JPS60222482A - キノリジノン化合物またはその塩を含有する抗アレルギー剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はキノリジノン化合物およびその福に関する。

をらに詳しくは、この発明はアレルギーおよび潰瘍に対
する阻止活性を有する新規キノリジノン化合物およびそ
の塩、その製造法およびそれを含有する医薬組成物に関
する。

すなわち、この発明の一つの目的は、新規かつ有用なキ
ノリジノン化合物およびその塩を提供することである。

この発明のもう一つの目的は、前記キノリジノン化合物
およびその塩の製造法を提供することである。

この発明のをらにもう一つの目的は、有効成分トシて前
記キノリジノン化合物貰たけその福を含有する医薬組成
物を提供することである。

この発明のキノリジノン化合物は次式（１）で示す（式
中、Ｒ１はカルボキシ基、アミド化されたカルボキシ基
、シアノ基、チオカＩレバモイ！し基またはテトラシリ
ｌし基； Ｒ７は水素１１ζはアリール基； Ｒ２は水素、ヒドロキシ基、低級アルキル基または低級
アルコキシ基； Ｒ３は水素、ヒト和キシ基、低級アルキｌＶ基、低級ア
７＋ｚコ−”ｉ−シ基、低級アｌレケニルオキシ基、適
当な置換基を有していてもよいアリ−１し基、アリール
チオ基、アロイル基、ア／ｌ／（低Ｒ）アルキル基、ア
レーンスルホニｌし基、適当な置換基を有していでもよ
いアリーＩレアミノ基壕りはアリールオキシ基をそれぞ
れ意味し、 Ｒ２およびＲ３はキノリジノン環のいかなる位置にも位
置することができ、かつ互いに結合して−ＣＨ２０Ｈ２
ＣＨ２−１−ＣＨ＝ＣＨ−または−〇Ｈ＝ＣＨ−ＣＨ＝
ＯＲ−を形成することができる）。

この発明に従って、目的化合物（１）は下記反応式で示
される種々の製造法によシ製造することができる。

製造法１ 製造法２ 製造法６ 製造法４ 製造法５ （式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ７Ｕそれぞれ前と同じ意味
であり、 ＲＡはアミド化されたカルボキシ基、 Ｒ４は保護されたカルボキシ基を意味する）。

この発明の原料化合物中、化合物ＣＩＩ　＋ハ下記反応
式で示される製造法によシ製造することができる。

製造法Ａ　−（１） 製造法Ａ　−（２） α）　（ｌａ） またはその填　またはその塩 製造法Ｅ　−（１） ４ （Ｉｌｃ）　（Ｖｃ） またはその塩　またばその樵 製造法Ｅ　−（２） 製造法０−（１１ ４ （Ｉｌａ）　（Ｖａ） またはその塩　またはその塩 製造法Ｃ−（２） （Ｖａ）　（Ｉｌｌ：＋） またはその樵　またはその樵 製造法り一（１） 製造法Ｄ　−（２） 製造法Ｅ 製造法Ｆ またはその塩　またはその椙 製造法Ｇ （ａｌｌ　（ｌｌｌｅ） 葦たはその福　筐たはその福 製造法Ｈ またはその塩　またにその塩 製造法Ｉ （式中、Ｒ２、Ｒ４およびＲ７はそれぞれ前と同じ意味
であり、 Ｒ５は低級アルコキシ基、 Ｒ６は水素、保護されたヒドロキシ基、低級アｌレキル
基、低級アルコキシ基、低級アｌレケニルオキシ基、適
当な置換基を有していてもよいアリ−１し基、アリ−フ
レチオ基、アロイル基、アル（低ｉ）アルキル基、アレ
ーンヌ！レホニル基、適当な置換基を有していてもよい
アリールアミノ基またはアＩＪ−ルオキシ基、 Ｒはヒドロキシ保護基、 Ｒ９は°保護されたヒドロキシ基、 ｎは１または２をそれぞれ意味する）。

目的化合物（＋）の好適な塩類は慣用の無毒性塩であり
、例えば酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、
酒石酸塩、メタンヌｌレホン酸塩、ベンゼンヌルホン酸
塩、ギ酸塩、トノレニンスルホン酸塩等の有機酸塩、例
えば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、硝
酸塩、燐酸塩等の無機酸塩または例えばアルギニン、ア
スパラギン酸、グ！レタミン酸等のアミノ酸との塩のよ
うな酸付加塩、または例えばナトリウム塩、カリウム塩
等のアｌレカリ金属壌およびカルシウム塩、マグネシウ
ム塩等のアルカリ土類金属塩のような金属塩、アンモ＝
　ｆｙ　ム％　、例えばトリメナ！レアミン塩、トリエ
チ！レアミン塩、ピリジン堝、ピコリン塩、ジシクロへ
キシフレアミンｍ、Ｎ、Ｎ−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩等の有機福基樵等が挙げられる。

この明細書の以上の記載および以下の記載において、こ
の発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な例およ
び説明を以下詳細に述べる。

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子１〜６個
を意味するものとする。

好適な「低級アルキル」および「アｌしく低級）ア７し
’ｅｉし」の好適な「低級アルキル」部分トシてハ、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブナｌし、第
三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような、伏累原子
１〜６個を有する直鎖状アルキル基または分枝鎖状アル
キｌし基が挙げられる。

好適な「低級アルコキシ基」としては、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブ
トキシ、第三級ブトキシ、ペンチルオキシ、第三級ペン
チｌレオキシ、ヘキシルオキシ等、好１しくは炭素原子
１〜４個を有するものが挙げられる。

好適な「低級アｌレケニルオキシ基」としては、ビニｌ
レオキシ、１−プロペニルオキシ、アリルオキシ、１−
ブテニルオキシ、２−ブテニルオキシ、２−ペンテニル
オキシ等、好壕しくに炭素原子２〜４個を有するものが
挙げられる。

好適な「保護された力ｌレボキシ基」としては、後述の
ような「エステル化された力！レボキシ基」が挙げられ
る。

エステル化された力ｌレボキシ基のエステＩし部分の好
適な例としては、例えばメチルエヌテＩＶ、エチルエス
テル、プロピルエステｌし、インプロピルエステル、グ
チルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエス
テル、ベンチｌレエステル、ヘキシルエステル、１−シ
クロプロビルエチルエヌテル等の、適当な置換基を少な
くとも１個有していてもよい低級アルキルエステル、そ
の例として、　”例えばアセトキシメナルエヌテル、プ
ロピオニ／レオキシメチルエステル、ブチリｌレオキシ
メナＩレエヌテｌし、バレリルオキシメチルエステｌし
、ビバロイルオキ７メチ／Ｖエヌテル、ヘキサソイｌレ
オキシメチルエステＪｌ／、１　（’Ｅ７ｊは２）−ア
セトキシエナルエステｌし、１（８Ｅたは２また［３）
−７セ）キシプロビルエステル、１（または２または６
または４）−アセトキシブナルエヌテ７１’、１（Ｆ＊
ｆ１２）−７”ロピオニ！レオキシエチｌレエヌテル、
１（または２または６）−プロピオニｌレオキシブロヒ
ｌレエステｌ’、１　（’Ｅｍｕ２　）−ブナリＪレオ
キシエナｌレエステル、１または２）−イソブナリ″ｚ
ｌｉ−シエチルエヌテ”’１１　（１ｆｔｕ’ｌ　）−
ヒノ＜。

イルオキシエチルエフチル、１（ｔたｆ１２）ヘキサノ
イルオキシエチ！ｖエヌテル、イソブナリ！レオキシメ
チｌレエステル、２−エチルブチリルオキシメチルエ７
テル、３．３−ジメナｌレプナリＩＶオキシメナルエヌ
テル、１　（’ｔりｆ１２　）−ベンタノイｌレオキシ
エナルエヌテＷ等の低級ア！レカノイｎ／オキシ（低級
）アルキルエステル、例、ｔば２−メジｌレエナ！レエ
ステ７１／等の低級アｌレカンヌＪレホニ７Ｌ／（低級
）アルキルエステｌし、例えば２−ヨードエチ！レエヌ
テル、２，２．２−トリクロロエナルエヌテル等のモノ
（貰たはジまたはトリ）−ハロ（低級）アルキルエステ
ルル基例えばメトキシカｌレポニルオキシメチルエヌテ
ル、エトキシカルボニルオキシメチｌレエステｌし、２
−メトキシ力ルポニルオキシエチルエヌテｌし、１−エ
トキシ力ｌレポニｌレオキシエチルエヌテＪＶ、　１−
イソプロポキシ力ルポニルオキシエチＪＶエステｌし等
の低級アルコキシ力ルボニルオ！ｆＳ’（低級）アルキ
ルエステル、フタリシリデン（低級）アルキルエステル
ｖｓ”ｔ、たけ例エバ（５−メチｔｖ−’ｌ−オキソー
コ、５−ジオキソール４　ｌル〕メチｌレエステＩし、
（５−エチル−２−オキソ−１，６−シオキソーｊｖ−
４−イル）メナｌレエステル、（５−プロピＪＬ／−２
−オキソ−１，３−ジオキソ−）Ｖ−４−イル）エチｌ
レエヌテル等の（５−低級アＩレキルー２−オキソ−１
，６−シオキソール−４−イｌし）（低１）−７’ルキ
ルエステｌし１例エバビニｌレエステル、アリｌレエヌ
テル等の低級アルキルエステル纂 例λはエチニルエステ７し、フロビニ！レエヌテｌし等
ノ低級アｌレキニｌレエステＩｖ１ 例エバベンジルエステル、４−メトキシフェニルｘフテ
ｔｖ、４−ニトロベンジ！レエメテル、フェネチｉｖエ
ステル、トリナルエステｌし、ベンズヒドリルエステｌ
し、ビス（メトキシフェニル）メナＪレエヌテル、３．
４−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３
，５−ジー第三級グナルベンジルエステル等の、少なく
とも１個の適当な置換基を有していてもよいアｌしく低
級）アルキルエステル例，ｔｔｆフェニＪＶニスｆ　Ｊ
Ｌ／，　４−クロロフエニｌレエステル、トリルエステ
ｌし、第三級ブチ！レフェニＩレエステル、キシリｌレ
エヌテル、メシチルエステｌし、クメニルエステル等の
、少なくとも１個の適当す置換基ヲ有していてもよいア
リーｌレエヌテノノ；フタリジＩレエステル等のような
ものが挙げられる。

前述のエヌテル化された力！レボキシ基の好ましい例と
しては、例えばメトキシ力ｌレポ二ｌし、エトキシカル
ボニル、プロポキシカフレボニル、イソプロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、インプトキシ力！レポニ
ｌし、第五級ブトキシカルボニル、ペンナルオキシカ！
レポ二１し、第三級ペンチｌレオキシカルポニｉｖ，ペ
キンｌレオキシカ）Ｖボニル、１−シクロプロピＪＶエ
トキシカルボニｔ４の低級アルコキシカフレボニル基が
挙げられる。

好適な「アミド化されたカルボキシ基」としては、窒素
原子に適当な置換基を有していてもよいアミド（−ｆｃ
ｏＮａ２）が挙げられ、適当な置換基としては後述のよ
うな適当な置換基を有していてもよい複素環基、適当な
置換基を有していてもよいアリール基等が挙げられる。

