JP4741508B2 - フッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料 - Google Patents
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- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 title claims description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 42
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical class C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- PZHLTTQVJSSKCP-UHFFFAOYSA-N 2-(difluoromethylidene)-1,3-dioxolane Chemical compound FC(F)=C1OCCO1 PZHLTTQVJSSKCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- PRGCVNDIGVIGBQ-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2,2-difluoroacetaldehyde Chemical compound FC(F)(Cl)C=O PRGCVNDIGVIGBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 8
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- VMQHJJSUVWDFBM-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2-(difluoromethyl)-1,3-dioxolane Chemical compound FC(F)C1(Cl)OCCO1 VMQHJJSUVWDFBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- -1 lithium aluminum hydride Chemical compound 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NBVGJCUYDBSJDL-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2,2-difluoroethane-1,1-diol Chemical compound OC(O)C(F)(F)Cl NBVGJCUYDBSJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 3
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- AWUPLMYXZJKHEG-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloro-2,2-difluoroacetate Chemical compound COC(=O)C(F)(F)Cl AWUPLMYXZJKHEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002460 vibrational spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMHJZXQCOUCQQX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(trifluoromethyl)propan-2-yl]peroxy-2-(trifluoromethyl)propane Chemical compound FC(F)(F)C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)OOC(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C(F)(F)F RMHJZXQCOUCQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJFHUKLZMQIHN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanoyl 2,2,3,3,3-pentafluoropropaneperoxoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(=O)OOC(=O)C(F)(F)C(F)(F)F NHJFHUKLZMQIHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYMSDFDHIZIAIS-UHFFFAOYSA-N 2-(difluoromethylidene)-1,3-dioxane Chemical compound FC(F)=C1OCCCO1 XYMSDFDHIZIAIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDLCZOVUSADOIV-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethanol Chemical compound OCCBr LDLCZOVUSADOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALMQKHBDPPPZRZ-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4-(difluoromethylidene)-1,3-dioxolane Chemical compound FC(F)=C1COC(Cl)O1 ALMQKHBDPPPZRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHMYBWIOLGKSHO-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-1,3-dioxolane Chemical compound C=C1OCCO1 VHMYBWIOLGKSHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000007869 azo polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013308 plastic optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940029284 trichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
- C07D317/14—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D317/16—Radicals substituted by halogen atoms or nitro radicals
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F114/18—Monomers containing fluorine
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Description
フッ素化ポリマーは、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物を重合することにより得られる。フッ素化ポリマーの一例として、1,3−ジオキソラン誘導体等が開示されている(例えば、特許文献1〜2、及び非特許文献1〜2参照)。
本発明の第1の態様は、下記式(1)で表される繰り返し単位を含むフッ素化ポリマーである。
本発明のポリマーは、下記式(4)で表される1,3−ジオキソラン誘導体を重合して得られる。
まず始めに、上記式(4)で表される含フッ素化合物の製造方法について説明する。ここで、本発明では、2つの製造方法を提示する。
1,3−ジオキソラン誘導体である上記含フッ素化合物は、2−クロロ−2,2−ジフロロエタン−1,1−ジオールと、下記式(3)で表される化合物とを用いて製造される。
ここで、Xは、水酸基、塩素原子又は臭素原子を表し、好ましくは、塩素原子である。
(1) 2−クロロ−2,2−ジフロロエタン−1,1−ジオールと、式(3)で表される化合物の少なくとも1種とから、塩化カルシウムと炭酸カリウムとを用いて、脱水しながら脱ハロゲン化水素を行う工程、と
(2)塩基により、脱ハロゲン化水素を行う工程。
以下、(1)〜(2)の2つの工程について、説明する。
2−クロロ−2,2−ジフロロエタン−1,1−ジオールと、式(3)で表される化合物とは、等モルずつで反応させることが好ましい。式(3)で表される化合物は、1種類のみであっても複数種併用してもよい。しかしながら、単一の種類を用いる場合が好ましい。塩化カルシウムや、炭酸カリウムに代えて、炭酸ナトリウム等を使用することもできる。
また、発熱反応のため、冷却しながら反応させることが好ましい。その他、反応条件については特に制限は無く、次の(2)の工程の前に、蒸留等の精製工程を加えることも好ましい。
(1)の工程で得られた化合物から、脱ハロゲン化水素を行う。このハロゲン化水素の脱離反応では、エタノール等のアルコール中で、水酸化カリウムのような強塩基を用いる。塩基としては、t−ブトキシカリウム等を用いることもできる。
2−クロロ−2,2−ジフロロアセトアルデヒドと、エチレンオキシドとを用いて、上記式(4)で表される1,3−ジオキソラン誘導体含フッ素化合物を製造する。これら化合物の反応スキームを以下に例示するが、これに限定されない。
(1) 2−クロロ−2,2−ジフロロアセトアルデヒドと、エチレンオキシドとの触媒反応を行う工程、と
(2)塩基により、脱ハロゲン化水素を行う工程。
以下、(1)〜(2)の2つの工程について、説明する。
2−クロロ−2,2−ジフロロアセトアルデヒドとエチレンオキシドとは、等モルずつで反応させることが好ましい。
触媒としては、NiCl2、CuCl2、ZnCl2等を用いることができる。また、触媒の使用量は、夫々の化合物1モルに対して、0.001〜0.01モル程度である。
また、発熱反応のため、冷却しながら反応させることが好ましい。その他、反応条件については特に制限は無く、次の(2)の工程の前に、蒸留等の精製工程を加えることも好ましい。
(2)の工程で得られた化合物から、脱ハロゲン化水素を行う。このハロゲン化水素の脱離反応では、エタノール等のアルコール中で、水酸化カリウムのような強塩基を用いる。塩基としては、t−ブトキシカリウム等を用いることもできる。
前記式(4)で表される1,3−ジオキソラン誘導体は、ラジカル重合開始剤を用いて容易に重合させることができ、下記式(1)を構造に有するポリマーを得ることができる。
一方、前記式(4)で表される1,3−ジオキソラン誘導体以外のモノマーを併用すると、前記式(4)で表される化合物とその他のモノマーとのコポリマーが得られる。その他のモノマーとしては、炭素二重結合を有する化合物であれば特に限定されない。かかるコポリマーとしては、下記式(2)で表されるポリマーを挙げることができる。
nとmとの比率は、好ましくは1:9〜5:5であり、より好ましくは、2:8〜3:7である。
式(1)を構造に有するポリマーは、アセトン、DMSO、トルエン、THF、クロロホルム、メタノールのような溶媒には溶解しないが、フッ素化溶媒、例えば、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)や少量のトリフルオロ酢酸を含むクロロホルムには溶解する。
式(1)を構造に有するポリマーは、融点が高く、ガラス転移温度も高く、熱的に極めて安定な物質である。特に、式(1)を構造に有するホモポリマーの場合、半結晶体であり融点が高く、熱に極めて安定な物質となる。また、式(1)を構造に有するポリマーは、硫酸又は水酸化カリウム熱濃縮水溶液中においても安定である。
上記ホモポリマー及びコポリマーに比較して、含フッ素ポリマーであるテトラフルオロエチレンの共重合体は、溶媒に難溶である。すなわち、本発明の式(2)で表されるコポリマーは、該溶解性によって金属やガラス表面との接着性が向上し、新しい薄膜コーティング材、絶縁素材として応用できる。
さらに、このホモポリマーやコポリマーのフィルム表面を希硝酸や過マンガン酸カリウム等で酸化することにより、表面に下記官能基を有することができる。
(クロロジフルオルロアセトアルデヒドの合成)
クロロジフルオロアセトアルデヒドは、クロロジフルオロ酢酸メチルエステルを水素化アルミニウムリチウムで還元して得た。
100mlの無水エーテルに100g(0.69モル)のクロロジフルオロ酢酸メチルエステルを加え、攪拌機、漏斗、及び還流冷却器を備える1Lの三ツ口フラスコ装置に入れた。フラスコはドライアイス/アセトン浴中で冷却された。
別の操作において、150mlのエーテル溶液に7g(0.18モル)の水素化アルミニウムリチウムを加えた。生成したスラリーを2時間攪拌した。攪拌後、水素化アルミニウムリチウムのエーテル溶液は、別に準備したクロロジフルオロ酢酸メチルエステルに3時間かけて滴下した。水素化アルミニウムリチウムを加えた後、‐78℃に保った反応混合物に95質量%エタノール液を20ml加えた。その後、混合物は、そのまま室温に戻した。アルミニウム化合物を溶解させるため、得られた反応混合物を、粉砕した氷と50mlの濃塩酸とが入った2Lのビーカーに注ぎ入れた。混合物は2相に分離し、水相はエーテルで抽出した。エーテル部分は、乾燥せずに95℃〜100℃で蒸留した。得られた蒸留物の殆どが、クロロジフルオルロアセトアルデヒドの水和物(CClF2CH(OH)2)であった。収率は75%であった。
冷却器を備える1Lのフラスコに、157g(1.4モル以下)のCClF2CH(OH)2、197g(1.5モル)の2‐ブロモエタノール、及び20gの塩化カルシウムが加えられた。フラスコは7時間90℃に加熱され、その後室温に冷却された。上相は5Lのフラスコに移され、2Lのアセトンと386g(2.8モル)の炭酸カリウムをフラスコに添加した。反応を50℃で3日間保ったところ、固形物が析出した。溶媒は蒸留によって除去した。その生成物は、蒸留によって精製した。収率は88%(195g)で、沸点は62℃/30mmHgであった。
1HNMRでは、5.24ppm(t,1H,‐CH‐),3.94−4.3ppm(m,4H,‐OCH2‐)であった。
19FNMR(ppm)では、−70.56ppm(2F,‐CF2‐)であった。
氷浴中に置いたフラスコに、50g(0.31モル)の2‐クロロジフルオロメチル‐1,3‐ジオキソランと800mlのTHFを加えた。37g(0.33モル)のt‐ブトキシカリウムを更にフラスコに滴下した。19FNMR測定によって反応をモニタリングした。2‐クロロジフルオロメチル‐1,3‐ジオキソランに帰因する70.56ppmでの信号が減少し、>C=CF2に帰因する‐136.75ppmの信号が時間とともに増加した。塩酸の除去が85%を超えた後で、モノマーはTHFを用いて減圧下でコールドトラップ(‐78℃)に集められた。
生成物である2‐ジフルオロメチレン‐1,3‐ジオキソランは、加熱により迅速に重合するため、0℃において真空下でTHFを除去して溶液を濃縮した。モノマーのTHF溶液は、濃度0.4Mで、モノマーを22.7g含有した。収率は60%だった。このTHF溶液をラジカル重合に用いた。
1HNMR(CDCl3)δ(ppm):4.36(s,4H)
19FNMR(CDCl3)δ(ppm):‐1360.4(s,‐CF2‐)
実施例1で得られたモノマー(2‐クロロジフルオロメチレン‐1,3‐ジオキソラン)40mmolに100mlのTHFを加えた溶液と65mgのAIBN(0.4mmol)とをガラス管に入れ、脱気した。それから、3‐サイクルの冷却真空機でアルゴンを補充し、ガラス管を封止し、そして1日間60℃で加熱した。重合中、ポリマーを凝集させた。凝集物をメタノール中に添加し、ヘキサフルオロイソプロパノール溶液から沈殿させて、精製した。2‐クロロジフルオロメチル‐1,3‐ジオキソランポリマーの収率は80%で、3.9g得られた。
(2‐クロロジフロロメチル‐1,3‐ジオキソランの合成)
冷却器を備える1Lのフラスコに、114.5g(1.11モル)の2‐クロロ−2,2−ジフルオロアセトアルデヒド、44g(1モル)のエチレンオキサイド、及び1.3g(0.01モル)のNiCl2が加えられた。フラスコは7時間90℃に加熱され、その後室温に冷却された。上相は5Lのフラスコに移され、2Lのアセトンと386g(2.8モル)の炭酸カリウムを添加した。反応を50℃で3日間保ったところ、固形物が析出した。溶媒は蒸留によって除去した。その生成物は、蒸留によって精製した。収率は88%(129.4g)で、沸点は62℃/30mmHgであった。
1HNMRでは、5.24ppm(t,1H,‐CH‐),3.94−4.3ppm(m,4H,‐OCH2‐)であった。
19FNMR(ppm)では、−70.56ppm(2F,‐CF2‐)であった。
2‐クロロジフルオロメチル‐1,3‐ジオキソランは、上記得られた2‐クロロジフルオロメチル‐1,3‐ジオキソランを用いて、実施例1と同様の方法で得た。
2‐ジフルオロメチレン‐1,3‐ジオキソランは、実施例1と同様の方法で重合することができた。
(2‐ジフルオロメチレン‐1,3‐ジオキソランとテトラフルオロエチレンとのコポリマー)
2‐ジフルオロメチレン‐1,3‐ジオキソランを6g含有する1,1,2−トリクロロトリフルオロエチレンの200ml溶液と、0.02gのパーフロロプロピオニルパーオキサイドを、重合のための1Lのオートクレーブに液体窒素温度下で入れた。このオートクレーブは、攪拌器と反応物を出し入れする開口部とを有している。溶液を減圧下で脱気し、オートクレーブがアルゴンで充填された後、16gのテトラフルオロエチレンを液体窒素温度下で導入した。反応器は徐々に室温に戻され、それから40〜45℃で10時間加熱された。未反応モノマーと溶液が、減圧下、78℃で捕集され除去された。溶液と未反応モノマーとを蒸留した後、更に、固体生成物は5時間100℃の温度で、真空下で熱せられた。22gの固体生成物が分離された。TGAは450℃で2%の重量損失を示した。19FNMR分析では、ジオキソランとテトフルオロエチレンの構成比率は、0.5:2.0を示し、生成物はヘキサフルオロベンゼンのようなフッ素溶媒に溶解した。
(2‐ジフルオロメチレン‐1,3‐ジオキソランとテトラフルオロエチレンとのコポリマー)
2‐ジフルオロメチレン‐1,3‐ジオキソランを3g含有する1,1,2−トリクロロトリフルオロエチレンの150ml溶液と、0.02gのパーフロロ−t−ブチルパーオキサイドを、重合のために、1Lのオートクレーブに液体窒素温度で入れた。減圧下で溶液が脱気し、オートクレーブをアルゴンで充填した後、液体窒素温度で、32gのテトラフルオロエチレンを導入した。反応は実施例3に記載のようにして行った。29gの固体生成物が得られ、コポリマーにおけるジオキソランとテトフルオロエチレンの構成比率は、0.5:10であることが分かった。
(2‐ジフルオロメチレン‐1,3‐ジオキソランポリマーの特性)
得られたポリマーは、アセトン、DMSO、トルエン、THF、クロロホルム、メタノールのような溶媒には溶解しなかったが、フッ素化溶媒、例えば、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)やトリフルオロ酢酸(TFA)には溶解した。
ポリマーの固有粘度(η)は、クロロホルムとトリフルオロ酢酸の混合溶液(容積比9/1)中、25℃で、0.38dL/gであった。得られたポリマーの1HNMRと19FNMRスペクトルをBruker AC 300分光計で測定した。溶媒としては、クロロホルムとトリフルオロ酢酸の混合溶液(容積比9/1)を用いた。内部標準として、1HNMRにおいてはTMSを、19FNMRにおいてはトリクロロフルオロメタンを、それぞれ使用した。その結果を図1に示す。
1HNMRにおいて、フッ化ビニルに帰因するピークは示されていない。112.00ppmのピークは、主鎖の飽和フッ素化合物(‐CF2‐)を特定している。1HNMRにおける唯一つのピークが4.26ppmにみられ、ジオキソラン環上のプロトンが特定された。IRとNMR測定では、開環生成物の存在は示されなかった。ビニル付加反応のみが行われたことを示している。
図3に示すように、本発明のポリマーのガラス転移温度は、125℃であった。熱重量分析では、窒素雰囲気下で高い熱安定性を呈した。図4に示すように、窒素雰囲気下(A)での熱分解は、427℃から始まり、空気雰囲気下(B)では、414℃から分解し始めた。
0.5mm以下の厚さの膜を、それぞれ20質量%硫酸水溶液と30質量%水酸化ナトリウム水溶液とに、2日間、60℃で浸漬した。その後、膜を水洗し、乾かした。IRスペクトルと質量測定と乾燥膜に対して行い、これらの条件においては、膜の性能の低下は見られなかった。
このように、得られたポリマーは、熱的、化学的に極めて安定であり、電気部材、光学部材に好適な材料となった。とくに特殊ペイント用途に最適であった。
実施例1で得られたコポリマーはガラスプレートの上に準備された。プレートにコートされたポリマー(ポリマーの厚さ=0.1〜0.3mm)は、HNO3/H2SO4に50〜60℃で5時間処理された。フィルムを水洗し100℃真空下で乾燥した後、その表面をIR測定によって観察した。スペクトルは、−OHと−C=O−基が表面に生成していることを示した。フィルムのアルミニウムやガラスに対する粘着性は非常に増大した。
Claims (6)
- 下記式(1)で表される繰り返し単位を含むフッ素化ポリマー。
- 前記フッ素化ポリマーがホモポリマーである請求項1に記載のフッ素化ポリマー。
- 前記フッ素化ポリマーが下記式(2)で表される請求項1に記載のフッ素化ポリマー。
- 請求項1に記載のフッ素化ポリマーを含む光学部材。
- 請求項1に記載のフッ素化ポリマーを含む電気部材。
- 請求項1に記載のフッ素化ポリマーを含むコーティング材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006540824A JP4741508B2 (ja) | 2003-12-01 | 2004-11-25 | フッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US52586503P | 2003-12-01 | 2003-12-01 | |
US60/525,865 | 2003-12-01 | ||
JP2004178766 | 2004-06-16 | ||
JP2004178766 | 2004-06-16 | ||
JP2006540824A JP4741508B2 (ja) | 2003-12-01 | 2004-11-25 | フッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料 |
PCT/JP2004/017905 WO2005054313A1 (en) | 2003-12-01 | 2004-11-25 | Fluorinated polymers, method for producing the fluorinated compounds and polymers |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011068456A Division JP5377554B2 (ja) | 2003-12-01 | 2011-03-25 | フッ素化化合物及びフッ素化ポリマーの製造方法 |
JP2011068455A Division JP5405515B2 (ja) | 2003-12-01 | 2011-03-25 | フッ素化化合物及びフッ素化ポリマーの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007517083A JP2007517083A (ja) | 2007-06-28 |
JP4741508B2 true JP4741508B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=42979370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006540824A Active JP4741508B2 (ja) | 2003-12-01 | 2004-11-25 | フッ素化ポリマー、光学部材、電気部材及びコーティング材料 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7582714B2 (ja) |
EP (3) | EP1983009B1 (ja) |
JP (1) | JP4741508B2 (ja) |
DE (2) | DE602004029727D1 (ja) |
WO (1) | WO2005054313A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2953645A4 (en) | 2013-02-07 | 2016-12-28 | Immunomedics Inc | PRO-MEDICINE FORM (P2PDOX) OF HIGHLY POWERFUL 2-PYRROLINODOXORUBICIN CONJUGATED TO ANTIBODIES FOR TARGETED CANCER THERAPY |
US9636632B2 (en) | 2014-02-19 | 2017-05-02 | Membrane Technology And Research, Inc | Gas separation membranes based on fluorinated and perfluorinated polymers |
US8828121B1 (en) | 2014-02-19 | 2014-09-09 | Membrane Technology And Research, Inc. | Gas separation membranes based on perfluorinated polymers |
US9975084B2 (en) | 2014-02-19 | 2018-05-22 | Membrane Technology And Research, Inc. | Fluid separation processes using membranes based on fluorinated and perfluorinated polymers |
US9643124B2 (en) | 2014-02-19 | 2017-05-09 | Membrane Technology And Research, Inc. | Gas separation membranes based on fluorinated and perfluorinated polymers |
EP3288668B1 (en) | 2015-04-29 | 2024-05-08 | Membrane Technology and Research, Inc | Gas separation process based on fluorinated and perfluorinated polymer membrane |
WO2017069795A1 (en) | 2015-10-23 | 2017-04-27 | Membrane Technology And Research, Inc. | Gas separation membranes based on fluorinated and perfluorinated polymers |
JP7225655B2 (ja) * | 2018-10-09 | 2023-02-21 | 東ソー株式会社 | 含フッ素脂肪族環構造を含むフッ素樹脂粒子の製造方法 |
WO2021141061A1 (ja) * | 2020-01-08 | 2021-07-15 | ダイキン工業株式会社 | ディスプレイ保護膜 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3308107A (en) * | 1965-04-30 | 1967-03-07 | Du Pont | Perfluoro(2-methylene-4-methyl-1, 3-dioxolane) and polymers thereof |
US3356677A (en) * | 1966-04-05 | 1967-12-05 | Syntex Corp | 1alpha, 2alpha-and 6alpha, 7alpha-dihalomethylene androstenes |
US3450716A (en) | 1966-05-26 | 1969-06-17 | Du Pont | Perfluoro-4-oxo-2,5-dimethyl-2-fluorocarbonyl-1,3-dioxolane |
US3749794A (en) * | 1971-08-13 | 1973-07-31 | Airco Inc | Ether compounds as inhalation anesthetics |
US4594399A (en) * | 1981-09-28 | 1986-06-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cyclic monomers derived from trifluoropyruvate esters, amended to polymers and polymer films from dioxoles |
US4429143A (en) * | 1981-09-28 | 1984-01-31 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Cyclic monomers derived from trifluoropyruvate esters |
US4496750A (en) * | 1981-09-28 | 1985-01-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cyclic monomers derived from trifluoropyruvate esters |
US4558141A (en) * | 1981-11-19 | 1985-12-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Perfluorodioxole and its polymers |
US5057586A (en) * | 1987-07-31 | 1991-10-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Halogenated 1,3-dioxolanes and derivatives |
US5233058A (en) * | 1988-07-25 | 1993-08-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Partially fluorinated compounds and polymers |
JP2821935B2 (ja) * | 1990-04-19 | 1998-11-05 | 三菱レイヨン 株式会社 | プラスチック光ファイバ |
US5235074A (en) * | 1990-06-07 | 1993-08-10 | Ausimont S.P.A. | Halogenated 1,3-dioxolanes |
US5276121A (en) * | 1992-05-05 | 1994-01-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Amorphous copolymers of two fluorinated ring monomers |
US5336741A (en) * | 1993-12-20 | 1994-08-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated polymer and monomers |
US5408020A (en) * | 1994-05-09 | 1995-04-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Copolymers of perhalo-2,2-di-loweralkyl-1,3-dioxole, and perfluoro-2-methylene-4-methyl-1,3-dioxolane |
IT1272863B (it) * | 1995-01-04 | 1997-07-01 | Ausimont Spa | Copolimeri termoprocessabili del tetrafluoroetilene |
US5750730A (en) * | 1996-01-10 | 1998-05-12 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Fluorine-containing dioxolane compound, electrolytic solution composition, battery and capacitor |
TW552435B (en) * | 2000-06-12 | 2003-09-11 | Asahi Glass Co Ltd | Plastic optical fiber |
KR100416595B1 (ko) * | 2001-05-02 | 2004-02-05 | 삼성전자주식회사 | 플루오르가 함유된 폴리머 및 이를 포함하는 화학증폭형레지스트 조성물 |
ATE383352T1 (de) * | 2001-10-30 | 2008-01-15 | Asahi Glass Co Ltd | Fluorsulfonylverbindungen und verfahren zur herstellung von davon abgeleiteten verbindungen |
US20050037265A1 (en) * | 2003-08-14 | 2005-02-17 | Asahi Glass Company, Limited | Polymer electrolyte fuel cell, electrolyte material therefore and method for its production |
WO2005042511A1 (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-12 | Asahi Glass Company, Limited | 新規な含フッ素化合物、および含フッ素重合体 |
-
2004
- 2004-11-25 JP JP2006540824A patent/JP4741508B2/ja active Active
- 2004-11-25 DE DE602004029727T patent/DE602004029727D1/de active Active
- 2004-11-25 EP EP08013572A patent/EP1983009B1/en not_active Not-in-force
- 2004-11-25 EP EP04819878A patent/EP1836231B1/en not_active Not-in-force
- 2004-11-25 EP EP08013571A patent/EP2014686B1/en not_active Not-in-force
- 2004-11-25 US US10/580,977 patent/US7582714B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-11-25 DE DE602004029519T patent/DE602004029519D1/de active Active
- 2004-11-25 WO PCT/JP2004/017905 patent/WO2005054313A1/en active Application Filing
-
2009
- 2009-07-27 US US12/510,003 patent/US7754901B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007517083A (ja) | 2007-06-28 |
EP1983009A1 (en) | 2008-10-22 |
EP1983009B1 (en) | 2010-10-20 |
US20070142581A1 (en) | 2007-06-21 |
EP2014686B1 (en) | 2010-10-06 |
US7754901B2 (en) | 2010-07-13 |
EP1836231B1 (en) | 2009-04-22 |
US20090326178A1 (en) | 2009-12-31 |
WO2005054313A1 (en) | 2005-06-16 |
US7582714B2 (en) | 2009-09-01 |
EP1836231A1 (en) | 2007-09-26 |
DE602004029727D1 (de) | 2010-12-02 |
DE602004029519D1 (de) | 2010-11-18 |
EP2014686A1 (en) | 2009-01-14 |
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|
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