JPS60248704A - 新規な高分子化合物の製造方法 - Google Patents
新規な高分子化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPS60248704A JPS60248704A JP17900883A JP17900883A JPS60248704A JP S60248704 A JPS60248704 A JP S60248704A JP 17900883 A JP17900883 A JP 17900883A JP 17900883 A JP17900883 A JP 17900883A JP S60248704 A JPS60248704 A JP S60248704A
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- Japan
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- polymer compound
- vinyl ether
- high polymer
- compound
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アルケニルオキシ単位を有する新規な高分子
化合物の製造方法に関するものである。
化合物の製造方法に関するものである。
従来、官能基を有するフェニル基を構成単位として含む
高分子化合物は、活性なハロゲン原子を有するポリハロ
メチルスチレンに、ノ１０メチル基と反応する官能基を
反応させて得られ、また、ノボラック樹脂のような多価
フェノール基を有する高分子化合物に反応髄能基を反応
させることによっても得られる。近年になってポリビニ
ルフェノールが工業的規模で製造されるようになり、こ
の高分子化合物を用いて、官能基を有するフェニル基を
構成単位とする高分子化合物が製造されている。それら
の製造方法はポリビニルフェノールへのエーテル化によ
るもので、ポリビニルアリノ？、エーテル、ポリビニル
プロパギルエーテル、ポリとニルグリシジルエーテル化
合物の製造方法に代表される。そしてこれらの高分子化
合物の特殊な用途、例えば、感光性樹脂組成物を構成す
る高分子化合物等に利用するには、その反応性が充分で
はないなどの欠点を有している。
高分子化合物は、活性なハロゲン原子を有するポリハロ
メチルスチレンに、ノ１０メチル基と反応する官能基を
反応させて得られ、また、ノボラック樹脂のような多価
フェノール基を有する高分子化合物に反応髄能基を反応
させることによっても得られる。近年になってポリビニ
ルフェノールが工業的規模で製造されるようになり、こ
の高分子化合物を用いて、官能基を有するフェニル基を
構成単位とする高分子化合物が製造されている。それら
の製造方法はポリビニルフェノールへのエーテル化によ
るもので、ポリビニルアリノ？、エーテル、ポリビニル
プロパギルエーテル、ポリとニルグリシジルエーテル化
合物の製造方法に代表される。そしてこれらの高分子化
合物の特殊な用途、例えば、感光性樹脂組成物を構成す
る高分子化合物等に利用するには、その反応性が充分で
はないなどの欠点を有している。
本発明者らは、このような従来のポリビニルフェノール
系高分子化合物がもつ欠点を改良すべく鋭意研究を重ね
た結果、本発明を成すに至った。
系高分子化合物がもつ欠点を改良すべく鋭意研究を重ね
た結果、本発明を成すに至った。
すなわち、本発明は、基幹分子鎖中に少なくとも１個の
一般式 ％式％ （１ （式中のＲ１はフェニレン基を示す） で表わされる構成単位を含む高分子化合物に一般式 ％式％（） （式中のＸはハロゲン原子、Ｒ２は２価の有機ＭＩＩ！
ｌを示す） で表わされるハロアルキルビニルエーテルを反応させて
得られる、一般式 ％式％ （式中のＲ１，Ｒ２は前記と同じ意味を示す）で表わさ
れる単位を少なくとも１個有する新規な高分子化合物の
製造方法を提供するものである。
一般式 ％式％ （１ （式中のＲ１はフェニレン基を示す） で表わされる構成単位を含む高分子化合物に一般式 ％式％（） （式中のＸはハロゲン原子、Ｒ２は２価の有機ＭＩＩ！
ｌを示す） で表わされるハロアルキルビニルエーテルを反応させて
得られる、一般式 ％式％ （式中のＲ１，Ｒ２は前記と同じ意味を示す）で表わさ
れる単位を少なくとも１個有する新規な高分子化合物の
製造方法を提供するものである。
本発明において基幹成分として用いられる少な（とも１
個の前記一般式（Ｉ）の単位をもつ高分子化合物は、フ
ェノール性の水酸基を有するものであるかぎりいかなる
ものでもよい。その例としては２．３あるいは４−ヒド
ロキシスチレン、４−ヒドロキシ−３−ニトロスチレン
の単独重合体やこの単重体とアクリロニトリル、スチレ
ン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アクリル酸アル
キルエステル、メタクリル酸アルキルエステル、無水マ
レイン酸のような線状重合性単重体との共重合体をあげ
ることが出来る。これら水酸基を有する高分子化合物の
分子量は２０００〜２０００００程度のものが望ましい
。
個の前記一般式（Ｉ）の単位をもつ高分子化合物は、フ
ェノール性の水酸基を有するものであるかぎりいかなる
ものでもよい。その例としては２．３あるいは４−ヒド
ロキシスチレン、４−ヒドロキシ−３−ニトロスチレン
の単独重合体やこの単重体とアクリロニトリル、スチレ
ン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アクリル酸アル
キルエステル、メタクリル酸アルキルエステル、無水マ
レイン酸のような線状重合性単重体との共重合体をあげ
ることが出来る。これら水酸基を有する高分子化合物の
分子量は２０００〜２０００００程度のものが望ましい
。
また、一般式（Ｉ［＋で表わされるハロアルキルアルケ
ニルエーテルとしては、２−クロロエチルビニルエーテ
ル、１−クロロエチルビニルエーテル、４−クロロメチ
ルフェニルビニルエーテルナトヲあげることが出来る。
ニルエーテルとしては、２−クロロエチルビニルエーテ
ル、１−クロロエチルビニルエーテル、４−クロロメチ
ルフェニルビニルエーテルナトヲあげることが出来る。
この一般式（ｎ）で表わされる化合物は、原料高分子化
合物の水酸基当量に基づく化学的計算量で用いるのが望
ましいがそれよりも多くてもよい。通常は、生成するア
ルケニルオキシアルキルオキシ基を含む構成単位（イ）
が１００：０ないし５：９５の範囲になるような割合で
用いられる。
合物の水酸基当量に基づく化学的計算量で用いるのが望
ましいがそれよりも多くてもよい。通常は、生成するア
ルケニルオキシアルキルオキシ基を含む構成単位（イ）
が１００：０ないし５：９５の範囲になるような割合で
用いられる。
一般式（ｎ）の化合物と一般式（１）高分子化合物との
反応は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエ
ーテルのような溶媒中で、要すればアルカリ金属化合物
の存在下、有効量の四級アンモニウム塩化合物を共存さ
せて、両者を接触させることにより行うことが出来る。
反応は、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエ
ーテルのような溶媒中で、要すればアルカリ金属化合物
の存在下、有効量の四級アンモニウム塩化合物を共存さ
せて、両者を接触させることにより行うことが出来る。
アルカリ金属の代表例としでは、無水炭酸ソーダ、水素
化す）ＩＪウム、炭酸カリウム、金属ナトリウムなどを
挙げることが出来る。また四級アンモニウム塩化合物ト
シてハ、トリエチルベンジルアンそニウムクロライド、
テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラブチルア
ンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウ
ムブロマイド、トリブチルベンジルアンモニウムブロマ
イドなどを挙ケることが出来る。反応温度には制限はな
いが室温から１００″Ｃの範囲が望ましい。
化す）ＩＪウム、炭酸カリウム、金属ナトリウムなどを
挙げることが出来る。また四級アンモニウム塩化合物ト
シてハ、トリエチルベンジルアンそニウムクロライド、
テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラブチルア
ンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウ
ムブロマイド、トリブチルベンジルアンモニウムブロマ
イドなどを挙ケることが出来る。反応温度には制限はな
いが室温から１００″Ｃの範囲が望ましい。
このような本発明の新規な高分子化合物の製造方法によ
って得られる新規な高分子化合物は、白色粉末で赤外線
吸収スペクトルにおいてオレフィンに基づ＜ １６０２
ＣＩＦＬ−’と９７５ｃｍ−’、およびエーテル結合に
基づ＜ １２４０ 儂−”の特性吸収を示す。このもの
は、アセトン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド、エチレングリコールモノエーテル、ジエチルエ
ーテル、ジオキサンなどの有機溶媒にも可溶である。し
かしながらｎ−へキサンには不溶である。
って得られる新規な高分子化合物は、白色粉末で赤外線
吸収スペクトルにおいてオレフィンに基づ＜ １６０２
ＣＩＦＬ−’と９７５ｃｍ−’、およびエーテル結合に
基づ＜ １２４０ 儂−”の特性吸収を示す。このもの
は、アセトン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド、エチレングリコールモノエーテル、ジエチルエ
