JPS60256912A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
垂直磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS60256912A JPS60256912A JP11101784A JP11101784A JPS60256912A JP S60256912 A JPS60256912 A JP S60256912A JP 11101784 A JP11101784 A JP 11101784A JP 11101784 A JP11101784 A JP 11101784A JP S60256912 A JPS60256912 A JP S60256912A
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- JP
- Japan
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- magnetic recording
- ferrite
- recording medium
- coupling agent
- hexagonal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は２分散性に優れた高密度塗布型垂直磁気記録媒
体に関する。
体に関する。
近年、磁気記録はますます高密度化の方向にある。しか
しながら従来からの長手（水平）記録方式では、高密度
化に伴い、媒体面内の減磁界が増加するため記録密度向
上例は、限界がみえはじめている。これに対し、最近、
減磁作用の拘束を受けず２本質的に高密度記録に適して
いる垂直磁気記録方式が提案され、注目をあびている。
しながら従来からの長手（水平）記録方式では、高密度
化に伴い、媒体面内の減磁界が増加するため記録密度向
上例は、限界がみえはじめている。これに対し、最近、
減磁作用の拘束を受けず２本質的に高密度記録に適して
いる垂直磁気記録方式が提案され、注目をあびている。
この様な垂直磁気記録媒体としては、これまで。
ス・ぐ、タ法、真空蒸着法及び化学メッキ法等によるＣ
ｏ−Ｍ系媒体（Ｍ：Ｃｒ、Ｐｔ、Ｏ，Ｒｕなど）あるい
は塗布法による大方晶Ｂａフェライト媒体等が提案され
ている。
ｏ−Ｍ系媒体（Ｍ：Ｃｒ、Ｐｔ、Ｏ，Ｒｕなど）あるい
は塗布法による大方晶Ｂａフェライト媒体等が提案され
ている。
その中でも、塗布型垂直磁気記録媒体、すなわち六方晶
Ｂａフェライト粉末及び結合剤等から成る磁性塗料をＰ
ＥＴ等の支持体上に塗布することによって得られるＢａ
フェライト垂直磁気記録媒体は。
Ｂａフェライト粉末及び結合剤等から成る磁性塗料をＰ
ＥＴ等の支持体上に塗布することによって得られるＢａ
フェライト垂直磁気記録媒体は。
従来からの塗布技術を生かせること及び媒体の高速作成
が可能なことが大きな特長である。しかしながら、垂直
磁気記録媒体としての高密度性を得るにはＢａフェライ
ト粒子を微粒子化して、用いなければ々らない。この様
な、所謂超微粉を用いた場合、磁気塗料中で均一に分散
することはかなシ困難である。
が可能なことが大きな特長である。しかしながら、垂直
磁気記録媒体としての高密度性を得るにはＢａフェライ
ト粒子を微粒子化して、用いなければ々らない。この様
な、所謂超微粉を用いた場合、磁気塗料中で均一に分散
することはかなシ困難である。
本発明はかかる現状に鑑みて成されたものである。すな
わち２本発明の目的とするところは、磁性塗料中におけ
る大方晶Ｂａフェライト微粒子が個個に分散し、優れた
高密度特性を示す塗布型垂直磁気記録媒体を提供するこ
とにある。
わち２本発明の目的とするところは、磁性塗料中におけ
る大方晶Ｂａフェライト微粒子が個個に分散し、優れた
高密度特性を示す塗布型垂直磁気記録媒体を提供するこ
とにある。
本発明は六方晶Ｂａフェライト粉末の結合剤としてニト
ロセルロース及び分散助剤としてチタネート系カップリ
ング剤を用いることによシ、優れた分散性を示す高密度
垂直磁気記録媒体を得ることを特徴とするものである。
ロセルロース及び分散助剤としてチタネート系カップリ
ング剤を用いることによシ、優れた分散性を示す高密度
垂直磁気記録媒体を得ることを特徴とするものである。
本発明で用いられる六方晶Ｂａフェライト粉末は。
保磁力Ｈｃ及び飽和磁化ＭＳが各々、３００〜９０００
ｅ。
ｅ。
２０〜８０ ｅｍｕ／ｇの範囲にあればよ（、Ｆｅ元素
の一部がＣｏ、Ｔｉ等の金属あるいは半金属元素で置換
されていてもよい。
の一部がＣｏ、Ｔｉ等の金属あるいは半金属元素で置換
されていてもよい。
また、ニトロセルロースとしては、平均重合度及び窒素
分が各々３０〜５００及び１０．７〜１２．２％（平均
置換度１．９〜２．３）の範囲内にあればよい。
分が各々３０〜５００及び１０．７〜１２．２％（平均
置換度１．９〜２．３）の範囲内にあればよい。
さらに、チタネート系カップリング剤は、下記構造式に
よって表わされるものであればよい。
よって表わされるものであればよい。
（Ｒ２−０） ４−Ｔ Ｉ −Ｃｐ −（０−Ｒ１）２
０Ｈ） ２具体例としては、テトラ（２，２−ジアリル
オキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシルフォス
フェート）チタネートあるいは、テトラオクチルビス（
ジトリデシルフォスフェート）チタネートあるいは、テ
トライソグロピルビス（ジオクチルフォスフェート）チ
タネート等がある。
０Ｈ） ２具体例としては、テトラ（２，２−ジアリル
オキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシルフォス
フェート）チタネートあるいは、テトラオクチルビス（
ジトリデシルフォスフェート）チタネートあるいは、テ
トライソグロピルビス（ジオクチルフォスフェート）チ
タネート等がある。
本発明において使用するニトロセルロースの量は磁性粉
゛に対して３〜２０ ｗｔ％好ましくは５〜１０ｗｔ％
であればより、マた。チタネート系カップリング剤の量
は０．１〜１０ｗｔ％の範囲内にあればよいが０．５〜
３ ｗｔ％の範囲内にあることがよシ好ましい。
゛に対して３〜２０ ｗｔ％好ましくは５〜１０ｗｔ％
であればより、マた。チタネート系カップリング剤の量
は０．１〜１０ｗｔ％の範囲内にあればよいが０．５〜
３ ｗｔ％の範囲内にあることがよシ好ましい。
本発明で用いられるポリウレタン樹脂は市販品の多くの
ものを用いることができる。例えば２日本ポリウレタン
社製ニッポラン２３０４ 、ニラポラン３０２２ 、米
国グツドリッチケミカル社製ニスタン５７１１．ニスタ
ン５７１５．大日精化社製ＦＭＵ−２０１０、ＭＡＵ−
２０７０、ＭＡＵ−７０８０などがある。
ものを用いることができる。例えば２日本ポリウレタン
社製ニッポラン２３０４ 、ニラポラン３０２２ 、米
国グツドリッチケミカル社製ニスタン５７１１．ニスタ
ン５７１５．大日精化社製ＦＭＵ−２０１０、ＭＡＵ−
２０７０、ＭＡＵ−７０８０などがある。
本発明で用いるインシアネート化合物も、また多くの市
販品を用いることができる。例えば日本ポリウレタン社
製コロネートＬ、コロネ−）ＨＬ。
販品を用いることができる。例えば日本ポリウレタン社
製コロネートＬ、コロネ−）ＨＬ。
コロネート２０．３６．コロネート２０１４．コロネー
ト３０１５．コロネー）３０３０ 、住人バイエルウェ
スタン社製デスモジュールＬ、゛デスモノーール１５．
デスモジュール１４．スミジュールＬ、スミジュールＴ
−８０、成田薬品工業社製タケネートＤ１０２，２ケネ
ートＤ１０３．タヶネ−）Ｄ１０３Ｈ，タケネートＭ４
０２．タヶネー）Ｍ２Ｏ３，大日本インキ化学社製りリ
スボンＮＸ、クリスボンＣＬ−２などがある。
ト３０１５．コロネー）３０３０ 、住人バイエルウェ
スタン社製デスモジュールＬ、゛デスモノーール１５．
デスモジュール１４．スミジュールＬ、スミジュールＴ
−８０、成田薬品工業社製タケネートＤ１０２，２ケネ
ートＤ１０３．タヶネ−）Ｄ１０３Ｈ，タケネートＭ４
０２．タヶネー）Ｍ２Ｏ３，大日本インキ化学社製りリ
スボンＮＸ、クリスボンＣＬ−２などがある。
次に２本発明の実施例について説明する。
実施例１
ｏ Ｃｏ−Ｔｉ置換Ｂａフェライ゛ト（Ｈｃ＝５０００
ｅ 、Ｍｓ＝４０ ｅｍｕ／、９ 、 ＢＥＴ粒度５０
ｍ２力） −８０重量部０ニトロセルロース樹脂（平
均重合度８０〜９５゜窒素分１１．５〜１２２チ） □
６重量部０チタネートカッグリング剤［テトラ（２，２
−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデ
シルフォスフェート）チタネート 以下余白 −一一一−０８重量部 ０カーボンブラツク −−２，４＃ ｏツメチルエチルケトンシクロヘキサノン／トルエン−
−−−５０１５０’１５０重量部 上記組成をボールミルにて、５０時間混線後。
ｅ 、Ｍｓ＝４０ ｅｍｕ／、９ 、 ＢＥＴ粒度５０
ｍ２力） −８０重量部０ニトロセルロース樹脂（平
均重合度８０〜９５゜窒素分１１．５〜１２２チ） □
６重量部０チタネートカッグリング剤［テトラ（２，２
−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデ
シルフォスフェート）チタネート 以下余白 −一一一−０８重量部 ０カーボンブラツク −−２，４＃ ｏツメチルエチルケトンシクロヘキサノン／トルエン−
−−−５０１５０’１５０重量部 上記組成をボールミルにて、５０時間混線後。
さらにポリウレタン樹脂１４重量部及びインシアネート
化合物１６重量部を加えて、２０時間混練して磁性塗料
を得た。これを７５μｍの？リエチレンテレ７タレート
支持体上にスピンコード法によって塗布し、磁場強度３
