JPH046797B2 - - Google Patents
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- JPH046797B2 JPH046797B2 JP59090377A JP9037784A JPH046797B2 JP H046797 B2 JPH046797 B2 JP H046797B2 JP 59090377 A JP59090377 A JP 59090377A JP 9037784 A JP9037784 A JP 9037784A JP H046797 B2 JPH046797 B2 JP H046797B2
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- reticle
- cleaning
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- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（従来技術）
近年、半導体集積回路装置の高性能化に伴いそ
の半導体装置の製造装置においても、高性能化が
追求されている。特に、半導体装置製造の写真蝕
刻行程に使用されつつある縮小投影露光機の利用
技術についても各方面で研究開発が進んでいる。
の半導体装置の製造装置においても、高性能化が
追求されている。特に、半導体装置製造の写真蝕
刻行程に使用されつつある縮小投影露光機の利用
技術についても各方面で研究開発が進んでいる。
上述の縮小影露光機は、レチクルに描かれた回
路がパターンをウエハー上にくり返し転写をする
装置であるが、レチクルを露光機にセツトする
時、特定のケースに収納した状態でセツトしてい
る。従つてそのレチクルケースは常に清浄な状態
を維持していないとケースに衝撃を与えた場合、
収納されているレチクル上に塵埃が落下する危険
性がある。レチクル上に塵埃が落下した場合、共
通欠陥と呼ばれる回路パターンのくり返し欠陥が
全ウエハーに生じてしまう。
路がパターンをウエハー上にくり返し転写をする
装置であるが、レチクルを露光機にセツトする
時、特定のケースに収納した状態でセツトしてい
る。従つてそのレチクルケースは常に清浄な状態
を維持していないとケースに衝撃を与えた場合、
収納されているレチクル上に塵埃が落下する危険
性がある。レチクル上に塵埃が落下した場合、共
通欠陥と呼ばれる回路パターンのくり返し欠陥が
全ウエハーに生じてしまう。
（目的）
そこで本発明の目的は、前述のレチクル収納ケ
ースを清浄に保つため、効果的な洗浄装置を提供
することにある。
ースを清浄に保つため、効果的な洗浄装置を提供
することにある。
（構成）
本発明の特徴は、写真蝕刻用レチクルを収納す
るケースを洗浄する装置において、上から順に静
電除去のためイオン化した気体を吹き付ける乾燥
槽、シヤワー槽および超音波洗浄槽の各槽が縦方
向に配置されているレチクルケースの洗浄装置に
ある。
るケースを洗浄する装置において、上から順に静
電除去のためイオン化した気体を吹き付ける乾燥
槽、シヤワー槽および超音波洗浄槽の各槽が縦方
向に配置されているレチクルケースの洗浄装置に
ある。
（原理）
本発明によれば、ケースの開口部を下方にする
ことによつてケース内部に付着している塵埃をシ
ヤワー、超音波などで目重で落とすという原理に
基づく。
ことによつてケース内部に付着している塵埃をシ
ヤワー、超音波などで目重で落とすという原理に
基づく。
（効果）
本発明による効果は言うまでもなく、レチクル
を清浄に保つことができ、従つて縮小投影露光機
による共通欠陥の事故を未然に防ぎ、縮小投影露
光機の信頼性、稼働率を高める。さらに半導体集
積回路装置の歩留り向上、原価低減などの二次的
な効果は大きいものがある。
を清浄に保つことができ、従つて縮小投影露光機
による共通欠陥の事故を未然に防ぎ、縮小投影露
光機の信頼性、稼働率を高める。さらに半導体集
積回路装置の歩留り向上、原価低減などの二次的
な効果は大きいものがある。
次に本発明を図面を用いて説明する。
はじめに第１図に示すように、レチクル収納ケ
ース１０１を洗浄機内で搬送されるバスケツト１
０２にセツトする。このとき重要なことは、ケー
ス１０１の開口部１０３を第１図のように、下部
へ向けてセツトする。レチクル収納ケースは通
常、開口部のふた１０４はバネによつて開閉でき
る。従つてケース１０１本体はバスケツト１０２
に固定させておき、ケース１０１の開口部のふた
１０４をバスケツトの一部１０５に固定させ、ケ
ースの開口部を開けた状態に保つ。第１図のよう
にバスケツト１０２内にケース１０１を所定どお
りセツトした後、第２図に示すような洗浄機で洗
浄を行う。第２図において、第１図のケース１０
１が第２図のケース２０１に対応し、第１図のバ
スケツト１０２が第２図のバスケツト２０２に対
応する。第２図に示した洗浄機の洗浄工程は、ま
ずケース２０１（１０１）の開口部を前述のよう
に下向きにセツトし、バスケツト２０２（１０
２）を駆動させて、第一槽２０３に浸漬させる。
この第一槽２０３には、フレオンを満たしてお
き、超音波発振器２０４にて超音波洗浄を行な
う。このときバスケツト２０２を揺動させると洗
浄効果が高まる。その後バスケツト２０２を第一
槽２０３から出し、引き続きシヤワー槽２０５に
搬送する。ここで別に設けた貯液槽よりフイルタ
ーを経由したフレオンを上下に配置されているシ
ヤワー口２０６，２０７から吐出させる。このと
き、下方に配置されているシヤワー口２０６はレ
チクルケース２０１の開口部と一致させておく。
その結果、ケース内部を清浄な液で洗浄できる。
尚、シヤワーにて吐出したフレオンは、そのまま
第一槽２０３に流れ込ませる。そして第一槽２０
３からオーバーフローしたフレオンは前述の貯液
槽に戻す。従つてフレオンは常に循置しており、
しかもフイルターによつて清浄に維持されてい
る。さて、第二槽２０５を経た後はバスケツト２
０２第三槽２０８に搬送し、窒素又は空気にを吐
出口２０９より吹きつけ乾燥させる。このとき、
静電除去のためイオン化した気体を使用すれば洗
浄後に静電的な塵埃の付着を防ぐことができる。
ース１０１を洗浄機内で搬送されるバスケツト１
０２にセツトする。このとき重要なことは、ケー
ス１０１の開口部１０３を第１図のように、下部
へ向けてセツトする。レチクル収納ケースは通
常、開口部のふた１０４はバネによつて開閉でき
る。従つてケース１０１本体はバスケツト１０２
に固定させておき、ケース１０１の開口部のふた
１０４をバスケツトの一部１０５に固定させ、ケ
ースの開口部を開けた状態に保つ。第１図のよう
にバスケツト１０２内にケース１０１を所定どお
りセツトした後、第２図に示すような洗浄機で洗
浄を行う。第２図において、第１図のケース１０
１が第２図のケース２０１に対応し、第１図のバ
スケツト１０２が第２図のバスケツト２０２に対
応する。第２図に示した洗浄機の洗浄工程は、ま
ずケース２０１（１０１）の開口部を前述のよう
に下向きにセツトし、バスケツト２０２（１０
２）を駆動させて、第一槽２０３に浸漬させる。
この第一槽２０３には、フレオンを満たしてお
き、超音波発振器２０４にて超音波洗浄を行な
う。このときバスケツト２０２を揺動させると洗
浄効果が高まる。その後バスケツト２０２を第一
槽２０３から出し、引き続きシヤワー槽２０５に
搬送する。ここで別に設けた貯液槽よりフイルタ
ーを経由したフレオンを上下に配置されているシ
ヤワー口２０６，２０７から吐出させる。このと
き、下方に配置されているシヤワー口２０６はレ
チクルケース２０１の開口部と一致させておく。
その結果、ケース内部を清浄な液で洗浄できる。
尚、シヤワーにて吐出したフレオンは、そのまま
第一槽２０３に流れ込ませる。そして第一槽２０
３からオーバーフローしたフレオンは前述の貯液
槽に戻す。従つてフレオンは常に循置しており、
しかもフイルターによつて清浄に維持されてい
る。さて、第二槽２０５を経た後はバスケツト２
０２第三槽２０８に搬送し、窒素又は空気にを吐
出口２０９より吹きつけ乾燥させる。このとき、
静電除去のためイオン化した気体を使用すれば洗
浄後に静電的な塵埃の付着を防ぐことができる。
本実施例により、ケース外部はもとより、内部
も完全に洗浄でき、内部に収納するレチクルを清
浄に保つことができる。
も完全に洗浄でき、内部に収納するレチクルを清
浄に保つことができる。
本実施例では洗浄液としてフレオンを使用した
が他の洗浄液、たとえばアルコール、トリクレ
ン、メチルエチルケトンなどでも同様の効果があ
る。またレチクルケースをほぼ垂直に下向きにセ
ツトしたが、基本的には開口部が水平よりも下向
きであればよい。
が他の洗浄液、たとえばアルコール、トリクレ
ン、メチルエチルケトンなどでも同様の効果があ
る。またレチクルケースをほぼ垂直に下向きにセ
ツトしたが、基本的には開口部が水平よりも下向
きであればよい。
第１図は本発明の実施例のレチクルケースを設
置した図であり、図中、１０２……バスケツト、
１０３……ケースである。また第２図は本発明の
実施例の中での洗浄機の図であり、図中２０３…
…第一槽、２０５……第二槽、２０８……第三槽
である。
置した図であり、図中、１０２……バスケツト、
１０３……ケースである。また第２図は本発明の
実施例の中での洗浄機の図であり、図中２０３…
…第一槽、２０５……第二槽、２０８……第三槽
である。
Claims (1)
- １ 写真蝕刻用レチクルを収納するケースを洗浄
する装置において、上から順に静電除去のためイ
オン化した気体を吹き付ける乾燥槽、シヤワー槽
および超音波洗浄槽の各槽が縦方向に配置されて
いることを特徴とするレチクルケースの洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9037784A JPS60234985A (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | レチクルケ−スの洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9037784A JPS60234985A (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | レチクルケ−スの洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60234985A JPS60234985A (ja) | 1985-11-21 |
| JPH046797B2 true JPH046797B2 (ja) | 1992-02-06 |
Family
ID=13996873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9037784A Granted JPS60234985A (ja) | 1984-05-07 | 1984-05-07 | レチクルケ−スの洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60234985A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2665343B2 (ja) * | 1988-02-16 | 1997-10-22 | 株式会社日立製作所 | 印刷回路板の洗浄方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5125369A (ja) * | 1974-08-27 | 1976-03-01 | New Nippon Electric Co | Senjosochi |
| JPS5163562A (ja) * | 1974-11-29 | 1976-06-02 | Daikin Ind Ltd | Senjosochi |
-
1984
- 1984-05-07 JP JP9037784A patent/JPS60234985A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5125369A (ja) * | 1974-08-27 | 1976-03-01 | New Nippon Electric Co | Senjosochi |
| JPS5163562A (ja) * | 1974-11-29 | 1976-06-02 | Daikin Ind Ltd | Senjosochi |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60234985A (ja) | 1985-11-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |