JPS60238116A - セラミツクフイルタ−の製造方法 - Google Patents
セラミツクフイルタ−の製造方法Info
- Publication number
- JPS60238116A JPS60238116A JP9472384A JP9472384A JPS60238116A JP S60238116 A JPS60238116 A JP S60238116A JP 9472384 A JP9472384 A JP 9472384A JP 9472384 A JP9472384 A JP 9472384A JP S60238116 A JPS60238116 A JP S60238116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pore size
- fine pore
- ceramic filter
- molded
- aluminum hydroxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Filtering Materials (AREA)
- Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明社空気清浄装置あるいは水濾過装置に用いるセラ
ミックフィルターの製造方法に関する。
ミックフィルターの製造方法に関する。
（背景技術）
現在、半導体分野あるいはバイオテクノロジー分野等に
おいては清浄な空気及び水が必要とされ、空気あるいは
水中のはこシ、菌を取り除くためにフィルターが使用さ
れている。
おいては清浄な空気及び水が必要とされ、空気あるいは
水中のはこシ、菌を取り除くためにフィルターが使用さ
れている。
この種のフィルターは細菌が存在すると不都合である場
合の細菌のろ過として、発酵終了後の発酵生成物のろ過
（酒類のろ過）、するいは家庭、工場、事務所の飲料水
、井戸水、河川水の浄水装置更には純水製造装置などに
使用されている。また、気体のろ過としては、クリーン
ルーム用清浄空気製造装置あるいは、電子部品の焼結炉
雰囲気ガス除しん装置などとして利用されている。
合の細菌のろ過として、発酵終了後の発酵生成物のろ過
（酒類のろ過）、するいは家庭、工場、事務所の飲料水
、井戸水、河川水の浄水装置更には純水製造装置などに
使用されている。また、気体のろ過としては、クリーン
ルーム用清浄空気製造装置あるいは、電子部品の焼結炉
雰囲気ガス除しん装置などとして利用されている。
従来、この種のフィルターはセラミック粉末を焼結して
固め九ものであシ、細孔径は最低１／Ｊｓ程度であり分
布も不均一であった。
固め九ものであシ、細孔径は最低１／Ｊｓ程度であり分
布も不均一であった。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は細孔径がよシ細かく、かつその孔径分布が均一
なセラミックフィルターを提供せんとするものである。
なセラミックフィルターを提供せんとするものである。
（発明の知見）
本発明者らは、アルミニウム水酸化物成形体〜
（通常１００〜５００ムの均一な微細孔を有する）を焼
成すると、焼成程度忙応じて該成形体の粒子が成長し、
もとの細孔径を均一に大きくすることができることを確
認した。
成すると、焼成程度忙応じて該成形体の粒子が成長し、
もとの細孔径を均一に大きくすることができることを確
認した。
（発明の構成）
本発明は上記知見に基づいて完成したものであって、ア
ルミニウム水酸化物成形体を９００℃〜１３００℃の焼
成温度において焼成することにより、細孔径をα０５μ
〜α３μに制御し、しかも細孔径分布のシャープなセラ
ミックを得ることを特徴とするセラミックフィルターの
製造方法である。
ルミニウム水酸化物成形体を９００℃〜１３００℃の焼
成温度において焼成することにより、細孔径をα０５μ
〜α３μに制御し、しかも細孔径分布のシャープなセラ
ミックを得ることを特徴とするセラミックフィルターの
製造方法である。
本発明は、先ず１００〜５００ムの均一な微細孔を有す
るアルミニウム水酸化物成形体を作夛、これを９００〜
１３００℃の範囲内の特定の温度で焼成し、その特定温
度下での焼成によｆｉ（Ｌ０５〜ａ、Ｓμ常と非常に小
さい細孔径の範囲内の特定細孔径を有しかつ細孔径分布
がシャープな成形体、すなわちセラミックフィルターを
得るものである。
るアルミニウム水酸化物成形体を作夛、これを９００〜
１３００℃の範囲内の特定の温度で焼成し、その特定温
度下での焼成によｆｉ（Ｌ０５〜ａ、Ｓμ常と非常に小
さい細孔径の範囲内の特定細孔径を有しかつ細孔径分布
がシャープな成形体、すなわちセラミックフィルターを
得るものである。
具体的にはアルミン酸ソーダ水溶液の酸による中和分解
又は、アルミニウムアルコラ−トノ加水分解という方法
によシ、アルミニウム水酸化物沈殿を得た後、押し出し
成形可能な水量まで脱水し、押し出し成形機により例え
ばパイプ状等の成形体（１００〜５００ムの均一な微細
孔径）を成形する。このようにして得られた成形体を乾
燥した後、９００〜１３００℃の温度で焼成することに
より目的とするセラミックフィルターを得るものである
。
又は、アルミニウムアルコラ−トノ加水分解という方法
によシ、アルミニウム水酸化物沈殿を得た後、押し出し
成形可能な水量まで脱水し、押し出し成形機により例え
ばパイプ状等の成形体（１００〜５００ムの均一な微細
孔径）を成形する。このようにして得られた成形体を乾
燥した後、９００〜１３００℃の温度で焼成することに
より目的とするセラミックフィルターを得るものである
。
アルミニウム水酸化物としてベーマイトであっても、パ
イヤライトであっても同様に細孔の大きさをフントロー
ルすることが可能でおる。
イヤライトであっても同様に細孔の大きさをフントロー
ルすることが可能でおる。
以下、本発明を実施例に従って説明する。
実施例ｔ
７０℃に保持した温水５重量部に対し、１重量部のアル
ミニウムインプロポキシドを加え温水によシ加水分解を
行った。仁のようにして得たアルミニウム水酸化物を脱
水して２、押し出し成形機によシ押し出し成形できる程
度にした後、押し出し成形して乾燥した。次に、１００
℃／Ｈの昇温速度で各温度に昇温した後その温度におい
て３時間保持し、その後炉冷した。
ミニウムインプロポキシドを加え温水によシ加水分解を
行った。仁のようにして得たアルミニウム水酸化物を脱
水して２、押し出し成形機によシ押し出し成形できる程
度にした後、押し出し成形して乾燥した。次に、１００
℃／Ｈの昇温速度で各温度に昇温した後その温度におい
て３時間保持し、その後炉冷した。
このようにして得た成形体の細孔径分布を水銀圧入法に
よシ測定した。この測定における接触角は１３０度とし
、また、水銀の表面張力は４８４ ａｙｎｅ／ ｃＷｌ
とした。
よシ測定した。この測定における接触角は１３０度とし
、また、水銀の表面張力は４８４ ａｙｎｅ／ ｃＷｌ
とした。
細孔径の測定結果を第１図に示す。第１図において横軸
は焼成温度（Ｃ）であシ、縦軸は細孔径（ｐｍ ）であ
る。９００℃から１３００℃の焼成において社焼成温度
を高くすることにより細孔径が大きくなっていく傾向が
認められる。
は焼成温度（Ｃ）であシ、縦軸は細孔径（ｐｍ ）であ
る。９００℃から１３００℃の焼成において社焼成温度
を高くすることにより細孔径が大きくなっていく傾向が
認められる。
９００℃よシ低源の８００℃では、９００℃の場合と変
わシなく、また、１３００℃よシ高温の１４００℃でも
１３００℃の場合と差は無くなる。従って、フィルター
の細孔径をコントロールする場合には９００℃〜１３０
０℃の範囲で焼成温度を変えればよいことが判る。
わシなく、また、１３００℃よシ高温の１４００℃でも
１３００℃の場合と差は無くなる。従って、フィルター
の細孔径をコントロールする場合には９００℃〜１３０
０℃の範囲で焼成温度を変えればよいことが判る。
第２図に得られた焼成体の細孔分布を示す。
第２図において横軸は細孔径（μ惧）であシ、縦ｖ
軸は微分細孔容積（ｒ−５任意スケール）である。
第２図において１０００℃、１１００℃、１２００’Ｃ
，１３００℃の焼成体は細孔分布がシャープであること
がわかる。また、１４００℃焼成体は細孔の分布が大き
くなっていることがわかる。
，１３００℃の焼成体は細孔分布がシャープであること
がわかる。また、１４００℃焼成体は細孔の分布が大き
くなっていることがわかる。
以上の結果から、アルミニウム水酸化物の成形体を９０
０〜１３００℃の焼成温度で焼成すれば、細孔径を制御
可能であり、細孔径分布もシャープなものが得られるこ
とが判明した。
０〜１３００℃の焼成温度で焼成すれば、細孔径を制御
可能であり、細孔径分布もシャープなものが得られるこ
とが判明した。
実施例２
アルミン酸ソーダ１０％水溶液に５規定塩酸を滴下して
中和し、アルミニウム水酸化物沈殿を得た。次に沈殿中
のナトリウム分がＮａｎｏ としてα１ ｖｔ％以下に
なるように水によシ洗浄した後、押し出し成形可能な粘
度まで水分を蒸発させた。次に押し出し成形機により直
径１０−１肉厚１１１１１１長さｇｏｏ−のパイプに成
形した。
中和し、アルミニウム水酸化物沈殿を得た。次に沈殿中
のナトリウム分がＮａｎｏ としてα１ ｖｔ％以下に
なるように水によシ洗浄した後、押し出し成形可能な粘
度まで水分を蒸発させた。次に押し出し成形機により直
径１０−１肉厚１１１１１１長さｇｏｏ−のパイプに成
形した。
このようにして得た成形体を実施例１と同様に１００℃
／Ｈの昇温速度で各温度に昇温した後、その温度におい
て５時間保持し、その後炉冷した。
／Ｈの昇温速度で各温度に昇温した後、その温度におい
て５時間保持し、その後炉冷した。
このようにして得た成形体の細孔径分布を水銀圧入法に
よ）測定した。この測定における接触角は１３０度とし
、また木調の表面張力拡４８４ ｄｙｎｅ／ ｃｍとし
た。
よ）測定した。この測定における接触角は１３０度とし
、また木調の表面張力拡４８４ ｄｙｎｅ／ ｃｍとし
た。
測定結果を嬉３図に示す。第５図において横軸は焼成温
度１）であシ、縦軸は細孔径（μ常）である。この実施
例においても、実施例１と同様、９００℃から１３００
℃の焼成において焼成温度を高くすることにより細孔径
が大きく寿っていく傾向が認められる。
度１）であシ、縦軸は細孔径（μ常）である。この実施
例においても、実施例１と同様、９００℃から１３００
℃の焼成において焼成温度を高くすることにより細孔径
が大きく寿っていく傾向が認められる。
実施例ｔ２から細孔径α０５〜α５ Ｐｆｎと非常に小
さく、マた細孔径の揃ったセラミックフィルターを製造
するに扛、アルミニウム水酸化物を目的とする細孔径に
応じて９００℃〜１３００℃の温度で焼成すればよい仁
とが判明した。
さく、マた細孔径の揃ったセラミックフィルターを製造
するに扛、アルミニウム水酸化物を目的とする細孔径に
応じて９００℃〜１３００℃の温度で焼成すればよい仁
とが判明した。
第１図及び第３図は本発明の方法に従って試作したセラ
ミックフィルターの焼成温度と細孔径の大きさの関係を
示す図である。 第２図は実施例１において試作したフィルターの細孔径
分布を示す図である。 焼成温度（°Ｃ） 細孔ｆｔ（ＰＷＬ）
ミックフィルターの焼成温度と細孔径の大きさの関係を
示す図である。 第２図は実施例１において試作したフィルターの細孔径
分布を示す図である。 焼成温度（°Ｃ） 細孔ｆｔ（ＰＷＬ）
Claims (1)
- アルミニウム水酸化物成形体を９００℃〜１５００℃の
焼成温度において焼成することにより、細孔径をα０５
μ〜ｌ１３μに制御し、しかも細孔径分布のシャープな
セラミックを得ることを特徴とするセラミックフィルタ
ーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9472384A JPS60238116A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | セラミツクフイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9472384A JPS60238116A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | セラミツクフイルタ−の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60238116A true JPS60238116A (ja) | 1985-11-27 |
Family
ID=14118038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9472384A Pending JPS60238116A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | セラミツクフイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60238116A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01184011A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-21 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ＳｉＣフィルタの製造方法 |
-
1984
- 1984-05-14 JP JP9472384A patent/JPS60238116A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01184011A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-21 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ＳｉＣフィルタの製造方法 |
| JP2587667B2 (ja) * | 1988-01-14 | 1997-03-05 | 東芝セラミックス株式会社 | ＳｉＣフィルタの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0537336B1 (en) | Process of making porous ceramic materials with controlled porosity | |
| CA1059160A (en) | Method of preparing crack-free monolithic polycrystalline cordierite substrates | |
| JP2620419B2 (ja) | 二酸化チタンプレス成形品、その製造方法並びにそれよりなる触媒担体及び触媒 | |
| JPH0280361A (ja) | 配向性リン酸カルシウム系化合物成形体及び焼結体並びにそれらの製造方法 | |
| JP2006326557A (ja) | 中空状複合体及びその製造方法 | |
| KR100447300B1 (ko) | 코르디에라이트 세라믹스 하니콤의 제조방법 | |
| EP0479553B1 (en) | Production of porous ceramics | |
| CN111056858A (zh) | 一种平板陶瓷膜支撑体的制备方法及其陶瓷泥料 | |
| CN105985071B (zh) | 一种环保矿棉板及其制备方法 | |
| CN111662073A (zh) | 一种大流量管式陶瓷膜的陶瓷泥料及制备方法 | |
| JP2665042B2 (ja) | 小さい細孔の大きさを有する金属酸化物多孔質セラミック膜 | |
| JP2959683B2 (ja) | 高純度アルミナ繊維成形体の製造方法 | |
| JPH0558883B2 (ja) | ||
| JPS60238116A (ja) | セラミツクフイルタ−の製造方法 | |
| CN114605168A (zh) | 一种基于菫青石多孔陶瓷和沸石的空气过滤材料的制备方法 | |
| JPH04305076A (ja) | コージェライト質ハニカム構造体の製造法 | |
| US3380933A (en) | Porous alumina products and method of manufacture | |
| JPS60261521A (ja) | セラミツクフイルタ−の製造方法 | |
| ATE74117T1 (de) | Verfahren zur herstellung von offenporigem sinterglas mit grossem offenen porenvolumen, das besonders geeignet ist als filter fuer fluessigkeiten und gase bei hohen durchflussgeschwindigkeiten. | |
| JP2007070161A (ja) | 多孔質複合体及びその製造方法 | |
| CN102515817A (zh) | 一种中空纤维陶瓷膜及其制备方法 | |
| JPS6117543B2 (ja) | ||
| JPH01230486A (ja) | 多孔質磁器の製造法 | |
| JPS6137207B2 (ja) | ||
| DE1592157B2 (de) | Verfahren zur herstellung von mechanisch festen poroesen formkoerpern auf al tief 2 o tief 3 -basis |