JPH0546983A - 磁気記録媒体の製造法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造法

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JPH0546983A
JPH0546983A JP22470991A JP22470991A JPH0546983A JP H0546983 A JPH0546983 A JP H0546983A JP 22470991 A JP22470991 A JP 22470991A JP 22470991 A JP22470991 A JP 22470991A JP H0546983 A JPH0546983 A JP H0546983A
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JP
Japan
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magnetic
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beads
ketone solvent
magnetic recording
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JP22470991A
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English (en)
Inventor
Hiroaki Terasawa
寛了 寺澤
Shinichi Kitahata
慎一 北畑
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Maxell Holdings Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁性層の機械的特性が良好であり、これに基
づくすぐれた耐久性能を示し、電磁変換特性にもすぐれ
た磁気記録媒体を提供する。 【構成】 カルボン酸による表面処理が施された分散用
ビ―ズまたはボ―ルを用いて、ケトン系溶剤を含む磁性
塗料用組成物を分散混合し、得られた磁性塗料を非磁性
支持体上に塗布し、乾燥して磁性層を形成することによ
り、磁気記録媒体を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、磁気テ―プ、磁気デ
イスクなどの磁気記録媒体の製造法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、磁気テ―プなどの磁気記録媒体
は、磁性粉末と結合剤と必要に応じて加えられる各種添
加剤を、有機溶剤中に混合分散させて磁性塗料を調製
し、この磁性塗料をポリエステルフイルムなどの非磁性
支持体上に塗布、乾燥して磁性層を形成することによ
り、作製される。このように作製される磁気記録媒体に
おける出力などの電磁変換特性は、磁性層中の磁性粉末
の分散状態によつて大きく影響されることが知られてい
る。
【0003】このため、従来より、磁性粉末の分散性を
改善するために、上記磁性塗料中に各種の分散剤が配合
されており、また近年では、磁性塗料の有機溶剤とし
て、磁性粉末の分散性にすぐれるシクロヘキサノン、メ
チルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどのケト
ン系溶剤が使用される傾向にある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ケトン系溶剤を含む磁性塗料では、磁性粉末の分散性は
良好となるが、これを用いて形成した磁性層の機械的特
性が低下し、たとえばビデオテ―プにおけるスチル耐久
性などの磁気記録媒体の耐久性能が著しく悪くなるとい
う問題があつた。
【0005】この発明は、上述の事情に鑑み、ケトン系
溶剤を含む磁性塗料を用いる方法において、磁性層の機
械的特性の低下を防止し、もつて電磁変換特性と耐久性
能が共にすぐれた磁気記録媒体を得る方法を提供するこ
とを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明者らは、上記の
目的を達成するために、まず、ケトン系溶剤の使用によ
る磁性層の機械的特性の低下の原因を調べたところ、磁
性塗膜中に磁性塗料塗布後の乾燥によつて揮散除去され
るべき溶剤成分がケトン系溶剤のアルド―ル縮合による
変性物の形で相当量残留しており、この残留した溶剤成
分によつて磁性層の強度低下をきたしていることが判明
した。
【0007】そこで、この知見に基づいて更に検討を重
ねた結果、上記変性物が磁性塗料の調製においてサンド
ミルやボ―ルミルで塗料組成物を混合分散させる過程で
多く生成しており、この生成を抑制するには、分散メデ
イアであるビ―ズやボ―ルに予め特定の表面処理を施し
ておくことが極めて有効であり、これによつて塗膜中に
残留する上記変性物の量が著しく低減されて磁性層の機
械的特性が向上し、電磁変換特性と耐久性能のいずれに
もすぐれた磁気記録媒体が得られることを究明し、この
発明をなすに至つた。
【0008】すなわち、この発明は、ケトン系溶剤を含
む磁性塗料用組成物を、カルボン酸による表面処理が施
された分散用ビ―ズまたはボ―ルを用いて分散混合し、
得られた磁性塗料を非磁性支持体上に塗布、乾燥して磁
性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体に係るも
のである。
【0009】
【発明の構成・作用】ケトン系溶剤は、塩基性の活性点
が触媒となつて、アルド―ル縮合により変性することが
知られている〔C.Mannich,Ber.deu
t.chem.Ges.,40,153(1907)、
R.T.Morison and R.N.Boyd,
“ORGANIC CHEMISTRY2nd E
d.”中西,黒野,中平訳,東京化学同人(197
7),P601など〕。
【0010】このようなケトン系溶剤を含む磁性塗料
は、その調製のために組成物をサンドミルやボ―ルミル
にて分散混合する際、上記触媒となる活性点が磁性粉末
の表面のみならず分散用のビ―ズやボ―ルの表面に多く
存在し、これら活性点によつて上記のアルド―ル縮合が
生起してケトン系溶剤の変性物を生成することになる。
この生成した変性物は元の溶剤成分に比べて高沸点であ
るため、磁性塗料を塗布後に通常の条件(50〜130
℃にて0.01〜0.5時間程度)による乾燥を経ても
完全には揮散せず、塗膜中に残留して磁性層の強度を低
下させる。
【0011】しかるに、この発明では、上記の分散メデ
イアであるビ―ズやボ―ルを予めカルボン酸によつて表
面処理するため、これらの表面に存在する塩基性の活性
点が酸−塩基反応によつて中和されて活性を喪失し、ケ
トン系溶剤の変性が抑制される。その結果、磁性塗料中
の変性物量ひいては乾燥後の磁性塗膜中に残留する変性
物量が非常に少なくなり、磁性層の機械的特性が向上し
て、得られる磁気記録媒体はすぐれた耐久性能を発揮す
るものとなる。
【0012】また、上記表面処理に用いたカルボン酸は
磁性粉末の分散性その他の特性に悪影響を及ぼさないこ
とから、得られる磁気記録媒体はケトン系溶剤による高
分散作用に基づく本来のすぐれた電磁変換特性を示すこ
とになる。
【0013】この発明において、磁性塗料調製時の分散
メデイアとするビ―ズおよびボ―ルとしては、種々の材
質、形状、大きさのものを使用でき、たとえばガラス、
アルミナ、ジルコニア、ジルコンなどのセラミツク系材
料からなるもののほか、スチ―ルなどの金属材料からな
るものでもよく、また形状も球形以外に楕円体や円柱形
のものも用い得る。
【0014】このようなビ―ズおよびボ―ルにカルボン
酸による表面処理を施すには、カルボン酸の有機溶剤溶
液中にビ―ズおよびボ―ルを1〜24時間程度浸漬すれ
ばよい。表面処理後のカルボン酸の付着量としては、一
般に、0.01〜1g/m2程度であるのが望ましい。
【0015】表面処理に用いる上記のカルボン酸として
は、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、酪酸
などの脂肪族系の飽和モノカルボン酸があり、その他乳
酸、オレイン酸、リノ―ル酸などのカルボン酸も使用可
能である。
【0016】磁性塗料の調製は、ケトン系溶剤を含む有
機溶剤、磁性粉末、結合剤および必要に応じて加える各
種添加剤とからなる組成物を、上記のカルボン酸で表面
処理したビ―ズまたはボ―ルを用いるサンドミルやボ―
ルミルなどの分散混合機にて所定時間分散混合したの
ち、必要に応じてフイルタ―によつて粗粒物を分離除去
すればよい。
【0017】上記のケトン系溶剤としては、シクロヘキ
サノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、シクロペンタノン、シクロブタノン、アセトンなど
が挙げられる。また、この発明では、磁性塗料の有機溶
剤として、ケトン系溶剤と共に、トルエン、キシレン、
ベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤や、その他メタノ
―ル、エタノ―ル、イソプロピルアルコ―ル、ジメチル
スルホキシドなどを併用しても差し支えない。
【0018】磁性粉末としては、γ−Fe2 3 、Fe
3 4 、Co含有γ−Fe2 3 、Co含有Fe
3 4 、CrO2 、六方晶Baフエライトなどからなる
酸化物系磁性粉末、ならびにFe、Co、Ni、これら
の合金などからなる金属磁性粉末のいずれをも使用可能
である。
【0019】結合剤としては、塩化ビニル−酢酸ビニル
系共重合体、繊維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリ
ビニルブチラ―ル系樹脂、ポリエステル系樹脂、架橋剤
としてのポリイソシアネ―ト化合物、放射線硬化型樹脂
など、従来より磁気記録媒体の磁性層用として知られる
各種の樹脂分を、単独でまたは二種以上を混合して使用
することができる。
【0020】また、必要に応じて加えられる添加剤に
は、研摩剤、分散剤、帯電防止剤、充てん剤、着色剤な
どがある。
【0021】磁気記録媒体を製造するには、常法に準
じ、前記の分散混合によつて調製した磁性塗料を、ポリ
エステルフイルムなどの非磁性支持体上に、塗布、乾燥
して磁性層を形成し、要すればカレンダ―加工などの表
面平滑化処理を施した上で、所要の大きさ、形状に裁断
すればよい。
【0022】
【発明の効果】この発明の製造法によれば、磁性層の形
成にケトン系溶剤を含む磁性塗料を用いる場合におい
て、この塗料用組成物を特定の表面処理が施された分散
用ビ―ズまたはボ―ルにて分散混合して磁性塗料を調製
することから、磁性層の機械的特性を低下させる要因と
なる上記ケトン系溶剤の変性物の生成が大きく抑制さ
れ、磁性層中の上記変性物の残留量が非常に少なくな
り、もつて耐久性能および電磁変換特性ともにすぐれた
磁気記録媒体を得ることができる。
【0023】
【実施例】つぎに、この発明の実施例につき、比較例と
対比して、具体的に説明する。なお、以下において部お
よび%とあるのは、それぞれ重量部および重量%を意味
するものとする。
【0024】実施例1 直径2mmのジルコニアビ―ズを、5%濃度のステアリン
酸を溶解したトルエン溶液中に、24時間浸漬して表面
処理を行つたのち、これをベツセル容積2リツトルのサ
ンドミル中に充てん率60容量%となるように充てんし
た。つぎに、このサンドミル中に、あらかじめデイスパ
―などにより混合した下記の組成物を導入し、デイスク
の回転数1500rpm 、流速100cc/分にて1時間混
合分散して、磁性塗料を調製した。
【0025】 <磁性塗料用組成物> Co含有γ−Fe2 3 粉末(平均長軸径0.18μm、平均軸比10、保 磁力760Oe、飽和磁化76.5emu/g) 80部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ―ル共重合体(米国UCC社製の商 品名VAGH) 12部 ステアリン酸 4部 シクロヘキサノン 40部 トルエン 40部
【0026】つぎに、上記の磁性塗料を、厚さが14μ
mのポリエチレンテレフタレ―トフイルム上に、乾燥後
の厚さが約4μmとなるように塗布したのち、1000
ガウスの磁界を印加して配向させるとともに、50〜1
30℃にて0.1時間乾燥して磁性層を形成し、カレン
ダ―加工を行つた上で、1.27cm幅に裁断して、磁気
テ―プを作製した。
【0027】実施例2〜4 分散用ビ―ズを、後記の表1に記載のビ―ズ(いずれも
直径2mm)に代えた以外は、実施例1と同様にして、磁
気テ―プを作製した。
【0028】比較例1〜4 分散用ビ―ズとして、ステアリン酸による表面処理を施
さない後記の表1に記載のビ―ズ(いずれも直径2mm)
を用いた以外は、実施例1と同様にして、磁気テ―プを
作製した。
【0029】以上の実施例および比較例で得られた各磁
気テ―プについて、RF出力、磁性層中の溶剤変性物残
存量、スチル耐久性を、それぞれ下記の要領で測定した
ところ、後記の表1に示す結果が得られた。
【0030】<RF出力>磁気テ―プに6.5MHz の信
号を一定レベルで記録したのち、再生したときの出力を
測定した。
【0031】<溶剤変性物残存量>一定長さの磁気テ―
プを、n−ヘキサン中に室温(25℃)で24時間浸漬
し、抽出された溶剤変性物の量を、ガスクロマトグラフ
イ―にて定量分析した。
【0032】<スチル耐久性>市販VTRを使用し、室
温(25℃)において静止画像再生を行つたときの出力
が3dB低下するまでの時間(分)を測定した。
【0033】
【表1】
【0034】上記表1の結果から、磁性塗料調製時の分
散用ビ―ズとして、ステアリン酸による表面処理を施し
たものを用いたこの発明の製造法(実施例1〜4)にて
得られた磁気テ―プは、同ビ―ズとして未処理のものを
使用して得られた磁気テ―プ(比較例1〜4)に比べ、
磁性層中に残留する溶剤変性物の量が格段に少なく、卓
越した耐久性能を発揮し、かつ同等のすぐれた電磁変換
特性を示すことが明らかである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ケトン系溶剤を含む磁性塗料用組成物
    を、カルボン酸による表面処理が施された分散用ビ―ズ
    またはボ―ルを用いて分散混合し、得られた磁性塗料を
    非磁性支持体上に塗布、乾燥して磁性層を形成すること
    を特徴とする磁気記録媒体の製造法。
JP22470991A 1991-08-09 1991-08-09 磁気記録媒体の製造法 Withdrawn JPH0546983A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6380070B1 (en) 1998-02-03 2002-04-30 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device having a dual damascene interconnect structure and method for manufacturing same
US7341945B2 (en) 2002-02-26 2008-03-11 Nec Electronics Corporation Method of fabricating semiconductor device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6380070B1 (en) 1998-02-03 2002-04-30 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device having a dual damascene interconnect structure and method for manufacturing same
US6680537B1 (en) 1998-02-03 2004-01-20 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device having a dual damascene interconnect structure and method for manufacturing same
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Effective date: 19981112