JPS60235746A - 近赤外線遮断ガラス - Google Patents
近赤外線遮断ガラスInfo
- Publication number
- JPS60235746A JPS60235746A JP9259984A JP9259984A JPS60235746A JP S60235746 A JPS60235746 A JP S60235746A JP 9259984 A JP9259984 A JP 9259984A JP 9259984 A JP9259984 A JP 9259984A JP S60235746 A JPS60235746 A JP S60235746A
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- JP
- Japan
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- glass
- film
- oxide film
- glass plate
- substrate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ａ産業上の利用分野
本発明は、近赤外線の透過率の小さい近赤外線遮断ガラ
スに関し特にＯＪ視光透過率の大きい近赤外線遮断ガラ
スに関する。
スに関し特にＯＪ視光透過率の大きい近赤外線遮断ガラ
スに関する。
ｂ従来技術
近年冷房負荷の軽減を目的に熱線吸収ガラスおよび熱線
反射ガラスが建築物に対して広く用いられてきている。
反射ガラスが建築物に対して広く用いられてきている。
ここで熱線吸収ガラスとは通常のガラス板に対して酸化
鉄、酸化コバルト、酸化ニッケル、セレとにより太陽エ
イ・ルギーの建築物内への流入を防止するものである。
鉄、酸化コバルト、酸化ニッケル、セレとにより太陽エ
イ・ルギーの建築物内への流入を防止するものである。
又熱線反射カラスとは自営ガラス板表面に酸化鉄、酸化
クロム、酸化コバルト、酸化チタニウムなど又は金、ニ
ッケル、銅、クロミウムなどの薄膜を被覆したものであ
り、薄膜の光干渉効果を用いて表面反射率を高め太陽工
不ルギーを防止するものであった。
クロム、酸化コバルト、酸化チタニウムなど又は金、ニ
ッケル、銅、クロミウムなどの薄膜を被覆したものであ
り、薄膜の光干渉効果を用いて表面反射率を高め太陽工
不ルギーを防止するものであった。
又一般に太陽光線のエネルギー構成は紫外部約ｑ％、町
視部約ＳＯ％、近赤外部約ｌ乙％であり、太陽光のエネ
ルギー透過率を効率的に低下させる目的で上記熱線吸収
ガラス又は熱線反射ガラスの近赤外部の光の吸収又は反
射を増加させると、それに伴って可視部の光の吸収が増
加してしまい、建築物内が極端に暗くなってしまうとい
う欠点があった。
視部約ＳＯ％、近赤外部約ｌ乙％であり、太陽光のエネ
ルギー透過率を効率的に低下させる目的で上記熱線吸収
ガラス又は熱線反射ガラスの近赤外部の光の吸収又は反
射を増加させると、それに伴って可視部の光の吸収が増
加してしまい、建築物内が極端に暗くなってしまうとい
う欠点があった。
Ｃ発明が解決しようとする問題点
本発明は、近赤外光の透過率が小さい近赤外線遮断ガラ
スを提供することをその目的とし、特にｉｉＪ視光透過
率が高く近赤外の透過率がひくい近赤外線遮断ガラスを
提供する口とをその目的とする。
スを提供することをその目的とし、特にｉｉＪ視光透過
率が高く近赤外の透過率がひくい近赤外線遮断ガラスを
提供する口とをその目的とする。
ｄ間脳点を解決するための手段
本発明は、基板ガラス上に設けられたタングステンおよ
び／またはモリブデンの酸化物膜、および該酸化物膜上
に直接設けられた有機質および／または無機質からなる
保護層を有する近赤外遮断ガラスである。
び／またはモリブデンの酸化物膜、および該酸化物膜上
に直接設けられた有機質および／または無機質からなる
保護層を有する近赤外遮断ガラスである。
ここで基板ガラスとしては通常の透明ガラス板、熱線吸
収ガラス、熱線反射ガラスなどのガラス板が使用出来る
。内でも可視光透過率の比較的高いガラスが好ましい。
収ガラス、熱線反射ガラスなどのガラス板が使用出来る
。内でも可視光透過率の比較的高いガラスが好ましい。
タングステンおよび／またはモリブデンの酸化物膜とし
ては青色発色を起こした膜が好まれ、その製造方法とし
ては以下の方法等により製造出来る。
ては青色発色を起こした膜が好まれ、その製造方法とし
ては以下の方法等により製造出来る。
その第１の方法は特開昭Ｓざ一／７２２３／に開示され
た方法であり、遷移金属酸イオンと脂肪族カルボン酸イ
オンとを含む酸性液を電解還元した後還元反応生成物を
含む該液中に基材を浸漬して該基材表面に遷移金属酸化
物を形成する方法（以下析出法と略称する）である。
た方法であり、遷移金属酸イオンと脂肪族カルボン酸イ
オンとを含む酸性液を電解還元した後還元反応生成物を
含む該液中に基材を浸漬して該基材表面に遷移金属酸化
物を形成する方法（以下析出法と略称する）である。
この様に形成された酸化タングステンおよび／または酸
化モリブデンの膜では５価のタングステンおよび／また
はモリブデンによる吸収のために可視光部に吸収が少な
く近赤外部で太きｔＪ＠収を示す外観青色の被膜となっ
ている。
化モリブデンの膜では５価のタングステンおよび／また
はモリブデンによる吸収のために可視光部に吸収が少な
く近赤外部で太きｔＪ＠収を示す外観青色の被膜となっ
ている。
又この方法によれば基材（ガラス板）を浸漬する時のｌ
７１１１度を調整することで、生成される該酸化物膜の
光線１吸収特性を直接制御することが出来る。
７１１１度を調整することで、生成される該酸化物膜の
光線１吸収特性を直接制御することが出来る。
ｉｉＪ視域の吸ＩＮが比較的小さく近赤外部の吸収の大
きな被膜を得るためには浸漬液の温度を低くするツカ良
く、ｌＯ〜／Ｓ″Ｃの温度の浸漬液を用いるのが好まし
い。
きな被膜を得るためには浸漬液の温度を低くするツカ良
く、ｌＯ〜／Ｓ″Ｃの温度の浸漬液を用いるのが好まし
い。
又この様な青色発色を示したタングステンおよび／また
はモリブデンの酸化物膜を作成するには、通常のスパッ
ター法等の気相成長法も応用出来る。
はモリブデンの酸化物膜を作成するには、通常のスパッ
ター法等の気相成長法も応用出来る。
それは表面に導電性被膜を有する基板上に気相成長法に
より該酸化物膜を形成し、この基板を電解質内に浸漬し
て電圧を印加し、該酸化物膜のエレクトロクロミズムを
利用して発色を起こさせる方法である。
より該酸化物膜を形成し、この基板を電解質内に浸漬し
て電圧を印加し、該酸化物膜のエレクトロクロミズムを
利用して発色を起こさせる方法である。
上記方法等で作製されたタングステンおよび／またはモ
リブデンの酸化物膜は保護層によって、その耐水性、耐
擦傷性などを保証され、耐候性良好な近赤外線吸収膜と
なる。
リブデンの酸化物膜は保護層によって、その耐水性、耐
擦傷性などを保証され、耐候性良好な近赤外線吸収膜と
なる。
ここで上記タングステンおよび／またはモリブデンの酸
化物被膜は水に対する溶解性を有し、又空気中にある酸
素によって酸化され無色のＶ、膜に変色してしまったり
、耐擦傷性が悪いなど保護層を形成しないと耐候性上問
題がある。
化物被膜は水に対する溶解性を有し、又空気中にある酸
素によって酸化され無色のＶ、膜に変色してしまったり
、耐擦傷性が悪いなど保護層を形成しないと耐候性上問
題がある。
該保護層は空気の流通を防止し、耐候性、ＩＩ擦傷性の
良好な被膜が好まれ有機質おＪ、び／または無機質から
なる保護層が使用される。例えばポリエステル、ポリエ
チレン、ポリスチレ／、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル
、トリアセ−アート、ナイロンなどの密着性、対透水性
に１ぐれた４１機膜および酸化珪素、酸化チタン、酸化
アルミニウムなどの光吸収の少ない無機酸化物破膜なと
がその例として上げられる。
良好な被膜が好まれ有機質おＪ、び／または無機質から
なる保護層が使用される。例えばポリエステル、ポリエ
チレン、ポリスチレ／、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル
、トリアセ−アート、ナイロンなどの密着性、対透水性
に１ぐれた４１機膜および酸化珪素、酸化チタン、酸化
アルミニウムなどの光吸収の少ない無機酸化物破膜なと
がその例として上げられる。
該保護膜の形成方法としては、該遷移金属酸化物膜の構
造（青色発色）が２ Ｊ Ｏ’Ｃ以上の加熱により変化
してしまうので、低湿で被膜形成の出来る塗布法、ディ
ッピング法、スパッタリング法などが好まれる。
造（青色発色）が２ Ｊ Ｏ’Ｃ以上の加熱により変化
してしまうので、低湿で被膜形成の出来る塗布法、ディ
ッピング法、スパッタリング法などが好まれる。
又上記保護層としては、接着用有機中間膜および表面ガ
ラス板からなる２重構造のものが好まれ、該酸化物膜つ
き基板ガラスと表面ガラス板とが該接着用有機中間＠に
よって合せガラス状に接着されている構造が好まれる。
ラス板からなる２重構造のものが好まれ、該酸化物膜つ
き基板ガラスと表面ガラス板とが該接着用有機中間＠に
よって合せガラス状に接着されている構造が好まれる。
上記構造であれば特に耐候性が良好な近赤外線遮断ガラ
スとなる。
スとなる。
上記合せガラスに使用される中間膜としてはポリビニル
ブチラール膜、エチルビニルアセテート膜、ポリビニル
クロライド膜、ポリウレタン膜等の通常の合せガラス用
の中間膜が使用出来る。又表面ガラス板も基板ガラスと
同様、通常の透明ガ熱 ラス板、％線吸収ガラス、熱線反射ガラスなどのガラス
板が使用できる。
ブチラール膜、エチルビニルアセテート膜、ポリビニル
クロライド膜、ポリウレタン膜等の通常の合せガラス用
の中間膜が使用出来る。又表面ガラス板も基板ガラスと
同様、通常の透明ガ熱 ラス板、％線吸収ガラス、熱線反射ガラスなどのガラス
板が使用できる。
ｅ実 施 例
実施例 ／
水／ｌあたりタングステン酸カリウムＯ，ＯＳ モルと
修酸０．０７！； モルを水に加えＰＨ，！の混合水溶
液を調整した。この混合水溶液を７０″ＣＫ保持し、溶
液中に鉛板のカソード電極およびカーボンロンドの了／
−ド電極を浸漬し、両電極間に電流密度２０Ａ／ｍ２の
電圧を印加し、１時間電解還元を行ない理論上電解還元
に必要な電気量の約へｇ倍の電気量を供給した。
修酸０．０７！； モルを水に加えＰＨ，！の混合水溶
液を調整した。この混合水溶液を７０″ＣＫ保持し、溶
液中に鉛板のカソード電極およびカーボンロンドの了／
−ド電極を浸漬し、両電極間に電流密度２０Ａ／ｍ２の
電圧を印加し、１時間電解還元を行ない理論上電解還元
に必要な電気量の約へｇ倍の電気量を供給した。
無色透明であった溶液は口の１１ Ｍ １元により青緑
色に変化した。このように電解還元を行なった後、反応
生成物を含む溶液を５つに分け、それぞｈｊ″Ｃ９１０
℃、１５°Ｃ９２０°Ｃ，２３″ＣＫ保持し、この中に
たて３ｏｍｍ、よこ１００ｍｍ、厚味へ／ｍｍの酸化錫
被覆ガラスを浸漬した。ここで酸化錫被覆ガラスの片面
はマスキングテープで被覆しておき溶液に浸漬する浸漬
時間を調整して各々膜厚約２０００大の酸化タングステ
ン膜を酸化錫被膜上に形成させた。
色に変化した。このように電解還元を行なった後、反応
生成物を含む溶液を５つに分け、それぞｈｊ″Ｃ９１０
℃、１５°Ｃ９２０°Ｃ，２３″ＣＫ保持し、この中に
たて３ｏｍｍ、よこ１００ｍｍ、厚味へ／ｍｍの酸化錫
被覆ガラスを浸漬した。ここで酸化錫被覆ガラスの片面
はマスキングテープで被覆しておき溶液に浸漬する浸漬
時間を調整して各々膜厚約２０００大の酸化タングステ
ン膜を酸化錫被膜上に形成させた。
得られた各サンプルにつき＠収スペクトルを測定してそ
の結果を第２図に示した。同図より浸漬時の液温により
得られた酸化タングステン膜の吸収スペクトルは大きく
変化し、可視域の透過率が高く近赤外域での吸収が高い
被膜を得るために４」浸漬液温度を７０〜／３”Ｃとす
ることが適当であることがわかる。
の結果を第２図に示した。同図より浸漬時の液温により
得られた酸化タングステン膜の吸収スペクトルは大きく
変化し、可視域の透過率が高く近赤外域での吸収が高い
被膜を得るために４」浸漬液温度を７０〜／３”Ｃとす
ることが適当であることがわかる。
又ここで基板ガラスの表面状態の差によって作製される
被膜性態の差を調べるために、」１記方法と同様に作成
された１５°Ｃの浸漬液に以下に示す２種類のガラスを
浸漬液中に浸漬しその差を調べた。
被膜性態の差を調べるために、」１記方法と同様に作成
された１５°Ｃの浸漬液に以下に示す２種類のガラスを
浸漬液中に浸漬しその差を調べた。
１つは通常の（無処理の）ガラス板であり、もう１つは
浸漬に先立ちガラスの表面をＨＦ、２（１１１１１１゜
ＮＨ４Ｆ ３０ｇ 、 Ｈ２Ｏ！； Ｏｍｌからなる含
７）素系腐触液で粗面化したガラス板である。いずれも
大きさはへ／ｍｍ厚、たてｓｏｍｍ、よこ１００ｍｍで
あり片面はマスキングテープにより被服しておいた。
浸漬に先立ちガラスの表面をＨＦ、２（１１１１１１゜
ＮＨ４Ｆ ３０ｇ 、 Ｈ２Ｏ！； Ｏｍｌからなる含
７）素系腐触液で粗面化したガラス板である。いずれも
大きさはへ／ｍｍ厚、たてｓｏｍｍ、よこ１００ｍｍで
あり片面はマスキングテープにより被服しておいた。
浸漬液にコＯ時間浸漬後２種類のガラスの表面の酸化タ
ングステン薄膜外（ざ０００〜９０００Ａ厚）の均一度
を比較した。
ングステン薄膜外（ざ０００〜９０００Ａ厚）の均一度
を比較した。
結果は無処理ガラスでは酸化タングステン膜の厚味が場
所によって不均一であり、中には殆ど膜が形成されてい
ない処もあるのに対し、前記表面処理（粗面化）された
ガラスでは青色の均一な酸化タングステン被膜の形成が
認められた。
所によって不均一であり、中には殆ど膜が形成されてい
ない処もあるのに対し、前記表面処理（粗面化）された
ガラスでは青色の均一な酸化タングステン被膜の形成が
認められた。
その後第１図に示す様に上記／３”Ｃの浸漬液にて作成
し７た遷移金属酸化物膜（ざ０００〜９０００Ａ厚の！
１色酸化タングステン膜） （２＋つき基板ガラス（１
）（表面処理基板）と別に用意したへ／ｍｍ厚、たてｓ
ｏｍｍ、よこ１００ｍｍ の表面ガラス板とを接着用有
機中間膜（４）（厚み約／、！；、２ｍｍのエチルビニ
ルアセテート膜）を用いて遷移金属酸化物膜の付着面が
合せガラス面となる様ＫＭＵＥ着をして合せガラス（５
）を作成した。
し７た遷移金属酸化物膜（ざ０００〜９０００Ａ厚の！
１色酸化タングステン膜） （２＋つき基板ガラス（１
）（表面処理基板）と別に用意したへ／ｍｍ厚、たてｓ
ｏｍｍ、よこ１００ｍｍ の表面ガラス板とを接着用有
機中間膜（４）（厚み約／、！；、２ｍｍのエチルビニ
ルアセテート膜）を用いて遷移金属酸化物膜の付着面が
合せガラス面となる様ＫＭＵＥ着をして合せガラス（５
）を作成した。
こうして得られた近赤外ｌｌＪ遮断ガラスの波長ｓｏｏ
ｎｍｂよび９ＣＩＯｎｍの光の透過率を測定すると、各
々ざ０．５％、３！；、０％であった。
ｎｍｂよび９ＣＩＯｎｍの光の透過率を測定すると、各
々ざ０．５％、３！；、０％であった。
口の近赤外線遮断ガラスを乙０°Ｃ１９０％湿度の巣作
でＩＱ日間保持し、その耐候性を試験した。試験後の波
長！；ＯＯｎｍおよび９００ｎｍの光の透過率は各々ｇ
７．３％、３３．！；％であり、はぼ上記迎赤外光吸収
能力か維持されていることかわかった。
でＩＱ日間保持し、その耐候性を試験した。試験後の波
長！；ＯＯｎｍおよび９００ｎｍの光の透過率は各々ｇ
７．３％、３３．！；％であり、はぼ上記迎赤外光吸収
能力か維持されていることかわかった。
実施例 ２
厚さ３ｍｍの青色熱線吸収ガラス（］−１本板硝ｆ−株
式会社製：ブルーベーンＨＦＬ３ ）を実施例／と同様
に含フッ素糸腐触液に浸漬処理後／Ｓ″Ｃの９ｍ液中へ
片表面をマスクしつつｆｆ１ｌｆすることにより、該カ
ラス表面上に約２０００１厚の酸化タングステン被膜を
形成した。この酸化タングステン被膜つき青色熱線吸収
ガラスを実施例／と同様エチルビニルアセテート膜を用
いてへ／ｍｍ厚の通常カラス板との合せガラスとした。
式会社製：ブルーベーンＨＦＬ３ ）を実施例／と同様
に含フッ素糸腐触液に浸漬処理後／Ｓ″Ｃの９ｍ液中へ
片表面をマスクしつつｆｆ１ｌｆすることにより、該カ
ラス表面上に約２０００１厚の酸化タングステン被膜を
形成した。この酸化タングステン被膜つき青色熱線吸収
ガラスを実施例／と同様エチルビニルアセテート膜を用
いてへ／ｍｍ厚の通常カラス板との合せガラスとした。
ここで合せ面は実施例／と同様醸化タングステン被膜面
とした。得ら発明の近赤外遮断ガラスは可視域での透過
率がさほど低下せずに近赤外域における光透過率の小さ
いものであることがわかる。
とした。得ら発明の近赤外遮断ガラスは可視域での透過
率がさほど低下せずに近赤外域における光透過率の小さ
いものであることがわかる。
ｆ発明の効果
本発明によれば、近赤外光の透過率が小さい耐候性良好
な近赤外線遮断ガラスが得られており、特に可視光透過
率の低下が少なく、近赤外線の吸収が大きい近赤外線遮
断ガラスが得られている。
な近赤外線遮断ガラスが得られており、特に可視光透過
率の低下が少なく、近赤外線の吸収が大きい近赤外線遮
断ガラスが得られている。
第１図は、本発明の近赤外線遮断ガラスのｌ実施例の構
造を示す断面図。第２図は実施例／により作成された酸
化タングステン被膜の吸光特性を示す図。第３図は実施
例−で作成された近赤外線遮断ガラスの分光透過率を示
す図である。 第１図 第２図 ４００ ６ｏｏ ８ｏｏ １ｏｏｏ １２０ｏ １４０
０ｊ曵長 （ｎｍ）
造を示す断面図。第２図は実施例／により作成された酸
化タングステン被膜の吸光特性を示す図。第３図は実施
例−で作成された近赤外線遮断ガラスの分光透過率を示
す図である。 第１図 第２図 ４００ ６ｏｏ ８ｏｏ １ｏｏｏ １２０ｏ １４０
０ｊ曵長 （ｎｍ）
Claims (4)
- （１）基板ガラス上に設けられたタングステンおよび／
またはモリブデンの酸化物膜、および該酸化物膜にに直
接設けられた有機質および／または無機質からなる保護
層を有する近赤外線遮断ガラス。 - （２）該保護層が表面ガラス板および接着用有機中間膜
よりなり、該酸化物膜つき基板ガラスと表面ガラス板が
該中間膜によって合せガラス状に接着されている特許請
求の範囲第１項記載の近赤外線遮断ガラス。 - （３）該基板ガラスが表面に透明導電被膜を設けたカラ
ス板である特許請求の範囲第１項又は第２項記載の近赤
外線遮断ガラス。 - （４）該接着用有機中間膜がポリビニルブチラール膜、
エチルビニルアセテート膜、ポリビニルクロライド膜ま
たはポリウレタン膜である特許請求の範囲第一項または
第３項記載の近赤外線遮断ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9259984A JPS60235746A (ja) | 1984-05-09 | 1984-05-09 | 近赤外線遮断ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9259984A JPS60235746A (ja) | 1984-05-09 | 1984-05-09 | 近赤外線遮断ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60235746A true JPS60235746A (ja) | 1985-11-22 |
Family
ID=14058911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9259984A Pending JPS60235746A (ja) | 1984-05-09 | 1984-05-09 | 近赤外線遮断ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60235746A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01202033A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-15 | Nec Corp | 制御信号伝送装置 |
| JPH01129235U (ja) * | 1988-02-26 | 1989-09-04 | ||
| EP0687923A3 (en) * | 1994-06-16 | 1996-07-17 | Kureha Chemical Ind Co Ltd | Infrared blocking optical filter |
| CN101891403A (zh) * | 2010-07-21 | 2010-11-24 | 陕西科技大学 | 一种有机无机复合电致变色薄膜的制备方法 |
| CN101898872A (zh) * | 2010-07-21 | 2010-12-01 | 陕西科技大学 | 一种NiO2无机复合有机电致变色薄膜的制备方法 |
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| JPS51150510A (en) * | 1975-06-20 | 1976-12-24 | Asahi Glass Co Ltd | Novel glass plate which reflects heat rays |
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| JPS5756351A (en) * | 1980-09-17 | 1982-04-03 | Nippon Soken Inc | Glass reflecting heat ray for car |
| JPS5756349A (en) * | 1980-09-19 | 1982-04-03 | Nippon Soken Inc | Glass transmitting light selectively |
-
1984
- 1984-05-09 JP JP9259984A patent/JPS60235746A/ja active Pending
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