JPH07107002B2 - 芳香族トリアルコールの製造法 - Google Patents
芳香族トリアルコールの製造法Info
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- JPH07107002B2 JPH07107002B2 JP4292745A JP29274592A JPH07107002B2 JP H07107002 B2 JPH07107002 B2 JP H07107002B2 JP 4292745 A JP4292745 A JP 4292745A JP 29274592 A JP29274592 A JP 29274592A JP H07107002 B2 JPH07107002 B2 JP H07107002B2
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はトリス（２−ヒドロキシ
−２−プロピル）ベンゼンを収率良く製造する方法に関
する。
−２−プロピル）ベンゼンを収率良く製造する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】トリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンは、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂
等の改質材として有用なα，α′，α″−トリス（ヒド
ロキシフェニル）トリイソプロピルベンゼンを製造する
際の合成原料となる。
ル）ベンゼンは、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂
等の改質材として有用なα，α′，α″−トリス（ヒド
ロキシフェニル）トリイソプロピルベンゼンを製造する
際の合成原料となる。
【０００３】従来、トリス（２−ヒドロキシ−２−プロ
ピル）ベンゼンの製造法としては、トリイソプロピルベ
ンゼンの酸化反応生成物からトリヒドロペルオキシドを
単離し、これを亜硫酸ソーダを用いて還元する方法（Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｆｕｅｒ ｐｒａｋｔｉｓｃｈｅ Ｃｈ
ｅｍｉｅ，４ Ｒｅｉｈｅ，Ｂａｎｄ ３，１９５６）
が知られている。しかしこの方法ではトリイソプロピル
ベンゼンの酸化反応生成物から、トリヒドロペルオキシ
ドを単離する際の収率が低いなど種々の欠点を有するの
で、工業的製造法としては実際的な方法とは言えない。
ピル）ベンゼンの製造法としては、トリイソプロピルベ
ンゼンの酸化反応生成物からトリヒドロペルオキシドを
単離し、これを亜硫酸ソーダを用いて還元する方法（Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｆｕｅｒ ｐｒａｋｔｉｓｃｈｅ Ｃｈ
ｅｍｉｅ，４ Ｒｅｉｈｅ，Ｂａｎｄ ３，１９５６）
が知られている。しかしこの方法ではトリイソプロピル
ベンゼンの酸化反応生成物から、トリヒドロペルオキシ
ドを単離する際の収率が低いなど種々の欠点を有するの
で、工業的製造法としては実際的な方法とは言えない。
【０００４】一方、ジイソプロピルベンゼンジヒドロペ
ルオキシドを水不溶性溶媒と水可溶性溶媒の混合溶媒に
溶解して水素還元触媒の存在下に水素還元反応を行いジ
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンを製造する
方法が知られているが（特開昭５６−２０５３２号）、
これを三官能性のトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンの製造に適用しても、すべての官能基につ
いて水素還元反応を効率よく行うことができるかどうか
は不明であった。
ルオキシドを水不溶性溶媒と水可溶性溶媒の混合溶媒に
溶解して水素還元触媒の存在下に水素還元反応を行いジ
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンを製造する
方法が知られているが（特開昭５６−２０５３２号）、
これを三官能性のトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンの製造に適用しても、すべての官能基につ
いて水素還元反応を効率よく行うことができるかどうか
は不明であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者等は
前記従来法とは異なる工業的に有利なトリス（２−ヒド
ロキシ−２−プロピル）ベンゼンの製造法について検討
した。その結果、下記方法を採用すればトリス（２−ヒ
ドロキシ−２−プロピル）ベンゼンを高収率でしかも簡
単なプロセスによって製造できることを見出し、本発明
を完成するに到った。
前記従来法とは異なる工業的に有利なトリス（２−ヒド
ロキシ−２−プロピル）ベンゼンの製造法について検討
した。その結果、下記方法を採用すればトリス（２−ヒ
ドロキシ−２−プロピル）ベンゼンを高収率でしかも簡
単なプロセスによって製造できることを見出し、本発明
を完成するに到った。
【０００６】本発明の目的は、簡単なプロセスにより、
高収率でトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベン
ゼンを製造することができる芳香族トリアルコールの製
造法を提案することである。
高収率でトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベン
ゼンを製造することができる芳香族トリアルコールの製
造法を提案することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、トリヒドロペ
