍφＸ ３００ ＷＩＬ Ｘ ｉ 潅
ｔのフィルターパイプを成形した。次に乾燥した後、１
ｏｏ゛ｏ／ｎの昇温速度で所定温度まで昇温し、その温
度において３時間保持した後炉冷を行った０ このようにして得たセラミックフィルターの細孔径分布
を水銀圧入法によシ測定した。この場合の接触角及び表
面張力は実施例１と同様ｊ １３ｏ度、４ Ｂ ４ ｄ
ｇｎｅ／ ｔｘｈとした。この細孔径測定結果を第３図
に示す０第３図において横軸は焼成温度（°０）であシ
、縦軸は細孔径（μｍ）である。焼成温度を１０００
’Ｏ〜１５００ ’０とすると細孔径を連続的に変化さ
せることが可能で、細孔径の制御が可能であることがわ
かる０１０００°０以下では細孔径は変化しないし、１
６００°０より高温の１４００°０で焼結の促進によシ
細孔径は大きくなっていない。
粒径１〜５μｍのシリカ２重量部を混合し、押し出し成
形機により１０ｒｍφＸ ３００ ＷＩＬ Ｘ ｉ 潅
ｔのフィルターパイプを成形した。次に乾燥した後、１
ｏｏ゛ｏ／ｎの昇温速度で所定温度まで昇温し、その温
度において３時間保持した後炉冷を行った０ このようにして得たセラミックフィルターの細孔径分布
を水銀圧入法によシ測定した。この場合の接触角及び表
面張力は実施例１と同様ｊ １３ｏ度、４ Ｂ ４ ｄ
ｇｎｅ／ ｔｘｈとした。この細孔径測定結果を第３図
に示す０第３図において横軸は焼成温度（°０）であシ
、縦軸は細孔径（μｍ）である。焼成温度を１０００
’Ｏ〜１５００ ’０とすると細孔径を連続的に変化さ
せることが可能で、細孔径の制御が可能であることがわ
かる０１０００°０以下では細孔径は変化しないし、１
６００°０より高温の１４００°０で焼結の促進によシ
細孔径は大きくなっていない。
実施例３
アルミニウムブチレート１重量部を７０゛０の温水５重
量部に入れて加水分解を行った。加水分解により得られ
たアルミニウム水酸化物は白色沈殿であシ、フロックを
作っているので一摂Ｊ−−α０１０割合に塩酸を添加し
、９５°ＯＡＩ！ＯＯＨ において２４時間アルミナゾルの解膠を行った。
量部に入れて加水分解を行った。加水分解により得られ
たアルミニウム水酸化物は白色沈殿であシ、フロックを
作っているので一摂Ｊ−−α０１０割合に塩酸を添加し
、９５°ＯＡＩ！ＯＯＨ において２４時間アルミナゾルの解膠を行った。
次に、粒径が１〜５μｍの市販チタニア粒子をアルミナ
ゾルの固形分１重量部に対しチタニア２重量部を混合し
、押し出し成形可能なやわらかさＫした後、押し出し成
形機によ、９．１０ｙｍφｘ３００ｍｉＬＸ１■ｔのフ
ィルターパイプを成形した。次に乾燥を行った後、１０
０゛０／Ｈの昇温速度で所定温度まで昇温し、その温度
において３時間保持した後、炉冷を行った。
ゾルの固形分１重量部に対しチタニア２重量部を混合し
、押し出し成形可能なやわらかさＫした後、押し出し成
形機によ、９．１０ｙｍφｘ３００ｍｉＬＸ１■ｔのフ
ィルターパイプを成形した。次に乾燥を行った後、１０
０゛０／Ｈの昇温速度で所定温度まで昇温し、その温度
において３時間保持した後、炉冷を行った。
このようにして得たセラミックフィルターの細孔径分布
を水銀圧入法によυ測定した。条件は実施例と同様に水
銀の表面張力は４ Ｂ ４ ａｚｎ８Ａ。
を水銀圧入法によυ測定した。条件は実施例と同様に水
銀の表面張力は４ Ｂ ４ ａｚｎ８Ａ。
接触角は１３０度とした０この細孔径測定結果を第４図
に示す。第４図において横軸は焼成温度（°０）であり
、縦軸は細孔径μｍである。実施２と同様、焼成温度を
１０００’０−１３００’０とすると細孔径の制御が［
１０５４ｍ−ｎ、ｓμｍの間で可能であることが判明し
た。
に示す。第４図において横軸は焼成温度（°０）であり
、縦軸は細孔径μｍである。実施２と同様、焼成温度を
１０００’０−１３００’０とすると細孔径の制御が［
１０５４ｍ−ｎ、ｓμｍの間で可能であることが判明し
た。
Ｃ本発明の効果〕
本発明は、以上詳記したように、アルミナゾルと特定粒
径のセランツク粉末とを特定割合で混合し、特定温度で
焼成するものであシ、その結果、細孔径（１０５〜ｒ１
．３μｍの大きさに制御することができ、かつ、その細
孔径分布も均一なセラミックフィルターを得ることがで
きる効果を奏するものである。
径のセランツク粉末とを特定割合で混合し、特定温度で
焼成するものであシ、その結果、細孔径（１０５〜ｒ１
．３μｍの大きさに制御することができ、かつ、その細
孔径分布も均一なセラミックフィルターを得ることがで
きる効果を奏するものである。
第１図は試作セラミックフィルターのアルミナ／アルミ
ナゾルの比と細孔径の関係を示す図である。 第２図は試作セラミックフィルターの細孔径分布を示す
図である。 第３図及び第４図は焼成温度を変えて試作したセラミッ
クフィルターの、焼成温度と細孔径の関係を示す図であ
る。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − （視検ｉｋ Ｔ謄 （Ｗつ繋］Ｖは （Ｍ７７′）汀１町 （／Ｉ（−敏纂丑）埒１圃合覆
ナゾルの比と細孔径の関係を示す図である。 第２図は試作セラミックフィルターの細孔径分布を示す
図である。 第３図及び第４図は焼成温度を変えて試作したセラミッ
クフィルターの、焼成温度と細孔径の関係を示す図であ
る。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − （視検ｉｋ Ｔ謄 （Ｗつ繋］Ｖは （Ｍ７７′）汀１町 （／Ｉ（−敏纂丑）埒１圃合覆
Claims (1)
- アルミナゾルと粒径が１〜５μｍの上２ミック粉末とを
、固形分重量として、アルミナゾル／セラミック粉末の
値が１〜上になるように混合した後、フィルターを成形
し、１０００〜１３００°０の温度で焼成することを特
徴とするセラミックフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11649784A JPS60261521A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | セラミツクフイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11649784A JPS60261521A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | セラミツクフイルタ−の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60261521A true JPS60261521A (ja) | 1985-12-24 |
Family
ID=14688597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11649784A Pending JPS60261521A (ja) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | セラミツクフイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60261521A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01184011A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-21 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ＳｉＣフィルタの製造方法 |
| JPH02149482A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-08 | Noritake Co Ltd | 高アルミナ質多孔焼結体及びその製造方法 |
| JPH0624856A (ja) * | 1992-05-01 | 1994-02-01 | Kooken:Kk | 鉱物質材料から成る多孔質成型物の製造方法 |
| US5679248A (en) * | 1995-12-19 | 1997-10-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Coextruded blocks and applications therefor |
-
1984
- 1984-06-08 JP JP11649784A patent/JPS60261521A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01184011A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-21 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ＳｉＣフィルタの製造方法 |
| JP2587667B2 (ja) * | 1988-01-14 | 1997-03-05 | 東芝セラミックス株式会社 | ＳｉＣフィルタの製造方法 |
| JPH02149482A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-08 | Noritake Co Ltd | 高アルミナ質多孔焼結体及びその製造方法 |
| JPH0624856A (ja) * | 1992-05-01 | 1994-02-01 | Kooken:Kk | 鉱物質材料から成る多孔質成型物の製造方法 |
| US5679248A (en) * | 1995-12-19 | 1997-10-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Coextruded blocks and applications therefor |
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