JPS60250639A - ハイブリツドic - Google Patents
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- JPS60250639A JPS60250639A JP10708684A JP10708684A JPS60250639A JP S60250639 A JPS60250639 A JP S60250639A JP 10708684 A JP10708684 A JP 10708684A JP 10708684 A JP10708684 A JP 10708684A JP S60250639 A JPS60250639 A JP S60250639A
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- pellet
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
この発明は1つの基板上に複数の半導体ベレットをマウ
ントし配線し、たハイブリッドICに利用される。
ントし配線し、たハイブリッドICに利用される。
口、従来の技術
最近電子部品は小形化が著しく、ハイブリッドICも例
外ではなく、大規模な回路や複雑な回路の集積度を上げ
て小形化することが要求されている。
外ではなく、大規模な回路や複雑な回路の集積度を上げ
て小形化することが要求されている。
しかしながら、大規模な回路を1個のICペレットに収
納するには、現状では限界がある。
納するには、現状では限界がある。
そこで、ハイブリッド[’Cは1枚の基板上に複数のI
Cペレットを可能な限り高密度にマウントした設計が一
般化している0例えば従来の高密度ハイブリッドICの
一例を第1図を参照しながら説明すると、(1)は1枚
の基板で、例えばセラミックやエポキシ樹脂等の絶縁基
板の上面に配線パターン(図示せず)を形成した配線基
板である。(2)、(2)、−・−は基板(1)の周辺
から外方に延びる複数のリード、(3)、(3)、−は
基板(1)上にマウントした大小様々な複数のICペレ
ット、(4)、(4)、−・−はICCベレットやIC
ペレット(3)、(3)、・−・と基板(1)上の配線
パターンの間、配線パターンとリード(2)、(2)、
・−の間、或いはICペレット(3)、(3)、−とり
一ド(2)、(2)、−・・の間を電気的接続する複数
のボンディングワイヤである。
Cペレットを可能な限り高密度にマウントした設計が一
般化している0例えば従来の高密度ハイブリッドICの
一例を第1図を参照しながら説明すると、(1)は1枚
の基板で、例えばセラミックやエポキシ樹脂等の絶縁基
板の上面に配線パターン(図示せず)を形成した配線基
板である。(2)、(2)、−・−は基板(1)の周辺
から外方に延びる複数のリード、(3)、(3)、−は
基板(1)上にマウントした大小様々な複数のICペレ
ット、(4)、(4)、−・−はICCベレットやIC
ペレット(3)、(3)、・−・と基板(1)上の配線
パターンの間、配線パターンとリード(2)、(2)、
・−の間、或いはICペレット(3)、(3)、−とり
一ド(2)、(2)、−・・の間を電気的接続する複数
のボンディングワイヤである。
上記ICペレット(3)、(3)、−は、信号用、電力
用、スイッチング用などの機能のものが選択されて可能
な限り高密度に配置され、これらを電気的配線してから
基板(1)の周辺まで含めて樹脂モールド成形成いは、
樹脂の粉。体竺装等を行−で1つの多機能ハイブリッド
ICが得られる。
用、スイッチング用などの機能のものが選択されて可能
な限り高密度に配置され、これらを電気的配線してから
基板(1)の周辺まで含めて樹脂モールド成形成いは、
樹脂の粉。体竺装等を行−で1つの多機能ハイブリッド
ICが得られる。
ハ6発明が解決しようとする問題点
ところで、従来のハイブリッドICは上述の如く1枚の
基板−(1)上に複数のI C,jレット(3)、(3
)、−・を二次元の配置でマウントしているため、基板
(1)上でのペレット専有面積は、各ICペレット(2
)、(2)、・−2の個々の専有面積の合計に等しく、
基板(1)上での■9ペビット(2)、(2)ニーの高
密度配置化はICペレット(2)、(2)、−の個々の
面積と配置数に左右され、ペレット高密度配置化には自
ずと限界があり、これがハイブリッドICのより小形化
の実現を難しくしていた。またICペレット(2)、(
2)、−・・の基板(1)上での実質上の専有面積は、
ICペレット(2)、(2)、−から延びるボンディン
グワイヤ(4)、(4)、・−・の基板(1)上に占め
る面積を含めた大きさが必要であり、従って尚更にペレ
ット高密度配置化が難しく、改善策が要望されていた。
基板−(1)上に複数のI C,jレット(3)、(3
)、−・を二次元の配置でマウントしているため、基板
(1)上でのペレット専有面積は、各ICペレット(2
)、(2)、・−2の個々の専有面積の合計に等しく、
基板(1)上での■9ペビット(2)、(2)ニーの高
密度配置化はICペレット(2)、(2)、−の個々の
面積と配置数に左右され、ペレット高密度配置化には自
ずと限界があり、これがハイブリッドICのより小形化
の実現を難しくしていた。またICペレット(2)、(
2)、−・・の基板(1)上での実質上の専有面積は、
ICペレット(2)、(2)、−から延びるボンディン
グワイヤ(4)、(4)、・−・の基板(1)上に占め
る面積を含めた大きさが必要であり、従って尚更にペレ
ット高密度配置化が難しく、改善策が要望されていた。
二1問題点を解決するための手段
本考案の技術的課題は大小様々な複数の半導体ペレット
を1つの基板上により高密度配置して高集積度化したハ
イブリッドICを提供することにある。
を1つの基板上により高密度配置して高集積度化したハ
イブリッドICを提供することにある。
この技術的課題を解決する本考案の技術的手段は、1つ
の基板上に複数の半導体ペレットを多段に積んで三次元
的にマウントすることである。詳しくは1つの基板上に
、1つ又は複数の比較的小形の半導体ペレットを上面に
マウントした比較的大形の半導体ペレットを、1つ又は
複数をマウントすることである。
の基板上に複数の半導体ペレットを多段に積んで三次元
的にマウントすることである。詳しくは1つの基板上に
、1つ又は複数の比較的小形の半導体ペレットを上面に
マウントした比較的大形の半導体ペレットを、1つ又は
複数をマウントすることである。
ホ6作用
上記技術的手段によると、1つの基板上におけるペレッ
ト専有面積は少なくとも上述の比較的大形の半導体ペレ
ット上にマウントされる比較的小形の半導体ペレットの
面積分だけ小さくとができ、ハイブリッドICのより小
i化を可細にする。これを゛換言□すると1つの基板上
により多数の半一体ペレットのマウント番可能にし、゛
より多機能のハイブリッドICを得ることが□容易にな
る。 ゛“ へ、゛□実施−−” 本考案の一実施例を第2図に基づき説明する、この第2
図の実施□例は第1図のハイブリッド−□ICと比較対
照した′返の□で、(5〜は絶縁−′板上に配線パター
ン(図示せ豐)を形tcした1枚の基板、(6)、(6
)、・−は基板(5)の周辺から外方に延びる複i′品
リード、(7)、(7)、−・−は基板(5)王にマろ
ントした覆蔽のICペレット、(8)、(8> 、−’
−ニーは各ICペレット(7)、(7)、−と基板(5
)上あ配線パターン、配線パターンとり−゛ド(6)、
(6)、・−などの電気的配線を行うmMボンディング
ワイ皐である。この実施例の特−は大小様々なICペレ
ット(7)、(7)、・−・の内、比較的大形のものと
比較的小形のものを分け、大形のものが例えば4つでこ
れを下部ICペレット(7a)〜(7d)と称し、小形
のものが−えば7つでこれを上部ICペレ、・ト(!・
)〜。
ト専有面積は少なくとも上述の比較的大形の半導体ペレ
ット上にマウントされる比較的小形の半導体ペレットの
面積分だけ小さくとができ、ハイブリッドICのより小
i化を可細にする。これを゛換言□すると1つの基板上
により多数の半一体ペレットのマウント番可能にし、゛
より多機能のハイブリッドICを得ることが□容易にな
る。 ゛“ へ、゛□実施−−” 本考案の一実施例を第2図に基づき説明する、この第2
図の実施□例は第1図のハイブリッド−□ICと比較対
照した′返の□で、(5〜は絶縁−′板上に配線パター
ン(図示せ豐)を形tcした1枚の基板、(6)、(6
)、・−は基板(5)の周辺から外方に延びる複i′品
リード、(7)、(7)、−・−は基板(5)王にマろ
ントした覆蔽のICペレット、(8)、(8> 、−’
−ニーは各ICペレット(7)、(7)、−と基板(5
)上あ配線パターン、配線パターンとり−゛ド(6)、
(6)、・−などの電気的配線を行うmMボンディング
ワイ皐である。この実施例の特−は大小様々なICペレ
ット(7)、(7)、・−・の内、比較的大形のものと
比較的小形のものを分け、大形のものが例えば4つでこ
れを下部ICペレット(7a)〜(7d)と称し、小形
のものが−えば7つでこれを上部ICペレ、・ト(!・
)〜。
(7k)と称すると、基板(5、)上に上面に上部IC
゛(、−・ト(7・、)〜(7k)の1″′″′又は複
数をマウントした下部、I−、、、C−レット(7a)
〜(7d)を二次元的にマウントして全体として各IC
ペレット(7)、(7)、−を三次元的にマウイトした
ことである。第2図で絆1つの下部IC(7e)8を、
他の各下部ICペレット(7b)、(7c)、(7d)
上に各々2つずつの上部ICペレット(7f)と(7g
)、(7h)と(71)、(7j)、と(7に、)をマ
ウントした例を示す。
゛(、−・ト(7・、)〜(7k)の1″′″′又は複
数をマウントした下部、I−、、、C−レット(7a)
〜(7d)を二次元的にマウントして全体として各IC
ペレット(7)、(7)、−を三次元的にマウイトした
ことである。第2図で絆1つの下部IC(7e)8を、
他の各下部ICペレット(7b)、(7c)、(7d)
上に各々2つずつの上部ICペレット(7f)と(7g
)、(7h)と(71)、(7j)、と(7に、)をマ
ウントした例を示す。
下部ICペレット(7a)〜(7d)上への上部ICペ
レット(7e)〜(7k)のマウン、トは、エポキシ樹
脂等の絶縁性ペーストを使って行うのが望ましく、基極
(5)上への下部ICCベンツ (7a)〜(7d)の
マウントは従来同様に銀ぺ−ストや半田などを使用して
行えばよい。またワイヤボンディングは全ICペレット
(7)、(7)、−のマウント完了後に行う。
レット(7e)〜(7k)のマウン、トは、エポキシ樹
脂等の絶縁性ペーストを使って行うのが望ましく、基極
(5)上への下部ICCベンツ (7a)〜(7d)の
マウントは従来同様に銀ぺ−ストや半田などを使用して
行えばよい。またワイヤボンディングは全ICペレット
(7)、(7)、−のマウント完了後に行う。
上記構成によると基板(5)上でのペレット専有面積は
、下部ICCペッツ (7a)〜(7d)の合計面積だ
けで決まり、また上部ICCペッツ (7e)〜(7k
)のボンディングワイヤ専有面積は下部ICペレット(
7a)〜(7d)の面積内に含ま゛れる。従って、基板
(5)上の実質上のベレット専有面積は少なくとも上部
ICCペッツ (7e)〜(7k)の実質上の専有面積
分だけ小さくなり、第1図の従来品との比較で約2近く
専有面積縮小化が図れ、約2倍のベレット高密度配置化
が可能となり、それだけ基板(5)の小形化、ハイブリ
ッドICの小形化が可能となる。逆に従来品と同一サイ
ズの基板を使用した場合は、より多(のICベレントマ
ウントを可能にする。
、下部ICCペッツ (7a)〜(7d)の合計面積だ
けで決まり、また上部ICCペッツ (7e)〜(7k
)のボンディングワイヤ専有面積は下部ICペレット(
7a)〜(7d)の面積内に含ま゛れる。従って、基板
(5)上の実質上のベレット専有面積は少なくとも上部
ICCペッツ (7e)〜(7k)の実質上の専有面積
分だけ小さくなり、第1図の従来品との比較で約2近く
専有面積縮小化が図れ、約2倍のベレット高密度配置化
が可能となり、それだけ基板(5)の小形化、ハイブリ
ッドICの小形化が可能となる。逆に従来品と同一サイ
ズの基板を使用した場合は、より多(のICベレントマ
ウントを可能にする。
次に上記ハイブリッドICの製造について説明する。
第3図に望ましい製造工程例を示し、これを説明する。
第3図は1つの下部ICペレット(7a)と1つの上部
ICペレット(7e)の関係を示すもので、先ず1つの
半導体ウェーハ(9)に複数の下部rcペレット(7a
)、(7a) 、−・−を一括形成しく第3図(イ))
、他方1つの半導体ウェーハ(10)に複数の上部IC
ペレット(7e)、(7e) 、−を一括形成する(第
3図(ロ))。次に半導体ウェーハ(10)を各ペレッ
ト毎に細分割して個々の上部ICペレット(7e)、(
7e) 、−を用意しく第3図(ハ))、この上部IC
ペレット(7e)、(7e) 、−−−−の1つずつを
半導体ウェーハ(9)における細分割されていない各下
部ICCベレット7a)、(7a) 、−・−上にマウ
ントする(第3図(ニ))、而して後半導体ウェーハ(
9)を、各下部ICペレット(7a)、(’7a) 、
−・・毎に細分割する(第3図(ホ))、そして上部I
Cペレント(7e)をマウントした下部ICペレット(
7a)を基板(5)上にマウントする(第3図(へ))
。
ICペレット(7e)の関係を示すもので、先ず1つの
半導体ウェーハ(9)に複数の下部rcペレット(7a
)、(7a) 、−・−を一括形成しく第3図(イ))
、他方1つの半導体ウェーハ(10)に複数の上部IC
ペレット(7e)、(7e) 、−を一括形成する(第
3図(ロ))。次に半導体ウェーハ(10)を各ペレッ
ト毎に細分割して個々の上部ICペレット(7e)、(
7e) 、−を用意しく第3図(ハ))、この上部IC
ペレット(7e)、(7e) 、−−−−の1つずつを
半導体ウェーハ(9)における細分割されていない各下
部ICCベレット7a)、(7a) 、−・−上にマウ
ントする(第3図(ニ))、而して後半導体ウェーハ(
9)を、各下部ICペレット(7a)、(’7a) 、
−・・毎に細分割する(第3図(ホ))、そして上部I
Cペレント(7e)をマウントした下部ICペレット(
7a)を基板(5)上にマウントする(第3図(へ))
。
他の下部ICペレット(7b)〜(7d) 、上部IC
ペレット(7f)〜(7k)も第3図と同様の要領で製
造し、基板(5)上にマウントする。
ペレット(7f)〜(7k)も第3図と同様の要領で製
造し、基板(5)上にマウントする。
上記製造側以外に次の一般的製造も考えられる。即ち、
下部ICペレット(7a) 〜(7d)、上部ICペレ
ント(7e)〜(7′k)の全てを個々に製造しておき
、先ず基板(5)上に4つの下部ICペレット(7a)
〜(7d)をマウントする、次に基板(5)上にマウン
トされた下部ICペレット(7a)〜(7d)上に対応
する上部ICペレット(7e)〜(7k)をマウントす
る。
下部ICペレット(7a) 〜(7d)、上部ICペレ
ント(7e)〜(7′k)の全てを個々に製造しておき
、先ず基板(5)上に4つの下部ICペレット(7a)
〜(7d)をマウントする、次に基板(5)上にマウン
トされた下部ICペレット(7a)〜(7d)上に対応
する上部ICペレット(7e)〜(7k)をマウントす
る。
しかし、この案は、第3図に示した案に比べ次の点を考
慮する必要がある。例えばこの案の場合、基板(5)上
での下部ICCペッツ (7a)〜(7d)のマウント
時に±50pma度の位置誤差は避けられない、従って
上部ICペレット(7e)〜(7k)のマウント時に下
部ICペレット(7a)〜(7d)の位置を位置計測セ
ンナ等で検出・認識しなければならず、下部ICペレッ
トマウント設備に高価で複雑なものを使用せざるを得す
、しかも作業インデックスが遅くなる、これに対し第3
図に示した案の場合、半導体ウェーハ(9)における下
部ICペレソ) (7a)、(7a) 、−−一−は±
1μm以下の位置決め精度で配列・配置されているので
、この半導体ウェーハ(9)を一度位置決めしておけば
半導体つ工−ハ(9)を単にステップ送りするだけで各
下部ICペレット(7d)、(7a) 、−上に上部I
Cペレント(7e)、(7e) 、−を正確にマウント
でき、位置計測センサ等の位置検出・認識手段が不要と
なって設備が簡華、インデックスも速くなる。
慮する必要がある。例えばこの案の場合、基板(5)上
での下部ICCペッツ (7a)〜(7d)のマウント
時に±50pma度の位置誤差は避けられない、従って
上部ICペレット(7e)〜(7k)のマウント時に下
部ICペレット(7a)〜(7d)の位置を位置計測セ
ンナ等で検出・認識しなければならず、下部ICペレッ
トマウント設備に高価で複雑なものを使用せざるを得す
、しかも作業インデックスが遅くなる、これに対し第3
図に示した案の場合、半導体ウェーハ(9)における下
部ICペレソ) (7a)、(7a) 、−−一−は±
1μm以下の位置決め精度で配列・配置されているので
、この半導体ウェーハ(9)を一度位置決めしておけば
半導体つ工−ハ(9)を単にステップ送りするだけで各
下部ICペレット(7d)、(7a) 、−上に上部I
Cペレント(7e)、(7e) 、−を正確にマウント
でき、位置計測センサ等の位置検出・認識手段が不要と
なって設備が簡華、インデックスも速くなる。
尚、本考案は上記実施例に限らず、基板上にマウントさ
れる半導体ペレットはICペレット以外のものであって
もよく、また全ての半導体ペレットを基板上に2段構造
でマウントするものに限らず、勿論多段構造とし2ても
よい。
れる半導体ペレットはICペレット以外のものであって
もよく、また全ての半導体ペレットを基板上に2段構造
でマウントするものに限らず、勿論多段構造とし2ても
よい。
ト9発明の効果
本発明によれば基板上にマウントする複数の半導体ペレ
ットの高密度配置化が容易に可能となり、ハイブリッド
ICの顕著な小形化が図れる。また同一サイズの基板上
により多数の半導体ペレットのマウントが可能で、従来
品と同一サイズでもより多機能のハイブリッドICが提
供できる。
ットの高密度配置化が容易に可能となり、ハイブリッド
ICの顕著な小形化が図れる。また同一サイズの基板上
により多数の半導体ペレットのマウントが可能で、従来
品と同一サイズでもより多機能のハイブリッドICが提
供できる。
第1図は従来のハイブリッドICの一例を示す要部斜視
図、第2図は本発明の一例を示す要部斜視図、第3図は
第2図のハイブリッドICの製造工程例を示す平面工程
図である。 (5) −基板、(7)、(7a)〜(7k)−・−半
導体ペレット。 特許出願人 関西日本電気株式会社 代理人 江 原 省 吾 〃 江 原 秀 1111図 112図 1り 11!8図(≦) ニジ all:l@I (番) 、 *a図 to> 1181 (IQ [)−7色 81811 C^) [−]′、
図、第2図は本発明の一例を示す要部斜視図、第3図は
第2図のハイブリッドICの製造工程例を示す平面工程
図である。 (5) −基板、(7)、(7a)〜(7k)−・−半
導体ペレット。 特許出願人 関西日本電気株式会社 代理人 江 原 省 吾 〃 江 原 秀 1111図 112図 1り 11!8図(≦) ニジ all:l@I (番) 、 *a図 to> 1181 (IQ [)−7色 81811 C^) [−]′、
Claims (1)
- (1) 基板上に上面に比較的小形の半導体ペレットを
マウントした比較的大形の半導体ベレットをマウントし
たことを特徴とするハイブリッドIC。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10708684A JPS60250639A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ハイブリツドic |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10708684A JPS60250639A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ハイブリツドic |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60250639A true JPS60250639A (ja) | 1985-12-11 |
Family
ID=14450115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10708684A Pending JPS60250639A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ハイブリツドic |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60250639A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5029322A (en) * | 1986-11-17 | 1991-07-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Power MOSFET with current-monitoring |
US6096576A (en) * | 1997-09-02 | 2000-08-01 | Silicon Light Machines | Method of producing an electrical interface to an integrated circuit device having high density I/O count |
US6785001B2 (en) | 2001-08-21 | 2004-08-31 | Silicon Light Machines, Inc. | Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal |
US6839479B2 (en) | 2002-05-29 | 2005-01-04 | Silicon Light Machines Corporation | Optical switch |
US7046420B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-05-16 | Silicon Light Machines Corporation | MEM micro-structures and methods of making the same |
-
1984
- 1984-05-25 JP JP10708684A patent/JPS60250639A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5029322A (en) * | 1986-11-17 | 1991-07-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Power MOSFET with current-monitoring |
US6096576A (en) * | 1997-09-02 | 2000-08-01 | Silicon Light Machines | Method of producing an electrical interface to an integrated circuit device having high density I/O count |
US6452260B1 (en) | 1997-09-02 | 2002-09-17 | Silicon Light Machines | Electrical interface to integrated circuit device having high density I/O count |
US6785001B2 (en) | 2001-08-21 | 2004-08-31 | Silicon Light Machines, Inc. | Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal |
US6839479B2 (en) | 2002-05-29 | 2005-01-04 | Silicon Light Machines Corporation | Optical switch |
US7046420B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-05-16 | Silicon Light Machines Corporation | MEM micro-structures and methods of making the same |
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