JPS60234985A - レチクルケ−スの洗浄装置 - Google Patents
レチクルケ−スの洗浄装置Info
- Publication number
- JPS60234985A JPS60234985A JP9037784A JP9037784A JPS60234985A JP S60234985 A JPS60234985 A JP S60234985A JP 9037784 A JP9037784 A JP 9037784A JP 9037784 A JP9037784 A JP 9037784A JP S60234985 A JPS60234985 A JP S60234985A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- case
- reticle
- bucket
- shower
- encasing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（従来技術）
近年、半導体集積回路装置の高性能化に伴いその半導体
装置の製造装置についても、高性能化が追求されている
。特に、半導体装Ｍ姿造の写真蝕刻工程に使用されつつ
ある縮小投影路光機の利用技術についても各方面で研究
開発が進んでいる。
装置の製造装置についても、高性能化が追求されている
。特に、半導体装Ｍ姿造の写真蝕刻工程に使用されつつ
ある縮小投影路光機の利用技術についても各方面で研究
開発が進んでいる。
上述の縮小投影路光機は、レチクルに描かれた回路パタ
ーンをウェハー上にくり返し転写をする装置であるが、
レチクルを露光機にセットする時。
ーンをウェハー上にくり返し転写をする装置であるが、
レチクルを露光機にセットする時。
特定のケースに収納した状態でセットしている。
従ってそのレチクルケースは常に清浄な状態を維持して
いないとケースに衝撃を与えた場合、収納されているレ
チクル上に塵埃が路下する危険性がある。レチクル上に
塵埃が落下した場合、共通欠陥と呼ｄれる回路パターン
のくり返し欠陥が全ウェハーに生じてし寸う。
いないとケースに衝撃を与えた場合、収納されているレ
チクル上に塵埃が路下する危険性がある。レチクル上に
塵埃が落下した場合、共通欠陥と呼ｄれる回路パターン
のくり返し欠陥が全ウェハーに生じてし寸う。
（目 的）
そこで本発明の目的は、前述のレチクル収納ケースを清
浄に保つため、効果的な洗浄装置を提供することにある
。
浄に保つため、効果的な洗浄装置を提供することにある
。
（構 成）
本発明は写真蝕刻用レチクルを収納するケースを洗浄す
る装置において有機溶液中での超音波洗浄工程と、同一
溶液のシャワー洗浄工程と、静電除去を具備した吹きつ
け乾燥工程とを含むことによって構成されている。
る装置において有機溶液中での超音波洗浄工程と、同一
溶液のシャワー洗浄工程と、静電除去を具備した吹きつ
け乾燥工程とを含むことによって構成されている。
（原 理）
本発明によれば、ケースの開口部を下方にすることによ
ってケース内部に付着している塵埃をシャワー、超音波
などで１京で落とすという原理に基づく。
ってケース内部に付着している塵埃をシャワー、超音波
などで１京で落とすという原理に基づく。
（効果）
本発明による効果は言うまでもなく、レチクルを清浄に
保つことができ、従って縮小投影露光機による共通欠陥
の事故を未然に防ぎ、縮小投影露光機の信頼性、稼動率
を高める。さらに半導体集積回路装置の歩留り向上、Ｊ
ｊＡ価低減などその二次的な効果は太きいものがある、 次に本発明を図面を用いて説明する。
保つことができ、従って縮小投影露光機による共通欠陥
の事故を未然に防ぎ、縮小投影露光機の信頼性、稼動率
を高める。さらに半導体集積回路装置の歩留り向上、Ｊ
ｊＡ価低減などその二次的な効果は太きいものがある、 次に本発明を図面を用いて説明する。
はじめＶｃｌＨ図に示すように、レチクル収納ケース１
０１を洗浄機内で搬送されるパスケラ１１０２にセット
する。このとき重要なことは、ケース１０１の開口部１
０３を第１図のように、下部へ向けてセットする。レチ
クル収納ケースは通常、開口部のふた１０４はバネによ
って開閉できる。従ってケース１０１本にはパスタ、）
１０２に固定させておき、ケース１０１の開口部のふた
１０４をバスケットの一部１０５に固定させ、ケースの
開口部を開けた状態に保つ。第１図のようにバスケット
１０２内にケース１０１を所定どおりセットした後、第
２図に示すような洗浄機で洗浄を行う。第２園において
、第１図のケース１０１が第２図のケース２０１に対応
し％牛１図のパスケラ）１０２が第２図のバスケラ）２
０２に対応する。第２図に示した洗浄機の洗浄工８は、
オずケース１０１の開口部を前述のように下向きにセッ
トし、バスケット１０２を駆動させて、第一槽２０３に
浸漬させる。この第一槽２０３には、フレオンを満たし
ておき、超音波発振器２０４にて超音波洗浄を行なう。
０１を洗浄機内で搬送されるパスケラ１１０２にセット
する。このとき重要なことは、ケース１０１の開口部１
０３を第１図のように、下部へ向けてセットする。レチ
クル収納ケースは通常、開口部のふた１０４はバネによ
って開閉できる。従ってケース１０１本にはパスタ、）
１０２に固定させておき、ケース１０１の開口部のふた
１０４をバスケットの一部１０５に固定させ、ケースの
開口部を開けた状態に保つ。第１図のようにバスケット
１０２内にケース１０１を所定どおりセットした後、第
２図に示すような洗浄機で洗浄を行う。第２園において
、第１図のケース１０１が第２図のケース２０１に対応
し％牛１図のパスケラ）１０２が第２図のバスケラ）２
０２に対応する。第２図に示した洗浄機の洗浄工８は、
オずケース１０１の開口部を前述のように下向きにセッ
トし、バスケット１０２を駆動させて、第一槽２０３に
浸漬させる。この第一槽２０３には、フレオンを満たし
ておき、超音波発振器２０４にて超音波洗浄を行なう。
このときバスケット２０２を揺動させると洗浄効果が高
まる。その後バスケット２０２を第一槽２０３から出し
、引き続きシャワ一槽２０５に搬送する。ここで別に設
けた貯液槽よシフイルターを経由したプレオンを上下に
設置されているシャワー口２０６，２０７から吐出させ
る。このとき、下方に設置されているシャワー口２０６
はレチクルケース２０１の開口部と一致させておく。そ
の結果、ケース内部を清浄な液で洗浄できる。尚、シャ
ワーにて吐出したフレオンは、そのまま第一槽２０３に
流れ込ませる。そして第−ｍ２ｏ３からオーバーフロー
したフレオンは前述の貯液桧に戻す。従ってフレオンは
常に装置しており、Ｌかもフィルターによって清浄に維
持されている。さ１．＠二槽２０５を経た後はバスケラ
）２０２ｆｆｉ三槽２０８に搬送し、窒素又は空気Ｋを
吐出口２０９より吹きつけ乾燥させる。
まる。その後バスケット２０２を第一槽２０３から出し
、引き続きシャワ一槽２０５に搬送する。ここで別に設
けた貯液槽よシフイルターを経由したプレオンを上下に
設置されているシャワー口２０６，２０７から吐出させ
る。このとき、下方に設置されているシャワー口２０６
はレチクルケース２０１の開口部と一致させておく。そ
の結果、ケース内部を清浄な液で洗浄できる。尚、シャ
ワーにて吐出したフレオンは、そのまま第一槽２０３に
流れ込ませる。そして第−ｍ２ｏ３からオーバーフロー
したフレオンは前述の貯液桧に戻す。従ってフレオンは
常に装置しており、Ｌかもフィルターによって清浄に維
持されている。さ１．＠二槽２０５を経た後はバスケラ
）２０２ｆｆｉ三槽２０８に搬送し、窒素又は空気Ｋを
吐出口２０９より吹きつけ乾燥させる。
このとき、静電除去のためイオン化した気体を使用すれ
ば洗浄後に静電的な塵埃の付着を防ぐことができる。
ば洗浄後に静電的な塵埃の付着を防ぐことができる。
本実施例によシ、ケース外部はもとよハ内部も完全に洗
浄でき、内部に収納するレチクルを清浄に保つことがで
きる。
浄でき、内部に収納するレチクルを清浄に保つことがで
きる。
本実施例では洗浄液とｌ−てフレオンを使用したが他の
況浄液、たとえばアルコール、トリクレン。
況浄液、たとえばアルコール、トリクレン。
メチルエチルケトンなどでも同様の効果がある。
またレチクルケースをほぼ垂直に下向きにセットしたが
、基本的には開口部が水平よシも下向きであればよい。
、基本的には開口部が水平よシも下向きであればよい。
第１図は本発明の実施例のレチクルケースを設置した図
であり、図中、１０２・・・・・・バスケット。 １０３・・・・・・ケースである。また第２図は本発明
の実施例の中での洗浄機の図であし、図中２０３・・・
・・・第一＠、２０５・・・・・・第二槽、２０８・・
・・・・第二槽である。
であり、図中、１０２・・・・・・バスケット。 １０３・・・・・・ケースである。また第２図は本発明
の実施例の中での洗浄機の図であし、図中２０３・・・
・・・第一＠、２０５・・・・・・第二槽、２０８・・
・・・・第二槽である。
Claims (1)
- 写真蝕刻用レチクルを収納するケースを洗浄する装置に
おいて、有機溶液中での超音波洗浄工程と、同一溶液の
シャワー洗浄工程と、静電除去を具備した吹き付は乾燥
工程とを含むことを特徴とするレチクルケースの洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9037784A JPS60234985A (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | レチクルケ−スの洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9037784A JPS60234985A (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | レチクルケ−スの洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60234985A true JPS60234985A (ja) | 1985-11-21 |
| JPH046797B2 JPH046797B2 (ja) | 1992-02-06 |
Family
ID=13996873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9037784A Granted JPS60234985A (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | レチクルケ−スの洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60234985A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01207181A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-21 | Hitachi Ltd | 印刷回路板の洗浄方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5125369A (ja) * | 1974-08-27 | 1976-03-01 | New Nippon Electric Co | Senjosochi |
| JPS5163562A (ja) * | 1974-11-29 | 1976-06-02 | Daikin Ind Ltd | Senjosochi |
-
1984
- 1984-05-07 JP JP9037784A patent/JPS60234985A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5125369A (ja) * | 1974-08-27 | 1976-03-01 | New Nippon Electric Co | Senjosochi |
| JPS5163562A (ja) * | 1974-11-29 | 1976-06-02 | Daikin Ind Ltd | Senjosochi |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01207181A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-21 | Hitachi Ltd | 印刷回路板の洗浄方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH046797B2 (ja) | 1992-02-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |