JPS6354288B2 - - Google Patents

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JPS6354288B2
JPS6354288B2 JP17900883A JP17900883A JPS6354288B2 JP S6354288 B2 JPS6354288 B2 JP S6354288B2 JP 17900883 A JP17900883 A JP 17900883A JP 17900883 A JP17900883 A JP 17900883A JP S6354288 B2 JPS6354288 B2 JP S6354288B2
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JP
Japan
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polymer compound
solution
general formula
added
ether
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JP17900883A
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JPS60248704A (ja
Inventor
Shoji Watanabe
Shohei Kosakai
Masao Kato
Kunihiro Ichimura
Masao Suda
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、アルケニルオキシ単位を有する新規
な高分子化合物の製造方法に関するものである。 従来、官能基を有するフエニル基を構成単位と
して含む高分子化合物は、活性なハロゲン原子を
有するポリハロメチルスチレンに、ハロメチル基
と反応する官能基を反応させて得られ、また、ノ
ボラツク樹脂のような多価フエノール基を有する
高分子化合物に反応性官能基を反応させることに
よつても得られる。近年になつてポリビニルフエ
ノールが工業的規模で製造されるようになり、こ
の高分子化合物を用いて、官能基を有するフエニ
ル基を構成単位とする高分子化合物が製造されて
いる。それらの製造方法はポリビニルフエノール
へのエーテル化によるもので、ポリビニルアリル
エーテル、ポリビニルプロパギルエーテル、ポリ
ビニルグリシジルエーテル化合物の製造方法に代
表される。そしてこれらの高分子化合物の特殊な
用途、例えば、感光性樹脂組成物を構成する構成
する高分子化合物等に利用するには、その反応性
が充分ではないなどの欠点を有している。 本発明者らは、このような従来のポリビニルフ
エノール系高分子化合物がもつ欠点をを改良すべ
く鋭意研究を重ねた結果、本発明を成すに至つ
た。 すなわち、本発明は、基幹分子鎖中に少なくと
も1個の一般式
【式】 で表わされる構成単位を含む高分子化合物に一般
式 XCH2CH2OCH=CH2 ……() (式中のXはハロゲン原子を示す) で表わされるハロアルキルビニルエーテルを反応
させて得られる、一般式
【式】 で示される構成単位と式 で示される構成単位とが直列に結合した構造を有
し、かつ式()の含有量が少なくとも2モル%
であり、その平均分子量が5000から1000000の範
囲内からなる新規な高分子化合物の製造方法を提
供するものである。 本発明において基幹成分として用いられる少な
くとも1個の前記一般式()の単位をもつ高分
子化合物は、フエノール性の水酸基を有するもの
であるかぎりいかなるものでもよい。その例とし
ては2,3あるいは4−ヒドロキシスチレンの単
独重合体やこの単重体とアクリロニトリル、スチ
レン、α―メチルスチレン、酢酸ビニル、アクリ
ル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエ
ステル、無水マレイン酸のような線状重合性単重
体との共重合体をあげることが出来る。これら水
酸基を有する高分子化合物の分子量は2000〜
200000程度のものが望ましい。 また、一般式()で表わされるハロアルキル
アルケニルエーテルとしては、2―クロロエチル
ビニルエーテルなどをあげることが出来る。この
一般式()で表わされる化合物は、原料高分子
化合物の水酸基当量に基づく化学的計算量で用い
るのが望ましいがそれよりも多くてもよい。通常
は、生成するアルケニルオキシアルキルオキシ基
を含む構成単位(イ)が100:0ないし5:95の範囲
になるような割合で用いられる。 一般式()の化合物と一般式()高分子化
合物との反応は、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、エチルセロソルブ、エチレング
リコールモノメチルエーテルのような溶媒中で、
要すればアルカリ金属化合物の存在下、有効量の
四級アンモニウム塩化合物を共存させて、両者を
接触させることにより行うことが出来る。アルカ
リ金属の代表例としては、無水炭酸ソーダ、水素
化ナトリウム、炭酸カリウム、金属ナトリウムな
どを挙げることが出来る。また四級アンモニウム
塩化合物としては、トリエチルベンジルアンモニ
ウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロ
ライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、
トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、ト
リブチルベンジルアンモニウムブロマイドなどを
挙げることが出来る。反応温度には制限はないが
室温から100℃の範囲が望ましい。 このような本発明の新規な高分子化合物の製造
方法によつて得られる新規な高分子化合物は、白
色粉末で赤外線吸収スペクトルにおいてオレフイ
ンに基づく1602cm-1と975cm-1、およびエーテル
結合に基づく1240cm-1の特性吸収を示す。このも
のは、アセトン、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルホルムアミド、エチレングリコールモノエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジオキサンなどの有機溶
媒にも可能であるしかしながらn―ヘキサンには
不溶である。 本発明の新規な高分子化合物の製造方法によつ
て得られる新規な高分子化合物はその側鎖に、ル
イス酸、プロトン酸、陽イオンに対して高い反応
性を有するアルケニルオキシ基をもつ。 このような新規な高分子化合物を適当な有機溶
剤に溶解させ、前記のような活性物質を加えて、
支持体に塗布し、乾燥すると硬化する。また、光
照射することにより新規な高分子化合物な活性と
なる物質の発生剤を高分子化合物溶液に添加し、
この溶液をアルミニウム板、銅板、亜鉛板などの
支持体表面上に、流延、吹付け、塗布などの手段
で施し、乾燥して製膜することが出来る。このよ
うにして得られた塗膜にネガを通して光照射を行
い、未露光部を溶剤で除去すると陰画像が出来
る。この光反応はアルケニルオキシ基の重合反応
によるもので、短い時間で反応が終了し、従来の
二重化型感光性樹脂の性能をしのぐものであり、
しかも酸素の影響を全く受けないという利点もあ
る。 以上に述べたように、本発明の新規な高分子化
合物は感光性樹脂、硬化性塗料へ利用し得るだけ
でなく、プリント回路等のケミカルミリング用樹
脂、光硬化性印刷インキなどにも利用出来る。 次に実施例による本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド25mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量21000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアミド70
mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約2時間
攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロエチル
ビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム1.5g、
トリエチルベンジルアンモニウムクロライド0.05
gを加え、80℃にて6時間反応させたのち、反応
混合物を80℃で減圧蒸留により大部分のN,N―
ジメチルアセトアミド、未反応2―クロロエチル
ビニルエーテルも除去し、残留物をジエチルエー
テルを加え、溶解した。この溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液で3回洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥したのち、ろ別した溶液を減圧蒸留により
残留物が固形化するまで液状成分を除去する。再
び残留物を少量の塩化メチレンを含むジエチルエ
ーテルに溶かし、この溶液を激しく攪拌した多量
のヘキサン中に注加し、生成した沈澱物をろ別
し、減圧乾燥した。得られた生成物は13.6gでそ
の赤外吸収スペクトルから、1602cm-1と975cm-1
にビニル基による吸収、また1240cm-1にエーテル
結合に基づく吸収が認められビニルフエノールの
水酸基がビニルオキシエチルエーテル化されてい
た。元素分析より求めた転化率は71%であつた。 実施例 2 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量38000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアセトア
ミド70mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約
2時間攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロ
エチルビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム
1.5g、トリエチルベンジルアンモニウムクロラ
イド0.05gを加え、80℃にて10時間反応させた。 反応生成物は実施例1と同様に分離精製した。
生成物15.8gが得られ、その赤外吸収スペクトル
から、1602cm-1と975cm-1にビニル基による吸収、
また1240cm-1にエーテル結合に基づく吸収が認め
られた。フエノール性水酸基に起因する吸収がほ
とんど消滅しており、元素分析より求めた転化率
は93%であつた。 実施例 3 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量38000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアセトア
ミド70mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約
2時間攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロ
エチルビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム
1.5g、トリエチルベンジルアンモニウムクロラ
イイド0.05gを加え、80℃にて24時間反応させ
た。反応生成物は実施例1と同様に分離精製し
た。生成物16.2gが得られ、その赤外吸収スペク
トルから、1602cm-1と975cm-1にビニル基による
吸収、また1220cm-1にエーテル結合に基づく吸収
が認められた。フエノール性水酸基に起因する吸
収の大きさは実施例2の生成物のものと変らなか
つた。元素分析より求めた転化率は99%であつ
た。 実施例 4 窒素導入した反応容器に水素化ナトリウム4.8
g(0.1モル)、乾燥したジオキサン20mlを仕込
み、この溶液に数平均分子量8300のポリ―4―ビ
ニルフエノール12gを乾燥したジオキサン60mlに
溶かした溶液を攪拌しながら加え、約2時間攪拌
を続けた。次いで、これに2―クロロエチルビニ
ルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム1.5g、テ
トラブチルアンモニウムクロライド0.05gを加
え、還流下にて10時間反応させた。反応生成物は
実施例1と同様に分離精製した。生成物は15.4g
が得られ、実施例2の赤外吸収スペクトルが認め
られ、フエノール性水酸基に起因する吸収の大き
さは実施例2の生成物と変わらなかつた。元素分
析より求めた転化率は98%であつた。 実施例 5 窒素導入した反応容器にメチルカルビトール70
mlを仕込み、ポリ―4―ビニルフエノール12gを
加え溶解させる。次いで、85%水酸化カリウム
6.6gを加え完全に溶解したのを確認し、1時間
攪拌した。この溶液に2―クロロエチルビニルエ
ーテル30g、炭酸カリウム1.5gを加え、80℃で
24時間反応させたのち実施例1と同様に分離精製
した。生成物15.5gが得られ、実施例2の赤外吸
収スペクトルが認められ、フエノール性水酸基に
起因する吸収の大きさは、実施例2の生成物のも
のとほとんど変わらなかつた。 実施例 6 窒素導入した反応容器に乾燥したメチルカルビ
トール70mlを仕込み、ポリ―4―ビニルフエノー
ル12gを加え溶解した。次いで、金属ナトリウム
2.3gを加え反応したのを確認し、2時間攪拌し
た。この溶液に2―クロロエチルビニルエーテル
30g、炭酸ナトリウム1.5gを加え、80℃で24時
間反応させ、しかる後、実施例1と同様に分離精
製した。得られた生成物は15.1gであつた。実施
例2の赤外吸収スペクトルが認められ、フエノー
ル性水酸基に起因する吸収の大きさは、実施例2
の生成物のものとほとんど変わらなかつた。 実施例 7 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この分
散溶液にポリ―4―ビニルフエノール14gを乾燥
N,N―ジメチルアセトアミド20mlに溶かした溶
液を加え、約2時間攪拌を続けた。次いでこの溶
液に2―クロロエチルビニルエーテル30g、無水
炭酸ナトリウム1.5gを加え、80℃で24時間反応
させた。反応生成物を実施例1と同様に分離精製
した。15.4gの生成物が得られ、その赤外吸収ス
ペクトルから、1602cm-1と975cm-1にビニル基に
よる吸収、また1220cm-1にエーテル結合に基づく
吸収が認められた。フエノール性水酸基の吸収
は、ほとんど消滅していた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 で表わされる構成単位を含む高分子化合物に一般
    式 XCH2CH2OCH=CH2 ……() (式中のXはハロゲン原子を示す) で表わされるハロアルキルビニルエーテルを反応
    させて得られる一般式 で示される構成単位と式 で示される構成単位とが直列に結合した構造を有
    し、かつ式()の含有量が少なくとも2モル%
    であり、その平均分子量が5000から1000000の範
    囲内からなる新規な高分子化合物の製造方法。
JP17900883A 1983-09-27 1983-09-27 新規な高分子化合物の製造方法 Granted JPS60248704A (ja)

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JPS60248704A JPS60248704A (ja) 1985-12-09
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WO1999000435A1 (fr) * 1997-06-30 1999-01-07 Sanyo Chemical Industries, Ltd. Resine polymerisable, resines durcies, isolants, composants d'appareils electriques et appareils electriques fabriques au moyen de ces derniers

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