JPS60256914A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS60256914A JPS60256914A JP11101984A JP11101984A JPS60256914A JP S60256914 A JPS60256914 A JP S60256914A JP 11101984 A JP11101984 A JP 11101984A JP 11101984 A JP11101984 A JP 11101984A JP S60256914 A JPS60256914 A JP S60256914A
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- Japan
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- magnetic
- recording medium
- magnetic recording
- coupling agent
- hexagonal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は２分散性に優れた高密度塗布型垂直磁気記録媒
体に関する。
体に関する。
近年、磁気記録はますます高密度化の方向にある。しか
しながら従来からの長手（水平）記録方式では、高密度
化に伴い、媒体面内の減磁界が増加するため記録密度向
上には、限界が−みえはじめている。これに対し、最近
、減磁作用の拘束を受けず１本質的に高密度記録に適し
ている垂直磁気記録方式が提案され、注目をあびている
。
しながら従来からの長手（水平）記録方式では、高密度
化に伴い、媒体面内の減磁界が増加するため記録密度向
上には、限界が−みえはじめている。これに対し、最近
、減磁作用の拘束を受けず１本質的に高密度記録に適し
ている垂直磁気記録方式が提案され、注目をあびている
。
この様な垂直磁気記録媒体としては、これ・までスパッ
タ法、真空蒸着法及び化学メッキ法等によるＣｏ−Ｍ系
媒体（Ｍ ： Ｃｒ 、 Ｐｔ 、 Ｏ，Ｒｕなど）あ
るいは塗布法による六方晶Ｂａフェライト媒体等が提案
されている。
タ法、真空蒸着法及び化学メッキ法等によるＣｏ−Ｍ系
媒体（Ｍ ： Ｃｒ 、 Ｐｔ 、 Ｏ，Ｒｕなど）あ
るいは塗布法による六方晶Ｂａフェライト媒体等が提案
されている。
その中でも、塗布型垂直磁気記録媒体、すなわち六方晶
Ｂａフヱライト粉末及び結合剤等から成る磁性塗料をＰ
ＥＴ等の支持体上に塗布することによって得られるＢａ
フェライト垂直磁気記録媒体は。
Ｂａフヱライト粉末及び結合剤等から成る磁性塗料をＰ
ＥＴ等の支持体上に塗布することによって得られるＢａ
フェライト垂直磁気記録媒体は。
従来からの塗布技術を生かせること及び媒体の高速作成
が可能なことが大きな特長である。しかしながら、垂直
磁気記録媒体としての高密度性を得るには、 Ｂａフェ
ライト粒子を微粒子化して用いなければならない。この
様な、所謂超微粉を用いた場合、磁性塗料中で均一に分
散することはかなり困難である。
が可能なことが大きな特長である。しかしながら、垂直
磁気記録媒体としての高密度性を得るには、 Ｂａフェ
ライト粒子を微粒子化して用いなければならない。この
様な、所謂超微粉を用いた場合、磁性塗料中で均一に分
散することはかなり困難である。
本発明はかかる現状に鑑みて成されたものである。すな
わち１本発明の目的とするところは、磁性塗料中におけ
る六方晶Ｂａフェライト微粒子が個個に分散し、優れた
高密度特性を示す塗布型垂直破気記録媒体を提供するこ
とにある。
わち１本発明の目的とするところは、磁性塗料中におけ
る六方晶Ｂａフェライト微粒子が個個に分散し、優れた
高密度特性を示す塗布型垂直破気記録媒体を提供するこ
とにある。
本発明は、六方晶Ｂａフェライ）・粉末の結合剤として
フェノキシ樹脂及び分散助剤としてチタネート系カップ
リング剤を用いることによシ、優れた分散性を示す高密
度垂直磁気記録、媒体を得ることを特徴とするものであ
る。
フェノキシ樹脂及び分散助剤としてチタネート系カップ
リング剤を用いることによシ、優れた分散性を示す高密
度垂直磁気記録、媒体を得ることを特徴とするものであ
る。
本発明で用いられる六方晶Ｂａフェライト粉末は。
保磁力Ｈｅ及び飽和磁化ＭＳが各々、３００〜９０００
ｅ、２０〜８０ｅｍｕ／ｙ−の範囲にあればよ（＋ Ｆ
ｅ元素の一部がＣｏ 、 Ｔｉ等の金属あるいは半金属
元素で置換されていてもよい。
ｅ、２０〜８０ｅｍｕ／ｙ−の範囲にあればよ（＋ Ｆ
ｅ元素の一部がＣｏ 、 Ｔｉ等の金属あるいは半金属
元素で置換されていてもよい。
まだ、フェノキシ樹脂としては、下記構造式で示される
もので、平均重合度が８０〜７００の範囲にあればよい
。
もので、平均重合度が８０〜７００の範囲にあればよい
。
さらに、チタネート系カップリング剤は、下記構造式に
よって表わされるものであればよい。
よって表わされるものであればよい。
（Ｒ２−〇）４−ＴＩ−〔Ｐ−（Ｏ−Ｒ１）２０Ｈ〕２
以下金日 具体例としては、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチ
ル−１−ブチル）ビス（ノドリプシルフォスフェート）
チタネートあるいは、テトラオクチルビス（ジトリデシ
ルフォスフェート）チタネートあるいは、テトライソグ
ロピルビス（ジオクチルフォスフェート）チタネート等
がある。
以下金日 具体例としては、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチ
ル−１−ブチル）ビス（ノドリプシルフォスフェート）
チタネートあるいは、テトラオクチルビス（ジトリデシ
ルフォスフェート）チタネートあるいは、テトライソグ
ロピルビス（ジオクチルフォスフェート）チタネート等
がある。
本発明において使用するフェノキシ樹脂の量は磁性粉に
対して３〜２０ ｗｔ％好ましくは７〜１５ｗｔ％であ
ればよく、また、チタネート系力、シリング剤の量は０
．１〜１０ｗｔ％の範囲内にあればよいが０５〜３ｗｔ
％の範囲内にあることがよシ好ましい。
対して３〜２０ ｗｔ％好ましくは７〜１５ｗｔ％であ
ればよく、また、チタネート系力、シリング剤の量は０
．１〜１０ｗｔ％の範囲内にあればよいが０５〜３ｗｔ
％の範囲内にあることがよシ好ましい。
本発明で用いられるポリウレタン樹脂は市販品の多くの
ものを用いることができる。例えば１日本ポリウレタン
社製ニッポラン２３０４．ニラポラン３０２２．米国グ
ツドリッチケミカル社製ニスクン５７１１．ニスタン５
７１５．大日精化社製ＭＡＵ −２０１０、ＭＡＵ−２
０７０、ＭＡＵ−７０８０などがある。
ものを用いることができる。例えば１日本ポリウレタン
社製ニッポラン２３０４．ニラポラン３０２２．米国グ
ツドリッチケミカル社製ニスクン５７１１．ニスタン５
７１５．大日精化社製ＭＡＵ −２０１０、ＭＡＵ−２
０７０、ＭＡＵ−７０８０などがある。
本発明で用いるインシアネート化合物も、また多くの市
販品を用いることができる。例えば日本ポリウレタン社
製コロネートし、コロネートＩ（Ｌ。
販品を用いることができる。例えば日本ポリウレタン社
製コロネートし、コロネートＩ（Ｌ。
コロネー）２０３６．コロネー１−２０１４． 、コロ
ネ−）３０１５．コロネ′−ト３’０３０．住友バイエ
ルウェスタン社製デスモノニールし、デスモジュール１
５．デスモジュール１４．スミノユールＬ。
ネ−）３０１５．コロネ′−ト３’０３０．住友バイエ
ルウェスタン社製デスモノニールし、デスモジュール１
５．デスモジュール１４．スミノユールＬ。
スミノユールＴ−８０、飲用薬品工業社製タケネートＤ
１０２．タケネートＤ１０３．クケネートＤ１０３Ｈ，
タケネー）Ｍ２Ｏ３，タケネートＭ４０８、大日本イン
キ化学社製りリスボンＮＸ。
１０２．タケネートＤ１０３．クケネートＤ１０３Ｈ，
タケネー）Ｍ２Ｏ３，タケネートＭ４０８、大日本イン
キ化学社製りリスボンＮＸ。
クリス？ンＣＬ−２などがある。
次に１本発明の実施例について説明する。
実施例１
ｏＣｏ−Ｔｉ置換Ｂａフェライト（Ｈｃ ＝ ５０００
ｅ 。
ｅ 。
Ｍｓ ＝ ４０ ｅｍｕ／ｙ−ｒ ＢＥＴ粒度５０ｍ％
わ−ＳＯ重量部 ０フエノキシ樹脂（平均重合度１５０）−８重量部０チ
タネートカツプリング剤（テトラ（２，２−ジアリルオ
キシメチル−１−ブチル）ビス（シトリゾフルフォスフ
ェート）チタネート □０．８重量部 ０カーボンブラツク □２４ 〃 ０メチルエチルケトン／ンクロヘキサノン／トルエン
□５０１５０１５０重量部 上記組成をボールミルにて、５０時間混線後。
わ−ＳＯ重量部 ０フエノキシ樹脂（平均重合度１５０）−８重量部０チ
タネートカツプリング剤（テトラ（２，２−ジアリルオ
キシメチル−１−ブチル）ビス（シトリゾフルフォスフ
ェート）チタネート □０．８重量部 ０カーボンブラツク □２４ 〃 ０メチルエチルケトン／ンクロヘキサノン／トルエン
□５０１５０１５０重量部 上記組成をボールミルにて、５０時間混線後。
さらにポリウレタン樹脂１２重量部及びインシアネート
化合物１６重量部を加えて、２０時間混練して磁性塗料
を得た。これを７５μｍのポリエチレンテレフタレート
支持体上にスピンコード法によって塗布し、磁場強度３
５０００ｅで垂直磁場配向処理しながら、磁場中で乾燥
し、乾燥後の厚みが２μｍとなる様に磁性層を形成し、
試料とした。
化合物１６重量部を加えて、２０時間混練して磁性塗料
を得た。これを７５μｍのポリエチレンテレフタレート
支持体上にスピンコード法によって塗布し、磁場強度３
５０００ｅで垂直磁場配向処理しながら、磁場中で乾燥
し、乾燥後の厚みが２μｍとなる様に磁性層を形成し、
試料とした。
実施例２
実施例１のチタネート力、ノリング剤（テトラ（２，２
−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（シトリゾ
フルフォスフェート）チタネート０．８重量部をチタネ
ートカップリング剤（テトラオクチルビス（ジトリデシ
ルフォスフェート）チタネート（Ｃ８Ｈ１７−０：ｈＴ
ｉ−（：Ｐ−（０−Ｃ，３Ｈ２，）２０Ｈ］２） ０．
８重量部にかえた以外は実施例１と同様にして試料とし
た。
−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（シトリゾ
フルフォスフェート）チタネート０．８重量部をチタネ
ートカップリング剤（テトラオクチルビス（ジトリデシ
ルフォスフェート）チタネート（Ｃ８Ｈ１７−０：ｈＴ
ｉ−（：Ｐ−（０−Ｃ，３Ｈ２，）２０Ｈ］２） ０．
８重量部にかえた以外は実施例１と同様にして試料とし
た。
比較例１
実施例のチタネートカップリング剤（テトラ（２，２−
ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（シトリゾフ
ルフォスフニー））チタネート０、８重量部をレシチン
２重量部にかえた以外は実施例１と同様にして試料とし
た。
ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（シトリゾフ
ルフォスフニー））チタネート０、８重量部をレシチン
２重量部にかえた以外は実施例１と同様にして試料とし
た。
これらの各試料について、膜面と垂直方向に測定した角
形比を表１に示す。
形比を表１に示す。
表 １
〔発明の効果〕
この表からも明らかな様に２本発明によれば分散性に優
れた塗布型高密度垂直磁気記録媒体が得られる。
れた塗布型高密度垂直磁気記録媒体が得られる。
代理人（７１７７） ｆ）理士後藤洋介手続補正書（自
発） 昭和ｔり年ノＯ月λに日 特許庁長官 志 賀 掌紋 １、事件の表示 昭和５９年特許願第１１１，０１９号 ２、発明の名称 垂直磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ２ 名称 東北金属工業株式会社 ４、代理人 住所 〒１０５東京都港区西新橋１丁目４番１０号第三
森ヒルＴａ（５９１）１５０７：１５２３明細書の発明
の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 明細書第７頁４行目の下、第８頁３行目の下および第８
頁の最下段の化学式 を、いずれも下記のとおシに訂正する。
発） 昭和ｔり年ノＯ月λに日 特許庁長官 志 賀 掌紋 １、事件の表示 昭和５９年特許願第１１１，０１９号 ２、発明の名称 垂直磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ２ 名称 東北金属工業株式会社 ４、代理人 住所 〒１０５東京都港区西新橋１丁目４番１０号第三
森ヒルＴａ（５９１）１５０７：１５２３明細書の発明
の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 明細書第７頁４行目の下、第８頁３行目の下および第８
頁の最下段の化学式 を、いずれも下記のとおシに訂正する。
記
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （υ 六方晶Ｂａフェライト粉末及び結合剤成分として
フェノキシ樹脂及び分散助剤として、一般”式％式％：
１２ で示されるチタネート系カップリング剤を含むｔとを特
徴とする垂直磁気記録媒体。 （２）磁性層の結合剤成分として、さらに？リウレタン
樹脂及びインシアネート化合物を含むことを特徴とする
特許請求範囲第一項記載の垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11101984A JPS60256914A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 垂直磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11101984A JPS60256914A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60256914A true JPS60256914A (ja) | 1985-12-18 |
Family
ID=14550330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11101984A Pending JPS60256914A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60256914A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0298813A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-11 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11101984A patent/JPS60256914A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0298813A (ja) * | 1988-10-05 | 1990-04-11 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体 |
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