５０００ｅで垂直磁場配向処理しながら、磁場中で乾燥
し、乾燥後の厚みが２μｍとなる様に磁性層を形成し、
試料とした。
化合物１６重量部を加えて、２０時間混練して磁性塗料
を得た。これを７５μｍの？リエチレンテレ７タレート
支持体上にスピンコード法によって塗布し、磁場強度３
５０００ｅで垂直磁場配向処理しながら、磁場中で乾燥
し、乾燥後の厚みが２μｍとなる様に磁性層を形成し、
試料とした。
実施例２
実施例１のチタネートカップリング剤（テトラ（２，２
−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデ
シルフォスフェート）チタネート０．８重量部をチタネ
ートカップリング剤（テトラオクチルビス（ジトリデシ
ルフォスフェート）チタネート（Ｃ８Ｈ１７−０＋４Ｔ
ｉ−〔Ｐ−（０−Ｃ１，Ｈ２７）２０Ｈ〕２１０．８重
量部にかえた以外は実施例１と同様にして試料とした。
−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデ
シルフォスフェート）チタネート０．８重量部をチタネ
ートカップリング剤（テトラオクチルビス（ジトリデシ
ルフォスフェート）チタネート（Ｃ８Ｈ１７−０＋４Ｔ
ｉ−〔Ｐ−（０−Ｃ１，Ｈ２７）２０Ｈ〕２１０．８重
量部にかえた以外は実施例１と同様にして試料とした。
比較例１
実施例１のチタネートカップリング剤（テトラ（２，２
−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ノドリプ
シルフォスフェート）チタネート０８重量部をレシチン
２重量部にかえた以外は実施例１と同様にして試料とし
た。
−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ノドリプ
シルフォスフェート）チタネート０８重量部をレシチン
２重量部にかえた以外は実施例１と同様にして試料とし
た。
これらの各試料について、膜面と垂直方向に測定した角
形比を表１に示す。
形比を表１に示す。
表 １
〔発明の効果〕
この表からも明らか々様に２本発明によれば分散性に優
れた塗布型高密度垂直磁気記録媒体が得られる。
れた塗布型高密度垂直磁気記録媒体が得られる。
代理人（７１２７）弁理士後藤洋介
手 続 補 正 書（自発）
昭和ｔ２年〆０月μ日
特許庁長官 志 賀 学 殿
１、事件の表示
昭和５９年特許願第１１１０１７号
２、発明の名称
垂直磁気記録媒体
３補正をする者
事件との関係 特許出願人
トウホクキンノ゛クコウギョウ
名称 東北金属工業株式会社
４代理人〒１０５
住所 東京都港区西新橋１丁目４番１０号明細書第７頁
冒頭、第８頁冒頭および第８頁の実施例１の説明中３行
目の次の化学式 を、いずれも下記のとおりに訂正する。
冒頭、第８頁冒頭および第８頁の実施例１の説明中３行
目の次の化学式 を、いずれも下記のとおりに訂正する。
記
Claims (2)
- （１）六方晶Ｂａフェライト粉末及び結合剤成分として
ニトロセルロース及び分散助剤として、一般式が （Ｒ２−０）４−Ｔｉ−［Ｐ−（０−Ｒ，）２０Ｈ）２
で示されるチタネート系カップリング剤を含むことを特
徴とする垂直磁気記録媒体。 - （２）磁性層の結合剤成分と−して、さらにポリウレタ
ン樹脂及びインシアネート化合物を含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第一項記載の垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11101784A JPS60256912A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 垂直磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11101784A JPS60256912A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60256912A true JPS60256912A (ja) | 1985-12-18 |
Family
ID=14550282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11101784A Pending JPS60256912A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60256912A (ja) |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11101784A patent/JPS60256912A/ja active Pending
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