ルオキシド、モノカルビノールジヒドロペルオキシド及
びジカルビノールモノヒドロペルオキシドからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の三官能性ヒドロペルオキシ
ド類を含む水不溶性溶媒溶液を水素還元触媒の存在下に
水素と接触させることからなり、該反応系に水可溶性溶
媒を存在させることによりヒドロペルオキシド含有混合
溶媒溶液をつくり、水素還元反応によって生成する水を
該混合溶媒溶液に溶解させながら該水素還元反応を行う
ことを特徴とするトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンの製造法である。
ルオキシド、モノカルビノールジヒドロペルオキシド及
びジカルビノールモノヒドロペルオキシドからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の三官能性ヒドロペルオキシ
ド類を含む水不溶性溶媒溶液を水素還元触媒の存在下に
水素と接触させることからなり、該反応系に水可溶性溶
媒を存在させることによりヒドロペルオキシド含有混合
溶媒溶液をつくり、水素還元反応によって生成する水を
該混合溶媒溶液に溶解させながら該水素還元反応を行う
ことを特徴とするトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンの製造法である。
【０００８】本発明の方法における少なくとも一種の三
官能性ヒドロペルオキシド類を含む水不溶性溶媒溶液と
はトリス（２−ヒドロペルオキシ−２−プロピル）ベン
ゼン〔以下、これをトリヒドロペルオキシドと略記す
る〕、ビス（２−ヒドロペルオキシ−２−プロピル）−
２−ヒドロキシ−２−プロピルベンゼン〔以下、これを
モノカルビノールジヒドロペルオキシドと略記する〕お
よびビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−２−ヒド
ロペルオキシ−２−プロピルベンゼン〔以下、これをジ
カルビノールモノヒドロペルオキシドと略記する〕のヒ
ドロペルオキシドをそれぞれ単独に水不溶性溶媒に溶解
した溶液、あるいは該ヒドロペルオキシドを２種類以上
の混合物の形で水不溶性溶媒に溶解した溶液を意味す
る。
官能性ヒドロペルオキシド類を含む水不溶性溶媒溶液と
はトリス（２−ヒドロペルオキシ−２−プロピル）ベン
ゼン〔以下、これをトリヒドロペルオキシドと略記す
る〕、ビス（２−ヒドロペルオキシ−２−プロピル）−
２−ヒドロキシ−２−プロピルベンゼン〔以下、これを
モノカルビノールジヒドロペルオキシドと略記する〕お
よびビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−２−ヒド
ロペルオキシ−２−プロピルベンゼン〔以下、これをジ
カルビノールモノヒドロペルオキシドと略記する〕のヒ
ドロペルオキシドをそれぞれ単独に水不溶性溶媒に溶解
した溶液、あるいは該ヒドロペルオキシドを２種類以上
の混合物の形で水不溶性溶媒に溶解した溶液を意味す
る。
【０００９】本発明の方法においては、前記三官能性ヒ
ドロペルオキシド類を含む該水不溶性溶媒溶液として、
トリイソプロピルベンゼンを分子状酸素で酸化した場合
に得られるトリヒドロペルオキシド、モノカルビノール
ジヒドロペルオキシドおよびジカルビノールモノヒドロ
ペルオキシドの三官能性ヒドロペルオキシドおよび少量
のトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンか
らなるトリイソプロピルベンゼンの三官能性酸化生成物
を主成分とする酸化反応生成混合物を水不溶性溶媒に溶
解した溶液を用いることができる。
ドロペルオキシド類を含む該水不溶性溶媒溶液として、
トリイソプロピルベンゼンを分子状酸素で酸化した場合
に得られるトリヒドロペルオキシド、モノカルビノール
ジヒドロペルオキシドおよびジカルビノールモノヒドロ
ペルオキシドの三官能性ヒドロペルオキシドおよび少量
のトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンか
らなるトリイソプロピルベンゼンの三官能性酸化生成物
を主成分とする酸化反応生成混合物を水不溶性溶媒に溶
解した溶液を用いることができる。
【００１０】このトリイソプロピルベンゼンの酸化反応
生成混合物は、例えば特開昭５８−１５０５２９号公報
に記載されている、トリイソプロピルベンゼンを分子状
酸素で酸化する方法等によって得ることができる。該酸
化反応生成混合物中には、主成分である前記三官能性酸
化生成物の他に、未反応のトリイソプロピルベンゼン、
二官能性酸化生成物としてビス（２−ヒドロペルオキシ
−２−プロピル）イソプロピルベンゼンとこれに相応す
るカルビノールヒドロペルオキシドおよびジカルビノー
ルおよび一官能性酸化生成物として（２−ヒドロペルオ
キシ−２−プロピル）ジイソプロピルベンゼンおよびこ
れに相応するカルビノールおよびビス（２−ヒドロペル
オキシ−２−プロピル）アセトフェノン、（２−ヒドロ
ペルオキシ−２−プロピル）ジアセチルベンゼン等の副
生物が少量含まれている場合もある。
生成混合物は、例えば特開昭５８−１５０５２９号公報
に記載されている、トリイソプロピルベンゼンを分子状
酸素で酸化する方法等によって得ることができる。該酸
化反応生成混合物中には、主成分である前記三官能性酸
化生成物の他に、未反応のトリイソプロピルベンゼン、
二官能性酸化生成物としてビス（２−ヒドロペルオキシ
−２−プロピル）イソプロピルベンゼンとこれに相応す
るカルビノールヒドロペルオキシドおよびジカルビノー
ルおよび一官能性酸化生成物として（２−ヒドロペルオ
