JPS6354288B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6354288B2 JPS6354288B2 JP17900883A JP17900883A JPS6354288B2 JP S6354288 B2 JPS6354288 B2 JP S6354288B2 JP 17900883 A JP17900883 A JP 17900883A JP 17900883 A JP17900883 A JP 17900883A JP S6354288 B2 JPS6354288 B2 JP S6354288B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer compound
- solution
- general formula
- added
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- -1 haloalkyl vinyl ether Chemical compound 0.000 claims description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 10
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-formylphenoxy)methyl]thiophene-2-carbonitrile Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1OCC1=C(C#N)SC=C1 REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 6
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=C)=C1 YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRDCVMSNCBAMAM-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-ynoxyprop-1-yne Chemical compound C#CCOCC#C HRDCVMSNCBAMAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDYGXWPMSJPFDG-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 UDYGXWPMSJPFDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CHQVQXZFZHACQQ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 CHQVQXZFZHACQQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKIUAMUSENSFQQ-UHFFFAOYSA-N dimethylazanide Chemical compound C[N-]C QKIUAMUSENSFQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
本発明は、アルケニルオキシ単位を有する新規
な高分子化合物の製造方法に関するものである。 従来、官能基を有するフエニル基を構成単位と
して含む高分子化合物は、活性なハロゲン原子を
有するポリハロメチルスチレンに、ハロメチル基
と反応する官能基を反応させて得られ、また、ノ
ボラツク樹脂のような多価フエノール基を有する
高分子化合物に反応性官能基を反応させることに
よつても得られる。近年になつてポリビニルフエ
ノールが工業的規模で製造されるようになり、こ
の高分子化合物を用いて、官能基を有するフエニ
ル基を構成単位とする高分子化合物が製造されて
いる。それらの製造方法はポリビニルフエノール
へのエーテル化によるもので、ポリビニルアリル
エーテル、ポリビニルプロパギルエーテル、ポリ
ビニルグリシジルエーテル化合物の製造方法に代
表される。そしてこれらの高分子化合物の特殊な
用途、例えば、感光性樹脂組成物を構成する構成
する高分子化合物等に利用するには、その反応性
が充分ではないなどの欠点を有している。 本発明者らは、このような従来のポリビニルフ
エノール系高分子化合物がもつ欠点をを改良すべ
く鋭意研究を重ねた結果、本発明を成すに至つ
た。 すなわち、本発明は、基幹分子鎖中に少なくと
も1個の一般式
な高分子化合物の製造方法に関するものである。 従来、官能基を有するフエニル基を構成単位と
して含む高分子化合物は、活性なハロゲン原子を
有するポリハロメチルスチレンに、ハロメチル基
と反応する官能基を反応させて得られ、また、ノ
ボラツク樹脂のような多価フエノール基を有する
高分子化合物に反応性官能基を反応させることに
よつても得られる。近年になつてポリビニルフエ
ノールが工業的規模で製造されるようになり、こ
の高分子化合物を用いて、官能基を有するフエニ
ル基を構成単位とする高分子化合物が製造されて
いる。それらの製造方法はポリビニルフエノール
へのエーテル化によるもので、ポリビニルアリル
エーテル、ポリビニルプロパギルエーテル、ポリ
ビニルグリシジルエーテル化合物の製造方法に代
表される。そしてこれらの高分子化合物の特殊な
用途、例えば、感光性樹脂組成物を構成する構成
する高分子化合物等に利用するには、その反応性
が充分ではないなどの欠点を有している。 本発明者らは、このような従来のポリビニルフ
エノール系高分子化合物がもつ欠点をを改良すべ
く鋭意研究を重ねた結果、本発明を成すに至つ
た。 すなわち、本発明は、基幹分子鎖中に少なくと
も1個の一般式
【式】
で表わされる構成単位を含む高分子化合物に一般
式 XCH2CH2OCH=CH2 ……() (式中のXはハロゲン原子を示す) で表わされるハロアルキルビニルエーテルを反応