前記「複素環基」とはさらに詳しくは、酸素原子、イオ
ウ原子、窒素原子等のようなペテロ原子を少なくとも１
個含む飽和−！たは不飽和、複素単環基または複素多環
基を意味する。とりわけ好ましい複素環基としては、窒
素原子１〜４個を含む不飽和６〜８員、さらに好ましく
ば５または６員複素単環基、その例として、ピロリｌし
、ピロリニル、イミダゾリｌし、ピラゾリ！し、ビリジ
ｌしおよびそのＮ−オキシド、ジヒドロビリジ７し、ピ
リミジｌし、ビラジニｌし、ピリダジニル、例えば４Ｈ
−１、２．４−）リアシリｌし、１　Ｈ−１．２．３−
トリアゾリル、２Ｈ−１，２，５−トリアンーリ／Ｌ／
専のトリアゾリル、例えＩＨ−テトラゾリル、２Ｈ−テ
トラゾリル等のテトラゾリル、例エバ１，２．５−トリ
アジニル、１，２．４−）リアジニル、１，３．５−）
リアジニル等のトリアジニｌし等； 窒素原子１〜４個を含む飽和６〜８員、さらに好葦しく
に５または６員複素単環基、例えばピロリジニル、イミ
ダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニル等　； 窒素原子１〜４個を含む不飽和縮合複素環基、例えばイ
ンドリル、イソインドリｌし、イントリジニル、ベンズ
イミダゾリｌし、キノリル、イソキノリル、インダゾリ
ｌし、ベンゾトリアゾリル等；酸素原子１〜２個および
窒素原子１〜３個を含む不飽和３〜８員、場らに好筐し
くは５または６員初素単環基、その例として、オキサシ
リＩし、イソオキサシリル、例えば１，２．４−オキサ
ジアゾリル、１．３．４−オキサジアゾリル、１，２．
５−オキサジアゾリル等のオキサジアゾリル等； 酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含む飽和６
〜８員、ざらに好ましくは５または６員複ｉｉｍ基、例
えばモルホリニアし、シトノニル等；酸素原子１〜２個
および窒素原子１〜３個を含む不飽和縮合複素環基、例
えばベンズオキサシリル、ベンズオキサシアシリｌし等
； イオウ原子１〜２個および窒素原子１〜６個を含む不飽
和６〜８員、さらに好ましくは５または６員複素単環基
、その例として、チアゾ＋１７し、イソｆ−７ゾ’Ｊル
、例えば１，２．３−チアジアゾリル、１．２．４−チ
アシアシリｌし、１，３．４−チアシアシリ）’、１，
２．５−チアジアゾリル等のチアシアシリｌし、ジヒド
ロチアジニル等層 イオウ原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含む飽和
６〜８員、さらに好１しくけ５寸たは６員複累単環基、
例えばチアゾリジニル等；イオウ原子１〜２個を含む不
飽和６〜８員、さらに好ましくは、５または６員複素単
環基、例えばナエニル、ジヒドロジチオニル、ジヒドロ
ジチオニル等； イオウ原子１〜２個および窒素原子１〜６個を含む不飽
和Ｆｅ４＠複素環基、例えはベンゾチアゾＩＪ　ｌし、
ペンシナアジアシリ！し等； 酸素原子１個を含む不飽和６〜８員、さらに好ましくは
５〜６員複素単環基、例えばフリｌし等；酸素原子１個
およびイオウ原子１〜２個を含む不飽和６〜８員、さら
に好ましくは５またば６員複素単環基、例えばジヒドロ
オキサチイニ１し等；イオウ原子１〜２個を含む不飽和
縮合複素環基、例エバベンゾチェニル、ベンゾシナイニ
ル等；酸素原子１個およびイオウ原子１〜２個を含む不
飽和縮合複素環基、例えばペンズオキサナイニｉｖ等の
ような複素環基が挙げられ、これらの「複素環基」はハ
ロゲン例えば塩素、臭素、沃素またはフッ２、例えばメ
チＩし、エチル、プロピル等ノ削記低級アルキル基等の
ような適当な１個以上の置換基を有していてもよい。

好適な「保護されたヒドロキシ基」としては、慣用のヒ
ドロキシ保護基、その例として、例えばメチｌし、エチ
ル、プロピｌし、第三級ブナル等ノ低級７５ル４キル基
、例えばビニル、アリル等の低級アルケニル基、例エバ
ベンジル、ベンズヒドリル、トリナル等のモノ−またけ
ジーまたはトリフェニル（低級〕アルキルシリのような
アｌしく低級）アｌレキル基、例えハトリメチルシリル
、トリエチルシリル チルジメチルシリル、ジイソプロピルメチ！レシリル等
のトリ（低級）アルキルシリｌし基、例えばトリエチル
シリル エバトリベンジルシリル等のトリアル（低級）ア７Ｌ／
　キ７Ｌ／　シリル基等のようなトリ置換シリル基等に
よって保護されたヒドロキシ基が挙げられる。

好適な「アリール基」としては、フェニル、トリル、キ
シリｌし、クメ二ｌし、ナフチル、ビフェニリル等が挙
げられ、これらはアミノ、ニトロ、例えばフッ素、塩素
、臭素、沃素等のハロゲン、前記低級アルコキシ、力！
レボキシ、前記保護されたカルボキシ、ヒドロキシ等の
基のような適当な置換基１個以上を有していてもよい。

「アリールチオ基」、「アル（低級）アルキル基」およ
び「アリールアミノ基」の好適な「アリニル基」として
は、前に例示したようなものが挙げられる。

好適な「アロイｌし基」としては、ベンゾイル、トルオ
イｌし、ナフトイル等が挙げられる。

好適な「アンーンスルホニｌＶ基」としては、ベンゼン
ヌＪＶホニｌし、ｐ−）ルエンスｌレホニル等カ挙げら
れる。

前記「アリールアミノ基」は、窒素原子上に例えばメナ
ｔｖ、エチル等の低級アｌレキル基等のような適当な置
換基を有していてもよい。

好適な「アリ−ｌレオキシ基」トシては、フェノキシ、
トリルオキシ等が挙ケラレル。

好適な「ヒドロキシ保護基」としては前に例示したよう
なものが挙げられる。

好ましい「アミド化されたカルボキシ基ｊとしテハ、カ
ルバモイル、ビリジｔｖアミド、低級アルキｔｖ基ｆ有
していてもよいピリミジニルアミド、ピラジニルアミド
、ヒドロキシ基を有していてもよいフェニルアミド、チ
アゾリルアミド、トリアゾリルアミド、トリアゾリルア
ミド、ハロゲンを有していてもよいピリダジニルアミド
、壕りはテトラゾリルアミド等が挙げられる。

この発明の目的化合物（１）の製造法を以下詳細に説明
する。

製造法１ 目的化合物（Ｉａ）’！たけその塩は、化合物（Ｉｆ）
寸たけその壌をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこと
によ一シ製造することができる。

化合物（Ｉｔ）の好適な塩としては化合物（１）につい
て例示した酸付７７１］塩を挙げることができ、化合物
（１ａ）の好適な塩としては化合物（１）について例示
した塩類を参照すればよい。

この脱離反応においては、力！レボキシ保護基の脱離反
応で使用される常法、例えば加水分解、還元、リューイ
ス酸を使用する脱離等のすべてが適用されうる。カルボ
キシ保護基がエステｌレテアル場合には、保護基は加水
分解またはリューイヌ酸を用いる脱離法によって脱離さ
れつる。加水分解は塩基または酸の存在下に行なうのが
好寸しい。

好適な塩基としては、例えば水酸化すｌ−Ｕラム、水酸
化カリウム等のアルカリ金属酢酸化物、例えば水酸化マ
グネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水
酸化物、例えば炭酸す）　ＩＪウム、炭酸カリウム等の
アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸マグネシウム、炭酸カ
ルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、例えば炭酸水素
すｌ−ＩＪウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属酢
酸水素壇、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のア
ルカリ金属酢酸塩、例えば燐酸マグネシウム、燐酸カル
シウム等のアルカリ土類金属燐酸塩、例えば燐酸水素二
ナトリウム、燐酸水素二カリウム等のアルカリ金属燐酸
氷累塩等の無機塩基、および例えばトリメナルアミン、
トリメナルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、
Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモｌレホリン、１．
５−ジアザビシクロ（４，５，０）ノン−５−オン、１
，４−ジアザビシクロ（２，２，２）オクタン、１，５
−ジアザビシクロ（５，４，Ｄ　：）ウンデ七ンー５等
のような有機塩基がその例として挙げられる。塩基を用
いる加水分解はしばしば氷中またけ親水性有機溶媒中ま
たはそれらの混合溶媒中で行なわれる。

好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸等
の有機酸および例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機
酸が挙げられる。

この加水分解は通砿有機溶媒、水またはそれらの混合溶
媒中で行なわれる。

反応温度は特に限定されず、カルボキシ保護基の種類外
よび脱離法の種類によって適宜選択すればよい。

リューイヌ酸を用いる脱離は置換もしくは非置換アｌノ
（低級）アルキ７レエステルの脱離に適用するのが好ま
しく、化合物（Ｉｆ）またはその塩を、例えば三塩化ホ
ウ素、三塩化ホウ素等の三ハロゲン化ホウ素、例えば四
塩化チタン、四臭化チタン等の四ハロゲン化チタン、例
えば四塩化スズ、四臭化スズ等の四ハロゲン化スズ、例
えば塩化アｌレミニウム、臭化アｌレミニウム等のハロ
ゲン化アｌレミニウム、例えハトリクロロ酢酸、トリフ
ｌレオロ酢酸等のトリハロ酢酸等のようなリューイヌ酸
と反応させることにより行なわれる。この脱離反応は例
えばアニソール、フェノ−１ｖ等の陽イオン捕捉剤の存
在下に行なうのが好壕しく、通常は例えば二１〜口メタ
ン、ニトロエタン等のニトロアルカン、例えば塩化メチ
レン、塩化エチレン等のハロゲン化アルキレン、ジエチ
ルエーテル、二硫化広葉のような溶媒中で行なわれるが
、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいか
なる溶媒中でも行なうことができる。これらの溶媒はそ
れらの混合物として用いてもよい。

還元脱離法は、例えば２−ヨードエチルエステｌし、２
，２．２−　トＩＪ　クロロエチＩレエステル等ノへ口
（（ｆｋｉ）アルキルエステル、例エバベンジルエステ
ル等のアＩしく　低ｉ）アルキルエステル等のような保
護基の脱、＠に適用するのが好ましい。この脱離反応に
適用されうる還元法としては、例えば亜鉛、亜鉛アマル
ガム等の金属１１乞は例えば塩化第一クローム、酢酸第
一クローム等のクローム化合物塩と、例えば酢酸、プロ
ピオン酸、塩酸等の有機酸または無機酸との組合わせ；
および例えばパラジウム−炭素、ラネーニッケル等の慣
用の金属触媒の存在下における接触還元常法がその例と
して挙げられる。

反応温度は特に限定されず、通常は冷却下、常温または
那温下に反応が行なわれる。

製造法２ 目的化合物（Ｉｔ））またはその塩は、化合物（１ａ）
またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体またはそ
の塩をアミド化反応に付すことにより製造することがで
きる。

化合物（Ｉｂ）の好適な堪としては、化合物（１）につ
いて例示した酸付加塩を挙げることができる。

このアミド化反応で使用されるアミド化剤としては、適
当な置換基を有していてもよい複素環基またば適当な置
換基を有していてもよいアリール基のような適当な置換
基を窒素原子に有するアミンが挙げられる。

化合物（１ａ）のカルボキシ基における好適な反応性誘
導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化エス
テル等が挙げられる。その好適な例を挙げると、酸壌化
物；酸アジド；例えばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、
ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の
置換された燐酸、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸
、硫酸、アルキ／ｌ／炭酸、例えばピバリン酸、ペンタ
ン酸、インペンタン酸、２−エナル酪酸筐たはトリクロ
ロ酢酸等の脂肪族力ｉｖポン酸まｆ？Ｌは例えば安息香
酸等の芳香族カルボン酸のような酸との混合酸無水物；
苅称酸無パ物；または例えばシアノメチルエステル、メ
トキシメナルエステＩし、ジメチｌレイミ十 ツメチル（（ＣＨ３）　２Ｎ＝ＣＨ−、ｌエステル、ビ
ニｌレエステｌし、プロパルギルエステル、ｐ−二トロ
フェニルエステル、２．４−ジニトロフェニルエステル
、トリクロロフェニルエステｌし、ペンタクロロフェニ
ルエステｔし、メジｌレフユニ／ｌ／エステｔし、フェ
ニルアソフェニルエステル、フェ二ｌレナオエステル、
ｐ−ニトロフェニルナオエステル、ｐ−クレジルナオエ
ステル、カルポキシメナルナオエステル、ピラニルエス
テｌし、ピリジルエステル、ビベリジルエステル、８−
キノリルナオニステｌしａｏ活ｔｑ化ニスｆ　ｔｖ、−
またハ例えばＮ、Ｎ−ジノチルヒドロキシフレアミン、
１−ヒドロキシ−２−（ＩＩ（）−ヒリドン、Ｎ−ヒド
ロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタフレイミド
、１−ヒドロキシ−６−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアソ
ール等のＮ−ヒドロキシ化合物とのエステル等である。

化合物（１ａ）を遊離酸の形または塊の形で反応ニ使用
する場合、Ｎ、Ｎ′−ジシクロヘキシ！レカｌレボジイ
ミド、Ｎ−シクロヘキシｌレーＮ′−モｌレホリノエチ
ル力！レボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ−（３−ジメチル
アミノプロピＪし）カルボジイミド、１．１−力！レポ
ニｌレジイミダゾール、塩化ナオニＩし、塩化オキザリ
ｌし、例えばクロロギ酸エチル、クロロキ酸イソプナル
等の低級アルコキシカルボ二Ｉレハロゲン化物、１−（
ｐ−クロロベンゼンヌＩレホニルオキシ）−６−クロロ
−１Ｈ〜ベンゾトリアゾール等のような慣用の縮合剤の
存在下に反応を行なうのが好ましい。

反応は通常、水、ア七トン、ジオキサン、クロロホルム
、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、
酢酸エチＩし、Ｎ、Ｎ−シメナｌレホ７レムアミド、ピ
リジンのような慣用の溶媒中で行なわれるか、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有機
溶媒中でも反応を行なうことができる。これらの溶媒中
、親水性溶媒は水と混合してｆ費用してもよい。

縮合剤の存在下における反応は、通常は無水の条件下に
行なわれるが、特に限定はでれない。

この反応は、例えば水酸化す）　ＩＪウム、水酸化カリ
ウム等のア７レカリ金属水酸化物、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属度酸塩、例えば炭酸
水素す）　ＩＪウム、炭酸水素カリウム等のアｌレカリ
金属炭酸水素福、例えばトリメナ！レアミン、トリエテ
ルアミン等のトリ（低ｍ）アｌレキｌレアミン、ピリジ
ンまたは例エバピコリン、！レチジン、４−ジメチルア
ミノピリジン等のピリジン誘導体等のような無機塩基筐
たに有機塩基の存在下に行なってもよい。使用される塩
基または縮合剤が液体であｎば、それを溶媒として使用
することもできる。

反応温度は特に限定されず、通常は加熱下または加温下
、好筐しくに加熱下に反応が行なわれる。

製造法６ 目的化合物（１ｄ）またはその塩は、化合物（Ｊｃ）箇
たはその塊を脱水反応に付すことにより製造することが
できる。

この脱水反応に使用される脱水剤としては、塩化ホヌホ
リル、塩化ナオニｌし、五酸化燐、五塩化燐、五臭化燐
等が挙げられる。

この反応は通常、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチ
レン、１．２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、
ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドのよ
うな溶媒中で行なわれるが、反応に悪影響を及はさない
溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中でも反応を行な
うことができる。

反応温度は特に限定されず、通常は常温、加温下または
加熱下に反応が行なわれる。

製造法４ 目的化合物（１ｅ）またはその福は、化合物（１（１）
またはその塩を硫化水素と反応場せることにより製造す
ることができる。

この反応は通常、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチ
レン、１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、
ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドのよ
うな溶媒中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさない
溶媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行なう
ことができる。

反応温度は特に限定されず、通常は常温、７ＸＪ温下ま
たは加熱下に反応が行なわれる。

製造法５ 目的化合物（１ｆ）またはその塩は、化合物（１ｄ）ま
たはその樵ヲテトラゾール基生成反応に付すことによシ
製造することができる。

化合物（１ｆ）および（１ｄ）の好適な塩としては、化
合物（１）について例示した酸付加塩を挙げることがで
きる。

この反応で使用される試薬としては、例えばカリウムア
ンド、ナトリウムアジド等のアＩレカリ金属アジドと例
えば塩化アンモニウム等のアンモニウムハライドとの組
会わせ等のような慣用のものが挙げられる。

この反応は通常、ジオキサン、クロロホルム、１１Ｚメ
チレン、１．２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン
、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドの
ような溶媒中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさな
いものであれば、その他のいかなる溶媒中でも反応を行
なうことができる。

反応温度は特に限定されず、通常は加温下または加熱下
に反応が行なわれる。

製造法Ａ　−（１） 化合物（Ｖ）またはその壕は、化合物（ｉｌｌ）ｊたけ
その塩を化合物α）と反応させることにより製造するこ
とができる。

化合物＠）および（Ｖ）の好適な塩類としては、化合物
（１）について例示した酸付７１１］塩類を挙げること
ができる。

この反応は、アルキルリチウム例、ｔＪｆｎ−ブナフレ
リチウム、リチウムジイソプロピルアミド、例えばナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアｌレカ
リ金属アｌレコキシド等の存在下に行なうのが好ましい
。

この反応は通常、アセトン、ジオキサン、アセトニドＩ
Ｊ　／し、ジメチルホルムアミＦ１ベンゼン、ヘキサン
、クロロホルム、塩化メチレン、塩化メチレン、テトラ
ヒドロフラン、酢酸エナｌしのような溶媒中で行なわれ
るが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他
のいかなる溶媒中でも反応を行なうことができる。

反応温度は特に限定されず、通常は冷却下、常温または
加熱下に反応が行なわれる。

製造法Ａ　−（２） 化合物（ｌａ）またはその塩は、化合物（Ｖ）またはそ
の塩を閉環反応に付すことによりｉ造することができる
。

化合物（ＶＪの好適な塩としては、化合物（１）につい
て例示した酸付加塩を挙げることができる。

この反応は、加熱媒体として使用でれるジフェニルとジ
フェニルエーテルとの混合物のような適当な試薬の存在
下に行なうのが好ましい。

反応温度は特に限定されないが、通常は加熱下に反応が
行なわれる。

製造法Ｂ−（１） 化合物（ＶＣ）ｌたはその塩は、化合物（Ｉｌｌｃ）捷
たはその塩を化合物（Ｖ）と反応させることにより製造
することができる。

化合物（Ｖｃ）および（川Ｃ）の好適な塩類としては、
化合物（１）について例示した酸付加塩類を挙げること
ができる。

この反応は前記製造法Ａ−（１）と同様にして行なうこ
とができる。

製造法Ｂ　−（２） 化合物（Ｉｌｈ）−Ｅたはその塩は、化合物（Ｗｅ）ｔ
たばその塩を閉環反応に付すことにょ仄製造することが
できる。

化合物（Ｉｌｈ）および（Ｖｃ）の好適な塩類としては
、化合物中について例示した酸付加塩類を挙げることが
できる。

この反応は前記製造法Ａ−（２）と同様にして行なうこ
とができる。

製造法Ｃ−（１） 化合物（Ｖａ）またはその塩は、化合物（Ｉｌｌａ）ま
たはその塩を化合物（ＩＶ）と反応づせることにより製
造することができる。

化合物（Ｉｌｌ　＆　）および（Ｖａ）の好適な塩類と
しては、化合物（１）について例示し７た酸付加塩類を
挙げることができる。

この反応は前記製造法Ａ−（１）と同様にして行なうこ
とができる。

製造法Ｃ−（２１ 化合物（ｌｌｂ）ｔたはその塩は、化合物（Ｖａ）また
はその塩を閉環反応に付すことにより製造することがで
きる。

化合物ＣＩｌ　ｂ　）および（Ｖａ）の好適な塩類とし
ては、イに合物（１）について例示した酸付７ＪＤ塩類
を挙げることができる。

この反応は前記製造法Ａ−（２１と同様にして行なうこ
とができる。

製造法Ｄ　−（１） 化合物（Ｖｂ）ｊたはその塩は、化合物（Ｉｌｌ　ｂ）
葦たはその塩を化合物（ＩＶａ）と反応させることによ
り製造することができる。

化合物（川ｂ）および（Ｖｂ）の好適な塩類としては、
化合物（１）について例示した酸性７ＪＬｌ塩類を挙げ
ることができる。

この反応は前記製造法Ａ−（１）と同様にして行なうこ
とができる。

製造法Ｄ　−（２） 化合物（ＩＩ　Ｑ　）またはその塩は、化合物（Ｗｂ）
またはその塩を閉環反応に付すこと贋よシ製造すること
ができる。

化合物（１１０）および（Ｗｂ）の好適な塩類としては
、化合物（１）について例示した酸性ｙｘｓ類を挙げる
ことができる。

この反応は前記製造法Ａ−（２）と同様にして行なうこ
とができる。

製造法Ｅ 化合物（ト）またはその塩は、化合物（ｌｉｄ）’！：
たけその塩をヒドロキシ保護基の導入反応に付すことに
より製造することができる。

化合物（ｌｌｃｌ）および（ｌｅ）の好適な塩としては
、化合物（１）について例示した酸付加塩を挙げること
ができる。

導入される保護基が低級アルキｌし基または低級アルケ
ニル基の場合、反応は化合物（］ｄ）またはその樵を低
級アルキｌし化剤筐たは低級アルケニｌし化剤と反応さ
せることにより行なわれる。

この反応で使用される低級アルキル化剤または低級アル
ケニル化剤としては、例えば硫酸ジメチル等の硫酸モノ
（またはジ）−低級アルキル、例えばメタンスフレホン
酸メチル等の低級アルカンヌルホン酸の低級アルキルエ
ステル、例エバブロモメタン、ヨードメタン、ヨードエ
タン、ヨードブタン等のハロ（低級）アルカン、たとえ
ばヨードプロペン等のハロ（低級）アｌレケン等のよう
な慣用の低級アルキル化剤または低級アルケニｌし化剤
が挙けられる。

酸の低級アルキルエステルを低級アルキル化剤として使
用する場合、反応は通常、水、アセトン、テトラヒドロ
フラン、エタノール、エーテル、ジメチルホルムアミド
のような溶媒中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさ
ない、溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中でも反応
を行なうことができる。

この反応は無機塩基または有機塩基のような慣用の塩基
の存在下に行なうのが好ましい。

反応温度は特に限定されず、通常冷却下から溶媒の沸点
付近までの加熱下までの温度範囲で反応が行なわれる。

製造法Ｆ 化合物（Ｉｇ）またばその塩は、化合物（Ｉｆ）−４ｉ
たけその塩を酸化反応に付すことに１９製造することが
できる。

化合物（ｌｆ）の好適な塩としては、化合物（１１につ
いて例示した酸付加塩を挙げることができる。

この酸化反応に使用される好適な酸化剤としては、２．
３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノ
ン（ＤＤＱ）等のような慣用の酸化剤が挙げられる。

この酸化反応はベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩
化メチレン、四塩化炭素、ジエチルエーテｌし、ジメチ
ルホルムアミドのような溶媒中で行なわれるが、反応に
悪影響を及ぼ場ない溶媒であれば、その曲のいかなる溶
媒中でも反応を行なうことができ、溶媒は使用される酸
化剤の種類によって任意に選択される。

この製造法の酸化反応の反応温度は特に限定されず、冷
却下、常温で、加温下または加熱下に反応を行なうこと
ができる。反応温度は使用きれる酸化剤の種類によって
任意に選択される。

製造法Ｇ 化合物（Ｉｌｌｅ）またはその塩は、化合物（ｌｌｄ）
ｔたはその塩をヒドロキシ保護基の導入反応に付すこと
により製造することができる。

この反応は常法によって行なうことができる。

導入する保護基がシリル基である場合には、この反応は
化合物ＣＩＩ（１）−ｆたけその塩を式：％式％（ （式中、Ｒａはトリ置換シリル基、 Ｘは酸残基をそれぞれ意味する） で示される化合物と反応させることによシ行なわれる。

好適な酸残基としては、例えば塩素、臭素等のハロゲン
等が挙げられる。

この反応はイミダゾール、４−置換イミダゾ−ｌし、ジ
メチルピラシーｌし、トリアシーｌしまたはテトラゾ−
ｌしの存在下に行なうのが好筐しい。

反応ハ通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン；テト
ラヒドロフラン、酢酸ニー？／Ｌ／、Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ピリジンのような慣用の溶媒中で行なわ
れるが、反応に悪影響を及はさない溶媒であればその他
のいかなる溶媒中でも反応を行なうことができる。

反応温度は特に限定されず、通常は冷却下、常温または
加温下に反応が行なわれる。

製造法Ｈ 化合物（ＩＩ　ｉ　）またはその塩は、化合物（ｌｈ）
ｔたはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に何すこと
により製造することができる。

この脱離反応は製造法１のような常法に準じて行なうこ
とができる。

この反応はフン化テトラ−ｎ−第三級ブチルアンモニウ
ムのような温和な試薬の存在下に行なうのが好ましい。

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸ニーｐｔｖ、Ｎ、Ｎ−ジメナルホ
ルムアミド、ピリジンのような慣用の溶媒中で行なわれ
るが、反応に悪影響を及はさないものであればその他の
いかなる有機溶媒中でも反応を行なうことができる。

反応温度は特に限定されず、通常は冷却下、常温または
７Ｉｌｌ＋温下に反応が行なわれる。

製造法１ 化合物（Ｉｌｋ）筐たけその塩は、化合物（ｌｌｊ）ま
たはその福を酸化反応に付すことによ！ｌｌ製造するこ
とができる。

この酸化反応に使用される好適な酸化剤としては、例え
ば過ヨウ素酸、過硫酸またはそのナトリウム塩またはカ
リウム嘔等の無機過酸またはその樵、例えば過安息香酸
、ｍ−クロロ安息香酸、過ギ酸、過酢酸、クロロ過酢酸
、トリフルオロ過酢酸またはそのナトリウム塩またはカ
リウム塩等の有機過酸″またはその福、オゾン、過酸化
水素、過酸化水素尿素、例えばＮ−ブロモヌクシンイミ
ド、Ｎ−クロロスクシンイミド等のＮ−ハロスクシンイ
ミド、例えば次亜塩素酸の第三級ブチｌレエステル等の
次亜塩素酸塩、例えば過マンガン酸カリウム等の過々ン
ガン酸塩、またはスルフィニル基をヌルホニル基に酸化
できる他の慣用の酸化剤があげられる。

この反応はたとえばタングステン酸、モリブデ反応を行
なうことができる。

この酸化反応は通常、氷、酢酸、クロロホルム、塩化メ
チレン、アセトン、メタノ−１し、エタノールまたはそ
れらの混合溶媒中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中でも反応
を行なうことができる。

反応温′度は特に限定されず、通常は冷却下から常温下
で行なわれる。

キノリジノン化合物（１）の薬理学的有用性を示すため
に、その薬理学的試験結果を以下に説明する。

〔１〕　試験化合物 Ｎ−（：５−（ＩＨ−テトラゾリル キノリジン−４−オン−６−カ！レボキサミド（以下化
合物■と略称）。

Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル）〕−〕１ーフェニル
ー４Ｈーキノリジン４−オン−６−カルボキサミド（以
下化合物■と略称）。

〔２〕　試験 （Ａ）　ストレス潰瘍の阻止 ■　試験法 体重的２　０　Ｏ　ｆのスプラグ−トウリー系ラットを
使用した。各動物を小ケージ中に固定し、呼吸可能な状
態で水浴中に置いた。水浴の温度を２２°Ｃに維持した
。試験化合物■および■を、固定直前に経口投与した。

７時間後に動物を屠殺してそれらの胃を切除した。次い
で胃を２％ホＩレマリンで固定した。潰脇面積を各動物
について測定した。

試験動物の平均面積（−）を対照動物の平均面積と比較
した。

■　試験結果 ■　受身皮膚アナフィラキシ−（ＰＣＡ　）に対する効
果 ■　試験法 ＰＣＡ反応被検動物として、生後７週齢、体重１８０〜
２００ｆのスプラグ−トウリー系雌ラット（日本タレア
製）を使用した。各実験ごとに５匹ずつ観察した。

５回結晶化させたオバｌレプミン（ＯＶＡ）　（シダマ
　ロン）３１　Ｆ−８０６１）ｅ抗原として使用した。

生後７週齢のＢＤＦＩ系雌マウス（日本タレア）に生理
食塩水０．０５ｍ／中ＯＶＡ　ｉ　Ｑ　Ｑ　ｍｃｇを一
次注射（左足跣）シ、２０日後に同じ経路でブースター
注射した。−次注射２８日後に血紗を採集し、血清を一
８０°Ｃで貯蔵した。

動物の毛を予じめ電気かみそシでそり、背面皮膚各側に
マウス抗血清希釈ａ（１／１６．１／３２）０．０５＋
／を注射して受身皮膚アナフィラキシ−を生起させた。

次いでこれらに４８時間後に、０ｖＡ５ｑを含む０．５
％エウ″アンス　ブルー１Ｗｌｌを静脈内注射した。

５０分後にこれらを屠殺して、病変部分の直径を測定し
た。

最小皮膚反応はそらせた皮膚の皮膚側で測定した５＋Ｎ
Ｎまたはそれ以上の直径の前蓋を有するものであった。

薬物の活性を次式を用いて評価した。

ｚ物ｖｏ、ｉ％メチルセルローヌ／食塩水中に懸濁し、
抗原と共に静脈内投与した。

■　試験結果 この発明の医薬組成物は医薬製剤の形、例えばこの発明
の活性物質を外用、経口用または非経口適用に適した有
機もしくは無機担体もしくは賦形剤と混合して含有する
固体状、半固体状捷たは蔽状製剤の形で使用することが
できる。有効成分は、例えば、錠剤、ベレット、カブ七
ｌし、半開、溶液、エマルジョン・懸濁液および使用に
適するその他の形態用の通常の無毒性の医薬として許容
される担体と混合すればよい。使用されうる担体は水、
グルコース、乳糖、アラビアゴム、ゼラチン、マンニラ
トール、スターチペースト、マグネシウムトリシリケー
ト、りｌレフ、コーンスターチ、ケラチン、コロイドシ
リカ、ポテトスターチ、尿素および固体状、半固体状ま
たは液状の製剤の製造における使用に適したその他の担
体であシ、さらに助剤、安定剤、濃厚化剤および着色剤
ならびに芳Ｍ剤を使用してもよい。医薬組成物はまた、
所望の製剤中の有効成分の活性を安定に維持するために
、保存剤または静菌剤を含有せしめることもできる。活
性を有する目的化合物は医薬組成物中に、疾患の過程と
条件とに従って所望の治療効果を発揮するのに十分な量
含有せしめる。

この組成物を人に適用する場合、静脈内投与、筋肉投与
または経口投与により適用するのが好筐しい。この発明
の目的化合物の投与量または治療用有効量は治療すべき
各個の患者の年齢と条件とによって変化するが、人マｆ
Ｃは動物に対する疾患の治療のための１日投与量は通常
有効成分約０．０５〜５ｔｉｌｌ／ｋＱであり、一般的
には平均１回約２．５〜．２５ｑ、２５０〜が投与され
る。

以下この発明を製造例および実施例に従って説明する。

。 製造例１ ２−メチルピリジン＜７ｍ１）のテトラヒドロフラン（
１４０＋＋＋／、）溶液に、ｎ−ブチルリチウムの１．
５９モルヘキサン溶液（４９＋／）を氷冷しながら滴下
する。生成する暗赤色溶液の温度を常温１で上昇せしめ
、１時間攪拌する。−７８“Ｃに冷却後、エトキシメチ
レンマロン酸ジエチＩしく１５゜６８ｍ／）のテトラヒ
ドロフラン＜５０ｍ１）溶液を３０分間かけて加える。

反応混合物の温度を一２０°Ｃまで上昇せしめて一２０
°Ｃで６０分間撹拌する。

酢酸（４，４８ｍ？　）を加える。溶媒を留去し、残漬
を酢酸エチルに溶解して度酸水素すＩ−ＩＪウム１０％
水溶液、水および福化す）　ＩＪウム飽和水溶液で洗浄
する。硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチル抽出液を
ｐ過し、溶媒を留去して油状物（２７ｇ）ｅ得る。残渣
をシリカゲル（メルク社製、７０〜２３０メツシユ、２
７０ｇ）を使用するクロマトグラフィーに付し、クロロ
ホルムで溶出して、６−エトキシー２−エトキシ力！レ
ボニル−４−（２−ピリジｌし）酪酸エチル（１９Ｆ）
を油状物として得る。

工Ｒ（フィルム）：１７３０．１５９０．１４７０，１
４４０．１３７０Ｃ７ＪＩ　１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ
：０．９７　（ｔ　、　３Ｈ、、Ｔ＝８Ｈｚ　）　。

１．２６（ｔ、６ｎ、Ｊ＝＝８ａｚ）、３．１２（ｄ、
。

ＩＨ，Ｊ”４３Ｈ２’）、、 Ｔｈ→ｗ３．２−３．６　（ｍ　、　２Ｈ）　、　３．
６２　（ｄ　。

ＩＨ１Ｊ＝８Ｈｚ）、４．２１（（１，４Ｈ，Ｊ＝８Ｈ
２）、４．４７（ｑ、２Ｈ，Ｊ−８Ｈｚ）。

６．９７−７．８０（ｍ、３Ｈ）、８．４２−８．６７
（ｍ、ＩＨ） 製造例２ ６−エトキシー２−エトキシ力ルポニｌレー４−（２−
ピリジｔｖ）酪酸エチル（１８，９ｆ　）、ジフェニル
（４８，８５ｆ／　）オヨＵジフェニルエーテル１３５
．８ｇ）の混合物を２５０°Ｃに４０分間加熱する。反
応混合物を常温に冷却し、シリカゲｌしくメｌレク社、
７０〜２６０メツシユ、６２０９）ヲ使用するクロマト
グラフィーに何し、ヘキサン、次いでエタノールとクロ
ロホルムとの混合物（１：４９）で溶出して得る粗製油
状物をエーテルとヘキサンとの混合物（１：１）から結
晶化きせて、６−エトキシカｌレボニルー４Ｈ−キノリ
ジン−４−オン（１１，４８ｙ）を黄色結晶として得る
。

工Ｒ（ヌシーｘ−ル）：　１６７０．１６２５．１４９
０ｏｎ　”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ：１．４２（ｔ、３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２）。

４．４２（ｑ、２Ｈ，、Ｔ＝７Ｈｚ）、６．６２（ｄ。

ＩＨ，Ｊ＝８Ｈ２）、７．０２−７．３８（ｍ、ｉＨ）
。

７．５３−７．６８（ｍ、２Ｈ）、８．３３（ａ、、Ｉ
Ｈ。

、Ｔ＝８Ｈ２）、９．２６−９．４７（ｍ、ＩＨ）製造
例５ 製造例１と同様にして下記化合物を得る。

（１）　３−エトキシ−２−エトキシカルボニル−４−
（２−（５−エチルピリジル））酪ｅエチル。

工Ｒ（フィルム＞　：１７５０．１７ｓｏｃｔｎ＝（２
）　３−エトキシ−２−エトキシカルボニル−４−（２
−キノリル）酪酸エチル。

ＩＲ（）、４ルムＣ１７５０（ｓｈ）、１７３０ｃｆｆ
ｉ　１（３）４−フェニル−６−エトキシー２−エトキ
シ力ルポニｌレー４−（２−ピリジル）酪酸エチル。

工Ｒ（ｙイルム）：１７５０（ｐ＋ｈ）、１７３０ｃｒ
　１（４）６−エトキシー２−エトキシカルボニル−４
−（２−（５−ヒドロキシピリジｌし））酪酸エチル。

ＩＲ（）召レム）：２５５０．１７３０．１４９０．１
２７０．１１６０゜１０９０．１０２シ「１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ：０．９７　（ｔ　、　３Ｈ、
：ｒ＝７　Ｈ２）　。

１．２５（ｔ、６Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２）、３．０７（ｄ。

２Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、３．２０−４．７７（ｍ、８Ｈ）
。

６．４７（ｍ、ＩＨ）、７．０７−７．３７（ｍ、２Ｈ
）。

８．１７（、ｍ、ＩＨ） （５）　３−エトキシ−２−エトキシカ／Ｖ７Ｎニル−
４−（１−イソキノリル）Ｍｌ＋エチｌし。

工Ｒ（フィルム）：１７５０．１７３０ａ「１（６）　
３−ニドキシ２−エトキシカルボニル−６−（８−（５
，６，７，８−テトラヒドロキノリル）〕プロピオン酸
エチル。