キシ−２−プロピル）ジイソプロピルベンゼンおよびこ
れに相応するカルビノールおよびビス（２−ヒドロペル
オキシ−２−プロピル）アセトフェノン、（２−ヒドロ
ペルオキシ−２−プロピル）ジアセチルベンゼン等の副
生物が少量含まれている場合もある。
【００１１】前記方法において使用できるトリイソプロ
ピルベンゼンとして具体的には、１，２，３−トリイソ
プロピルベンゼン、１，２，４−トリイソプロピルベン
ゼン、１，３，５−トリイソプロピルベンゼンを例示で
きる。
ピルベンゼンとして具体的には、１，２，３−トリイソ
プロピルベンゼン、１，２，４−トリイソプロピルベン
ゼン、１，３，５−トリイソプロピルベンゼンを例示で
きる。
【００１２】本発明の方法において該酸化反応生成混合
物中に占める前記した三官能性酸化反応生成物の合計の
含有量としては、通常は５０ないし８５重量％の範囲に
あるのが好ましい。また該三官能性酸化反応生成物中に
占めるトリヒドロペルオキシドの含有量としては、通常
は１０ないし６０重量％の範囲にある。
物中に占める前記した三官能性酸化反応生成物の合計の
含有量としては、通常は５０ないし８５重量％の範囲に
あるのが好ましい。また該三官能性酸化反応生成物中に
占めるトリヒドロペルオキシドの含有量としては、通常
は１０ないし６０重量％の範囲にある。
【００１３】本発明の方法において使用できる前記水不
溶性溶媒としては、クロロホルム、ジクロルエタン、ト
リクロルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチ
レン等のハロゲン化炭化水素、メチルイソブチルケト
ン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセトフェノン
等のケトン、ブチルエーテル、ペンチルエーテル等のエ
ーテル、およびベンジルアルコール、ペンタノール、ヘ
キサノール、ヘプタノール、ｎ−オクタノール等のアル
コールを例示することができ、これらの中では特に炭素
数が５以上のケトンあるいはアルコールを使用するのが
好ましい。この場合該水不溶性溶媒は必要に応じて単独
使用あるいは混合溶媒の形で使用しても差しつかえな
い。
溶性溶媒としては、クロロホルム、ジクロルエタン、ト
リクロルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチ
レン等のハロゲン化炭化水素、メチルイソブチルケト
ン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセトフェノン
等のケトン、ブチルエーテル、ペンチルエーテル等のエ
ーテル、およびベンジルアルコール、ペンタノール、ヘ
キサノール、ヘプタノール、ｎ−オクタノール等のアル
コールを例示することができ、これらの中では特に炭素
数が５以上のケトンあるいはアルコールを使用するのが
好ましい。この場合該水不溶性溶媒は必要に応じて単独
使用あるいは混合溶媒の形で使用しても差しつかえな
い。
【００１４】水不溶性溶媒の使用量は、通常、前記三官
能性酸化反応生成物あるいは前記酸化反応生成物（以下
この二つを三官能性酸化生成混合物と略記することがあ
る）を溶解するに足る量で充分であるが、この量は溶解
するときの温度、該溶媒の種類によっても異なり、本発
明の方法の水素還元反応の原料である該酸化反応生成混
合物等の１００重量部当たり該水不溶性溶媒を通常は５
０ないし３０００重量部、好ましくは１００ないし１０
００重量部使用するのがよい。このようにして該三官能
性酸化生成混合物を溶解した水不溶性溶媒溶液を得るこ
とができる。
能性酸化反応生成物あるいは前記酸化反応生成物（以下
この二つを三官能性酸化生成混合物と略記することがあ
る）を溶解するに足る量で充分であるが、この量は溶解
するときの温度、該溶媒の種類によっても異なり、本発
明の方法の水素還元反応の原料である該酸化反応生成混
合物等の１００重量部当たり該水不溶性溶媒を通常は５
０ないし３０００重量部、好ましくは１００ないし１０
００重量部使用するのがよい。このようにして該三官能
性酸化生成混合物を溶解した水不溶性溶媒溶液を得るこ
とができる。
【００１５】本発明の方法において行われる前記した水
素還元反応は、前記水不溶性溶媒溶液に更に水可溶性溶
媒を加えてヒドロペルオキシド含有混合溶媒溶液をつく
り、該溶液を前記水素還元触媒の存在下に水素と接触さ
せる方法によって行う。この場合には、該水素還元反応
によって得られるトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンの収率が、前記した水可溶性溶媒を水不溶
性溶媒溶液に加えない方法を採用した場合に比べて高く
なる。
素還元反応は、前記水不溶性溶媒溶液に更に水可溶性溶
媒を加えてヒドロペルオキシド含有混合溶媒溶液をつく
り、該溶液を前記水素還元触媒の存在下に水素と接触さ
せる方法によって行う。この場合には、該水素還元反応
によって得られるトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンの収率が、前記した水可溶性溶媒を水不溶
性溶媒溶液に加えない方法を採用した場合に比べて高く
なる。
【００１６】該水可溶性溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、アセトン等を使用できる。該水可溶性
溶媒の使用量としては、該水不溶性溶媒溶液の１００重
量部当たり通常は２０ないし１０００重量部、好ましく
は５０ないし５００重量部使用するのがよい。
ル、エタノール、アセトン等を使用できる。該水可溶性
溶媒の使用量としては、該水不溶性溶媒溶液の１００重
量部当たり通常は２０ないし１０００重量部、好ましく
は５０ないし５００重量部使用するのがよい。
【００１７】本発明の方法においては、ヒドロペルオキ
シド含有混合溶媒溶液を水素還元触媒の存在下に水素と
接触させることによって、前記した三官能性酸化生成混
合物を水素還元した還元反応混合物が得られる。この水
素還元処理においては、通常の水素還元触媒が使用で
き、例えばラネーコバルト、ラネーニッケル、酸化白
金、白金、パラジウム、ロジウムなどの周期律表第VIII
族の金属あるいは金属の化合物を水素還元反応の活性成
分とする触媒をあげることができる。
シド含有混合溶媒溶液を水素還元触媒の存在下に水素と
接触させることによって、前記した三官能性酸化生成混
合物を水素還元した還元反応混合物が得られる。この水
素還元処理においては、通常の水素還元触媒が使用で
き、例えばラネーコバルト、ラネーニッケル、酸化白
金、白金、パラジウム、ロジウムなどの周期律表第VIII
族の金属あるいは金属の化合物を水素還元反応の活性成
分とする触媒をあげることができる。
【００１８】これらの活性成分は種々の担体、例えばア
ルミナ、ケイソウ土、活性炭、炭酸カルシウム、シリ
カ、シリカ−アルミナ、硫酸バリウム、酸化チタンなど
の金属酸化物あるいは金属の塩に担持して使用してもよ
いし、あるいは活性成分だけを単独使用することもでき
る。これらの触媒の中では、低温で活性の高いパラジウ
ム触媒、とくにアルミナに担持されたパラジウム触媒の
使用が望ましい。
ルミナ、ケイソウ土、活性炭、炭酸カルシウム、シリ
カ、シリカ−アルミナ、硫酸バリウム、酸化チタンなど
の金属酸化物あるいは金属の塩に担持して使用してもよ
いし、あるいは活性成分だけを単独使用することもでき
る。これらの触媒の中では、低温で活性の高いパラジウ
ム触媒、とくにアルミナに担持されたパラジウム触媒の
使用が望ましい。
【００１９】この場合の触媒の活性成分の担持量は、活
性成分を金属に換算して担持量を（金属の重量／１２０
℃乾燥担体の重量）で表示すると、通常は０．０００５
ないし０．２の範囲にあり、活性成分としてパラジウム
を用いた場合には通常は０．００１ないし０．１、好ま
しくは０．００５ないし０．０５の範囲にある。
性成分を金属に換算して担持量を（金属の重量／１２０
℃乾燥担体の重量）で表示すると、通常は０．０００５
ないし０．２の範囲にあり、活性成分としてパラジウム
を用いた場合には通常は０．００１ないし０．１、好ま
しくは０．００５ないし０．０５の範囲にある。
【００２０】水素還元反応は前記した三官能性酸化生成
混合物の水不溶性溶媒溶液に該水素還元触媒を懸濁さ
せ、水素を導入する方法によって行われるが、この場合
の該触媒の使用量としては、前記三官能性酸化生成混合
物１００重量部当たり該触媒の活性成分を金属で換算し
た量で表示して、通常は０．０００２ないし８ｇの範囲
にあり、活性成分としてパラジウムを用いた場合には通
常は０．００１ないし４ｇ、好ましくは０．００５ない
し２ｇの範囲にある。
混合物の水不溶性溶媒溶液に該水素還元触媒を懸濁さ
せ、水素を導入する方法によって行われるが、この場合
の該触媒の使用量としては、前記三官能性酸化生成混合
物１００重量部当たり該触媒の活性成分を金属で換算し
た量で表示して、通常は０．０００２ないし８ｇの範囲
にあり、活性成分としてパラジウムを用いた場合には通
常は０．００１ないし４ｇ、好ましくは０．００５ない
し２ｇの範囲にある。
【００２１】水素還元反応を行う際の水素圧は、通常は
絶対圧で１ｍｍＨｇないし５０ｋｇ／ｃｍ2、好ましく
は絶対圧で０．１ないし１０ｋｇ／ｃｍ2の範囲に維持
するのがよい。この場合、水素だけを単独使用する方法
以外に、窒素あるいはヘリウム、あるいはアルゴン等の
不活性ガスを水素と共存使用してもよい。該水素還元反
応を行うに当たって使用される反応温度としては、通常
は０ないし２００℃、好ましくは２０ないし１５０℃の
範囲であり、このときの反応時間は適宜である。
絶対圧で１ｍｍＨｇないし５０ｋｇ／ｃｍ2、好ましく
は絶対圧で０．１ないし１０ｋｇ／ｃｍ2の範囲に維持
するのがよい。この場合、水素だけを単独使用する方法
以外に、窒素あるいはヘリウム、あるいはアルゴン等の
不活性ガスを水素と共存使用してもよい。該水素還元反
応を行うに当たって使用される反応温度としては、通常
は０ないし２００℃、好ましくは２０ないし１５０℃の
範囲であり、このときの反応時間は適宜である。
【００２２】本発明の方法において使用される水素還元
反応の装置としては、水素導入管および攪拌器を備えた
反応器が採用される。水素還元反応は連続法、半連続
法、回分法のいずれでも実施することができる。
反応の装置としては、水素導入管および攪拌器を備えた
反応器が採用される。水素還元反応は連続法、半連続
法、回分法のいずれでも実施することができる。
【００２３】該水素還元反応終了後の混合物から、傾斜
法、濾別法、遠心分離法などによって水素還元触媒を分
離することによって液状の還元反応混合物が得られる。
該還元反応混合物中には、水不溶性溶媒、水可溶性溶
媒、トリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン
およびその他の副生成物が含まれる。
法、濾別法、遠心分離法などによって水素還元触媒を分
離することによって液状の還元反応混合物が得られる。
該還元反応混合物中には、水不溶性溶媒、水可溶性溶
媒、トリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン
およびその他の副生成物が含まれる。
【００２４】本発明の方法においては該還元反応混合物
からトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン
が分離される。分離法として具体的には、晶析法、蒸留
法、抽出法などが採用できる。晶析法としては、還元反
応混合物をそのままあるいは蒸留等により濃縮した後、
トリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンを結
晶化させる方法などを例示できる。
からトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン
が分離される。分離法として具体的には、晶析法、蒸留
法、抽出法などが採用できる。晶析法としては、還元反
応混合物をそのままあるいは蒸留等により濃縮した後、
トリス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンを結
晶化させる方法などを例示できる。
【００２５】かくして得られたトリス（２−ヒドロキシ
−２−プロピル）ベンゼンは必要があればメタノール、
エタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルイソ
ブチルケトンなどのケイン類あるいは芳香族炭化水素と
低級アルコールまたはケトンとの混合溶媒等の溶媒から
再結晶することによって一層純度を高くすることができ
る。
−２−プロピル）ベンゼンは必要があればメタノール、
エタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルイソ
ブチルケトンなどのケイン類あるいは芳香族炭化水素と
低級アルコールまたはケトンとの混合溶媒等の溶媒から
再結晶することによって一層純度を高くすることができ
る。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、三官能性ヒドロペルオ
キシドを水不溶性溶媒と水可溶性溶媒の混合溶媒溶液と
して水素還元反応を行うようにしたので、簡単なプロセ
スにより高収率でトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンを製造することができる。
キシドを水不溶性溶媒と水可溶性溶媒の混合溶媒溶液と
して水素還元反応を行うようにしたので、簡単なプロセ
スにより高収率でトリス（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ベンゼンを製造することができる。
【００２７】
【実施例】次に本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。
る。
【００２８】実施例１ （１）攪拌機、空気吹込み用スパージャー、アルカリ水
溶液導入口および還流冷却器を備えた反応器に純度９５
％の１，３，５−トリイソプロピルベンゼン（１，３，
５−ＴＩＰＢと略す）７．９ｋｇ、４．５重量％ＮａＯ
Ｈ水溶液０．８ｋｇを仕込み、１００℃に昇温したのち
空気で５．５ｋｇ／ｃｍ2Ｇまで加圧した。その後、空
気を２．６Ｎｍ3／ｈｒの速度で吹込みながら攪拌下、
１００℃で３４．５ｈｒ反応を行い酸化反応終了物を得
た。この間、反応液中の水層のｐＨを８ないし１０に保
つよう４．５重量％ＮａＯＨ水溶液を適宜反応器内に送
入した。
溶液導入口および還流冷却器を備えた反応器に純度９５
％の１，３，５−トリイソプロピルベンゼン（１，３，
５−ＴＩＰＢと略す）７．９ｋｇ、４．５重量％ＮａＯ
Ｈ水溶液０．８ｋｇを仕込み、１００℃に昇温したのち
空気で５．５ｋｇ／ｃｍ2Ｇまで加圧した。その後、空
気を２．６Ｎｍ3／ｈｒの速度で吹込みながら攪拌下、
１００℃で３４．５ｈｒ反応を行い酸化反応終了物を得
た。この間、反応液中の水層のｐＨを８ないし１０に保
つよう４．５重量％ＮａＯＨ水溶液を適宜反応器内に送
入した。
【００２９】得られた該酸化反応終了物中の酸化反応生
成混合物（油層）は１０．５ｋｇ、イソプロピル基の反
応率は９５％であり、該酸化反応生成混合物（油層）中
のトリヒドロペルオキシド（ＴＲＨＰ）、モノカルビノ
ールジヒドロペルオキシド（ＨＤＨＰ）、ジカルビノー
ルモノヒドロペルオキシド（ＤＨＨＰ）およびトリス
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン（ＴＣ）の
濃度は、各々２２．２重量％、３８．１重量％、１４．
０重量％および２．０重量％であり、ＴＲＨＰを１００
モルとするとＨＤＨＰ、ＤＨＨＰおよびＴＣはそれぞれ
１８１モル、７１モルおよび１１モルに相当した。
成混合物（油層）は１０．５ｋｇ、イソプロピル基の反
応率は９５％であり、該酸化反応生成混合物（油層）中
のトリヒドロペルオキシド（ＴＲＨＰ）、モノカルビノ
ールジヒドロペルオキシド（ＨＤＨＰ）、ジカルビノー
ルモノヒドロペルオキシド（ＤＨＨＰ）およびトリス
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン（ＴＣ）の
濃度は、各々２２．２重量％、３８．１重量％、１４．
０重量％および２．０重量％であり、ＴＲＨＰを１００
モルとするとＨＤＨＰ、ＤＨＨＰおよびＴＣはそれぞれ
１８１モル、７１モルおよび１１モルに相当した。
【００３０】また、１，３，５−ＴＩＰＢ（純品）を基
準とした三官能性酸化生成物の収率（〔｛ＴＲＨＰ（モ
ル）＋ＨＤＨＰ（モル）＋ＤＨＨＰ（モル）＋ＴＣ（モ
ル）｝／｛（仕込）１，３，５−ＴＩＰＢ（モル）｝〕
×１００）は７６．６モル％であった。
準とした三官能性酸化生成物の収率（〔｛ＴＲＨＰ（モ
ル）＋ＨＤＨＰ（モル）＋ＤＨＨＰ（モル）＋ＴＣ（モ
ル）｝／｛（仕込）１，３，５−ＴＩＰＢ（モル）｝〕
×１００）は７６．６モル％であった。
【００３１】（２）前記（１）で得られた酸化反応終了
物１４０重量部にメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）
１４０重量部を加え、分離した水相を除いて、油相から
なる水不溶性溶媒溶液２５０重量部（ＴＲＨＰ濃度８．
８８重量％、ＨＤＨＰ濃度１５．２４重量％、ＤＨＨＰ
濃度５．６０重量％、ＴＣ濃度０．８０重量％、Ｈ2Ｏ
濃度４．０重量％、メチルイソブチルケトン濃度５６重
量％）を得た。
物１４０重量部にメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）
１４０重量部を加え、分離した水相を除いて、油相から
なる水不溶性溶媒溶液２５０重量部（ＴＲＨＰ濃度８．
８８重量％、ＨＤＨＰ濃度１５．２４重量％、ＤＨＨＰ
濃度５．６０重量％、ＴＣ濃度０．８０重量％、Ｈ2Ｏ
濃度４．０重量％、メチルイソブチルケトン濃度５６重
量％）を得た。
【００３２】（３）ガス吹込管、攪拌機、還流冷却器を
付けた反応器に前記（２）で得た酸化反応生成混合物を
含む水不溶性溶媒溶液１００重量部、メタノール１００
重量部及び２％ Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3 ４重量部を仕込み、
６３℃に加温したのち、攪拌しながらガス吹込管より１
００Ｎｌ／ｈｒの速度で水素ガスを吹込んだ。１２０分
間の反応で系内のヒドロペルオキシド濃度がゼロとなっ
たので、触媒を濾過によって分離して還元反応混合物１
８５ｇを得た。
付けた反応器に前記（２）で得た酸化反応生成混合物を
含む水不溶性溶媒溶液１００重量部、メタノール１００
重量部及び２％ Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3 ４重量部を仕込み、
６３℃に加温したのち、攪拌しながらガス吹込管より１
００Ｎｌ／ｈｒの速度で水素ガスを吹込んだ。１２０分
間の反応で系内のヒドロペルオキシド濃度がゼロとなっ
たので、触媒を濾過によって分離して還元反応混合物１
８５ｇを得た。
【００３３】該還元反応混合物中のＴＣ濃度は１４．３
４重量％であり、仕込原料に含まれるＴＲＨＰ、ＨＤＨ
Ｐ、ＤＨＨＰおよびＴＣを合計した量を基準としたとき
のＴＣの収率は９８ｍｏｌ％であった。この還元反応混
合物を５段のシーブトレー蒸留塔を用いて常圧で蒸留し
て、メタノールを留去した。
４重量％であり、仕込原料に含まれるＴＲＨＰ、ＨＤＨ
Ｐ、ＤＨＨＰおよびＴＣを合計した量を基準としたとき
のＴＣの収率は９８ｍｏｌ％であった。この還元反応混
合物を５段のシーブトレー蒸留塔を用いて常圧で蒸留し
て、メタノールを留去した。
【００３４】塔底からはＴＣを含んだＭＩＢＫ溶液９９
重量部と水相４重量部が得られた。塔底組成物は蒸留温
度で液体であり、ＴＣの晶析は認められなかった。この
塔底組成物から水相を分離したのち油相を３０℃まで冷
却し、析出した結晶を濾過によって分離した。得られた
結晶は２４．８重量部であり、９４％の純度を持つＴＣ
であった。なお、水素還元で得られたＴＣを基準とした
ＴＣの精製回収率は８８％であった。
重量部と水相４重量部が得られた。塔底組成物は蒸留温
度で液体であり、ＴＣの晶析は認められなかった。この
塔底組成物から水相を分離したのち油相を３０℃まで冷
却し、析出した結晶を濾過によって分離した。得られた
結晶は２４．８重量部であり、９４％の純度を持つＴＣ
であった。なお、水素還元で得られたＴＣを基準とした
ＴＣの精製回収率は８８％であった。
【００３５】実施例２ 実施例１の（１）で得られた酸化反応終了物１４０重量
部にｎ−オクタノール１０８部とトルエン１６２重量部
を加え、分離した水相を除いて油相からなる水不溶性溶
媒溶液３８０重量部（ＴＲＨＰ濃度５．８４重量％、Ｈ
ＤＨＰ濃度１０．０３重量％、ＤＨＨＰ濃度３．６８重
量％、ＴＣ濃度０．５３重量％、Ｈ2Ｏ濃度２．６３重
量％、ｎ−オクタノール濃度２８重量％、トルエン濃度
４２．６重量％）を得た。
部にｎ−オクタノール１０８部とトルエン１６２重量部
を加え、分離した水相を除いて油相からなる水不溶性溶
媒溶液３８０重量部（ＴＲＨＰ濃度５．８４重量％、Ｈ
ＤＨＰ濃度１０．０３重量％、ＤＨＨＰ濃度３．６８重
量％、ＴＣ濃度０．５３重量％、Ｈ2Ｏ濃度２．６３重
量％、ｎ−オクタノール濃度２８重量％、トルエン濃度
４２．６重量％）を得た。
【００３６】上記の水不溶性溶媒溶液１００重量部をガ
ス吹込管、攪拌機、還流冷却器を付けた反応器に仕込
み、メタノール１００重量部及び２％ Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3
３重量部を加え、６５℃に加温したのち攪拌しなが
ら、ガス吹込管より８０Ｎｌ／ｈｒの速度で水素ガスを
仕込んだ。１５０分間の反応で系内のヒドロペルオキシ
ド濃度がゼロとなったので触媒を濾過によって分離し、
還元反応混合物１８５ｇを得た。
ス吹込管、攪拌機、還流冷却器を付けた反応器に仕込
み、メタノール１００重量部及び２％ Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3
３重量部を加え、６５℃に加温したのち攪拌しなが
ら、ガス吹込管より８０Ｎｌ／ｈｒの速度で水素ガスを
仕込んだ。１５０分間の反応で系内のヒドロペルオキシ
ド濃度がゼロとなったので触媒を濾過によって分離し、
還元反応混合物１８５ｇを得た。
【００３７】該還元反応混合物中のＴＣ濃度は９．３５
重量％であり、仕込原料に含まれるＴＲＨＰ、ＨＤＨ
Ｐ、ＤＨＨＰおよびＴＣを合計した量を基準としたとき
のＴＣの収率は９７．２ｍｏｌ％であった。この還元反
応混合物を５段シーブトレー蒸留塔を用いて常圧で蒸留
して、メタノールを留去した。
重量％であり、仕込原料に含まれるＴＲＨＰ、ＨＤＨ
Ｐ、ＤＨＨＰおよびＴＣを合計した量を基準としたとき
のＴＣの収率は９７．２ｍｏｌ％であった。この還元反
応混合物を５段シーブトレー蒸留塔を用いて常圧で蒸留
して、メタノールを留去した。
【００３８】塔底からはＴＣを含んだｎ−オクタノール
／トルエン溶液９８重量部と水相３重量部を得た。塔底
組成物は蒸留温度で液体であり、ＴＣの晶出は認められ
なかった。この塔底組成物から水相を分離後、油相を３
０℃まで冷却して、析出した結晶を濾過によって分離し
た。得られた結晶は１２．５重量部であり、９７％の純
度を持つＴＣであった。なお、水素還元で得られたＴＣ
を基準としたＴＣの精製回収率は７０％であった。
／トルエン溶液９８重量部と水相３重量部を得た。塔底
組成物は蒸留温度で液体であり、ＴＣの晶出は認められ
なかった。この塔底組成物から水相を分離後、油相を３
０℃まで冷却して、析出した結晶を濾過によって分離し
た。得られた結晶は１２．５重量部であり、９７％の純
度を持つＴＣであった。なお、水素還元で得られたＴＣ
を基準としたＴＣの精製回収率は７０％であった。
【００３９】実施例３ 実施例１の（３）において、メタノールの代わりにアセ
トンを使用し、水素還元反応の温度を６０℃に変更した
以外は、実施例１と同じ条件で水素還元反応を行った。
１５０分間の反応で系内のヒドロペルオキシド濃度がゼ
ロとなったので触媒を濾過によって分離して還元反応混
合物１８５ｇを得た。
トンを使用し、水素還元反応の温度を６０℃に変更した
以外は、実施例１と同じ条件で水素還元反応を行った。
１５０分間の反応で系内のヒドロペルオキシド濃度がゼ
ロとなったので触媒を濾過によって分離して還元反応混
合物１８５ｇを得た。
【００４０】該還元反応混合物中のＴＣ濃度は１４．２
１重量％であり、仕込原料に含まれるＴＲＨＰ、ＨＤＨ
Ｐ、ＤＨＨＰおよびＴＣを合計した量を基準としたとき
の収率は９７．１ｍｏｌ％であった。この還元反応混合
物を５段のシーブトレー蒸留塔を用いて常圧で蒸留し
て、アセトンを留去した。
１重量％であり、仕込原料に含まれるＴＲＨＰ、ＨＤＨ
Ｐ、ＤＨＨＰおよびＴＣを合計した量を基準としたとき
の収率は９７．１ｍｏｌ％であった。この還元反応混合
物を５段のシーブトレー蒸留塔を用いて常圧で蒸留し
て、アセトンを留去した。
【００４１】塔底からはＴＣを含んだＭＩＢＫ溶液９８
重量部と水相４重量部を得た。塔底組成物は蒸留温度で
液体でありＴＣの晶析は認められなかった。この塔底組
成物から水相を分離後、油相を３０℃まで冷却して、析
出した結晶を濾過によって分離した。得られた結晶は２
４重量部であり、９５％の純度を持つＴＣであった。な
お、水素還元で得られたＴＣを基準としたＴＣの精製回
収率は８７％であった。
重量部と水相４重量部を得た。塔底組成物は蒸留温度で
液体でありＴＣの晶析は認められなかった。この塔底組
成物から水相を分離後、油相を３０℃まで冷却して、析
出した結晶を濾過によって分離した。得られた結晶は２
４重量部であり、９５％の純度を持つＴＣであった。な
お、水素還元で得られたＴＣを基準としたＴＣの精製回
収率は８７％であった。
【００４２】実施例４ 実施例２の水素還元反応を行う際に加える溶媒をメタノ
ールからアセトンに変更し、該水素還元反応の温度を６
５℃から６２℃に変更した以外は実施例２と同じ条件で
実験を行った。１８０分間の反応で系内のヒドロペルオ
キシド濃度がゼロとなったので触媒を濾過によって分離
し、還元反応混合物１７７ｇを得た。該還元反応混合物
中のＴＣ濃度は９．８０重量％であり、仕込原料に含ま
れるＴＲＨＰ、ＨＤＨＰ、ＤＨＨＰおよびＴＣを合計し
た量を基準としたときのＴＣの収率は９７．５ｍｏｌ％
であった。この還元反応混合物を５段シーブトレー蒸留
塔を用いて常圧で蒸留して、アセトンを留去した。
ールからアセトンに変更し、該水素還元反応の温度を６
５℃から６２℃に変更した以外は実施例２と同じ条件で
実験を行った。１８０分間の反応で系内のヒドロペルオ
キシド濃度がゼロとなったので触媒を濾過によって分離
し、還元反応混合物１７７ｇを得た。該還元反応混合物
中のＴＣ濃度は９．８０重量％であり、仕込原料に含ま
れるＴＲＨＰ、ＨＤＨＰ、ＤＨＨＰおよびＴＣを合計し
た量を基準としたときのＴＣの収率は９７．５ｍｏｌ％
であった。この還元反応混合物を５段シーブトレー蒸留
塔を用いて常圧で蒸留して、アセトンを留去した。
【００４３】塔底からはＴＣを含んだｎ−オクタノール
／トルエン溶液９７重量部と水相３重量部を得た。塔底
組成物は蒸留温度で液体でありＴＣの晶出は認められな
かった。この塔底組成物から水相を分離後、油相を３０
℃まで冷却して、析出した結晶を濾過によって分離し
た。得られた結晶は１２．４重量部であり、９６％の純
度を持つＴＣであった。なお、水素還元で得られたＴＣ
を基準としたＴＣの精製回収率は６９％であった。
／トルエン溶液９７重量部と水相３重量部を得た。塔底
組成物は蒸留温度で液体でありＴＣの晶出は認められな
かった。この塔底組成物から水相を分離後、油相を３０
℃まで冷却して、析出した結晶を濾過によって分離し
た。得られた結晶は１２．４重量部であり、９６％の純
度を持つＴＣであった。なお、水素還元で得られたＴＣ
を基準としたＴＣの精製回収率は６９％であった。
【００４４】比較例１ 実施例１の（１）で得られた酸化反応終了物１４０重量
部にアセトン２００重量部を加えて５０℃に加熱したと
ころ、水を溶解した均一な溶液が３４０重量部（ＴＲＨ
Ｐ濃度６．５３重量％、ＨＤＨＰ濃度１１．２１重量
％、ＤＨＨＰ濃度４．１２重量％、ＴＣ濃度０．５９重
量％、Ｈ2Ｏ濃度１１．８重量％）が得られた。
部にアセトン２００重量部を加えて５０℃に加熱したと
ころ、水を溶解した均一な溶液が３４０重量部（ＴＲＨ
Ｐ濃度６．５３重量％、ＨＤＨＰ濃度１１．２１重量
％、ＤＨＨＰ濃度４．１２重量％、ＴＣ濃度０．５９重
量％、Ｈ2Ｏ濃度１１．８重量％）が得られた。
【００４５】次に、ガス吹込管、攪拌機、還流冷却器を
付けた反応器に前記の溶液２７０重量部及び２％ Ｐｄ
／Ａｌ2Ｏ3 ５．４重量部を仕込み、６２℃に加温した
のち攪拌しながらガス吹込管より１００Ｎｌ／ｈｒの速
度で水素ガスを吹込んだ１８０分間の反応後でもヒドロ
ペルオキシドの転化率は４７％と低く、またこの時点以
降反応はほとんど進まなくなった。
付けた反応器に前記の溶液２７０重量部及び２％ Ｐｄ
／Ａｌ2Ｏ3 ５．４重量部を仕込み、６２℃に加温した
のち攪拌しながらガス吹込管より１００Ｎｌ／ｈｒの速
度で水素ガスを吹込んだ１８０分間の反応後でもヒドロ
ペルオキシドの転化率は４７％と低く、またこの時点以
降反応はほとんど進まなくなった。
【００４６】比較例２ 実施例１の（２）で得られた酸化反応生成混合物を含
む、水不溶性溶媒溶液１００重量部と、２％ Ｐｄ／Ａ
ｌ2Ｏ3 ２重量部をガス吹込管、攪拌機、還流冷却器を
付けた反応器に仕込み、攪拌しながら水素ガスを１００
Ｎｌ／ｈｒの速度で仕込み１００℃で反応を行った。反
応の進行と共に反応速度が遅くなり１８０分後にはヒド
ロペルオキシドの転化率６０％でほとんど反応しなくな
った。
む、水不溶性溶媒溶液１００重量部と、２％ Ｐｄ／Ａ
ｌ2Ｏ3 ２重量部をガス吹込管、攪拌機、還流冷却器を
付けた反応器に仕込み、攪拌しながら水素ガスを１００
Ｎｌ／ｈｒの速度で仕込み１００℃で反応を行った。反
応の進行と共に反応速度が遅くなり１８０分後にはヒド
ロペルオキシドの転化率６０％でほとんど反応しなくな
った。
Claims (2)
- 【請求項１】 トリヒドロペルオキシド、モノカルビノ
ールジヒドロペルオキシド及びジカルビノールモノヒド
ロペルオキシドからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三官能性ヒドロペルオキシド類を含む水不溶性溶媒溶
液を水素還元触媒の存在下に水素と接触させることから
なり、該反応系に水可溶性溶媒を存在させることにより
ヒドロペルオキシド含有混合溶媒溶液をつくり、水素還
元反応によって生成する水を該混合溶媒溶液に溶解させ
ながら該水素還元反応を行うことを特徴とするトリス
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの製造法。 - 【請求項２】 三官能性ヒドロペルオキシド類を含む水
不溶性溶媒溶液を、トリイソプロピルベンゼンの酸化反
応生成混合物を水不溶性溶媒に溶解して得ることを特徴
とする請求項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4292745A JPH07107002B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 芳香族トリアルコールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4292745A JPH07107002B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 芳香族トリアルコールの製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59101713A Division JPH0623115B2 (ja) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | 芳香族トリアルコ−ルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255160A JPH05255160A (ja) | 1993-10-05 |
| JPH07107002B2 true JPH07107002B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=17785787
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4292745A Expired - Fee Related JPH07107002B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 芳香族トリアルコールの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07107002B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5620532A (en) * | 1979-07-30 | 1981-02-26 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Preparation of aromatic dialcohol |
| JPS56167238A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-22 | Nec Corp | Delayed wave circuit |
| JPS5815931A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-01-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | ジ−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−ベンゼンの製造方法 |
-
1992
- 1992-10-30 JP JP4292745A patent/JPH07107002B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05255160A (ja) | 1993-10-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |