JPS60174737A - 芳香族アルコ−ルの製造法 - Google Patents
芳香族アルコ−ルの製造法Info
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- JPS60174737A JPS60174737A JP59030389A JP3038984A JPS60174737A JP S60174737 A JPS60174737 A JP S60174737A JP 59030389 A JP59030389 A JP 59030389A JP 3038984 A JP3038984 A JP 3038984A JP S60174737 A JPS60174737 A JP S60174737A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、芳香族ヒドロペ）Ｉ＜オキシドを水素で還元
して芳香族アルコールを製造する方法に関する。
して芳香族アルコールを製造する方法に関する。
芳香族アルコールは架橋剤等として有用な、例えばジク
ミルペルオキシド、ジー（２−ｔｅｒｔ−ブチルペルオ
キシ−２−プロピル）ベンゼン等のペルオキシドを製造
する際の合成原料となるものである。
ミルペルオキシド、ジー（２−ｔｅｒｔ−ブチルペルオ
キシ−２−プロピル）ベンゼン等のペルオキシドを製造
する際の合成原料となるものである。
該芳香族アルコールの従来の製造法については、芳香族
ヒドロペルオキシドを水素で還元する方法が、例えば、
英国特許第７９２５５８号公報および特公昭３９−２６
９６１号公報に記載されている。しかし、これらの方法
では触媒活性の低下がおこり、目的とする芳、香族アル
コールの収量が低いという欠点がある。そこで本発明者
等は、芳香族ヒドロペルオキシドの水素還元反応により
芳香族アルコールを高収率で製造する方法について検討
した結果、該水素還元反応を水素還元触媒およびアミン
類の共存下に行うことにより目的とする芳香族アルコー
ルが高収率で得られことを見出し、本発明を完成するに
致った。
ヒドロペルオキシドを水素で還元する方法が、例えば、
英国特許第７９２５５８号公報および特公昭３９−２６
９６１号公報に記載されている。しかし、これらの方法
では触媒活性の低下がおこり、目的とする芳、香族アル
コールの収量が低いという欠点がある。そこで本発明者
等は、芳香族ヒドロペルオキシドの水素還元反応により
芳香族アルコールを高収率で製造する方法について検討
した結果、該水素還元反応を水素還元触媒およびアミン
類の共存下に行うことにより目的とする芳香族アルコー
ルが高収率で得られことを見出し、本発明を完成するに
致った。
すなわち、本発明によれば、芳香族ヒドロペルオキシド
を水素還元触媒の存在下に水素と接触さセて還元するに
当たって、該還元反応をアミン類あるいは該水素還元反
応中にアミン類に変化し得る化合物の共存下に行うこと
を特徴とする芳香族アルコールの製造法、が提供される
。
を水素還元触媒の存在下に水素と接触さセて還元するに
当たって、該還元反応をアミン類あるいは該水素還元反
応中にアミン類に変化し得る化合物の共存下に行うこと
を特徴とする芳香族アルコールの製造法、が提供される
。
本発明の方法において、該水素還元反応の原料となる芳
香族ヒドロペルオキシドとしては、一般式ＣＩ） ２ Ｒ，−−Ｃ−−００Ｈ（１） ３ および一般式（ＩＩ） （両式中、Ｒ１および部ま単環あるいは２環以上の縮合
環からなる芳香族炭化水素の基を示し、Ｒλ、Ｒ３、Ｒ
５およびへは脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素あるいは
芳香族炭化水素の基を示し、ｎは２ないし４の整数を示
す。）で表わされる第３級の芳香族ヒドロペルオキシド
が好ましい。これらの芳香族ヒドロペルオキシドとして
具体的には、クメンヒドロペルオキシド、ｍ一体および
ｐ一体のシメンヒドロペルオキシド、ｍ一体およびｐ一
体のジイソプロピルベンゼンモノヒドロベルオキシド、
ｍ一体およびｐ一体のジイソプロピルベンゼンジヒドロ
ペルオキシド、ｍ一体およびｐ一体の（２−ヒドロキシ
−２−プロピル）−α、α−ジメチルベンジルヒドロペ
ルオキシド、トリイソプロピルベンゼントリヒドロペル
オキシドおよびイソプロビルナフクレンヒドロベルオキ
シド等の炭素数が９ないし１６からなる芳香族ヒドロペ
ルオキシドを例示できる。
香族ヒドロペルオキシドとしては、一般式ＣＩ） ２ Ｒ，−−Ｃ−−００Ｈ（１） ３ および一般式（ＩＩ） （両式中、Ｒ１および部ま単環あるいは２環以上の縮合
環からなる芳香族炭化水素の基を示し、Ｒλ、Ｒ３、Ｒ
５およびへは脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素あるいは
芳香族炭化水素の基を示し、ｎは２ないし４の整数を示
す。）で表わされる第３級の芳香族ヒドロペルオキシド
が好ましい。これらの芳香族ヒドロペルオキシドとして
具体的には、クメンヒドロペルオキシド、ｍ一体および
ｐ一体のシメンヒドロペルオキシド、ｍ一体およびｐ一
体のジイソプロピルベンゼンモノヒドロベルオキシド、
ｍ一体およびｐ一体のジイソプロピルベンゼンジヒドロ
ペルオキシド、ｍ一体およびｐ一体の（２−ヒドロキシ
−２−プロピル）−α、α−ジメチルベンジルヒドロペ
ルオキシド、トリイソプロピルベンゼントリヒドロペル
オキシドおよびイソプロビルナフクレンヒドロベルオキ
シド等の炭素数が９ないし１６からなる芳香族ヒドロペ
ルオキシドを例示できる。
本発明の方法において、芳香族ヒドロペルオキシドを水
素還元反応に使用するに当たっては、これを単独使用し
てもよく、あるいは前記した芳香族ヒドロペルオキシド
の中から適宜選択した２種類以上の芳香族ヒドロペルオ
キシドを混合物の形として使用してもよい。またこれ以
外にも、前記した一般式（１）あるいは一般式（ＩＩ）
で示されるヒドロペルオキシドに対応する芳香族炭化水
素（両式中、全ての一００Ｈ基をＨ原子に置き換えた化
合物）を酸素含有ガスで酸化して得られる該芳香族ヒド
ロペルオキシドを主成分として含ミ、かつ不純物として
アルコール類、ケトン類を含む酸化反応生成混合物を、
本発明の水素還元反応の原料として使用しても差しつか
えない。
素還元反応に使用するに当たっては、これを単独使用し
てもよく、あるいは前記した芳香族ヒドロペルオキシド
の中から適宜選択した２種類以上の芳香族ヒドロペルオ
キシドを混合物の形として使用してもよい。またこれ以
外にも、前記した一般式（１）あるいは一般式（ＩＩ）
で示されるヒドロペルオキシドに対応する芳香族炭化水
素（両式中、全ての一００Ｈ基をＨ原子に置き換えた化
合物）を酸素含有ガスで酸化して得られる該芳香族ヒド
ロペルオキシドを主成分として含ミ、かつ不純物として
アルコール類、ケトン類を含む酸化反応生成混合物を、
本発明の水素還元反応の原料として使用しても差しつか
えない。
本発明の方法による水素還元反応では、通常知られてい
る水素還元触媒を使用することができ、例えば、該触媒
の活性成分として、ニッケル、コバルト、白金、パラジ
ウムおよびロジウム等の金属をアルミナ、ケイソウ土、
活性炭、繊維、炭酸カルシウム、シリカ、シリカ−アル
ミナ、硫酸バリウムあるいは酸化チタン等の種々の担体
に担持した触媒、およびラネーニッケル、ラネーコバル
ト等の触媒を例示することができる。該触媒の中では水
素還元反応の活性が高く、また反応の進行に伴って通常
認められる触媒の活性低下の程度が小さいパラジウムを
活性成分とする触媒の使用が好ましい。該水素還元触媒
の使用量としては、前記芳香族ヒドロペルオキシドの１
モル当たり、該触媒の前記活性成分の量が通常は０．０
００５ないし５０ｇ、好ましくは０．００５ないし５ｇ
使用するのがよい。
る水素還元触媒を使用することができ、例えば、該触媒
の活性成分として、ニッケル、コバルト、白金、パラジ
ウムおよびロジウム等の金属をアルミナ、ケイソウ土、
活性炭、繊維、炭酸カルシウム、シリカ、シリカ−アル
ミナ、硫酸バリウムあるいは酸化チタン等の種々の担体
に担持した触媒、およびラネーニッケル、ラネーコバル
ト等の触媒を例示することができる。該触媒の中では水
素還元反応の活性が高く、また反応の進行に伴って通常
認められる触媒の活性低下の程度が小さいパラジウムを
活性成分とする触媒の使用が好ましい。該水素還元触媒
の使用量としては、前記芳香族ヒドロペルオキシドの１
モル当たり、該触媒の前記活性成分の量が通常は０．０
００５ないし５０ｇ、好ましくは０．００５ないし５ｇ
使用するのがよい。
本発明の方法においては、水素還元反応はアミン類ある
いは該反応中にアミン類に変化し得る化合物の共存下に
行われる。この場合のアミン類としては、プロピルアミ
ン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ジエチルア
ミンおよびトリエチルアミン等の脂肪族アミン、ピリジ
ン、ピロール、およびキノリン等の複素環式アミン、ア
ニリン、トルイジン、キシリジン、４，４′−ジアミノ
ジフェニルメタン、４．４’−ジアミノジフェニルエー
テル、ジフェニルアミンおよびトリフェニルアミン等の
芳香族アミンを例示することができる。また水素還元反
応中にアミン類に変化し得る化合物としては、ニトロメ
タン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物あるいはア
セトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル化合物
などを例示することができる。これらのアミン類または
アミン類に変化し得る化合物の使用量としては、水素還
元触媒を構成する活性成分の１ｇ原子当たり、アミン類
またはアミン類に変化し得る化合物は、通常はｌＸ１０
−６ないし１モル、好ましくはｌＸ１０−５ないし０．
１モルの範囲であり、また芳香族ヒドロペルオキシド１
モル当たり通常は１ないし１０−２ないし１モル、好ま
しくは１ ＆ １０−７ないし０．１モルの範囲である
。
いは該反応中にアミン類に変化し得る化合物の共存下に
行われる。この場合のアミン類としては、プロピルアミ
ン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ジエチルア
ミンおよびトリエチルアミン等の脂肪族アミン、ピリジ
ン、ピロール、およびキノリン等の複素環式アミン、ア
ニリン、トルイジン、キシリジン、４，４′−ジアミノ
ジフェニルメタン、４．４’−ジアミノジフェニルエー
テル、ジフェニルアミンおよびトリフェニルアミン等の
芳香族アミンを例示することができる。また水素還元反
応中にアミン類に変化し得る化合物としては、ニトロメ
タン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物あるいはア
セトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル化合物
などを例示することができる。これらのアミン類または
アミン類に変化し得る化合物の使用量としては、水素還
元触媒を構成する活性成分の１ｇ原子当たり、アミン類
またはアミン類に変化し得る化合物は、通常はｌＸ１０
−６ないし１モル、好ましくはｌＸ１０−５ないし０．
１モルの範囲であり、また芳香族ヒドロペルオキシド１
モル当たり通常は１ないし１０−２ないし１モル、好ま
しくは１ ＆ １０−７ないし０．１モルの範囲である
。
本発明の方法において、水素還元反応は溶媒の不存在下
に実施することもできるが、溶媒の存在下に実施するこ
とが好ましい。溶媒の存在下に実施する場合の溶媒とし
ては、水不溶性溶媒を使用することが好ましく、例えば
、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメン、ｍ
一体およびｐ一体のジイソプロピルベンゼン、イソプロ
ピルナフタレンおよびジイソプロピルナフタレン等の芳
香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ンおよびノナン等の脂肪族炭化水素、クロロボルム、四
塩化炭素、ジクロルエタン、トリク水素、メチルイソブ
チルケトン、ジイソブチルケトンおよびイソホロン等の
ケトン、エチルエーテル、プロピルエーテル、ブチルエ
ーテルおよびペンチルエーテル等のエーテルおよびヘキ
サノール、ヘプタツールおよびオクタツール等のアルコ
ールを例示できるが、この中でも特に好ましい水不溶性
溶媒としては芳香族炭化水素およびケトンである。溶媒
の使用量としては、芳香族ヒドロペルオキシドの種類あ
るいは溶媒の種類によっても異なるが、通常は芳香族ヒ
ドロペルオキシドの１００重量部当たり該水不溶液溶媒
を通常５ないし１０，０００重量部、好ましくは、２０
ないしｉ 、 ｏｏｏ重量部である。
に実施することもできるが、溶媒の存在下に実施するこ
とが好ましい。溶媒の存在下に実施する場合の溶媒とし
ては、水不溶性溶媒を使用することが好ましく、例えば
、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメン、ｍ
一体およびｐ一体のジイソプロピルベンゼン、イソプロ
ピルナフタレンおよびジイソプロピルナフタレン等の芳
香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ンおよびノナン等の脂肪族炭化水素、クロロボルム、四
塩化炭素、ジクロルエタン、トリク水素、メチルイソブ
チルケトン、ジイソブチルケトンおよびイソホロン等の
ケトン、エチルエーテル、プロピルエーテル、ブチルエ
ーテルおよびペンチルエーテル等のエーテルおよびヘキ
サノール、ヘプタツールおよびオクタツール等のアルコ
ールを例示できるが、この中でも特に好ましい水不溶性
溶媒としては芳香族炭化水素およびケトンである。溶媒
の使用量としては、芳香族ヒドロペルオキシドの種類あ
るいは溶媒の種類によっても異なるが、通常は芳香族ヒ
ドロペルオキシドの１００重量部当たり該水不溶液溶媒
を通常５ないし１０，０００重量部、好ましくは、２０
ないしｉ 、 ｏｏｏ重量部である。
本発明の方法において水素還元反応は前記芳香族ヒドロ
ペルオキシドに前記アミン類あるいは該反応中にアミン
類に変化し得る化合物および必要に応じて前記溶媒を含
む混合溶液に前記水素還元触媒を懸濁させて、水素を導
入する方法によって行われる。水素還元反応の際の水素
圧は通常は絶対圧で１０ｍｍ１１ｇないし５０ｋｇ／ｃ
れ好ましくは絶対圧で０．１ないし１０ ｋｇ ／ ｃ
ＴＡである。この場合水素だけを単独使用する方法以外
にもチッ素、ヘリウム等の不活性ガスを水素と共存使用
してもよい。
ペルオキシドに前記アミン類あるいは該反応中にアミン
類に変化し得る化合物および必要に応じて前記溶媒を含
む混合溶液に前記水素還元触媒を懸濁させて、水素を導
入する方法によって行われる。水素還元反応の際の水素
圧は通常は絶対圧で１０ｍｍ１１ｇないし５０ｋｇ／ｃ
れ好ましくは絶対圧で０．１ないし１０ ｋｇ ／ ｃ
ＴＡである。この場合水素だけを単独使用する方法以外
にもチッ素、ヘリウム等の不活性ガスを水素と共存使用
してもよい。
本発明の方法において、水素還元反応を溶媒の存在下に
実施する際に溶媒として前記した水不溶性溶媒を使用し
た場合には、該反応で生成する水を反応系外に除去しな
がら該水素還元反応を行うと目的とする芳香族アルコー
ルの収率が高くなるので好ましく、この方法として、例
えば、生成水を該水不溶性溶媒とともに共沸混合物を形
成させて反応系外に除去する共沸脱水の方法を採用する
のが好ましい。かかる共沸脱水の方法を採用する場合に
は、該水素還元反応の反応温度と反応圧力は、芳香族ヒ
ドロペルオキシドが水素還元され、かつ該共沸蒸留が行
える条件を共に満足するように設定することが必要であ
り、この場合の反応温度としては２０ないし２００℃が
好ましい。また反応圧力としては通常は絶対圧で１０ｍ
ｍ１１ｇないし５０ｋｇ ／ ａＪ、好ましくは絶対圧
で０．１ないし１０ ｋｇ ／ ｃＴＡである。前記共
沸混合物は反応系外において凝縮後、分液され、この際
の水不溶性溶媒は水素還元反応に再度循環使用できる。
実施する際に溶媒として前記した水不溶性溶媒を使用し
た場合には、該反応で生成する水を反応系外に除去しな
がら該水素還元反応を行うと目的とする芳香族アルコー
ルの収率が高くなるので好ましく、この方法として、例
えば、生成水を該水不溶性溶媒とともに共沸混合物を形
成させて反応系外に除去する共沸脱水の方法を採用する
のが好ましい。かかる共沸脱水の方法を採用する場合に
は、該水素還元反応の反応温度と反応圧力は、芳香族ヒ
ドロペルオキシドが水素還元され、かつ該共沸蒸留が行
える条件を共に満足するように設定することが必要であ
り、この場合の反応温度としては２０ないし２００℃が
好ましい。また反応圧力としては通常は絶対圧で１０ｍ
ｍ１１ｇないし５０ｋｇ ／ ａＪ、好ましくは絶対圧
で０．１ないし１０ ｋｇ ／ ｃＴＡである。前記共
沸混合物は反応系外において凝縮後、分液され、この際
の水不溶性溶媒は水素還元反応に再度循環使用できる。
分液された水は反応系外に除去される。
本発明の方法において、生成水の共沸蒸留を行いながら
該水素還元反応を行うための装置とじては、水素導入装
置、攪拌機および蒸留装置を備えた反応器が採用される
。水素還元反応は連続法、半連続法、および回分法のい
ずれでも実施することができる。水素還元反応中の攪拌
は通常知られている方法によって行われる。該水素還元
反応終了後の混合物から、傾斜法、濾別法、遠心分離法
などによって水素還元触媒を分離することによって液状
の還元反応混合物が得られる。該還元反応混合物中には
、水不溶性溶媒、芳香族アルコール、副生成物および未
反応の芳香族ヒドロペルオキシド等が含まれている。該
還元反応混合物から該芳香族アルコールを分離する方法
として具体的には、晶析法、蒸留法、抽出法などが採用
できる。晶析法としては、該還元反応混合物をそのまま
あるいは濃縮した後、該芳香族アルコールを結晶化゛さ
せる方法などを例示することができる。かくして得られ
た芳香族アルコールは必要があれば、前記水不溶性溶媒
から、この中でも特に好ましくは前記した芳香族炭化水
素またはケトン類から再結晶することによって一層純度
の高い芳香族アルコールを得ることができる。
該水素還元反応を行うための装置とじては、水素導入装
置、攪拌機および蒸留装置を備えた反応器が採用される
。水素還元反応は連続法、半連続法、および回分法のい
ずれでも実施することができる。水素還元反応中の攪拌
は通常知られている方法によって行われる。該水素還元
反応終了後の混合物から、傾斜法、濾別法、遠心分離法
などによって水素還元触媒を分離することによって液状
の還元反応混合物が得られる。該還元反応混合物中には
、水不溶性溶媒、芳香族アルコール、副生成物および未
反応の芳香族ヒドロペルオキシド等が含まれている。該
還元反応混合物から該芳香族アルコールを分離する方法
として具体的には、晶析法、蒸留法、抽出法などが採用
できる。晶析法としては、該還元反応混合物をそのまま
あるいは濃縮した後、該芳香族アルコールを結晶化゛さ
せる方法などを例示することができる。かくして得られ
た芳香族アルコールは必要があれば、前記水不溶性溶媒
から、この中でも特に好ましくは前記した芳香族炭化水
素またはケトン類から再結晶することによって一層純度
の高い芳香族アルコールを得ることができる。
次に実施例により本発明の方法を更に詳細に説明する。
実施例１
反応器上部に取り付けられた、油水分離器の付いた還流
冷却器、水素導入管、攪拌器およびステンレス製のフィ
ルター（穴の径が２ミクロン）を取り付けた反応液取り
出し管を有する反応容積１５０ｍ１の連続水素還元反応
槽に２％Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ巽２．０ｇ仕込み、該反応槽の
内部温度を１５０℃に保ちながら、５０ｐｐｍのアニリ
ンを添加した、２２−ｔ％のクメンヒドロペルオキシド
を含むクメン溶液と水素ガスをそれぞれ１００ｍ１／ｈ
ｒおよび４５ＮＩ／ｈｒの速度で連続的に供給し、クメ
ンヒドロペルオキシドを常圧下で連続的に水素還元した
。該反応時に留出してくるクメンと水は還流冷却器で冷
却し、油水分離器で油層と水層に分離した後、油層は反
応系内に戻し、水層は反応系外に除去した。該水素還元
反応で生成した還元反応混合物は反応系内での平均滞留
時間が１．５時間となるように一定量つづフィルターを
有する反応液取り出し管から連続的に反応系外に抜き出
した。８時間の反応で触媒を含まない還元反応混合物６
９０ｇが得られた。該還元反応混合物中のクメンヒドロ
ペルオキシドの濃度は０．０２ｗｔ％以下、α−クミル
アルコールの濃度ハ１９．６５ ｗｔ％であり、供給し
た原料中のクメンヒドロペルオキシドを基準としたα−
クミルアルコールの収率は９８．８ｍｏ１％であった。
冷却器、水素導入管、攪拌器およびステンレス製のフィ
ルター（穴の径が２ミクロン）を取り付けた反応液取り
出し管を有する反応容積１５０ｍ１の連続水素還元反応
槽に２％Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ巽２．０ｇ仕込み、該反応槽の
内部温度を１５０℃に保ちながら、５０ｐｐｍのアニリ
ンを添加した、２２−ｔ％のクメンヒドロペルオキシド
を含むクメン溶液と水素ガスをそれぞれ１００ｍ１／ｈ
ｒおよび４５ＮＩ／ｈｒの速度で連続的に供給し、クメ
ンヒドロペルオキシドを常圧下で連続的に水素還元した
。該反応時に留出してくるクメンと水は還流冷却器で冷
却し、油水分離器で油層と水層に分離した後、油層は反
応系内に戻し、水層は反応系外に除去した。該水素還元
反応で生成した還元反応混合物は反応系内での平均滞留
時間が１．５時間となるように一定量つづフィルターを
有する反応液取り出し管から連続的に反応系外に抜き出
した。８時間の反応で触媒を含まない還元反応混合物６
９０ｇが得られた。該還元反応混合物中のクメンヒドロ
ペルオキシドの濃度は０．０２ｗｔ％以下、α−クミル
アルコールの濃度ハ１９．６５ ｗｔ％であり、供給し
た原料中のクメンヒドロペルオキシドを基準としたα−
クミルアルコールの収率は９８．８ｍｏ１％であった。
実施例２〜６
表１に示す各種のアミン類を所定の濃度含む、２２ｗｔ
％のクメンヒドロペルオキシド含有クメン溶液を原料と
して用いた以外は、実施例１と同様の方法で水素還元反
応を行った。結果を第１表に示昆 一 ・＼ 弄 セ ム 実施例７．８ 表２に示すニトロ化合物またはニトリル化合物を所定の
濃度含む、２２ｗ ｔ％クメンヒドロペルオキシド含有
クメン溶液を原料として用いた以外は実 施 例 ｌと
同様の方法で水素還元反応を行った。
％のクメンヒドロペルオキシド含有クメン溶液を原料と
して用いた以外は、実施例１と同様の方法で水素還元反
応を行った。結果を第１表に示昆 一 ・＼ 弄 セ ム 実施例７．８ 表２に示すニトロ化合物またはニトリル化合物を所定の
濃度含む、２２ｗ ｔ％クメンヒドロペルオキシド含有
クメン溶液を原料として用いた以外は実 施 例 ｌと
同様の方法で水素還元反応を行った。
実施例９
実施例１に″記載した連続水素還元反応槽に２％Ｐｄ
／ Ａ Ｉ２０６２ ｇ仕込み、該反応槽の内部温度を
１１６℃に保ちながら、５０ｐｐｍの４．４′−ジアミ
ノジフェニルメタンを添加した、ｐ−ジイソプロピルベ
ンゼンの空気酸化生成物を含むメチルイソブチルケトン
溶液（メチルイソブチルケトンの濃度６９４％、ｐ−ジ
イソプロピルベンゼンジヒドロペルオキシドの濃ｐ１５
．３ｗｔ％、ｐ−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−
α、α−ジメチルベンジルヒドロペルオキシドの濃度６
．１ｗｔ％、１．４−ヒス（２−ヒドロキシ−２−プロ
ピル）ベンゼンの濃度０．５ ｗｔ％）と水素ガスとを
それぞれ５０ｍ１／ｈｒ、 ３０Ｉｌｌ／ｈｒの速度で
連続的に供給し、常圧下で連続水素還元反応を行った。
／ Ａ Ｉ２０６２ ｇ仕込み、該反応槽の内部温度を
１１６℃に保ちながら、５０ｐｐｍの４．４′−ジアミ
ノジフェニルメタンを添加した、ｐ−ジイソプロピルベ
ンゼンの空気酸化生成物を含むメチルイソブチルケトン
溶液（メチルイソブチルケトンの濃度６９４％、ｐ−ジ
イソプロピルベンゼンジヒドロペルオキシドの濃ｐ１５
．３ｗｔ％、ｐ−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−
α、α−ジメチルベンジルヒドロペルオキシドの濃度６
．１ｗｔ％、１．４−ヒス（２−ヒドロキシ−２−プロ
ピル）ベンゼンの濃度０．５ ｗｔ％）と水素ガスとを
それぞれ５０ｍ１／ｈｒ、 ３０Ｉｌｌ／ｈｒの速度で
連続的に供給し、常圧下で連続水素還元反応を行った。
反応時に留出してくる水とメチルイソブチルケトンは還
流冷却器で冷却し、油水分離器で油層と水層とに分離し
たのち、油層は反応系内に戻し、水層は反応系外に除去
した。
流冷却器で冷却し、油水分離器で油層と水層とに分離し
たのち、油層は反応系内に戻し、水層は反応系外に除去
した。
反応内容物は、反応系内での平均滞留時間が３時間とな
るように、一定量づつフィルターを有する反応液取り出
し管から連続的に反応系外に抜きだした。１０時間の反
応で触媒を含まない還元反応混合物４０３ｇが得られた
。該還元反応混合物中のヒドロペルオキシド濃度は０．
０１ｗｔ％以下（ｐ−ジイソプロピルベンゼンモノヒド
ロペルオキシド換算）、１．４−ヒス（２−ヒドロキシ
−２−プロピル）ベンゼン濃度、は１９．４８ｗｔ％で
あり、原料中のｐ−ジイソプロピルベンゼンジヒドロペ
ルオキシド、ｐ−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−
α、α−ジメチルベンジルヒドロペルオキシドおよび１
，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン
の総量を基準とした１、４−ビス（２−ヒドロキシ−２
−プロピル）ベンゼンの収率は９８．２ｍｏ１％であっ
た。
るように、一定量づつフィルターを有する反応液取り出
し管から連続的に反応系外に抜きだした。１０時間の反
応で触媒を含まない還元反応混合物４０３ｇが得られた
。該還元反応混合物中のヒドロペルオキシド濃度は０．
０１ｗｔ％以下（ｐ−ジイソプロピルベンゼンモノヒド
ロペルオキシド換算）、１．４−ヒス（２−ヒドロキシ
−２−プロピル）ベンゼン濃度、は１９．４８ｗｔ％で
あり、原料中のｐ−ジイソプロピルベンゼンジヒドロペ
ルオキシド、ｐ−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−
α、α−ジメチルベンジルヒドロペルオキシドおよび１
，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン
の総量を基準とした１、４−ビス（２−ヒドロキシ−２
−プロピル）ベンゼンの収率は９８．２ｍｏ１％であっ
た。
実施例１０
水素還元触媒として、２％Ｐｄ／Ａ１２Ｑ、 ２ ｇを
仕込む代わりに５％Ｐｄ／Ｃ，２ｇを仕込み、原料中の
４．４°−ジアミノジフェニルメタンの濃度を５０ｐｐ
ｍから１１００ｐｐに上げた以外は、実施例９に記載し
たのと同様の方法でｐ−ジイソプロピルベンゼン空気酸
化生成物の連続水素還元反応を行った。
仕込む代わりに５％Ｐｄ／Ｃ，２ｇを仕込み、原料中の
４．４°−ジアミノジフェニルメタンの濃度を５０ｐｐ
ｍから１１００ｐｐに上げた以外は、実施例９に記載し
たのと同様の方法でｐ−ジイソプロピルベンゼン空気酸
化生成物の連続水素還元反応を行った。
得られた還元反応混合物を分析した結果、ヒドロペルオ
キシド転化率は１００％であり、原料中のｐ−ジイソプ
ロピルベンゼンジヒドロペルオキシド、ｐ−（２−ヒド
ロキシ−２−プロピル）−α、α−ジメチルベンジルヒ
ドロペルオキシドおよび１．４−ビス（２−ヒドロキシ
−２−プロピル）ベンゼンの総量を基準とする１、４−
ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの収率
は９８．１ｍｏ１％であった。
キシド転化率は１００％であり、原料中のｐ−ジイソプ
ロピルベンゼンジヒドロペルオキシド、ｐ−（２−ヒド
ロキシ−２−プロピル）−α、α−ジメチルベンジルヒ
ドロペルオキシドおよび１．４−ビス（２−ヒドロキシ
−２−プロピル）ベンゼンの総量を基準とする１、４−
ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの収率
は９８．１ｍｏ１％であった。
実施例１１
反応器上部に取り付けられた、油水分離器の付いた還流
冷却器、水素導入管および攪拌器を備えた内容積５００
ｍ ｌの還元反応器にトルエン１００ｇ、２％Ｐｄ／Ａ
１２Ｑ３４．５ｇ、および４，４”−ジアミノジフェニ
ルメタン９ｍｇを仕込み、該反応器の内部温度を１２２
℃、水素圧（絶対圧）を１．５ｋｇ／ｃ艷に保ちながら
、ｍ−ジイソプロピルベンゼンの空気酸化反応生成物−
トルエン溶液（トルエン濃度４９ｗｔ％、ｍ−ジイソプ
ロピルベンゼンジヒドロペルオキシド２５．０ｗｔ％、
ｍ−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−α、α−ジメ
チルベンジルヒドロペルオキシド１２．３ｗｔ％、１，
３−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン１
．１ｗｔ％） ２００ｇを１００ｇ／ｈｒの速度で、ま
た水素ガスを３ＯＮ１／ｈｒの速度でそれぞれ反応系内
に連続的に供給して水素還元反応を行った。反応時に留
出するトルエン、水は還流冷却器で冷却し、油水分離器
で油層と水層とに分離したのち、油層は反応系内に戻し
、水層は反応系外に抜きだした。原料添加終了後、１０
分間反応を続けたのち、触媒を濾別して還元反応混合物
２９２ｇを得た。該還元反応混合物中のヒドロペルオキ
シド濃度は０．０１ｔｍｔ％以下（ｍ−ジイソプロピル
ベンゼンモノヒドロベルオキシド換算） 、１．３−ビ
ス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの濃度は
２２．９３ ｗｔ％であり、原料中のｍ−ジイソプロピ
ルベンゼンジヒドロペルオキシド、ｍ−（２−ヒドロキ
シ−２−プロピル）−α、α−ジメチルベンジルヒドロ
ペルオキシドおよび１，３−ビス（２−ヒドロキシ−２
−プロピル）ベンゼンの総量を基準とする１、３−ビス
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの収率は９
８．７ｍｏ１％であった。
冷却器、水素導入管および攪拌器を備えた内容積５００
ｍ ｌの還元反応器にトルエン１００ｇ、２％Ｐｄ／Ａ
１２Ｑ３４．５ｇ、および４，４”−ジアミノジフェニ
ルメタン９ｍｇを仕込み、該反応器の内部温度を１２２
℃、水素圧（絶対圧）を１．５ｋｇ／ｃ艷に保ちながら
、ｍ−ジイソプロピルベンゼンの空気酸化反応生成物−
トルエン溶液（トルエン濃度４９ｗｔ％、ｍ−ジイソプ
ロピルベンゼンジヒドロペルオキシド２５．０ｗｔ％、
ｍ−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）−α、α−ジメ
チルベンジルヒドロペルオキシド１２．３ｗｔ％、１，
３−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼン１
．１ｗｔ％） ２００ｇを１００ｇ／ｈｒの速度で、ま
た水素ガスを３ＯＮ１／ｈｒの速度でそれぞれ反応系内
に連続的に供給して水素還元反応を行った。反応時に留
出するトルエン、水は還流冷却器で冷却し、油水分離器
で油層と水層とに分離したのち、油層は反応系内に戻し
、水層は反応系外に抜きだした。原料添加終了後、１０
分間反応を続けたのち、触媒を濾別して還元反応混合物
２９２ｇを得た。該還元反応混合物中のヒドロペルオキ
シド濃度は０．０１ｔｍｔ％以下（ｍ−ジイソプロピル
ベンゼンモノヒドロベルオキシド換算） 、１．３−ビ
ス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの濃度は
２２．９３ ｗｔ％であり、原料中のｍ−ジイソプロピ
ルベンゼンジヒドロペルオキシド、ｍ−（２−ヒドロキ
シ−２−プロピル）−α、α−ジメチルベンジルヒドロ
ペルオキシドおよび１，３−ビス（２−ヒドロキシ−２
−プロピル）ベンゼンの総量を基準とする１、３−ビス
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの収率は９
８．７ｍｏ１％であった。
比較例１
原料として、アニリンを添加しない２２ｉｙ ｔ％のク
メンヒドロペルオキシドを含有するクメン溶液を用いた
以外は、実施例１に記載したのと同様の方法でクメンヒ
ドロペルオキシドの連続水素還元反応を行った。還元反
応混合物を分析した結果、クメンヒドロペルオキシド転
化率は１００％、原料中のクメンヒドロペルオキシドを
基準とするα−クミルアルコールの収率は８７ｍｏ１％
であった。
メンヒドロペルオキシドを含有するクメン溶液を用いた
以外は、実施例１に記載したのと同様の方法でクメンヒ
ドロペルオキシドの連続水素還元反応を行った。還元反
応混合物を分析した結果、クメンヒドロペルオキシド転
化率は１００％、原料中のクメンヒドロペルオキシドを
基準とするα−クミルアルコールの収率は８７ｍｏ１％
であった。
比較例２
原料として４，４゛−ジアミノジフェニルメタンを添加
しないｐ−ジイソプロピルベンゼン空気酸化反応生成物
を含有するメチルイソブチルケトン溶液を用いた以外は
、実施例９に記載したのと同様の方法でｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン空気酸化反応生成物の水素還元を行った。
しないｐ−ジイソプロピルベンゼン空気酸化反応生成物
を含有するメチルイソブチルケトン溶液を用いた以外は
、実施例９に記載したのと同様の方法でｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン空気酸化反応生成物の水素還元を行った。
還元反応混合物を分析した結果、該ヒドロペルオキシド
転化率は１００％であり、原料中のｐ−ジイソプロピル
ベンゼンジヒドロペルオキシド、ｐ −（２−ヒドロキ
シ２−プロピル）−α、α−ジメチルベンジルヒドロペ
ルオキシドおよび１，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−
プロピル）ベンゼンの総量を基準とする１、４−ビス（
２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの収率は８９
ｍｏ１％であった。また実施例９で得られた還元混合物
中のｐ−ジイソプロピルベンゼンおよびｐ−イソプロピ
ル−α、α−ジメチルベンジルアルコールの濃度は各々
０．２ｗｔ％および２．３ ｗｔ％であったのに対し、
本反応で得られた還元反応混合物中のｐ−ジイソプロピ
ルベンゼンおよｑｐ−イソプロピル−α、α−ジメチル
ベンジルアルコールの濃度は各々０．５ｗｔ％および４
．１ｗｔ％と高く、本反応では１．４−ビス（２−ヒド
ロキシ−２−プロピ１０号ベンゼンの水素化分解が起こ
っているとかわかった。
転化率は１００％であり、原料中のｐ−ジイソプロピル
ベンゼンジヒドロペルオキシド、ｐ −（２−ヒドロキ
シ２−プロピル）−α、α−ジメチルベンジルヒドロペ
ルオキシドおよび１，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−
プロピル）ベンゼンの総量を基準とする１、４−ビス（
２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンの収率は８９
ｍｏ１％であった。また実施例９で得られた還元混合物
中のｐ−ジイソプロピルベンゼンおよびｐ−イソプロピ
ル−α、α−ジメチルベンジルアルコールの濃度は各々
０．２ｗｔ％および２．３ ｗｔ％であったのに対し、
本反応で得られた還元反応混合物中のｐ−ジイソプロピ
ルベンゼンおよｑｐ−イソプロピル−α、α−ジメチル
ベンジルアルコールの濃度は各々０．５ｗｔ％および４
．１ｗｔ％と高く、本反応では１．４−ビス（２−ヒド
ロキシ−２−プロピ１０号ベンゼンの水素化分解が起こ
っているとかわかった。
Claims (1)
- ＋１１ 芳香族ヒドロペルオキシドを水素還元触媒の存
在下に水素と接触させて還元するに当たって、該還元反
応をアミン類あるいは該水素還元反応中にアミン類に変
化し得る化合物の共存下に行うことを特徴とする芳香族
アルコールの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59030389A JPS60174737A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | 芳香族アルコ−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59030389A JPS60174737A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | 芳香族アルコ−ルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60174737A true JPS60174737A (ja) | 1985-09-09 |
| JPH0432810B2 JPH0432810B2 (ja) | 1992-06-01 |
Family
ID=12302550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59030389A Granted JPS60174737A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | 芳香族アルコ−ルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60174737A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5023383A (en) * | 1989-01-13 | 1991-06-11 | Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. | Method for producing aromatic alcohol |
| CN1051541C (zh) * | 1993-03-31 | 2000-04-19 | 兰州大学 | 2-苯基-2-丙醇的制造方法 |
| JP2006509829A (ja) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク | フェノール、アセトン、α−メチルスチレン及び酸化プロピレンのコプロダクション及びその触媒 |
| CN102617279A (zh) * | 2012-03-31 | 2012-08-01 | 浙江工业大学 | 一种由胺类化合物制备醇类化合物的方法 |
| CN102911014A (zh) * | 2011-08-04 | 2013-02-06 | 中国石油化工股份有限公司 | 生产二-(2-羟基异丙基)苯的方法 |
-
1984
- 1984-02-22 JP JP59030389A patent/JPS60174737A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5023383A (en) * | 1989-01-13 | 1991-06-11 | Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. | Method for producing aromatic alcohol |
| CN1051541C (zh) * | 1993-03-31 | 2000-04-19 | 兰州大学 | 2-苯基-2-丙醇的制造方法 |
| JP2006509829A (ja) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク | フェノール、アセトン、α−メチルスチレン及び酸化プロピレンのコプロダクション及びその触媒 |
| CN102911014A (zh) * | 2011-08-04 | 2013-02-06 | 中国石油化工股份有限公司 | 生产二-(2-羟基异丙基)苯的方法 |
| CN102911014B (zh) * | 2011-08-04 | 2015-04-08 | 中国石油化工股份有限公司 | 生产二-(2-羟基异丙基)苯的方法 |
| CN102617279A (zh) * | 2012-03-31 | 2012-08-01 | 浙江工业大学 | 一种由胺类化合物制备醇类化合物的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0432810B2 (ja) | 1992-06-01 |
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