JPS60246337A - 芳香族トリアルコ−ルの製造法 - Google Patents
芳香族トリアルコ−ルの製造法Info
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- JPS60246337A JPS60246337A JP59101713A JP10171384A JPS60246337A JP S60246337 A JPS60246337 A JP S60246337A JP 59101713 A JP59101713 A JP 59101713A JP 10171384 A JP10171384 A JP 10171384A JP S60246337 A JPS60246337 A JP S60246337A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はトリス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベン
ゼンを収率良く製造する方法に関する。
ゼンを収率良く製造する方法に関する。
(産業上の利用分野〕
トリス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンは、
ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等の改質材として
有用なα、α′、σ”−トリス(ヒドロキシフェニル)
トリイソプロピルベンゼンを製造する際の合成原料とな
る。
ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等の改質材として
有用なα、α′、σ”−トリス(ヒドロキシフェニル)
トリイソプロピルベンゼンを製造する際の合成原料とな
る。
従来、トリス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼ
ンの製造法としては、トリイソプロヒルベンゼンの酸化
反応生成物からトリヒドロペルオキシドを単離し、これ
を亜硫酸ソーダを用いて還元する方法(Journal
f’4r praktischeOhemie、 4
Re1he、 Band 5.1956 )が知られ
ている。しかしこの方法ではトリイソプロピルベンゼン
の酸化反応生成物から、トリヒドロペルオキシドを単離
する際の収率が低いなど種々の欠点を有するので、工業
的製造法としては実際的な方法とは言えない。
ンの製造法としては、トリイソプロヒルベンゼンの酸化
反応生成物からトリヒドロペルオキシドを単離し、これ
を亜硫酸ソーダを用いて還元する方法(Journal
f’4r praktischeOhemie、 4
Re1he、 Band 5.1956 )が知られ
ている。しかしこの方法ではトリイソプロピルベンゼン
の酸化反応生成物から、トリヒドロペルオキシドを単離
する際の収率が低いなど種々の欠点を有するので、工業
的製造法としては実際的な方法とは言えない。
そこで、本発明者等はこれら従来法とは異なる工業的に
有利なトリス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼ
ンの製造法について検討した。
有利なトリス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼ
ンの製造法について検討した。
(発明の構成〕
その結果、下記方法を採用すればトリス(2−ヒドロキ
シ−2−プロピル)ベンゼンを高収率でしかも簡単なプ
ロセスによって製造できることを見出し、本発明を完成
するに到った。
シ−2−プロピル)ベンゼンを高収率でしかも簡単なプ
ロセスによって製造できることを見出し、本発明を完成
するに到った。
すなわち、本発明によれば、トリヒドロペルオキシド、
モノカルビノールジヒドロペルオキシド及びシカルビノ
ールモノヒドロペルオキシドからなる群より選ばれる少
なくとも一種の三官能性ヒドロペルオキシド類を含む水
不溶性溶媒溶液を水素還元触媒の存在下に水素と接触ぎ
することからなり、該水素還元反応によって生成する水
を反応系外に除去しながら、又は水可溶性溶媒を存在さ
せることにより三官能性ヒドロペルオキシド類含有混合
溶媒溶液をつくり該生成水を該混合溶媒溶液に溶解させ
ながら該水素還元反応を行うことを特徴とするトリス(
2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンの製造法、が
提供される。
モノカルビノールジヒドロペルオキシド及びシカルビノ
ールモノヒドロペルオキシドからなる群より選ばれる少
なくとも一種の三官能性ヒドロペルオキシド類を含む水
不溶性溶媒溶液を水素還元触媒の存在下に水素と接触ぎ
することからなり、該水素還元反応によって生成する水
を反応系外に除去しながら、又は水可溶性溶媒を存在さ
せることにより三官能性ヒドロペルオキシド類含有混合
溶媒溶液をつくり該生成水を該混合溶媒溶液に溶解させ
ながら該水素還元反応を行うことを特徴とするトリス(
2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンの製造法、が
提供される。
本発明の方法における少なくとも一種の三官能性ヒドロ
ペルオキシド類を含む水不溶性溶媒溶液とはトリス(2
−ヒドロペルオキシ−2−プロピル)ベンゼン〔以下こ
れをトリヒドロペルオキシトト略記する〕、ビス(2−
ヒドロペルオキシ−2−プロピル)−2−ヒドロキシ−
2−プロピルベンゼン〔以下こnをモノカルビノールジ
ヒドロペルオキシドと略記する〕およびビス(2−ヒド
ロキシ−2−フロビル)−2−ヒドロペルオキシ−2−
プロピルベンゼン〔以下こttをシカルビノールモノヒ
ドロペルオキシドと略記する〕のヒドロペルオキシドを
それぞれ単独に水不溶性溶媒に溶解した溶液、あるいは
該ヒドロペルオキシドを2種類以上の混合物の形で水不
溶性溶媒に溶解した溶液を意味する。更に本発明の方法
においては、前記三官能性ヒドロペルオキシド類を含む
該水不溶性溶媒溶液として、トリイソプロピルベンゼン
を分子状酸素で酸化した場合に得られるトリヒドロペル
オキシド、モノカルビノールジヒドロペルオキシドおよ
びシカルビノールモノヒドロペルオキシドの三宮すイソ
プロピルベンゼンの三官能性酸化生成物を主成分とする
酸化反応生成混合物を水不溶性溶媒に溶解した溶液を用
いることができる。このトリイソプロピルベンゼンの酸
化反応生成混合物は、例えば特開昭58−150529
号公報に記載されている、トリイソプロピルベンゼンを
分子状酸素で酸化する方法等によって得ることができ、
該酸化反応生成混合物中には主成分である前記三官能性
酸化生成物の他に、未反応のトリイソプロピルベンゼン
、二官能性酸化生成物としてビス(2−ヒドロペルオキ
シ−2−プロピル)イソプロピルベンゼンとこれに相応
するカルビノールヒドロペルオキシドおよびシカルビ7
−ルおよび一官能性酸化生成物として(2−ヒドロペル
オキシ−2−プロピル)ジイソプロピルベンゼンおよび
これに相応するカルビノールおよびビス(2−ヒドロペ
ルオキシ−2−プロピル)アセトフェノン、(2−ヒド
ロペルオキシ−2−プロピル)ジアセチルベンゼン等の
副生物が少量台まれている場合もある。前記方法におい
て使用でさるトリイソプロピルベンゼンとシテ具体的に
GL i、2.3−トリイソプロピルベンゼン、1,2
.4− )ジイソプロピルベンゼン、キ;4゛1,5,
5−トリイ ソプロピルベンゼンを例示できる。本発明の方法におい
て該酸化反応生成混合物中に占める前記した三官能性酸
化反応生成物の合計の含有数としては、通常は50ない
し85重量%の範囲にあるのが好ましい。また該三官能
性酸化反応生成物中に占メルトリヒドロペルオキシドの
含有量としては、通常は10ないし60重数多の範囲に
ある。
ペルオキシド類を含む水不溶性溶媒溶液とはトリス(2
−ヒドロペルオキシ−2−プロピル)ベンゼン〔以下こ
れをトリヒドロペルオキシトト略記する〕、ビス(2−
ヒドロペルオキシ−2−プロピル)−2−ヒドロキシ−
2−プロピルベンゼン〔以下こnをモノカルビノールジ
ヒドロペルオキシドと略記する〕およびビス(2−ヒド
ロキシ−2−フロビル)−2−ヒドロペルオキシ−2−
プロピルベンゼン〔以下こttをシカルビノールモノヒ
ドロペルオキシドと略記する〕のヒドロペルオキシドを
それぞれ単独に水不溶性溶媒に溶解した溶液、あるいは
該ヒドロペルオキシドを2種類以上の混合物の形で水不
溶性溶媒に溶解した溶液を意味する。更に本発明の方法
においては、前記三官能性ヒドロペルオキシド類を含む
該水不溶性溶媒溶液として、トリイソプロピルベンゼン
を分子状酸素で酸化した場合に得られるトリヒドロペル
オキシド、モノカルビノールジヒドロペルオキシドおよ
びシカルビノールモノヒドロペルオキシドの三宮すイソ
プロピルベンゼンの三官能性酸化生成物を主成分とする
酸化反応生成混合物を水不溶性溶媒に溶解した溶液を用
いることができる。このトリイソプロピルベンゼンの酸
化反応生成混合物は、例えば特開昭58−150529
号公報に記載されている、トリイソプロピルベンゼンを
分子状酸素で酸化する方法等によって得ることができ、
該酸化反応生成混合物中には主成分である前記三官能性
酸化生成物の他に、未反応のトリイソプロピルベンゼン
、二官能性酸化生成物としてビス(2−ヒドロペルオキ
シ−2−プロピル)イソプロピルベンゼンとこれに相応
するカルビノールヒドロペルオキシドおよびシカルビ7
−ルおよび一官能性酸化生成物として(2−ヒドロペル
オキシ−2−プロピル)ジイソプロピルベンゼンおよび
これに相応するカルビノールおよびビス(2−ヒドロペ
ルオキシ−2−プロピル)アセトフェノン、(2−ヒド
ロペルオキシ−2−プロピル)ジアセチルベンゼン等の
副生物が少量台まれている場合もある。前記方法におい
て使用でさるトリイソプロピルベンゼンとシテ具体的に
GL i、2.3−トリイソプロピルベンゼン、1,2
.4− )ジイソプロピルベンゼン、キ;4゛1,5,
5−トリイ ソプロピルベンゼンを例示できる。本発明の方法におい
て該酸化反応生成混合物中に占める前記した三官能性酸
化反応生成物の合計の含有数としては、通常は50ない
し85重量%の範囲にあるのが好ましい。また該三官能
性酸化反応生成物中に占メルトリヒドロペルオキシドの
含有量としては、通常は10ないし60重数多の範囲に
ある。
本発明の方法において使用できる前記水不溶性溶媒とし
ては、クロロホルム、ジクロルエタン、トリクロルエタ
ン、トリクレン、パークレン等のハロゲン化炭化水素、
メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホ
ロン、アセトフエ/ン等ノケトン、ブチルエーテル、ペ
ンチルエーテル等ノエーテル、オヨヒベンジルアルコー
ル、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタツール、n−
オクタツール等のアルコールを例示することができ、こ
れらの中では特に炭素数が5以上のケトンあるいはアル
コールを使用するのが好ましい。この場合原水不溶性溶
媒は必要に応じて単独使用あるいは混合溶媒の形で使用
しても差しつかえない。
ては、クロロホルム、ジクロルエタン、トリクロルエタ
ン、トリクレン、パークレン等のハロゲン化炭化水素、
メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホ
ロン、アセトフエ/ン等ノケトン、ブチルエーテル、ペ
ンチルエーテル等ノエーテル、オヨヒベンジルアルコー
ル、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタツール、n−
オクタツール等のアルコールを例示することができ、こ
れらの中では特に炭素数が5以上のケトンあるいはアル
コールを使用するのが好ましい。この場合原水不溶性溶
媒は必要に応じて単独使用あるいは混合溶媒の形で使用
しても差しつかえない。
該水不溶性溶媒の使用態は、通常、前記三官能性酸化生
成物あるいは前記酸化反応生成物(以下この二つを三官
能性酸化生成混合物と略記することがある)を溶解する
に足る量で充分であるが、この量は溶解するときの温度
、該溶媒の種類によっても異なり、本発明の方法の水素
還元反応の原料である該酸化反応生成混合物等の100
重員部当たり該水溶性溶媒を通常は50ないし5000
重11部、好ましくは100ないし1000重量部使用
するのがよい。このようにして該三官能性酸化生成混合
物を溶解した水不溶性溶媒溶液を得ることができる。本
発明の方法においては、該水不溶性溶媒溶液を水素還元
触媒の存在下に水素と接触させることによって、前記し
た三官能性酸化生成混合物を水素還元した還元反応混合
物が得られる。この水素還元処理においては、通常の水
素還元触媒が使用でき、例エバラネーコバルト、ラネー
ニッケル、酸化白金、白金、パラジウム、ロジウムなど
の周期律表第■族の金属あるいは金属の化合物を水素還
元反応の活性成分とする触媒を挙げることができる。
成物あるいは前記酸化反応生成物(以下この二つを三官
能性酸化生成混合物と略記することがある)を溶解する
に足る量で充分であるが、この量は溶解するときの温度
、該溶媒の種類によっても異なり、本発明の方法の水素
還元反応の原料である該酸化反応生成混合物等の100
重員部当たり該水溶性溶媒を通常は50ないし5000
重11部、好ましくは100ないし1000重量部使用
するのがよい。このようにして該三官能性酸化生成混合
物を溶解した水不溶性溶媒溶液を得ることができる。本
発明の方法においては、該水不溶性溶媒溶液を水素還元
触媒の存在下に水素と接触させることによって、前記し
た三官能性酸化生成混合物を水素還元した還元反応混合
物が得られる。この水素還元処理においては、通常の水
素還元触媒が使用でき、例エバラネーコバルト、ラネー
ニッケル、酸化白金、白金、パラジウム、ロジウムなど
の周期律表第■族の金属あるいは金属の化合物を水素還
元反応の活性成分とする触媒を挙げることができる。
これらの活性成分は種々の担体、例えばアルミナ、ケイ
ソウ土、活性炭、炭酸カルシウム、シリカ、シリカ−ア
ルミナ、硫酸バリウム、酸化チタンなどの金属酸化物あ
るいは金属の塩に担持して使用してもよいし、あるいは
活性成分だけを単独使用することもできる。これらの触
媒の中では、低温で活性の高いパラジウム触媒、とくに
アルミナに担持されたパラジウム触媒の使用が望ましい
。この場合の触媒の活性成分の相持量は、活性成分を金
属に換算して担持量を(金属の重II/120℃乾燥担
体の重量)で表示すると、通常は0.0 CI OSな
いし0.2の範囲にあり、活性成分としてパラジウムを
用いた場合には通常はo、o o iないし0,1、好
ましくは0.005ないし0.05の範囲にある。水素
還元反応は前記した三官能性酸化生成混合物の水不溶性
溶媒溶液に該水素還元触媒を懸濁させ、水素を導入する
方法によって行われるが、この場合の該触媒の使用量と
しては、前記三官能性酸化生成混合物100重置部当た
り該触媒の活性成分を金属で換算した鑓で表示して、通
常は0,0002γCいし8gの範囲にあり、活性成分
としてパラジウムを用いた場合には通常は0.001な
いし4g、好ましくは0.005ないし2gの範囲にあ
る。水素還元反応を行う際の水素圧は、通常は絶対圧で
lmmHgないし5Qkg7cm、好ましくは絶対圧で
0.12Fいし10kQ/(:INの範囲に維持するの
かよい。この場合、水素だけを単独使用する方法以外に
、窒素あるいはヘリウム、あるいはアルゴン等の不活性
ガスを水素と共存使用してもよい。該水素還元反応を行
うに当たって使用される反応温度としては、通常は0な
いし200”C、好ましくは2Dないし150°Cの範
囲であり、このときの反応時間は適宜である。
ソウ土、活性炭、炭酸カルシウム、シリカ、シリカ−ア
ルミナ、硫酸バリウム、酸化チタンなどの金属酸化物あ
るいは金属の塩に担持して使用してもよいし、あるいは
活性成分だけを単独使用することもできる。これらの触
媒の中では、低温で活性の高いパラジウム触媒、とくに
アルミナに担持されたパラジウム触媒の使用が望ましい
。この場合の触媒の活性成分の相持量は、活性成分を金
属に換算して担持量を(金属の重II/120℃乾燥担
体の重量)で表示すると、通常は0.0 CI OSな
いし0.2の範囲にあり、活性成分としてパラジウムを
用いた場合には通常はo、o o iないし0,1、好
ましくは0.005ないし0.05の範囲にある。水素
還元反応は前記した三官能性酸化生成混合物の水不溶性
溶媒溶液に該水素還元触媒を懸濁させ、水素を導入する
方法によって行われるが、この場合の該触媒の使用量と
しては、前記三官能性酸化生成混合物100重置部当た
り該触媒の活性成分を金属で換算した鑓で表示して、通
常は0,0002γCいし8gの範囲にあり、活性成分
としてパラジウムを用いた場合には通常は0.001な
いし4g、好ましくは0.005ないし2gの範囲にあ
る。水素還元反応を行う際の水素圧は、通常は絶対圧で
lmmHgないし5Qkg7cm、好ましくは絶対圧で
0.12Fいし10kQ/(:INの範囲に維持するの
かよい。この場合、水素だけを単独使用する方法以外に
、窒素あるいはヘリウム、あるいはアルゴン等の不活性
ガスを水素と共存使用してもよい。該水素還元反応を行
うに当たって使用される反応温度としては、通常は0な
いし200”C、好ましくは2Dないし150°Cの範
囲であり、このときの反応時間は適宜である。
本発明の方法において行われる前記した水素還元反応は
、前記水不溶性溶媒溶液に更に水可溶性溶MF加えてヒ
ドロペルオキシド含有混合溶媒溶液をつくり、該溶液を
前記水素還元触媒の存在下に水素と接触させる方法によ
っても行うことができる。この方法を用いた場合には、
該水素還元反応ニヨって得られるトリス(2−ヒドロキ
シ−2−プロピル)ベンゼンの収率が、前記した水可溶
性溶媒を水不溶性溶媒溶液に加えない方法を採用した場
合に比べて高くなるので好ましい。該水可溶性溶媒とし
ては、例えばメタ7−ル、エタノール、アセトン等を使
用できる。該水可溶性溶媒の使用量としては、該水不溶
性溶媒溶液の100重量部当たり通常は20ないし10
00重量部、好ましくは50ないし500重量部使用す
るのがよい。水可溶性溶媒を加えた場合の前記ヒドロペ
ルオキシド含有混合溶媒溶液を水素還元するに当たって
は、水不溶性溶媒を加えない前記方法を採用した場合と
ほぼ同一の反応条件を使用することができる。
、前記水不溶性溶媒溶液に更に水可溶性溶MF加えてヒ
ドロペルオキシド含有混合溶媒溶液をつくり、該溶液を
前記水素還元触媒の存在下に水素と接触させる方法によ
っても行うことができる。この方法を用いた場合には、
該水素還元反応ニヨって得られるトリス(2−ヒドロキ
シ−2−プロピル)ベンゼンの収率が、前記した水可溶
性溶媒を水不溶性溶媒溶液に加えない方法を採用した場
合に比べて高くなるので好ましい。該水可溶性溶媒とし
ては、例えばメタ7−ル、エタノール、アセトン等を使
用できる。該水可溶性溶媒の使用量としては、該水不溶
性溶媒溶液の100重量部当たり通常は20ないし10
00重量部、好ましくは50ないし500重量部使用す
るのがよい。水可溶性溶媒を加えた場合の前記ヒドロペ
ルオキシド含有混合溶媒溶液を水素還元するに当たって
は、水不溶性溶媒を加えない前記方法を採用した場合と
ほぼ同一の反応条件を使用することができる。
本発明の水素還元反応においては、前記した水不溶性溶
媒溶液を水素還元するに当たって、該水素還元反応で生
成した水を県外に除去しながら、好ましくは水不溶性溶
媒と共に共沸混合物を形成きせて反応系外に留出させな
がら該水素還元反応を行うこともできる。この方法を採
用した場合には共沸脱水を採用しない場合に比べてトリ
ス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンの収率が
品くなるので好ましい。この場合の該水素還元反応の反
応温度と反応圧力としては、前記三官能性酸化生成混合
物を水素還元できる条件と、該共沸蒸留が形成される条
件を共に満足するようにこれを選択することが必要であ
り、これを考慮すると水素還元反応の温度は、通常は4
0ないし150’C。
媒溶液を水素還元するに当たって、該水素還元反応で生
成した水を県外に除去しながら、好ましくは水不溶性溶
媒と共に共沸混合物を形成きせて反応系外に留出させな
がら該水素還元反応を行うこともできる。この方法を採
用した場合には共沸脱水を採用しない場合に比べてトリ
ス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンの収率が
品くなるので好ましい。この場合の該水素還元反応の反
応温度と反応圧力としては、前記三官能性酸化生成混合
物を水素還元できる条件と、該共沸蒸留が形成される条
件を共に満足するようにこれを選択することが必要であ
り、これを考慮すると水素還元反応の温度は、通常は4
0ないし150’C。
好ましくは50ないし130℃の範囲にあるのがよい。
また該水素還元反応の際の反応圧力としては、前記反応
湿度において水不溶性溶媒と生成水が共沸する圧力であ
ればよく、使用される水不溶性溶媒の種類および水素還
元反応の温度によって決定されるものであるが、通常は
絶対圧でimmHgないし5 A9/備、好ましくは0
.1ないし2 kQ/αlの範囲である。前記共沸混合
物は反応系外において凝縮後、分液されて水は県外に除
去される。
湿度において水不溶性溶媒と生成水が共沸する圧力であ
ればよく、使用される水不溶性溶媒の種類および水素還
元反応の温度によって決定されるものであるが、通常は
絶対圧でimmHgないし5 A9/備、好ましくは0
.1ないし2 kQ/αlの範囲である。前記共沸混合
物は反応系外において凝縮後、分液されて水は県外に除
去される。
本発明の方法において使用される水素還元反応の装置と
しては、水素導入管および攪拌器、また前記共沸脱水の
方法を採用する場合にはこの他に更に蒸留塔を備えた反
応器が採用される。水素還元反応は連続法、半連続法、
回分法のいずれでも実施することができる。該水素還元
反応終了後の混合物から、傾斜法、P別法、遠心分離法
などによって水素還元触媒を分離することによって液状
の還元反応混合物が得られる。該還元反応混合物中には
、水不溶性溶媒、トリス(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ベンゼンおよびその他の副生成物が含まれる。また
水素還元反応を実施するに当たって水可溶性溶媒を加え
る方法を採用した場合には、該溶媒が該還元反応混合物
中に含まれることは言うまでもない。
しては、水素導入管および攪拌器、また前記共沸脱水の
方法を採用する場合にはこの他に更に蒸留塔を備えた反
応器が採用される。水素還元反応は連続法、半連続法、
回分法のいずれでも実施することができる。該水素還元
反応終了後の混合物から、傾斜法、P別法、遠心分離法
などによって水素還元触媒を分離することによって液状
の還元反応混合物が得られる。該還元反応混合物中には
、水不溶性溶媒、トリス(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ベンゼンおよびその他の副生成物が含まれる。また
水素還元反応を実施するに当たって水可溶性溶媒を加え
る方法を採用した場合には、該溶媒が該還元反応混合物
中に含まれることは言うまでもない。
本発明の方法においては該還元反応混合物からトリス(
2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンが分離される
。分離法として具体的には、晶析法、蒸留法、抽出法な
どが採用できる。晶析法としては、還元反応混合物をそ
のままあるいは濃縮した後、トリス(2−ヒドロキシ−
2−プロピル)ベンゼンを結晶化させる方法などを例示
できる。かくして得られたトリス(2−ヒドロキシ−2
−プロピル)ベンゼンは必要があればメタノール、エタ
ノール等の低級アルコール、ア七トン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン類あるいは芳香族炭化水素と低級
アルコールまたはケトンとの混合溶媒等の溶媒から再結
晶することによって一層純度を実施例1 (1)攪拌機、空気吹込み用スバーンヤー、アルカリ水
溶液導入口および還流冷却器を備えた反応器に純度95
%の4,5.5− )リイソプロピルベンゼン(1,5
,5−TxpBと略す) 7.9kq、4.5重量%N
aOH水溶液0.8ktiを仕込み、100″Cに昇温
したのち空気で5.519/QにOまで加圧した。その
後、空気を2.6Nm/hrの速度で吹込みながら撹拌
F1100°Cで54.5 hr反応を行い酸化反応終
了物?得た。この間、反応液中の水層のpHを8ないし
1゜に保つよう4.5重量%NaOH水溶液を適宜反応
器内に送入した。得られた該酸化反応終了物中の酸化反
応生成混合物(油層)は10.51Q、イソプロピル基
の反応率は95%であり、該酸化反応生成混合物(油層
)中のトリヒドロペルオキシド(TRHP)、モノカル
ビノールンヒドロベルオキシド(HDHP)、22.2
重厘%、58.1重量%、14.0重電%および2.0
重電%であり、TRI(Pを100%ルとするとHDH
PlDHHPおよびTOはそれぞれ181モル、71モ
ルおよび11モルに相当した。また、1,5.5−TI
PB (純品)を基準とした三官能性酸化生成物の収率 は76.6モル%であった。
2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼンが分離される
。分離法として具体的には、晶析法、蒸留法、抽出法な
どが採用できる。晶析法としては、還元反応混合物をそ
のままあるいは濃縮した後、トリス(2−ヒドロキシ−
2−プロピル)ベンゼンを結晶化させる方法などを例示
できる。かくして得られたトリス(2−ヒドロキシ−2
−プロピル)ベンゼンは必要があればメタノール、エタ
ノール等の低級アルコール、ア七トン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン類あるいは芳香族炭化水素と低級
アルコールまたはケトンとの混合溶媒等の溶媒から再結
晶することによって一層純度を実施例1 (1)攪拌機、空気吹込み用スバーンヤー、アルカリ水
溶液導入口および還流冷却器を備えた反応器に純度95
%の4,5.5− )リイソプロピルベンゼン(1,5
,5−TxpBと略す) 7.9kq、4.5重量%N
aOH水溶液0.8ktiを仕込み、100″Cに昇温
したのち空気で5.519/QにOまで加圧した。その
後、空気を2.6Nm/hrの速度で吹込みながら撹拌
F1100°Cで54.5 hr反応を行い酸化反応終
了物?得た。この間、反応液中の水層のpHを8ないし
1゜に保つよう4.5重量%NaOH水溶液を適宜反応
器内に送入した。得られた該酸化反応終了物中の酸化反
応生成混合物(油層)は10.51Q、イソプロピル基
の反応率は95%であり、該酸化反応生成混合物(油層
)中のトリヒドロペルオキシド(TRHP)、モノカル
ビノールンヒドロベルオキシド(HDHP)、22.2
重厘%、58.1重量%、14.0重電%および2.0
重電%であり、TRI(Pを100%ルとするとHDH
PlDHHPおよびTOはそれぞれ181モル、71モ
ルおよび11モルに相当した。また、1,5.5−TI
PB (純品)を基準とした三官能性酸化生成物の収率 は76.6モル%であった。
(2)前記(1)で得られた酸化反応終了物140重景
機転メチルインブチルケトン(M工EK)140重量部
を加え、分離した水相を除いて、油相からなる水不溶性
溶媒溶液250重量部(TRHP濃度8.88重量%、
HD)(P濃度15.24重機部、DHHP濃IJj5
.60jH1%、TC濃度0,80重重置、H209度
、4.0重置石、メチルイソブチルケトン濃度56重電
% )を得た。
機転メチルインブチルケトン(M工EK)140重量部
を加え、分離した水相を除いて、油相からなる水不溶性
溶媒溶液250重量部(TRHP濃度8.88重量%、
HD)(P濃度15.24重機部、DHHP濃IJj5
.60jH1%、TC濃度0,80重重置、H209度
、4.0重置石、メチルイソブチルケトン濃度56重電
% )を得た。
(3)ガス吹込管、攪拌機、還流冷却器を付けた反応器
に前記(2)で得た酸化反応生成混合物を含む水不溶性
溶媒溶液100重歳部、メタノール100重機部及び2
%P d / A 121) 34重機部を仕込み、6
5°Cに加温したのち、攪拌しながらガス吹込管より1
00)Jl/hrの速度で水素ガスを吹込んだ。120
分間の反応で系内のヒドロペルオキシド濃度がゼロとな
ったので、触媒を濾過によって分離して還元反応混合物
185gを得た。該還元反応混合物中のTclJ度は1
4.34重11%であり、仕込原料に含まれるTRHP
、HDHP、DI(HPおよびTOを合計した肴を基準
としたときのTCの収率は98mn1%であった。この
還元反応混合物を5段のシーブトレーi留塔を用いて常
圧で蒸留して、メタノールを留去した。
に前記(2)で得た酸化反応生成混合物を含む水不溶性
溶媒溶液100重歳部、メタノール100重機部及び2
%P d / A 121) 34重機部を仕込み、6
5°Cに加温したのち、攪拌しながらガス吹込管より1
00)Jl/hrの速度で水素ガスを吹込んだ。120
分間の反応で系内のヒドロペルオキシド濃度がゼロとな
ったので、触媒を濾過によって分離して還元反応混合物
185gを得た。該還元反応混合物中のTclJ度は1
4.34重11%であり、仕込原料に含まれるTRHP
、HDHP、DI(HPおよびTOを合計した肴を基準
としたときのTCの収率は98mn1%であった。この
還元反応混合物を5段のシーブトレーi留塔を用いて常
圧で蒸留して、メタノールを留去した。
塔底からはToを含んだMよりK溶液99重量部と水相
4重置部が得られた。塔底組成物は蒸留温度で液体であ
り、TOの晶析は詔ぬられなかった。
4重置部が得られた。塔底組成物は蒸留温度で液体であ
り、TOの晶析は詔ぬられなかった。
この塔底組成物か−ら水層を分離したのち油相を30°
Cまで冷却し、析出した結晶をと過によって分離した。
Cまで冷却し、析出した結晶をと過によって分離した。
得られた結晶は24.8重世部であり、94%の線間を
持つToであった。なお、水素還元で得られたTCを基
準としたToの精製回収率は88%であった。
持つToであった。なお、水素還元で得られたTCを基
準としたToの精製回収率は88%であった。
実施例ま
た水相を除いて油相から成る水不溶性溶媒溶液580重
鍬重置TRHP濃度5,841it%、HDHP濃度1
0.05411%5DHHP濃度3.68重世%、TC
濃上記の水不溶性溶媒溶液100重量部をガス吹込管、
攪拌機、還流冷却器を付けた反応器に仕込み、メタノー
ル100重置部及び21 Pd/AA’2055重置部
を加え、65℃に加温したのち攪拌しながら、カス吹込
管より8QN77/hrの速度で水素ガスを仕込んだ。
鍬重置TRHP濃度5,841it%、HDHP濃度1
0.05411%5DHHP濃度3.68重世%、TC
濃上記の水不溶性溶媒溶液100重量部をガス吹込管、
攪拌機、還流冷却器を付けた反応器に仕込み、メタノー
ル100重置部及び21 Pd/AA’2055重置部
を加え、65℃に加温したのち攪拌しながら、カス吹込
管より8QN77/hrの速度で水素ガスを仕込んだ。
150分間の反応で系内のヒドロペルオキシド濃度がゼ
ロとなったので触媒を濾過によって分離し、還元反応混
合物185gを得た0該還元反応混合物中のTo濃瑠は
9.35重夙%であり、仕込原料に含まれるTRHPS
HDHPSDHHPおよびTCを合計した量を基準とし
たときのTCの収率は97.2 mo1%であった。こ
の還元反応混合物を5段シーブトレー蒸留塔を用いて常
圧で蒸留して、798重量部と水相ろ重員部を得た。塔
底組成物は蒸留温度で液体であり、TOの晶出は認めら
れなかった。この塔底組成物から水相を分離後、油相を
30°Cまで冷却して、析出した結晶を濾過によって/
2、ダ 分離した。得られた結晶は中重量部であり、97%の純
得を持つTcであった。なお、水素還元実施例5 実施例1の(3)において、メタノールの代わりにアセ
トンを使用し、水素還元反応の温度を60°Cに変更し
た以外は、実施例1よ回じ条件で水素還元反応を行った
。150分間の反応で県内のヒドロペルオキシド濃度が
ゼロとなったので触媒を濾過によって分離して還元反応
混合物185gを得た。
ロとなったので触媒を濾過によって分離し、還元反応混
合物185gを得た0該還元反応混合物中のTo濃瑠は
9.35重夙%であり、仕込原料に含まれるTRHPS
HDHPSDHHPおよびTCを合計した量を基準とし
たときのTCの収率は97.2 mo1%であった。こ
の還元反応混合物を5段シーブトレー蒸留塔を用いて常
圧で蒸留して、798重量部と水相ろ重員部を得た。塔
底組成物は蒸留温度で液体であり、TOの晶出は認めら
れなかった。この塔底組成物から水相を分離後、油相を
30°Cまで冷却して、析出した結晶を濾過によって/
2、ダ 分離した。得られた結晶は中重量部であり、97%の純
得を持つTcであった。なお、水素還元実施例5 実施例1の(3)において、メタノールの代わりにアセ
トンを使用し、水素還元反応の温度を60°Cに変更し
た以外は、実施例1よ回じ条件で水素還元反応を行った
。150分間の反応で県内のヒドロペルオキシド濃度が
ゼロとなったので触媒を濾過によって分離して還元反応
混合物185gを得た。
該還元反応混合物中のTo濃度は14.21重量%でで
あり、仕込原料に含まれるTRHP、HDHP、DHH
PおよびToを合計した量を基準としたときの収率は9
7.1 mn1%であった。この還元反応混合物を5段
シーブトレー蒸留塔を用いて常圧で蒸留して、アセトン
を留去した。
あり、仕込原料に含まれるTRHP、HDHP、DHH
PおよびToを合計した量を基準としたときの収率は9
7.1 mn1%であった。この還元反応混合物を5段
シーブトレー蒸留塔を用いて常圧で蒸留して、アセトン
を留去した。
塔底からはTCを含んだMIEK溶液9溶液9部液体で
ありTOの晶析は詔められなかった。この塔底組成物か
ら水相を分離後、油相を50°Cまで冷却して、析出し
た結晶をp過によって分離した。得られた結晶は24重
皮部であり、95%の純度を持つTOであった。なお、
水素還元で得られたTCを基準としたToの精製回収率
は87%であった。
ありTOの晶析は詔められなかった。この塔底組成物か
ら水相を分離後、油相を50°Cまで冷却して、析出し
た結晶をp過によって分離した。得られた結晶は24重
皮部であり、95%の純度を持つTOであった。なお、
水素還元で得られたTCを基準としたToの精製回収率
は87%であった。
実施例4
実施例2の水素還元反応を行う際に加える溶媒をメタノ
ールからアセトンに変更し、該水素還元反応の温度を6
5°Cから62°Cに変更した以外は実施例2と同じ条
件で実験を行った。180分間の反応で県内のヒドロペ
ルオキシド°濃度がゼロとなつたので触媒をp過によっ
て分離し、還元反応混合物177gを得た。該還元反応
混合物中のTO濃匣は9.soj[L%であり、仕込原
料に含まれるTRHP,)IDHPSDHHPおよびT
Oを合計した鍬を基準としたときのToの収率は97.
5mn1%であった。この還元反応混合物を5段シープ
トレー蒸留97重量部と水相ろ重量部を得た。塔底組成
物は蒸留1111で液体でありTCの晶出は認められな
かった。この塔底組成物から水相を分離後、油相を実施
例5 実施例1の(2)で得られた水溶性溶媒溶液100重級
部および2%Pd/Ad20,2重量部をガス吹込管、
攪拌機および油水分離装置をつけた還流冷却器を備えた
反応器に仕込み、攪拌しながら水素ガスを10 0 N
ji’/hrの速度で吹込み、116°Cで水素還流反
応を行った。水素ガスと共に留出する水およびMIBK
は還流冷却器で冷却し、油水分離器で油相と水相とに分
相させたのち、水相は反応系外に除去し、油相は県内に
もどした。90分間の反応でヒドロペルオキシド濃度が
ゼロとなったので、触媒をp過によって分離して、還元
反応混合物9S jifi部を得た。該還元反応混合物
中のTO濃度は26.9重数%であり仕込原料に含まれ
るTRHP、HDHP,DHHPおよびTQを合計した
量を基準としたときのTCの収率は9 4,4 mn1
%であった。 この還元反応混合物を60°Cまで冷却
して、析出した結晶を1過によって分離した。得られた
結晶は24重量部であり、93%の純度を持つToであ
った。
ールからアセトンに変更し、該水素還元反応の温度を6
5°Cから62°Cに変更した以外は実施例2と同じ条
件で実験を行った。180分間の反応で県内のヒドロペ
ルオキシド°濃度がゼロとなつたので触媒をp過によっ
て分離し、還元反応混合物177gを得た。該還元反応
混合物中のTO濃匣は9.soj[L%であり、仕込原
料に含まれるTRHP,)IDHPSDHHPおよびT
Oを合計した鍬を基準としたときのToの収率は97.
5mn1%であった。この還元反応混合物を5段シープ
トレー蒸留97重量部と水相ろ重量部を得た。塔底組成
物は蒸留1111で液体でありTCの晶出は認められな
かった。この塔底組成物から水相を分離後、油相を実施
例5 実施例1の(2)で得られた水溶性溶媒溶液100重級
部および2%Pd/Ad20,2重量部をガス吹込管、
攪拌機および油水分離装置をつけた還流冷却器を備えた
反応器に仕込み、攪拌しながら水素ガスを10 0 N
ji’/hrの速度で吹込み、116°Cで水素還流反
応を行った。水素ガスと共に留出する水およびMIBK
は還流冷却器で冷却し、油水分離器で油相と水相とに分
相させたのち、水相は反応系外に除去し、油相は県内に
もどした。90分間の反応でヒドロペルオキシド濃度が
ゼロとなったので、触媒をp過によって分離して、還元
反応混合物9S jifi部を得た。該還元反応混合物
中のTO濃度は26.9重数%であり仕込原料に含まれ
るTRHP、HDHP,DHHPおよびTQを合計した
量を基準としたときのTCの収率は9 4,4 mn1
%であった。 この還元反応混合物を60°Cまで冷却
して、析出した結晶を1過によって分離した。得られた
結晶は24重量部であり、93%の純度を持つToであ
った。
なお、水素還元で得られたToを基準としたToの精製
回収率は87%であった。
回収率は87%であった。
比較例1
実施例1の(1)で得られた酸化反応終了物140重階
部にアセトン200重量部を加えて50°Cに加熱した
ところ、水を溶解した均一な溶液が540重量部(TR
HPill変6.551N%,HDHP濃度11.21
重1%、DHHP II変4.12劃[% 、 TO濃
度0.59重R%、H2O 9度11.8重票%)が得
られた。次に、ガス吹込管、攪拌機、還流冷却器を付け
た反応器に前述の溶液270重量部及び2%p a /
A l 2 0 35 、4重量部を仕込み、62°
Cに加温したのち攪拌しながらガス吹込管より100N
6/hrの速度で水素ガスを吹込んだ180分間の反応
後でもヒドロペルオキシドの転化率は47%と低く、ま
たこの時点以降反応はほとんど進まなくなった。
部にアセトン200重量部を加えて50°Cに加熱した
ところ、水を溶解した均一な溶液が540重量部(TR
HPill変6.551N%,HDHP濃度11.21
重1%、DHHP II変4.12劃[% 、 TO濃
度0.59重R%、H2O 9度11.8重票%)が得
られた。次に、ガス吹込管、攪拌機、還流冷却器を付け
た反応器に前述の溶液270重量部及び2%p a /
A l 2 0 35 、4重量部を仕込み、62°
Cに加温したのち攪拌しながらガス吹込管より100N
6/hrの速度で水素ガスを吹込んだ180分間の反応
後でもヒドロペルオキシドの転化率は47%と低く、ま
たこの時点以降反応はほとんど進まなくなった。
比較例2
実施例1の(2)で得られた酸化反応生成混合物を含む
、水不溶性溶媒溶液100重量部と、2%p a/A
(1 2 0 b 2重量部をガス吹込管、攪拌機、還
流冷却器を付けた反応器に仕込み、攪拌しながら水素ガ
スを100NN/hrの速度で仕込み100”Cで反応
を行った。反応の進行と共に反応速度が遅くなり180
分後にはヒドロペルオキシドの転化率60%でほとんど
反応しなくなった。
、水不溶性溶媒溶液100重量部と、2%p a/A
(1 2 0 b 2重量部をガス吹込管、攪拌機、還
流冷却器を付けた反応器に仕込み、攪拌しながら水素ガ
スを100NN/hrの速度で仕込み100”Cで反応
を行った。反応の進行と共に反応速度が遅くなり180
分後にはヒドロペルオキシドの転化率60%でほとんど
反応しなくなった。
出願人 三井石油化学工業株式会社
代理人 山 口 和
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)トリヒドロペルオキシド、モノカルビノールジヒ
ドロベルオキシド及びシカルビノールモノヒドロペルオ
キシドからなる群より選ばれる少なくとも一種の三官能
性ヒドロペルオキシド類を含む水不溶性溶媒溶液を水素
還元触媒の存在下に水素と接触させることからなり、該
水素還元反応によって生成する水を反応系外に除去しな
がら、又は水可溶性溶媒を存在させることによりヒドロ
ペルオキシド含有混合溶媒溶液をつくり該生成水を該混
合溶媒溶液に溶解させながら該水素還元反応を行うこと
を特徴とするトリス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)
ベンゼンの製造法。 (2)三官能性ヒドロペルオキシド類を含む水不溶性溶
媒溶液を、トリイソプロピルベンゼンの酸化反応生成混
合物を水不溶性溶媒に溶解して得ることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項記載の方法。 (5)該生成水を反応系外に除去するに際し、水不溶性
溶媒との共沸を用いることを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59101713A JPH0623115B2 (ja) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | 芳香族トリアルコ−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59101713A JPH0623115B2 (ja) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | 芳香族トリアルコ−ルの製造法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4292745A Division JPH07107002B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 芳香族トリアルコールの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60246337A true JPS60246337A (ja) | 1985-12-06 |
JPH0623115B2 JPH0623115B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=14307941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59101713A Expired - Lifetime JPH0623115B2 (ja) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | 芳香族トリアルコ−ルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0623115B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55167238A (en) * | 1979-06-18 | 1980-12-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of aromatic alcohol |
JPS5620532A (en) * | 1979-07-30 | 1981-02-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of aromatic dialcohol |
JPS5815931A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-01-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | ジ−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)−ベンゼンの製造方法 |
-
1984
- 1984-05-22 JP JP59101713A patent/JPH0623115B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55167238A (en) * | 1979-06-18 | 1980-12-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of aromatic alcohol |
JPS5620532A (en) * | 1979-07-30 | 1981-02-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of aromatic dialcohol |
JPS5815931A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-01-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | ジ−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)−ベンゼンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0623115B2 (ja) | 1994-03-30 |
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