ーテル、ジオキサンなどの有機溶媒にも可溶である。し
かしながらｎ−へキサンには不溶である。
本発明の新規な高分子化合物の製造方法によって得られ
る新規な高分子化合物はその側鎖に、ルイス酸、プロト
ン酸、陽イオンに対して高い反応性を有するアルケニル
オキシ基をもつ。
る新規な高分子化合物はその側鎖に、ルイス酸、プロト
ン酸、陽イオンに対して高い反応性を有するアルケニル
オキシ基をもつ。
このような新規な高分子化合物を適当な有機溶剤に溶解
させ、前記のような活性物質を加えて、支持体に塗布し
、乾燥すると硬化する。また、光照射することにより新
規な高分子化合物に活性となる物質の発生剤を高分子化
合物溶液に添加し、この溶液をアルミニウム板、銅−板
、亜鉛板などの支持体表面上に、流延、吹付け、塗布な
どの手段で施し、乾燥して製膜することが出来る。この
ようにして得られた塗膜にネガを通して光照射を行い、
未露光部を溶剤で除去すると陰画像が出来る。
させ、前記のような活性物質を加えて、支持体に塗布し
、乾燥すると硬化する。また、光照射することにより新
規な高分子化合物に活性となる物質の発生剤を高分子化
合物溶液に添加し、この溶液をアルミニウム板、銅−板
、亜鉛板などの支持体表面上に、流延、吹付け、塗布な
どの手段で施し、乾燥して製膜することが出来る。この
ようにして得られた塗膜にネガを通して光照射を行い、
未露光部を溶剤で除去すると陰画像が出来る。
この光反応はアルケニルオキシ基の重合反応によるもの
で、短い時間で反応が終了し、従来の二重化型感光性樹
脂の性能をしのぐものであり、しかも酸素の影響を全（
受けないという利点もある。
で、短い時間で反応が終了し、従来の二重化型感光性樹
脂の性能をしのぐものであり、しかも酸素の影響を全（
受けないという利点もある。
以上に述べたように、本発明の新規な高分子化合物は感
光性樹脂、硬化性塗料へ利用し得るだけでなく、プリン
ト回路等のケミカルミリング用樹脂、光硬化性印刷イン
キなどにも利用出来る。
光性樹脂、硬化性塗料へ利用し得るだけでなく、プリン
ト回路等のケミカルミリング用樹脂、光硬化性印刷イン
キなどにも利用出来る。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１
窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した５０％水素
化ナトリウム４．８ｇ（０，１モル）、乾燥Ｎ。
化ナトリウム４．８ｇ（０，１モル）、乾燥Ｎ。
Ｎ−ジメチルアセトアミド２５”ｍｌを仕込み、 この
溶液に数平均分子量２１０００のポリ−４−ビニルフェ
ノール１２ｇを乾燥したＮ、Ｎ−ジメチルアミド７０−
に溶かした溶液を撹拌しながら加え、約２時間撹拌を続
けた。次いで、これに２−クロロエチルビニルエーテル
３０ｇ、無水炭酸ナトリウム１．５ｇ、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロライト０．０５ｇを加え、８０℃
にて６時間反応させたのち、反応混合物を８０°Ｃで減
圧蒸留により大部分のＮ。
溶液に数平均分子量２１０００のポリ−４−ビニルフェ
ノール１２ｇを乾燥したＮ、Ｎ−ジメチルアミド７０−
に溶かした溶液を撹拌しながら加え、約２時間撹拌を続
けた。次いで、これに２−クロロエチルビニルエーテル
３０ｇ、無水炭酸ナトリウム１．５ｇ、トリエチルベン
ジルアンモニウムクロライト０．０５ｇを加え、８０℃
にて６時間反応させたのち、反応混合物を８０°Ｃで減
圧蒸留により大部分のＮ。
Ｎ−ジメチルアセトアミド、未反応２−クロロエチルビ
ニルエーテルも除去し、残留物をジエチルエーテルを加
え、溶解した。この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液
で３回洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち、ろ別
した溶液を減圧蒸留により残留物が固形化するまで液状
成分を除去する。
ニルエーテルも除去し、残留物をジエチルエーテルを加
え、溶解した。この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液
で３回洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥したのち、ろ別
した溶液を減圧蒸留により残留物が固形化するまで液状
成分を除去する。
再び残留物を少量の塩化メチレンを含むジエチルエーテ
ルに溶かし、この溶液を激しく撹拌した多量のヘキサン
中に注加し、生成した沈澱物をろ別し、減圧乾燥した。
ルに溶かし、この溶液を激しく撹拌した多量のヘキサン
中に注加し、生成した沈澱物をろ別し、減圧乾燥した。
得られた生成物は１３．６ｇ でその赤外吸収スペクト
ルから、１６０２ｃＩｎ−’と９１：５ｃｒｎ−１にビ
ニル基による吸収、また１２４０ｃｒｎ−’ に工で一
チル結合に基づく吸収が認められビニルフェノールの水
酸基がビニルオキシエチルエーテル化されていた。元素
分析よりめた転化率は７１９６であった。
ルから、１６０２ｃＩｎ−’と９１：５ｃｒｎ−１にビ
ニル基による吸収、また１２４０ｃｒｎ−’ に工で一
チル結合に基づく吸収が認められビニルフェノールの水
酸基がビニルオキシエチルエーテル化されていた。元素
分析よりめた転化率は７１９６であった。
実施例２
窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した５０％水素
化ナトリウム４．８ｇ（０，１モル）、乾燥Ｎ。
化ナトリウム４．８ｇ（０，１モル）、乾燥Ｎ。
Ｎ−ジメチルアセトアミド２０１１１を仕込み、この溶
液に数平均分子量３８０００のポリ−４−ビニルフェノ
ール１２ｇを乾燥したＮ、 Ｎ−ジメチルアセトアミド
７ＱｍＪに溶かした溶液を撹拌しながら加え、約２時間
撹拌を続けた。次いで、これに２−クロロエチルビニル
エーテル３０ｇ、無水炭酸ナトリウム１．５ｇ、トリエ
チルベンジルアンモニウムクロライド０．０５ｇを加え
、８０℃にて１０時間反応させた。
液に数平均分子量３８０００のポリ−４−ビニルフェノ
ール１２ｇを乾燥したＮ、 Ｎ−ジメチルアセトアミド
７ＱｍＪに溶かした溶液を撹拌しながら加え、約２時間
撹拌を続けた。次いで、これに２−クロロエチルビニル
エーテル３０ｇ、無水炭酸ナトリウム１．５ｇ、トリエ
チルベンジルアンモニウムクロライド０．０５ｇを加え
、８０℃にて１０時間反応させた。
反応生成物は実施例１と同様に分離精製した。
生成物１５．８ｇが得られ、その赤外吸収スペクト・Ｉ
から、１６０２ｃｍ−”と９７５ ｃＩｒＬ−”にビニ
ル基による１銀看はとんど消滅しており、元素分析より
めた転化率は９３９６であった。
から、１６０２ｃｍ−”と９７５ ｃＩｒＬ−”にビニ
ル基による１銀看はとんど消滅しており、元素分析より
めた転化率は９３９６であった。
実施例３
窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した５０％水素
化ナトリウム４．８ｇ（０，１モル）、乾・燥凡Ｎ−ジ
メチルアセトアミド２０１１１７を仕込み、この溶液に
数平均分子量３８０００のポリ−４−ビニルフェノール
１２ｇを乾燥したＮ、 Ｎ−ジメチルアセトアミド７０
ｍに溶かした溶液を撹拌しながら加え、約２時間撹拌を
続けた。次いで、これに２−クロロエチルビニルエーテ
ル３０ｇ、無水炭酸ナトリウ４１．５ｇ、）９エチルベ
ンジルアンモニウムクロライド０．０５ｇを加え、８０
℃にて２４時間反応させた。反応生成物は実施例１と同
様に分離精製した、生成物１６．２ｇが得られ、その赤
外吸収スペクトルから、１６０２ｃＩｒＬ−”と９７５
ｃＩｎ−”にビニル基による一吸大きさは実施例２の生
成物のものと変らなかつ豐１元素分析よりめた転化率は
９９９６であった。
化ナトリウム４．８ｇ（０，１モル）、乾・燥凡Ｎ−ジ
メチルアセトアミド２０１１１７を仕込み、この溶液に
数平均分子量３８０００のポリ−４−ビニルフェノール
１２ｇを乾燥したＮ、 Ｎ−ジメチルアセトアミド７０
ｍに溶かした溶液を撹拌しながら加え、約２時間撹拌を
続けた。次いで、これに２−クロロエチルビニルエーテ
ル３０ｇ、無水炭酸ナトリウ４１．５ｇ、）９エチルベ
ンジルアンモニウムクロライド０．０５ｇを加え、８０
℃にて２４時間反応させた。反応生成物は実施例１と同
様に分離精製した、生成物１６．２ｇが得られ、その赤
外吸収スペクトルから、１６０２ｃＩｒＬ−”と９７５
ｃＩｎ−”にビニル基による一吸大きさは実施例２の生
成物のものと変らなかつ豐１元素分析よりめた転化率は
９９９６であった。
実施例４
窒素導入した反応容器に水素化ナトリウム４．８ｇ（０
，１モル）、乾燥したジオキサン２０ａ／を仕込み、こ
の溶液に数平均分子量８３００のポリ−４−ビニルフェ
ノール１２ｇを乾燥したジオキサン６〇−に溶かした溶
液を撹拌しながら加え、約２時間撹拌を続けた。次いで
、これに２−クロロエチルビニルエーテル３０ｇ、無水
炭酸ナトリウム１．５ｇ。
，１モル）、乾燥したジオキサン２０ａ／を仕込み、こ
の溶液に数平均分子量８３００のポリ−４−ビニルフェ
ノール１２ｇを乾燥したジオキサン６〇−に溶かした溶
液を撹拌しながら加え、約２時間撹拌を続けた。次いで
、これに２−クロロエチルビニルエーテル３０ｇ、無水
炭酸ナトリウム１．５ｇ。
テトラブチルアンモニウムクロライド０．０５ｇを加え
、還流下にて１０時間反応させた。反応生成物は実施例
１と同様に分離精製した。生成物はげ３さは実施例２の
生成物と変わらなかった。元１析よりめた転化率は９８
９６であった。
、還流下にて１０時間反応させた。反応生成物は実施例
１と同様に分離精製した。生成物はげ３さは実施例２の
生成物と変わらなかった。元１析よりめた転化率は９８
９６であった。
実施例５
窒素導入した反応容器にメチルカルピトール７０−を仕
込み、ポリ−４−ビニルフェノール１２ｇを“加え溶解
させる。次いで、８５％水酸化カリヴ′轟６．６ｇを加
え完全に溶解したのを確認し、１時間撹拌した。この溶
液に２−クロロエチルビニルエーテル３０ｇ１炭酸カリ
ウム１．５ｇを加え、８０℃で２４時間反応させたのち
実施例１と同様に分耕。
込み、ポリ−４−ビニルフェノール１２ｇを“加え溶解
させる。次いで、８５％水酸化カリヴ′轟６．６ｇを加
え完全に溶解したのを確認し、１時間撹拌した。この溶
液に２−クロロエチルビニルエーテル３０ｇ１炭酸カリ
ウム１．５ｇを加え、８０℃で２４時間反応させたのち
実施例１と同様に分耕。
起因する吸収の大きさは、実施例２の生成物のものとほ
とんど変わらなかった。
とんど変わらなかった。
実施例６
窒素導入した反応容器に乾燥したメチルカルピトールア
０ｍを仕込み、ポリ−４−ビニルフェノール１２ｇを加
え溶解した。次いで、金属ナトリウム２．３ｇを加え反
応したのを確認し、２時間撹拌した。この溶液に２−ク
ロロエチルビニルエーテル３０ｇ、炭酸ナトリウム１．
５ｇを加え、８０℃で２４時間反応させ、しかる後、実
施例１と同様に分離精製した。得られた生成物は１５．
１ｇであった。１人の生成物のものとほとんど変わらな
かった。
０ｍを仕込み、ポリ−４−ビニルフェノール１２ｇを加
え溶解した。次いで、金属ナトリウム２．３ｇを加え反
応したのを確認し、２時間撹拌した。この溶液に２−ク
ロロエチルビニルエーテル３０ｇ、炭酸ナトリウム１．
５ｇを加え、８０℃で２４時間反応させ、しかる後、実
施例１と同様に分離精製した。得られた生成物は１５．
１ｇであった。１人の生成物のものとほとんど変わらな
かった。
実施例７
窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した５０％水素
化ナトリウム４．８ｇ（０，１モル）、乾燥１ｔＮ−ジ
メチルアセトアミド２Ｑｍ／を仕込み、この分散溶液に
ポリ−４−ビニルフェノール１４ｇを乾燥Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアミド２０１ｍに溶かした溶液を加え、約２
時間撹拌を続けた。次いでこの溶液に２−９０口エチル
ビニルエーテル３０ｇ、無水炭酸ナトリウム１．５ｇを
加え、８０°Ｃで２４時間反応させた。反応生成物を実
施例１と同様に分離精製した。１５．４ｇの生成物が得
られ、その赤外吸収スペクトルから、１６０２ｃＩｒＬ
−”と９７５ｃＩＩＬ−’にビニル。
化ナトリウム４．８ｇ（０，１モル）、乾燥１ｔＮ−ジ
メチルアセトアミド２Ｑｍ／を仕込み、この分散溶液に
ポリ−４−ビニルフェノール１４ｇを乾燥Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアミド２０１ｍに溶かした溶液を加え、約２
時間撹拌を続けた。次いでこの溶液に２−９０口エチル
ビニルエーテル３０ｇ、無水炭酸ナトリウム１．５ｇを
加え、８０°Ｃで２４時間反応させた。反応生成物を実
施例１と同様に分離精製した。１５．４ｇの生成物が得
られ、その赤外吸収スペクトルから、１６０２ｃＩｒＬ
−”と９７５ｃＩＩＬ−’にビニル。
第１図は本発明の新規な高分子化合物の製造方法の実施
例２で得られた高分子化合物の赤外線吸収スペクトルを
示すグラフである。 特許出願人 工業技術院長 川 １）裕 部官庁手続 手続補正書（方式） ％式％ Ｌ 事件の表示 昭和５８年特許願第１フ９００８号 ２ 発明の名称 新規な高分子化合物の製造方法 ） ａ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区霞が関１丁目３番１号 （１１４）工業技術院長 等々力 達 昭和６０年２ 月 ６ 日 已 補正の内容 ａ） 明細書第１４頁第１０行目「４図面の簡単・・・
」以下を削除します。
例２で得られた高分子化合物の赤外線吸収スペクトルを
示すグラフである。 特許出願人 工業技術院長 川 １）裕 部官庁手続 手続補正書（方式） ％式％ Ｌ 事件の表示 昭和５８年特許願第１フ９００８号 ２ 発明の名称 新規な高分子化合物の製造方法 ） ａ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区霞が関１丁目３番１号 （１１４）工業技術院長 等々力 達 昭和６０年２ 月 ６ 日 已 補正の内容 ａ） 明細書第１４頁第１０行目「４図面の簡単・・・
」以下を削除します。
Claims (2)
- （１）基幹分子鎖中に、少な（とも１個の一般式％式％ （式中のＲ１はフェニレン基を示す） で表わされる構成単位を含む高分子化合物に、一般式 ％式％（） （式中のＸはハロゲン原子、Ｒｘは２価の有−基を示す
） で表わされるハロアルキルビニルエーテルを反応させて
得られる、一般式 ％式％（ - （２） （式中のＲ１、Ｒ２は前記と同じ意味を示す）で表わさ
れる単位を少なくとも１個有する新規な高分子化合物の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17900883A JPS60248704A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 新規な高分子化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17900883A JPS60248704A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 新規な高分子化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60248704A true JPS60248704A (ja) | 1985-12-09 |
| JPS6354288B2 JPS6354288B2 (ja) | 1988-10-27 |
Family
ID=16058497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17900883A Granted JPS60248704A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 新規な高分子化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60248704A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04170486A (ja) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Dainippon Ink & Chem Inc | 硬化性樹脂組成物 |
| WO1999000435A1 (fr) * | 1997-06-30 | 1999-01-07 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Resine polymerisable, resines durcies, isolants, composants d'appareils electriques et appareils electriques fabriques au moyen de ces derniers |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02141905U (ja) * | 1989-05-02 | 1990-11-30 | ||
| JPH02141904U (ja) * | 1989-05-02 | 1990-11-30 |
-
1983
- 1983-09-27 JP JP17900883A patent/JPS60248704A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04170486A (ja) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Dainippon Ink & Chem Inc | 硬化性樹脂組成物 |
| US6613855B1 (en) | 1997-04-09 | 2003-09-02 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Polymerizable resin, and cured resins, insulators, components of electrical appliances, and electrical appliances made by using the same |
| WO1999000435A1 (fr) * | 1997-06-30 | 1999-01-07 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Resine polymerisable, resines durcies, isolants, composants d'appareils electriques et appareils electriques fabriques au moyen de ces derniers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6354288B2 (ja) | 1988-10-27 |
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