させて得られる、一般式
式 XCH2CH2OCH=CH2 ……() (式中のXはハロゲン原子を示す) で表わされるハロアルキルビニルエーテルを反応
させて得られる、一般式
【式】
で示される構成単位と式
で示される構成単位とが直列に結合した構造を有
し、かつ式()の含有量が少なくとも2モル%
であり、その平均分子量が5000から1000000の範
囲内からなる新規な高分子化合物の製造方法を提
供するものである。 本発明において基幹成分として用いられる少な
くとも1個の前記一般式()の単位をもつ高分
子化合物は、フエノール性の水酸基を有するもの
であるかぎりいかなるものでもよい。その例とし
ては2,3あるいは4−ヒドロキシスチレンの単
独重合体やこの単重体とアクリロニトリル、スチ
レン、α―メチルスチレン、酢酸ビニル、アクリ
ル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエ
ステル、無水マレイン酸のような線状重合性単重
体との共重合体をあげることが出来る。これら水
酸基を有する高分子化合物の分子量は2000〜
200000程度のものが望ましい。 また、一般式()で表わされるハロアルキル
アルケニルエーテルとしては、2―クロロエチル
ビニルエーテルなどをあげることが出来る。この
一般式()で表わされる化合物は、原料高分子
化合物の水酸基当量に基づく化学的計算量で用い
るのが望ましいがそれよりも多くてもよい。通常
は、生成するアルケニルオキシアルキルオキシ基
を含む構成単位(イ)が100:0ないし5:95の範囲
になるような割合で用いられる。 一般式()の化合物と一般式()高分子化
合物との反応は、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、エチルセロソルブ、エチレング
リコールモノメチルエーテルのような溶媒中で、
要すればアルカリ金属化合物の存在下、有効量の
四級アンモニウム塩化合物を共存させて、両者を
接触させることにより行うことが出来る。アルカ
リ金属の代表例としては、無水炭酸ソーダ、水素
化ナトリウム、炭酸カリウム、金属ナトリウムな
どを挙げることが出来る。また四級アンモニウム
塩化合物としては、トリエチルベンジルアンモニ
ウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロ
ライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、
トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、ト
リブチルベンジルアンモニウムブロマイドなどを
挙げることが出来る。反応温度には制限はないが
室温から100℃の範囲が望ましい。 このような本発明の新規な高分子化合物の製造
方法によつて得られる新規な高分子化合物は、白
色粉末で赤外線吸収スペクトルにおいてオレフイ
ンに基づく1602cm-1と975cm-1、およびエーテル
結合に基づく1240cm-1の特性吸収を示す。このも
のは、アセトン、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルホルムアミド、エチレングリコールモノエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジオキサンなどの有機溶
媒にも可能であるしかしながらn―ヘキサンには
不溶である。 本発明の新規な高分子化合物の製造方法によつ
て得られる新規な高分子化合物はその側鎖に、ル
イス酸、プロトン酸、陽イオンに対して高い反応
性を有するアルケニルオキシ基をもつ。 このような新規な高分子化合物を適当な有機溶
剤に溶解させ、前記のような活性物質を加えて、
支持体に塗布し、乾燥すると硬化する。また、光
照射することにより新規な高分子化合物な活性と
なる物質の発生剤を高分子化合物溶液に添加し、
この溶液をアルミニウム板、銅板、亜鉛板などの
支持体表面上に、流延、吹付け、塗布などの手段
で施し、乾燥して製膜することが出来る。このよ
うにして得られた塗膜にネガを通して光照射を行
い、未露光部を溶剤で除去すると陰画像が出来
る。この光反応はアルケニルオキシ基の重合反応
によるもので、短い時間で反応が終了し、従来の
二重化型感光性樹脂の性能をしのぐものであり、
しかも酸素の影響を全く受けないという利点もあ
る。 以上に述べたように、本発明の新規な高分子化
合物は感光性樹脂、硬化性塗料へ利用し得るだけ
でなく、プリント回路等のケミカルミリング用樹
脂、光硬化性印刷インキなどにも利用出来る。 次に実施例による本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド25mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量21000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアミド70
mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約2時間
攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロエチル
ビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム1.5g、
トリエチルベンジルアンモニウムクロライド0.05
gを加え、80℃にて6時間反応させたのち、反応
混合物を80℃で減圧蒸留により大部分のN,N―
ジメチルアセトアミド、未反応2―クロロエチル
ビニルエーテルも除去し、残留物をジエチルエー
テルを加え、溶解した。この溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液で3回洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥したのち、ろ別した溶液を減圧蒸留により
残留物が固形化するまで液状成分を除去する。再
び残留物を少量の塩化メチレンを含むジエチルエ
ーテルに溶かし、この溶液を激しく攪拌した多量
のヘキサン中に注加し、生成した沈澱物をろ別
し、減圧乾燥した。得られた生成物は13.6gでそ
の赤外吸収スペクトルから、1602cm-1と975cm-1
にビニル基による吸収、また1240cm-1にエーテル
結合に基づく吸収が認められビニルフエノールの
水酸基がビニルオキシエチルエーテル化されてい
た。元素分析より求めた転化率は71%であつた。 実施例 2 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量38000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアセトア
ミド70mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約
2時間攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロ
エチルビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム
1.5g、トリエチルベンジルアンモニウムクロラ
イド0.05gを加え、80℃にて10時間反応させた。 反応生成物は実施例1と同様に分離精製した。
生成物15.8gが得られ、その赤外吸収スペクトル
から、1602cm-1と975cm-1にビニル基による吸収、
また1240cm-1にエーテル結合に基づく吸収が認め
られた。フエノール性水酸基に起因する吸収がほ
とんど消滅しており、元素分析より求めた転化率
は93%であつた。 実施例 3 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量38000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアセトア
ミド70mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約
2時間攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロ
エチルビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム
1.5g、トリエチルベンジルアンモニウムクロラ
イイド0.05gを加え、80℃にて24時間反応させ
た。反応生成物は実施例1と同様に分離精製し
た。生成物16.2gが得られ、その赤外吸収スペク
トルから、1602cm-1と975cm-1にビニル基による
吸収、また1220cm-1にエーテル結合に基づく吸収
が認められた。フエノール性水酸基に起因する吸
収の大きさは実施例2の生成物のものと変らなか
つた。元素分析より求めた転化率は99%であつ
た。 実施例 4 窒素導入した反応容器に水素化ナトリウム4.8
g(0.1モル)、乾燥したジオキサン20mlを仕込
み、この溶液に数平均分子量8300のポリ―4―ビ
ニルフエノール12gを乾燥したジオキサン60mlに
溶かした溶液を攪拌しながら加え、約2時間攪拌
を続けた。次いで、これに2―クロロエチルビニ
ルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム1.5g、テ
トラブチルアンモニウムクロライド0.05gを加
え、還流下にて10時間反応させた。反応生成物は
実施例1と同様に分離精製した。生成物は15.4g
が得られ、実施例2の赤外吸収スペクトルが認め
られ、フエノール性水酸基に起因する吸収の大き
さは実施例2の生成物と変わらなかつた。元素分
析より求めた転化率は98%であつた。 実施例 5 窒素導入した反応容器にメチルカルビトール70
mlを仕込み、ポリ―4―ビニルフエノール12gを
加え溶解させる。次いで、85%水酸化カリウム
6.6gを加え完全に溶解したのを確認し、1時間
攪拌した。この溶液に2―クロロエチルビニルエ
ーテル30g、炭酸カリウム1.5gを加え、80℃で
24時間反応させたのち実施例1と同様に分離精製
した。生成物15.5gが得られ、実施例2の赤外吸
収スペクトルが認められ、フエノール性水酸基に
起因する吸収の大きさは、実施例2の生成物のも
のとほとんど変わらなかつた。 実施例 6 窒素導入した反応容器に乾燥したメチルカルビ
トール70mlを仕込み、ポリ―4―ビニルフエノー
ル12gを加え溶解した。次いで、金属ナトリウム
2.3gを加え反応したのを確認し、2時間攪拌し
た。この溶液に2―クロロエチルビニルエーテル
30g、炭酸ナトリウム1.5gを加え、80℃で24時
間反応させ、しかる後、実施例1と同様に分離精
製した。得られた生成物は15.1gであつた。実施
例2の赤外吸収スペクトルが認められ、フエノー
ル性水酸基に起因する吸収の大きさは、実施例2
の生成物のものとほとんど変わらなかつた。 実施例 7 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この分
散溶液にポリ―4―ビニルフエノール14gを乾燥
N,N―ジメチルアセトアミド20mlに溶かした溶
液を加え、約2時間攪拌を続けた。次いでこの溶
液に2―クロロエチルビニルエーテル30g、無水
炭酸ナトリウム1.5gを加え、80℃で24時間反応
させた。反応生成物を実施例1と同様に分離精製
した。15.4gの生成物が得られ、その赤外吸収ス
ペクトルから、1602cm-1と975cm-1にビニル基に
よる吸収、また1220cm-1にエーテル結合に基づく
吸収が認められた。フエノール性水酸基の吸収
は、ほとんど消滅していた。
し、かつ式()の含有量が少なくとも2モル%
であり、その平均分子量が5000から1000000の範
囲内からなる新規な高分子化合物の製造方法を提
供するものである。 本発明において基幹成分として用いられる少な
くとも1個の前記一般式()の単位をもつ高分
子化合物は、フエノール性の水酸基を有するもの
であるかぎりいかなるものでもよい。その例とし
ては2,3あるいは4−ヒドロキシスチレンの単
独重合体やこの単重体とアクリロニトリル、スチ
レン、α―メチルスチレン、酢酸ビニル、アクリ
ル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエ
ステル、無水マレイン酸のような線状重合性単重
体との共重合体をあげることが出来る。これら水
酸基を有する高分子化合物の分子量は2000〜
200000程度のものが望ましい。 また、一般式()で表わされるハロアルキル
アルケニルエーテルとしては、2―クロロエチル
ビニルエーテルなどをあげることが出来る。この
一般式()で表わされる化合物は、原料高分子
化合物の水酸基当量に基づく化学的計算量で用い
るのが望ましいがそれよりも多くてもよい。通常
は、生成するアルケニルオキシアルキルオキシ基
を含む構成単位(イ)が100:0ないし5:95の範囲
になるような割合で用いられる。 一般式()の化合物と一般式()高分子化
合物との反応は、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、エチルセロソルブ、エチレング
リコールモノメチルエーテルのような溶媒中で、
要すればアルカリ金属化合物の存在下、有効量の
四級アンモニウム塩化合物を共存させて、両者を
接触させることにより行うことが出来る。アルカ
リ金属の代表例としては、無水炭酸ソーダ、水素
化ナトリウム、炭酸カリウム、金属ナトリウムな
どを挙げることが出来る。また四級アンモニウム
塩化合物としては、トリエチルベンジルアンモニ
ウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロ
ライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、
トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、ト
リブチルベンジルアンモニウムブロマイドなどを
挙げることが出来る。反応温度には制限はないが
室温から100℃の範囲が望ましい。 このような本発明の新規な高分子化合物の製造
方法によつて得られる新規な高分子化合物は、白
色粉末で赤外線吸収スペクトルにおいてオレフイ
ンに基づく1602cm-1と975cm-1、およびエーテル
結合に基づく1240cm-1の特性吸収を示す。このも
のは、アセトン、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルホルムアミド、エチレングリコールモノエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジオキサンなどの有機溶
媒にも可能であるしかしながらn―ヘキサンには
不溶である。 本発明の新規な高分子化合物の製造方法によつ
て得られる新規な高分子化合物はその側鎖に、ル
イス酸、プロトン酸、陽イオンに対して高い反応
性を有するアルケニルオキシ基をもつ。 このような新規な高分子化合物を適当な有機溶
剤に溶解させ、前記のような活性物質を加えて、
支持体に塗布し、乾燥すると硬化する。また、光
照射することにより新規な高分子化合物な活性と
なる物質の発生剤を高分子化合物溶液に添加し、
この溶液をアルミニウム板、銅板、亜鉛板などの
支持体表面上に、流延、吹付け、塗布などの手段
で施し、乾燥して製膜することが出来る。このよ
うにして得られた塗膜にネガを通して光照射を行
い、未露光部を溶剤で除去すると陰画像が出来
る。この光反応はアルケニルオキシ基の重合反応
によるもので、短い時間で反応が終了し、従来の
二重化型感光性樹脂の性能をしのぐものであり、
しかも酸素の影響を全く受けないという利点もあ
る。 以上に述べたように、本発明の新規な高分子化
合物は感光性樹脂、硬化性塗料へ利用し得るだけ
でなく、プリント回路等のケミカルミリング用樹
脂、光硬化性印刷インキなどにも利用出来る。 次に実施例による本発明をさらに詳細に説明す
る。 実施例 1 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド25mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量21000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアミド70
mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約2時間
攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロエチル
ビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム1.5g、
トリエチルベンジルアンモニウムクロライド0.05
gを加え、80℃にて6時間反応させたのち、反応
混合物を80℃で減圧蒸留により大部分のN,N―
ジメチルアセトアミド、未反応2―クロロエチル
ビニルエーテルも除去し、残留物をジエチルエー
テルを加え、溶解した。この溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液で3回洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥したのち、ろ別した溶液を減圧蒸留により
残留物が固形化するまで液状成分を除去する。再
び残留物を少量の塩化メチレンを含むジエチルエ
ーテルに溶かし、この溶液を激しく攪拌した多量
のヘキサン中に注加し、生成した沈澱物をろ別
し、減圧乾燥した。得られた生成物は13.6gでそ
の赤外吸収スペクトルから、1602cm-1と975cm-1
にビニル基による吸収、また1240cm-1にエーテル
結合に基づく吸収が認められビニルフエノールの
水酸基がビニルオキシエチルエーテル化されてい
た。元素分析より求めた転化率は71%であつた。 実施例 2 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量38000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアセトア
ミド70mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約
2時間攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロ
エチルビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム
1.5g、トリエチルベンジルアンモニウムクロラ
イド0.05gを加え、80℃にて10時間反応させた。 反応生成物は実施例1と同様に分離精製した。
生成物15.8gが得られ、その赤外吸収スペクトル
から、1602cm-1と975cm-1にビニル基による吸収、
また1240cm-1にエーテル結合に基づく吸収が認め
られた。フエノール性水酸基に起因する吸収がほ
とんど消滅しており、元素分析より求めた転化率
は93%であつた。 実施例 3 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この溶
液に数平均分子量38000のポリ―4―ビニルフエ
ノール12gを乾燥したN,N―ジメチルアセトア
ミド70mlに溶かした溶液を攪拌しながら加え、約
2時間攪拌を続けた。次いで、これに2―クロロ
エチルビニルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム
1.5g、トリエチルベンジルアンモニウムクロラ
イイド0.05gを加え、80℃にて24時間反応させ
た。反応生成物は実施例1と同様に分離精製し
た。生成物16.2gが得られ、その赤外吸収スペク
トルから、1602cm-1と975cm-1にビニル基による
吸収、また1220cm-1にエーテル結合に基づく吸収
が認められた。フエノール性水酸基に起因する吸
収の大きさは実施例2の生成物のものと変らなか
つた。元素分析より求めた転化率は99%であつ
た。 実施例 4 窒素導入した反応容器に水素化ナトリウム4.8
g(0.1モル)、乾燥したジオキサン20mlを仕込
み、この溶液に数平均分子量8300のポリ―4―ビ
ニルフエノール12gを乾燥したジオキサン60mlに
溶かした溶液を攪拌しながら加え、約2時間攪拌
を続けた。次いで、これに2―クロロエチルビニ
ルエーテル30g、無水炭酸ナトリウム1.5g、テ
トラブチルアンモニウムクロライド0.05gを加
え、還流下にて10時間反応させた。反応生成物は
実施例1と同様に分離精製した。生成物は15.4g
が得られ、実施例2の赤外吸収スペクトルが認め
られ、フエノール性水酸基に起因する吸収の大き
さは実施例2の生成物と変わらなかつた。元素分
析より求めた転化率は98%であつた。 実施例 5 窒素導入した反応容器にメチルカルビトール70
mlを仕込み、ポリ―4―ビニルフエノール12gを
加え溶解させる。次いで、85%水酸化カリウム
6.6gを加え完全に溶解したのを確認し、1時間
攪拌した。この溶液に2―クロロエチルビニルエ
ーテル30g、炭酸カリウム1.5gを加え、80℃で
24時間反応させたのち実施例1と同様に分離精製
した。生成物15.5gが得られ、実施例2の赤外吸
収スペクトルが認められ、フエノール性水酸基に
起因する吸収の大きさは、実施例2の生成物のも
のとほとんど変わらなかつた。 実施例 6 窒素導入した反応容器に乾燥したメチルカルビ
トール70mlを仕込み、ポリ―4―ビニルフエノー
ル12gを加え溶解した。次いで、金属ナトリウム
2.3gを加え反応したのを確認し、2時間攪拌し
た。この溶液に2―クロロエチルビニルエーテル
30g、炭酸ナトリウム1.5gを加え、80℃で24時
間反応させ、しかる後、実施例1と同様に分離精
製した。得られた生成物は15.1gであつた。実施
例2の赤外吸収スペクトルが認められ、フエノー
ル性水酸基に起因する吸収の大きさは、実施例2
の生成物のものとほとんど変わらなかつた。 実施例 7 窒素導入した反応容器にヘキサンで洗浄した50
%水素化ナトリウム4.8g(0.1モル)、乾燥N,
N―ジメチルアセトアミド20mlを仕込み、この分
散溶液にポリ―4―ビニルフエノール14gを乾燥
N,N―ジメチルアセトアミド20mlに溶かした溶
液を加え、約2時間攪拌を続けた。次いでこの溶
液に2―クロロエチルビニルエーテル30g、無水
炭酸ナトリウム1.5gを加え、80℃で24時間反応
させた。反応生成物を実施例1と同様に分離精製
した。15.4gの生成物が得られ、その赤外吸収ス
ペクトルから、1602cm-1と975cm-1にビニル基に
よる吸収、また1220cm-1にエーテル結合に基づく
吸収が認められた。フエノール性水酸基の吸収
は、ほとんど消滅していた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 で表わされる構成単位を含む高分子化合物に一般
式 XCH2CH2OCH=CH2 ……() (式中のXはハロゲン原子を示す) で表わされるハロアルキルビニルエーテルを反応
させて得られる一般式 で示される構成単位と式 で示される構成単位とが直列に結合した構造を有
し、かつ式()の含有量が少なくとも2モル%
であり、その平均分子量が5000から1000000の範
囲内からなる新規な高分子化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17900883A JPS60248704A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 新規な高分子化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17900883A JPS60248704A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 新規な高分子化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60248704A JPS60248704A (ja) | 1985-12-09 |
JPS6354288B2 true JPS6354288B2 (ja) | 1988-10-27 |
Family
ID=16058497
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17900883A Granted JPS60248704A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | 新規な高分子化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60248704A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02141905U (ja) * | 1989-05-02 | 1990-11-30 | ||
JPH02141904U (ja) * | 1989-05-02 | 1990-11-30 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04170486A (ja) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Dainippon Ink & Chem Inc | 硬化性樹脂組成物 |
WO1999000435A1 (fr) * | 1997-06-30 | 1999-01-07 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Resine polymerisable, resines durcies, isolants, composants d'appareils electriques et appareils electriques fabriques au moyen de ces derniers |
-
1983
- 1983-09-27 JP JP17900883A patent/JPS60248704A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02141905U (ja) * | 1989-05-02 | 1990-11-30 | ||
JPH02141904U (ja) * | 1989-05-02 | 1990-11-30 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60248704A (ja) | 1985-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2902269B2 (ja) | オキセタン化合物 | |
EP0463862B1 (en) | Aromatic vinyl ether compounds and compositions, and method of making the same | |
JPS6354288B2 (ja) | ||
JPS61256347A (ja) | アルカリ可溶性シロキサン重合体 | |
EP0204963B1 (en) | Use of Alkali-Soluble Polyorganosilsesquioxane Polymers in a resist for preparing electronics parts. | |
JP4741508B2 (ja) | フッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料 | |
JPH07278134A (ja) | 多官能ビニルエーテル化合物 | |
JPS6220209B2 (ja) | ||
JPS6071604A (ja) | 新規な高分子化合物 | |
JPS6220210B2 (ja) | ||
US5162190A (en) | 1,2-naphthoquinone-2-diazide-sulfonic acid amides and photosensitive compositions containing these compounds | |
JPH0588891B2 (ja) | ||
JPH0149717B2 (ja) | ||
JPH11171967A (ja) | 新規脂環式エポキシビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 | |
JPH07258142A (ja) | 多官能ビニルエーテル化合物 | |
US4820829A (en) | Substituted o-phthalaldehydes | |
JP2548009B2 (ja) | 反応性高分子化合物の製造方法 | |
JPS6154789B2 (ja) | ||
JPH036924B2 (ja) | ||
JP3791713B2 (ja) | 多官能ビニルエーテルの製法 | |
US4399259A (en) | Photocrosslinkable polymers with side groups derived from indenone and the preparation and use of these polymers | |
JPH07252246A (ja) | 多官能ビニルエーテル化合物 | |
JP3690763B2 (ja) | 芳香族多官能ビニルエーテル、重合性組成物及びその硬化物 | |
JP3888730B2 (ja) | 新規脂環式エポキシビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 | |
EP0473021B1 (de) | 2-(3'-Butenyl)-3,4-dihydro-2H-pyrane, ihre Herstellung und Verwendung |