工Ｒ（フィルム）：１７５０．１７３０＋Ｊ　”（７）
　３−ニドキシ２−エトキシカルボニルー４−（２−（
３−メチルピリジル））酪酸エチル。

ＩＲ（ヌジョール）：１７５０．１７３５．１５７５．
１４４０．８６０゜７９　Ｑｃｒ　” ＮＭＲ（Ｃ！ＤＣＩ３）δ：０．９２（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝
５Ｈｚ）。

１．２７（ｔ、６Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、２．３７（ｓ。

３Ｈ）、３．０８−３．６０（ｍ、４Ｈ）、３．７０（
ｄ、ＩＨ，、Ｔ＝５Ｈｚ）、４．１８（ｑ、２Ｈ。

Ｊ＝５Ｈ２）、４．２２（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）。

４．５２（ｍ、ＩＨ）、７．０５（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ−６
Ｈｚおよび３Ｈｚ）、７．４５（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝６Ｈ２
）、８．４２（ｄ、ＩＨ，、Ｔ＝＝３Ｈｚ）（８）６−
エトキシー２−カルボエトキシ−４−〔２−（４−メチ
フレピリジＩし））ｍ酸エチｌし。

工Ｒ（フィＡａＣ１７５０，１７３０，１６００，１２
４０，１１５０゜１０２０Ｃ「１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５）δ：０．９７（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７
Ｈ２）。

１．２７（ｔ、６Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２．３２（８゜３
Ｈ）、３．１０（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）。

３．２８−３．５８（ｍ、２ｍ）、４．２０（ｑ、３ｎ
。

Ｊ＝７Ｈｚ）、４．２３（ｑ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）。

６．８７−７．１３（ｍ、２Ｈ）、８．４０（ｃｌ、Ｉ
Ｈ。

Ｊ：６Ｈｚ） （９）３−エトキシ−２−エトキシカルボニル−４７（
２−（６−メチｌレビリジル））酪酸エチル。

ＩＲ（フィルム）：１６５０．１６ろ０．１５９０．１
５８０，１２７０゜１１５０．１１０９０Ｃ１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５）δ：０．９７（ｔ、、３ｎ、Ｊ＝
７Ｈｚ）。

１．２５（ｔ、６＋ａ、ｒ＝７Ｈｚ）、２．４８（ｓ。

３Ｈ）、３．０７（４，２Ｈ，Ｊ＝’５．５Ｈ２）。

３．６０　（ｑ　、　２Ｈ、、Ｔ＝７ＨＺ　）　、　３
．２３−３．５７（ｍ、ＩＨ）、４．１８（ｑ、４Ｈ，
Ｊ＝７Ｈｚ）。

４．３３−４．６７　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ）　、６．８５
−７．１５（ｍ、２Ｈ）、７．３３−７．６６（ｍ、Ｉ
Ｈ）α０６−エトキシー２−エトキシカフレボニル−４
−（２−ピリジル）ペンタン酸エチｌし。

ＩＲ（）召ばり：１７５０．１７３０，１５９０．１３
００．１０９０゜ＩＤ２０Ｇｒ１ ＮＭＲ（ＣＤ０１３）δ：１．００（ｔ、３Ｈ，、Ｔ＝
７Ｈ１゜（１，３５（ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、１．２５（ｔ
、Ｊ＝７Ｈ２）、１．２５（８１９Ｈ）、３．００−３
．７５（ｍ。

４Ｈ）　、　３．９３−４．５８　（ｍ　、　５Ｈ）　
、　６．９８＝７．６０（ｍ、２Ｈ）、７．６５（ｍ、
ＩＨ）、８．５８（ｍ、ＩＨ） ０υ　６−エトキシー２−エトキシカフレボニル−４＝
（２−（５−メチルピリジＪＬ／）〕酪酸エチル。

ＩＲ（フィルム）：１７４０，１７３０．１６００．１
４８０．１１５０゜１０９０　、１０２５ｃｍ　１ ＨＭＲ（０Ｄ０１３）δ：１．０Ｏｔｔ、３ｎ、Ｊ＝７
ａｚ）。

１．２７（ｔ、６ａ、ｒ＝７Ｈｚ）、２．３２（ｓ。

３Ｈ）　、　３．００−３．７７　（ｍ　、　４Ｈ）　
、　４．２２（（１，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．２５（
ｑ、３Ｈ。

Ｊ＝７Ｈｚ　）　、　７．０３−７．５０　（ｍ　、　
２Ｈ）　。

８．３７（ｍ、ＩＨ） （２）６−エトキシー２−エトキシカルボ二ｌレー６一
（７−４６，７−シヒドロー５Ｈ−シクロペンタ（ｂ、
ｌビリジｌし）〕プロピオン酸エチル。

工Ｒ（フィルム）：１７５０（ｓｈ）、１７３０，１５
９０，１５８０ＱＩｒ　１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０
．８０（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２）。

１．３０（ｔ、６Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２）、２．００−２．４
０（ｍ、２Ｈ）、２．８０−３．７０（ｍ、４Ｈ）。

４．０（ｑ、２Ｈ，、Ｔ＝７Ｈｚ）、４．２０（（１゜
４Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．８０（ａｄ、　１Ｈ，Ｊ＝８
Ｈ２および２Ｈ２）、７．００−７．６０（ｍ。

２Ｈ）、８．３−８．５０（ｍ、ＩＨ）α３６−エトキ
シー４−メトキシ−４−（２−ピリジル）−２−エトキ
シカルボニル酪酸エチｌし。

ＩＲ（フィルム）：１７５０．１７３０．１５９０，１
３６５．１０９［Ｊ　。

１０２５．７６０６ｍ　１ 、ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．７８（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝
７Ｈｚ）。

１．２５（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．２８（ｔ。

３Ｈ，、Ｔ＝７Ｈｚ）、３．３３（ｄ、２ｎ、Ｊ＝４Ｈ
２）　、　３．６０−４．６０　（ｍ　、　９Ｈ）　、
　７．０７−７．９０（ｍ、５Ｈ）、８．６２（ｍ、Ｉ
Ｈ）（１４１３−エトキシ−４−エトキシカルボニル−
４−（２−ピリジル）酪酸エチル。

製造例４ 製造例２と同様にして下記化合物を得る。

（１）２−エトキシカルボニル−１Ｈ−ピリド〔１，２
−ａ）キノリン−１−オン。

融点　１０４−１０５°Ｃ 工Ｒ（ヌジョ−”）：１７３０．１６６０．１５３０ｃ
７「１ＨＭＲ（Ｃｉ・ＤＣｉ１３）δ：１．４３（ｔ、
３ｕ、ｙ＝７Ｈｚ）。

４．４３（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ’ｚ）、６．４０（ｄ。

Ｉ　Ｈ、Ｊ＝８Ｈ２）　、７．０および７．４５（ＡＢ
ｑ。

２Ｈ、Ｊ＝１０Ｈｚ　）　、　７．５０−７．７０　（
ｍ　。

４Ｈ）、８．２０（ｄ、１ａ、Ｊ＝８Ｈｚ）。

９．７０−１０．０（ｍ、ＩＨ） （２）７−エチル−６−エトキシカ！レボニル−４Ｈ−
キノリジン−４−オン。

融点　８１−８３°Ｃ 工Ｒ（ヌジＨ−ｔｖ）　：　１７２０　、１６３０ｃ＃
Ｉ−１ＨＭＲ（ＣＤｌ−１Ｎδ：１．３２（ｔ、３Ｈ，
Ｊ＝７ｎｚ）。

１．４４（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２．７６（ｑ。

２Ｈ，Ｊ＝７ａｚ）、４．４０（ｑ、２Ｈ，ｙ−７Ｈ２
）、６．６０（ｄ、ＩＨ，Ｊ−＝Ｉ３Ｈｚ）。

７．５２（ｓ、２ｎ）、８．３２（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、９．２０（８，ＩＨ） （３）１−フェニル−３−エトキシカルボニル−４Ｈ−
キノリジン−４−オン。

融点　１２０−１２３”Ｃ ＩＲ（ヌジｑ−７＋、’）：　１７３０．１６２（Ｘ−
１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．３６（１；、３Ｈ，Ｊ
＝７Ｈ２）。

４．３８（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．．０４−７．
７６（ｍ；７Ｂ）、８．３２（８，１Ｈ）、９．４８（
ｄ。

ＩＨ，Ｊ：８Ｈ７） （４）８−ヒドロキシ−６−エトキシカルボニルー４Ｈ
−キノリジン−４−オン。

融点　２４２”Ｃ（分解） ＩＲ（ヌジョールン：３３００．３２００．１６８０．
１６６０．１６２０゜１３ｏｏ、１１４６，９６ｏ、９
ｏｏＯｆ”ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：２．２７　（
−ｔ、　、　３Ｈ、Ｊ＝７Ｈ２）　。

４．２３（（１，２Ｈ，、Ｔ＝８Ｈｚ）、６．１３（ｄ
。

＼“パ３°１ａ、Ｊ＝８Ｈｚ）、７．５８（ａａ、１Ｈ
，、ｙ＝２Ｈ２，８Ｈ２）、７．９０（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝
８Ｈ２）。

８＋０７（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．８２（ｄ。

ＩＨ、Ｊ＝２Ｈ２） 元素分析　Ｃ工、Ｈ□□Ｎｏ４として、計算値：　Ｃ，
６１，８０；Ｈ，４，７５実測値ＩＣ、６２，１８；Ｈ
、５，０５（５）６−エトキシカルボニルー４Ｈ−ピリ
ド〔２，１−ａ）イソキノリン−４−オン。

融点　１５５°Ｃ ＩＲ（ヌジｉｉ−ル）：３１００．１７４０，１６５０
．１６４０Ｇ　１ＨＭＲ（ＣＤ（！１３）δ：１．４６
（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝’７Ｈｚ）。

４．４６（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２）、７．２３（ｄ。

ＩＨ，Ｊ＝８Ｈ２）、７．３５（ｄ、ＩＨ，Ｊ−８Ｈｚ
）、７．５０−７．８３（ｍ、３Ｈ）、８．２０−８．
５０（ｍ、ＩＨ）、８．４６（ａ、ＩＨ，Ｊ＝８Ｈ２）
、９．１０（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８Ｈｚ）元素分析　Ｃ□６
Ｈ□３Ｎｏ３として、計算値　Ｃ；７１．９０．Ｈ；４
．９０．Ｎ；５．２４実ｆｉｔ　Ｃ；７１．４０．Ｈ；
５．０６．Ｎ；５．１７（６）　９　ｉ＋ｌし３−エト
キシヵルポニｌレー４Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　１２５−１２６°Ｃ ＩＲ（ヌシａ−”）：ろ０９０，１７２５．１６４５．
１５９０．１１２５゜１１００Ｃ「１ ＮＭＲ（ＣＤ’Ｃ１１３）δ：１．４０　（ｔ　、　３
Ｈ、Ｊ＝＝７ａｚ　）　。

２．５０（８，３ａ）、４．４２（ｑ、２ｒｒ、Ｊ＝７
Ｈｚ）、６．６３（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈ７）。

７．０７（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７ａｚ）、７．４７（ｄ。

ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ）、８．３５（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９ａｚ
）、９．３２（ａ、Ｊ＝７Ｈｚ、ＩＨ）元素分析　Ｃ□
３Ｈ□３Ｎｏ３として、計算値：　Ｃ；６７．５２．Ｈ
；５．６７実測値：　Ｃｉ６７．５１　、Ｈ；５．８３
（７）　８−メチル−６−エトキシカルポニルー４Ｈ−
キノリジン−４−オン。

融点　１４６−１４８°Ｃ ＩＲ（ヌジョーｌし）：３０６０．１７２０．１６６０
，１６４０．１２４５゜１１５５．７９０Ｃ１Ｆ’ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５）δ：１．４０（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７
Ｈｚ）。

２．５０（ｑ、３Ｈ）、４．３８（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、６．５０（ｄ、１Ｈ，ｙ＝９ｎｚ）。

７．００（ｄｄ、ＩＨ，、：ｒ＝７ａｚ、２Ｈｚ）。

７．３０（ｄ、１ａ、、ｒ＝２ａｚ）、８．３２（ｄ。

１ａ、、ｒ＝９Ｈｚ）、９．２８（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝７ａ
ｚ） 元素分析　Ｃ！、３Ｈ□３Ｎ０３として、計算値：　Ｃ
ｉ　６７．５２　、　Ｈ；　５．６７実測値：　Ｃ；６
７．６Ｂ、Ｈ；５．６５（８）　３−：ｒ−）キシカル
ボニル−６−メチル−４Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　９０−９３°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：１７２０．１６５０．１６２０．
１５９０．１２６５゜１１２０．１１００．７９５Ｇ＋
　” ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５）δ：１．３５（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７
Ｈ２）。

３．０５（ｓ、３ａ）、４．３８（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、６．３８（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８Ｈｚ）。

６．６７（ｍ、ＩＨ）、７．２５（ｄ、１ａ、Ｊ＝４．
５Ｈ２）、８．１８（ｄ、ＩＨ，Ｊ−１３Ｈｚ）元素分
析　Ｃ，３Ｈ□３Ｎ０３として、計算値：Ｃ暮６７．５
２．Ｈ逼５．６７　、　Ｎ　ｉ　６．０７実測値：　Ｃ
；６７．２８．ａ　；５．６ろ、　Ｎ　；　６．０３（
９）１−メチフレー６−エトキシ力ルポニル−４Ｈ−キ
ノリジン−４−オン。

融点　１４２’−１４３”Ｃ ＩＲ（ヌジゴール）：１７２０．１６５０．１６２０．
１５９５．１３００゜１２３０．１１６０．１１２０．
７７シ「１ＮＭＲ（Ｃ！ＤＣＩ３）δ：１．４２（ｔ、
３ａ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

２．４０（ｓ、３Ｈ）、４．４３（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．２０（ｍ、ＩＨ）、７．６２−７．８０（ｍ
、２Ｈ）、８．２５（ｓ、ＩＨ）、９．４７（ｍ、ＩＨ
）元素分析　０□３Ｈ□３Ｎ０３として、計算値：Ｃ；
６７．５２．Ｈ；５．６７、Ｎｉ６．０６実測値：　Ｃ
１６７，４９，Ｎｉ５．９４．Ｎｉ６．０６α０　７−
メチｙし３−エトキシカルボニル−４Ｈ−キノリジン−
４−オン。　′ 融点　１４６−１４９”Ｃ 工Ｒ（ヌジョ−／’）：１７２０．１６２０．１１４５
．１１１ＵＪｃＩｌｒ１ＮＭＲ（ＣＤＣ１１３）δ：１
．４２（ｔ、３Ｈ，ＪニアＨ２）。

２．４５（ｓ、３Ｈ）、４．４３（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、６．６２（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８ａｚ）。

７．４７−７．５７（ｍ、２Ｈ）、８．３３（ｄ、ＩＨ
。

Ｊ＝８Ｈ２）、９．２３（ｍ、ＩＨ） 元素分析　Ｃ□３Ｈよ、ＮＯ３として、計算値：Ｃ；６
７．５２．Ｈ；５．６２．Ｎ；６．０６実測値：　Ｏ；
６７．４４．ｎ；５．８５．Ｎ；６．００（ＩＩ）　２
−エトキシカｌレボニルー８．９−ジヒドロシクロヘン
タ（’ｉｊ〕−３Ｈ−キノリジン−６−オン。

融点　１４９°Ｃ 工Ｒ（ヌジョニＩし）＝３１００．１７２０，１６４０
．１６２０．１６００゜１５５０．１２１０．１１５０
ｃｍ　”ＮＭＲ（Ｃ！ＤＣＩ３）δ：１．４３（ｔ、３
ａ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

、５．３０（ブロード　８，４Ｈ）、４．３０（（１゜
２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０−７．３０（ｍ、２Ｈ）。

８．３０（ｑ、ＩＨ）、８．８６（ａ、Ｉｎ、Ｊ＝６Ｈ
２） 元素分析　Ｃ工。Ｈよ、ＮＯ３として、計算値：　Ｃ；
６９．１２．Ｈ；５．３９．Ｎ；５．７６実測値：Ｃ；
６８．１６．Ｈ；５．４７．Ｎ；５．６９０２）　２−
エトキシカルボ二ｌレー９．１０−ジヒドロ−８Ｈ−ベ
ンゾ（ｉｊ、）ｌ−３Ｈ−キノリジン−６−オン。

融点　１１８”Ｃ ＩＲ（ヌジョ−”）：１６８０．１６’２０．１６００
．１２２０Ｃ７ｆ”ＮＭＲ（ＣＤＣ１１）δ：１．４０
（ｔ、、３ａ、Ｊ＝７ａｚ）。

１．８５−２．２０（ｍ、２Ｈ）、２．８０−３．２０
（ｍ、４Ｈ）、４．４０（ｑ＋２Ｈ１Ｊ＝７Ｈｚ）。

６．８５−７．３０（ｍ、２Ｈ）、８．１３（ｓ、ＩＨ
）。

９．２０　（ｄ’、　Ｉ　Ｈ、Ｊ＝７　Ｈ’Ｚ　）元素
分析　Ｃ□５Ｈ工、Ｎｏ３として、計算値：Ｏ；７０．
０２．ａ；５．８８．Ｎ；５．４４実測値：Ｃ；６９．
７８．Ｈ；５．９５１．−Ｎ；５．３８Ｑ３　１−メト
キシ−６−エトキシカルポニル−４Ｈ−キノリジン−４
−オン。

融点　１３２−１３３°Ｃ ＩＲ（ヌジョーｌしＣ１６８０，１６７０，１６２０，
１５９５，１３６０゜１１２０　、１０２０　、７７γ
「１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ：１．４３（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７
Ｈｚ）。

３．９３（ｐ、３Ｈ，）、４．４５（＋１．２Ｈ，、Ｔ
＝７Ｈｚ）。

７．２５（ｍ、１ａ）、７．６７（ｍ、１ａ）、７．９
７−８．２０（ｍ、２Ｈ）、９．４７ｔｄ、１ａ、Ｊ＝
７．５Ｈ２） 元素分析　Ｃ工、Ｈ工、Ｎ０４として、計算値：Ｏ；６
３．１５．Ｈ；５．３０．Ｎ；５．６６実測値：　Ｃ；
６２．８０．Ｈ；５．３３．Ｎ；５．６３α荀　１−エ
トキシカルボニル−４Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　１１４”Ｃ ｘＲ＜ヌジ、−ｔｖ）：１７２５．１６８０．１６３０
ｃ１ｒ１元素分析°Ｃ□２Ｈよ、Ｎ０３として、計算値
：Ｃ暮６６．３５゜Ｈ；　５．１０　、　Ｎ　；　１０
．４５実測値：Ｃ纂６６．１９．Ｈ；４．８１　、Ｎ；
６．４２製造例５ ２−エトキシカルポニ７レー８．９−ジヒドロシクロペ
ンタ（ｉＤ−３Ｈ−キノリジン−６−オン（２，２１）
およびジクロロジシアノベンゾキノン（２，２６Ｆ）の
ベンゼン（１１０ｍｌ溶液を２時間還流する。反応混合
物ｆ：Ｏ℃に冷却し、沈殿を濾過する。ｐ液を濃縮して
残渣をシリカゲｌしく４４ｆ）を使用するカラムクロマ
トグラフィーに付し、クロロホルムとメタノ−１しとの
混合物（１００：１〜１０：１）で溶出する。対応画分
の溶媒を留去して得る粗結晶をエーテルとヘキサンとの
混合物で洗浄して、２−エトキシ力ルボニｉｖシクロペ
ンタ（：１ｊ）−３Ｈ−キノリジン−６−オン（１，８
２ｇ）を得る。

融点　１２７°Ｃ 工Ｒ（ヌジョーｌし）：５１００，１６８０−１７００
（）υ−ド）。

１６２０．１５７０．１２３０．１２１［］Ｃ＋ＷＮＭ
Ｅ（ｃＤｃ１３）δ：１．４６（ｔ；、３ａ、Ｊ＝＝７
Ｈｚ）。

４．４６　（ｑ　、　２Ｈ、Ｊ＝７Ｈ２）　、　６．８
０−７．６０（ｍ、３ｎ）、８．１３（ｄ、Ｉｎ、Ｊ＝
８ｎｚ）。

８．７０（ｑ、ＩＨ）、９．２０（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ　） 元素分析　Ｃ工、Ｈよ、Ｎ０３として、計算値：　ｃ　
；６９．７０　、Ｈ；４．６０　、Ｎ　；５．８１実泪
吋直：Ｃ；６９．３４゜Ｈｉ　４．８０　、Ｎ　；　５
．７８製造例６ ５−エトキシカｌレボニル−７−ヒドロキシ−４Ｈ−キ
ノリジン−４−オン（４，５ｇ）の乾燥Ｎ、Ｎ−ジメナ
ルホルムアミド（９０肩ｔ）溶液を攪拌しながらこれに
、水素化ナトリウム（鉱物油中６０％、０．９３１を室
温で加え、この溶液を５０″Ｃに６０分間維持する。反
応混合物を沃化メチル（４，１３ｉで処理し、同温で３
０分間攪拌する。

反応混合物を希塩酸中に注ぎ、クロロホルムで抽出する
。有機層を水洗して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を留去して得る油状物（１２，３ｆＩ）をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付す。

クロロホルム−メタノール（９９：１）で溶出シて、６
−エトキシカ！レボニ）ｌ／７−メドキシー４Ｈ−キノ
リジン−４−オン（３，７５Ｆりを得る。

融点　１５６−１５８°Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：１７２０．１６２０．１５００，
１１４０．１１００１１ＮＭＲｌ１００１１Ｎδ：１．
４３（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７ｎｚ）。

３．９３（８，３Ｈ）、４．４３（（１，２Ｈ，Ｊ＝７
Ｈ２）、６．６３（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）。

７．２３−７．７０（ｍ、２Ｈ）、７．２８（ｄ、Ｉｎ
。

Ｊ＝８．５Ｈｚ）、９．ＯＯ（ｍ、ＩＨ）元素分析　Ｃ
工、Ｈ工、Ｎｏ４として、計算値：Ｃ嘉６３．１５　、
　Ｈｉ　５．３０実測値：　Ｃ１６２，６２，ＨＦ２．
５２製造例７ 製造例６と同様にして下記化合物を得る。

（１）５−エトキシカｌレポニＩレーアーｎ−ブ！゛キ
シ−４Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　１３２−１ろ６°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：１７１０．１６２０．１５４０．
１２８０，１２４０゜１１４０　、８４５　、７８０Ｃ
Ｔｎ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　）δ：１．００（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝６
Ｈｚ）。

１．４３（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝乙５Ｈｚ　）　、　１．５０
−２．３３（ｍ、４Ｈ）、４．１０（ｔ、、２Ｈ，Ｊ＝
６Ｈｚ）、４．４３（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈ２）。

６．６３（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８Ｈ２）、７．２３−７．６
７（ｍ、２Ｈ）、８．２８（（１，ＩＨ，、Ｔ＝８Ｈ２
）。

８．９７　ＣＣ１，、Ｉ　Ｈ、Ｊ＝２Ｈｚ　）元素分析
　Ｃ□６Ｈ□９ＮＯ４として、計算値：Ｃ墨６６．４２
　、　Ｈ；６．６２　、　Ｎ逼４．８４実４４り肴〆Ｅ
　’　Ｃ；　６６．５４　、Ｈ；　６５２　、Ｎ　；　
４．８２（２）　ろ−エトキシ力！レボニル−７−イン
ブロポキシー４Ｈ−キノリシン−４−オン。

醐１点　１ろ２−１３４”Ｃ 工Ｒ（ヌジョールＣｌ７２５，１６２５．１２４０．１
１４０．１１００゜９７０．８４０ｏｘ　１ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：１．４２（ｄ、６＋ａ、Ｊ＝
６ｎｚ）。

１．４３（ｔ　、　３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ　）、４．４
３（（１。

ＩＨ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．６５（ｍ、２Ｈ）。

６．６２　（ｄ、　Ｉ　Ｈ、Ｊ＝８．５Ｈ２）　、　７
．２０−７．６８（ｍ、２Ｈ）、８．２７（ａ、１ａ、
Ｊ＝８：５Ｈｚ）、９．００（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝２Ｈ２）
元素分析　Ｃ工、Ｈ工、Ｎｏ４として、計算値：　Ｃ；
６５．４４．Ｈ；６．２２．Ｎ；５．０９実測値：Ｃ；
６５．６６、Ｈ；６．１５．Ｎ；５．１０製造例８ ナトリウムエトキシド（３，２！Ｍ）ｅ含む２−ピリジ
ル酢酸エチル（６，１０＋＋＋Ｊ）のエタノール（１２
０ｍ／）溶液を１時間還流する。反応混合物をエートキ
シアクリル酸エチノν（−７，０６ｒａｉ）で処理し、
次いで５日間還流する。酢酸（４，６ｍｌを反応混合物
に加え、蒸発乾固する。油状残漬を酢酸エチルに溶解し
、水、炭酸水素す）　ＩＪウム水溶腋で洗浄する。有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶媒を留去して
得る油状残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付ス。ベンゼン−酢酸ｘ−ｙ−ｗ（１０：　１　）で溶
出して、６−エトキシー４−エトキシカルボニル−４−
（２−ヒｌＪジル）酪酸エチｌしＣ９，８０ｆ）を油状
物として得る。

製造例９ 製造例１と同様にして下記化合物を得る。

（１）４−フ二二）Ｖ−４−（２−キノリｌし）−６−
エトキシー２−エトキシ力！レボニル酪酸エチル。

工Ｒ（フィルム）：１７５０．１７３０．１５９０，１
５００．１１５０゜１０９０．１０３１０３０ ＧｒｌＮ　ＣＤ０Ｉ３．δＣ０，８２（３Ｈ，ｔ；、Ｊ
＝７ｎｚ）。

１．２０（３Ｈ，ｉ、Ｊ＝７ａｚ）、’１．２８（３ｎ
。

ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．１２（１ａ、ｍ）、３．４２−
４．４７（６Ｈ，ｍ）、４．６７（ＩＨ９ｍ）。

５．２５（１Ｈ，ｍ）、７．１２−８．２７（１１Ｈ，
ｍ）（２）４−（２−ピリジル）−４−（１−ナフチｌ
し）−６−エトキシー２−エトキシカフレボニル酪酸エ
チル。

ＩＲ（ｙイルム）：１７５０．１７２０．１５８０，７
８０，７５０ｃｍＮＭＲ（ＣＤ０Ｉ３．δＣ０，６０（
３Ｈ，ｔ、Ｊ＝＝７Ｈｚ）。

１．２０　（６Ｂ　、　ｔ　、　、Ｔ＝７Ｈ２）　、　
２．２０−４．５３（８Ｈ，ｍ）、５．３３（ＩＨ，ｍ
）、６．９５−８．１０（１０Ｈ，ｍ）、８．５８（１
ａ、ｍ）（３）４−（２−ピリジ／Ｌ／）−４−（４−
ビフェニリル）−６−エトキシー２−エトキシカルボニ
ル酪酸エチｌし。

ＩＲ（フィルムＣｌ７５０，１７３０，１５９０．１４
８５，１３００゜１１５０　、７６０ａｃ” ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．δ）二〇、８３（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝
７Ｈ２）。

１．３３（６Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．２８（ＩＨ。

ｍ）、３．６３（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、４．２５（
４Ｈ、ｑ　、　Ｊ＝７ａｚ　）　、　４．５０−５．３
０（２ａ、ｍ）、７．０２−７．８３（２Ｈ，ｍ）。

８．６５（ｉｎ、ｍ） （４）４−フェノキシ−４−（２−ピリジル）−６−エ
トキシー２−エトキシ力！レボニル酪酸エチル。

ＩＲ（フィルムＣ１７５［］、１７３０．１５９０．１
４９’０．１２２０゜１０６０　、７５０ｃｎｒ” ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δＣ０，８０（３Ｈ，ｔ；、ｙ−
７Ｈｚ）。

１．０３（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２）、１．２８’（３Ｈ
。

ｔ、ｒ＝＝７ｎ１．２．７３（１Ｈ，ｍ）、３．１７−
３．７０（２Ｈ，ｍ）、５．８０−４．４’０　（４Ｈ
。

ｍ）、４．６０（ＩＨ，ｍ）、５．５５（ＩＨ，ｍ）。

６．８０−７．０３（３Ｈ，ｍ）、７．１．０−７．４
０（３Ｈ１ｍ）、７．４２−７．８０（２Ｈ，ｍ）。

８．６５（Ｉｎ、ｍ） ＜５１　４−（１−１−リフ’）−４−（２−ピリジル
）−６−エトキシー２−エトキシ力ルポニｌし酪酸エチ
ル。

ＩＲ（フィルム）：１７５０．１７３０．１６００゜１
５９０．１１００゜７００ｃｍ　１ ＮＭＲ（ＣＣ１４，δ）：０．７２ｔ３Ｈ，ｔ、ｙ＝７
ｎｚ）。

１．０７−１．４５（６Ｈ、ｍ）、２．３３（３Ｈ，ｓ
　）。

３．１２−３．７３　（ろＨ、ｍ　）　、　３．８７−
４．４８（５Ｒ，ｍ）、４．９５（ＩＨ，ｍ）、６．’
８５−７．７２（７Ｈ，ｍ）、８．５８（ＩＨ，ｍ）（
６）４−（２−ピリジル）−４−（４−クロロフェ−ｊ
し）−３−エトキシ−２−エトキシカルボニル醋酸エチ
ル。

ＩＲ（フィルム）：１７５０．．１７３０．１５９０．
１４９０，１０９０゜７５Ｑｃ” ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．δ）　：０．６３−０．９７　（
ろＨ，ｍ）。

１．０５−１．５０　（６Ｈ、ｍ　）　、　３．０３−
３．８２（３ａ、ｍ）、３．９３−４．５８（５Ｈ，ｍ
）。

４．９３（ＩＨ，ｍ）、６．９０−７．７２（７Ｈ。

ｍ）、８．５３（１ａ、ｍ） （７）４−’（２−ピリジル）−４−（３−メトキシフ
ェニル）−３−エトキシ−２−エトキシカルボニル醋酸
エチル。

ＩＲ（フィルム）：１７５０．１７３０．１５９０，１
４７０．１４４０　。

１３７０．１１６０．１１００．１０４０．７６０．７
００Ｇ＋−”ＮＭＲ（ＣＣｌ４．δ）：０．７３（３Ｈ
，ｔ、、Ｔ＝７Ｈｚ）。

１．０７−１．４８（６Ｈ、ｍ　）　、　２．８５−４
．５３（８Ｈ，ｍ）、３．７２（３Ｈ，Ｓ）、４．９３
（ＩＨ，ｍ）、６．５０−７．７０（７Ｈ，ｍ）。

８．６０（ＩＨ，ｍ） （８）　４−（２−）リル）−４−（２−ピリジル〕３
、＝ｃ）キシ−２−エトキシカルボニル醋酸エチル。

工Ｒ（フィルム）：３０６０．１７４０，１７２０．１
５９（ｌ］；１４４０゜１０５’０．８６０．７５０ｆ
ｆ−” ＮＭＲ（Ｃｅ１４．δ）：０．７０ｔ３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７
ｎｚ）。

１．０３−１．４８（６Ｈ，ｍ）、２．４（３Ｈ，ｍ）
。

２．８０−４．９３　（９Ｈ、ｍ　）　、　６．８０−
７．６０（７Ｈ，ｍ）、８．４７（ＩＨ，ｍ） （９）４−（２−ビリジｌし）−４−第三級ブチｌレジ
メチフレシロキシ−６−エトキシ−２−エトキシカルボ
ニル酪酸エチル。

ＩＲ（フィルムＣｌ７５０．１７３０’、１５９０．１
５８０Ｕ−１製造例１０ 製造例２と同様にして下記化合物を得る。

（１）　２−エトキシカルボニル−４−フェニル−１Ｈ
−ピリド（１，２−ａ：）ｌキノリン−１−オン。

融点　１５８−１５９”Ｃ 工Ｒ（ヌジョーｌし）：１６９０．１６７０．１６２５
．１５８０．１２３０゜１１３０　、１　［］ＯＤｃ； ＮＭＢ（ＣＤＣｌ２．δＣ１，４０（３Ｈ，％、Ｊ＝７
Ｈｚ　）。

４．４２（２Ｈ、ｑ　、　Ｊ＝７Ｈ２）　、　７．１０
−７．７０（ＩＯＨ，ｍ）、８．２３（ＩＨ，ｓ　）、
９．６８（ＩＨ，ｍ）元素分析　Ｃ２２Ｈ工、Ｎ０３と
して、計算値：Ｃ；７６．９５．Ｈ；４．９９．Ｎ；４
．０８実測値：　Ｃｉ７６．７６　、Ｉ（ｉ５．０５　
、、Ｎ　；４．００（２）１−（１−ナフテｌし）−６
−エトキシカルポニｌレー４Ｈ−キノリジン−４−オン
。

融点　１６１−１６３°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：１６９０．１６６５．１５９０．
１２７０．１２４０゜７８０．７７０ｆ１ ＮＭＲ（Ｃ１Ｃ１３，δ）：１．３８（３Ｈ，ｔ、、、
ｙ＝７Ｈｚ）。

４．４３　（２Ｈ、［１、Ｊ＝７Ｈ２）　、　７．０５
−７．７７（８Ｈ，ｍ）　、７．８０−８．１０（２Ｈ
，ｍ）。

８．４３（ＩＨ，ｓ）、９．５８（１ａ、ｍ）元素分析
　Ｃ２２Ｈ□７ＮＯ３として、計算値：　Ｃ；７６．９
５．Ｈ；４．９９．Ｎ；４．０８実測値：　Ｏ；７７．
１４．Ｈ；５．２７．Ｎ；３．８９（３）１−（４−ビ
フエニリｌし）−６−エトキシカ７レポニルー４Ｈ−キ
ノリジン−４−オン。

融点　１８３−１８４．５°Ｃ ＩＲ（ヌジロール）：１６９０．１６８０．１６２５．
１５９０．１２６０゜７７０．７４０＜１ ＮＭＲ（０ＤＣＩ３．δ）：１．４（１（３Ｈ、ｔ　、
　Ｊ＝７ｎｚ　）　。

４．５０　（２Ｈ、ｑ　、　Ｊ＝７ＨＺ　）　、　７．
０８−８．０２（１２Ｈ’、ｍ）、８．４３（１Ｈ，ｓ
）、９．５５（ＩＨ，ｍ）元素分析　Ｃ２４Ｈよ、Ｃ０
３・１／４Ｈ２０として、計算値：Ｃ；７７．０９．Ｈ
；５．２７．Ｎ；３．７５実測値：　Ｃ；７７．０４．
ｎ；５．４９．ｎ；３．６ＣＩ（４）　１−フェノキシ
−６−エトキシカＩレボニルー４Ｈ−キノリジン−４−
オン。

融点　１０８−１０９°Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６７０．１６２０．
１５９０，１２２５゜１２００　、　Ｉ　ＤＯＯＣＩｎ ＮＭＲ（ＣＤ０１３．δ）：１．４０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝
７Ｈｚ）。

４．４２　（２Ｈ、ｑ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　、　６．７
８−７．４８（６ａ、ｍ）、７．５７−７．９８（２ｍ
、ｍ）。

８．２３（ＩＨ，８）、９．４５（ＩＨ，ｍ）元素分析
　Ｃよ。Ｈ□５ＮＯ４として、計算値：　Ｃ！；６９．
８９．Ｈ；４．８９．Ｎ；４．５３実測値：Ｃ；７０．
１８．Ｈ；５．０３．Ｎ暮４．５１（５）１−（３−）
すｌし）−６−エトキシカｌレボニルー４Ｈ−キノリジ
ン−４−オン。

融点　１０９−１１１“Ｃ 工Ｒ（ヌジョーＩし）：１７２５．１６４５．１６２０
．１５９５．１２４０゜７７０ＣＭ−１ ＮＭＲ（Ｃ１ＤＣ１３，δＣ１，４２（３Ｈ，ｔ、、Ｊ
＝７Ｈｚ）。

２．４５（３ａ、ｓ）、４．４５（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈ
ｚ　）　、　７．［］］８−７．４８（５Ｈ、ｍ　）　
、　７．５３−７．９５（２Ｈ，ｍ）、８．４２（ＩＨ
，Ｒ）。

９．５５ＮＨ，ｍ） 元素分析　Ｃ□９Ｈ工、Ｎｏ３・１１５Ｈ２０として、
計算値：　Ｃ；７３．３９．Ｈ；５．６４．Ｎ；４．５
０実測値：　ｃ；７３．５８．ｎ；５．６２．Ｎ；４．
４９（６）１−（４−クロロフェニＩし）−５−エトキ
シ力ｌレポニｌレー４Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　１５９−１６０℃ 工Ｒ（ヌジョーｌし）：１６８０．１６７０．１４９０
゜１２９５゜１２６０．１２４０．１１３０，１０２０
．７６５Ｃ＋ｆ１ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）：１．４０
（３Ｈ，ｔ、、Ｔ＝７Ｈｚ）。

４．４３　（２Ｈ、ｑ　、　、ｒ＝７Ｈｚ　）　、　６
．９７−７．８７（７Ｈ，’ｍ）、８．３２（ＩＨ，Ｒ
）、９．４８（ＩＨ，ｍ）元素分析　Ｃ，８Ｈよ。Ｃｌ
ＮＯ３として、計算値：　Ｃ；６５．９６　、Ｈ１４３
１、Ｎ　；４．２７実測値：Ｃ１６５，８１，Ｈ；４．
４９．Ｎ纂４．１９（７）１−（３−メトキシフェニｌ
し）−６−エトキシカＩＶポニ１ｖ４Ｈ−キノリジン−
４−オン。

融点　１５５−１５７”Ｃ 工Ｒ（ヌジョーＩし）：３０７０．１７３０，１６５０
，１６２５．１５９５゜１１３ｏ　、　１１ｏｏ　、７
８０ｃ＋＋ｒ１ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．δ＞：１．４２　
＜　３Ｈ、ｔ　、　Ｊ＝７Ｈ２）　。

３．８０（３Ｈ，ｓ）、４．４０（２Ｈ，ｑ、、Ｔ＝７
Ｈｚ）、６．８５−７．９３（７ｎ、ｍ）、８．３５（
ＩＨ，８）、９．４７（ＩＨ，ｍ） 元素分析　Ｃ□９Ｈ□７ＮＯ４・１／４Ｈ２０として、
計算値：　Ｃ；６９．６１　、Ｈ；５．３８．Ｎ；４．
２７実測値：　Ｃ；６９．６２．Ｈ；５．２９．Ｎ；４
．１９（８）１−（２−）リル）−６−エトキシカルポ
ニルー４Ｈ−キノリジン−４−オン。

一点　９７−９８”Ｃ 工Ｒ（ヌジョーｌしＣ１７３０，１６Ｂ０，１６２０．
１４Ｂ０．１２３Ｄ。

１１００　、７８５３−１ ＮＭＲ（ＣＤ０１３．δ）：１．４５（３Ｈ，ｔ、Ｊ−
７Ｈｚ）。

２．１０（３Ｈ，ｓ）、４．４８（２Ｈ，［１，Ｊ＝７
Ｈ２）、７．１８−７．８３（７Ｈ，ｍ）、８．４２（
’Ｉ　Ｈ、ｓ　）’　、　９．６８　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）
元素分析　Ｃユ、Ｈよ、Ｎｏ３として、計算値：　Ｃ；
７４．２５．Ｈ；５．５７．Ｎ；４．５６実測値：Ｃ暮
７４．５０　、　Ｈ；　５．６６　、　Ｎ−；　４．５
０（９）　１−Ｍ三ｉプチルジメチ７レシロキシ−６−
エトキシカフレボニル−４Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　８０°Ｃ 工Ｒ（ヌジ、＋−／し）：１６９５．１６７５．１６２
０’、１５９０ａｒ”ＮＭＲ（ＣＤ０１３．６）＝０．
２（６Ｈ，ｓ）、１．１０（９Ｈ。

＋９）、１．４５（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、４，４５
（２Ｈ，＋１　、Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１０−８．０（３
Ｈ。

ｍ）、８．１０（ＩＨ，ｓ）、９．１５．（ＩＨ，ｄ。

Ｊ”４３Ｈ２） 元素分析　Ｃよ。Ｈ２５Ｎｏ４Ｓｉとして、計算値：　
Ｃ；６２．２２．Ｈ；７．２５．Ｎ纂４．０６実測値：
　Ｃ；６１．９７．ｎ；７．０４．Ｎ眉４．０８製造例
１１ ２−ヒドロキシメチルピリジン（１９，５ｔｔｒｌ　）
、第三級ブナルジメナ！レシリルクロリド（３６，２ｆ
　）およびイミダゾール（２７，２Ｆ）のジメナＩＶ示
ｌレムアミド（１９０肩１＞中温合物を室温で２時間撹
拌する。反応混合物に水を加えてｎ−ヘキサンで抽出す
る。有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して
溶媒を留去する。残渣を蒸留して、２−第三級ブ千Ｉレ
ジメナルシロキシメナルピリジン（４２，３０ＩＩ）を
得る。

工Ｒ（フイ／’４）：１５９５．１５８５．１２６０，
１１６０．１１４０ａｒ：ＮＭＲ（ＣＤＣ！１３．δ）
＝１．０（６Ｈ，１，１，８３（９Ｈ。

ｓ　）、４．７０（２Ｈ，ｐ　）、６．８５−７．２０
（ＩＨ。

ｍ　）　、　７．２５−７．７０　（２Ｈ、ｍ　）　、
　８．２０−８．３０（１ａ、ｍ） 製造例１２ ｉ−第＝級ブナルジメチルシロキシー３−エトキシカル
ボニル−４Ｂ−キノリジン−４−オン（３，３２ｇ）の
テトラヒドロフラン（ＩＤＯｇ／）溶液に、フッ化テト
ヲーｎ−ブチＪレアンモニウム（Ｉ　Ｍ、　１１．４７
ｍ／）を０℃で加える。混合物を１時間攪拌し、溶媒を
留去する。残渣を酢酸エチｌしに溶解し、水および塩化
す）＋Ｊウム飽和水溶液で洗浄する。硫酸マグネシウム
で乾燥後、沖過して溶媒を留去する。残漬をシリカゲル
を使用するクロマトグラフィーに付し、クロロホルムで
溶出して、１−ヒドロキシ−６−エトキシカｌレボニル
＝４Ｂ−キノリジン−４−オン（１，１１）を得る。

融点　〉２５０℃ ＩＲ（ヌジ日　”）：３１００，１６９０．１６５０．
１６２００１１　”ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−（１６，δ）：
１．３０（３ａ、ｔ、、Ｊ＝＝７ａｚ）。

４．２５（２ａ、ｑ、、ｒ＝７ａｚ）、７．２０−７．
６０（ＩＨ，ｍ）、７．９０−８．１０（２Ｈ。

ｍ　）　、　９．２０−９．３０　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　
、９．６０（ＩＨ，ｓ）元素分析　Ｃ工、Ｈ□、Ｎｏ４
として、計算値：　（１！；６１．８０．Ｈ；４．７５
．Ｎ纂６．０１実測値：　ｃ　；６１．１１　、Ｈ；４
．５８．Ｎ　；５．９１製造例１６ 製造例１と同様にして下記化合物を得る。

（１）４−フェ二ｌレー３−エトキシー２−エトキシカ
ルボニル−４−（５−ヒドロキシ−２−ヒリジｌし）酪
酸エチル。

（２）　６−エトキシー２−エトキシカルボニル−４−
（Ｎ−メチルアニリノ）−４−（２−ピリジル〕酪酸エ
チル。

ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）：０．９０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝
７．２Ｈｚ）。

’１．１４１Ｈ，ｔ、、ｒ＝７．２Ｈｚ）、１．３０（
３Ｈ。

ｔ、Ｊ＝７．２Ｈ２）、３．０３（ろＨ、Ｓ）　、　３
．２０−４；５０’（７Ｈ、ｍ　）　、　５．００−５
．６０　（２Ｈ。

ｍ）、６．５０−ン、３Ｑ（３Ｈ，ｍ）、８．５７（Ｉ
Ｈ。

ｃＬ　、　Ｊ：４．４　Ｈ，Ｚ　） （３）３−エトキシ−２−エトキシカ！レボニル−４−
ベンゾイル−４−（２−ピリジル）醋酸エチｌし。

（４）５−エトキシ−２−エトキシカルボニｌレ−４−
（２−ピリジル）−４−ベンジル醋酸エチｊし。

ＩＲ（フィルム）：１７５０．１７３［］、１６３５．
１５Ｂ５．１３６５゜１２９０．１２４５．１１８５．
１１４０．１０９０．１０２５゜７４５．７０ＤＣ１Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）’：０．９８−１．５０　（
９Ｈ、ｍ　）　、　２．９６−４．６７（１１Ｈ，ｍ）
、６．７３−７．６３（８Ｈ。

ｍ）、８．４８−８．６３（ＩＨ，ｍ）（５）　３−エ
トキシ−２−エトキシカフレボニル−４−（２−ピリジ
ル）−４−フェニルナオ酪酸エチｌし。

工Ｒ（フィルム）＝１７５０．１７３０．．１５９０．
１４４０，１ろ００゜１１５０．１０９０．１０２５．
７６０Ｃｍ　１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）：［］、８３
−１．４０（９Ｈ，ｍ）、ろ、［１７−４，４３（７Ｈ
、ｍ　）　、　４．５３−４．９２　（２Ｈ。

ｒｒｒ）、７．０−７．７３（８Ｈ，ｍ）、８．５３（
Ｉｎ、ｍ）製造例１４ 製造例２と同様にして下記化合物を得る。

（１）　３−エトキシカルボニル−７−ヒドロキシ−１
−フェニ／Ｌ／４Ｈ−キノリジン−４−オンエＲ（ヌジ
ョール）：１７２０．１６２０．１４９０．１４５０Ｇ
ｒＮＭＲ（ＤＭ　Ｓ　０−Ｃ６，δ）：１．３０　（３
Ｈ、ｔ　、　Ｊ−＝７　Ｈｚ　）　。

４．２６（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝＝７ｎｚ）、７．４６（５Ｈ
。

ｍ）、７．６０−７．７０（２Ｈ，ｍ）、７．９７（Ｉ
Ｈ。

ｓ）、８．９８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈ２）元素分析　Ｃ
□８Ｈ□５Ｎ０４として、計算値：　Ｃ；６９．８９．
Ｈ；４．８９．Ｎ；４．５３実測値　Ｃ；６９．２［Ｊ
、Ｈ；５．３０．Ｎ；４．１４（２）３−エトキシカル
ボニｌレー１−（Ｎ−メチルアニリノ）−４Ｈ−キノリ
ジン−４−オン。

工Ｒ（ヌジョール）：１６９０，１６８０．１６００．
１５１０．１３８０゜１２３５ａＵ　” ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−Ｃ６，δ）：１．３０（３ａ、ｔ、
、Ｊ＝７ｎｚ）。

３．３０（３Ｈ，Ｓ）、４．２８（２Ｈ，（１，Ｊ＝７
Ｈ２）、６．５０−８．１０（８Ｈ，ｍ）、８．１５（
ＩＨ，Ｓ）、９．４０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）元素分
析　Ｃ工、Ｈ工８”２０３として、計算値：　Ｃ；７０
．７９．Ｈ；５．６３．Ｎ；８．６９実測値：　Ｃ１７
１，ＯＯ，）（ｉ５．４０．Ｎ；８．５６融点　１２９
−１３２°Ｃ （３）　３−エトキシカルボニル−１−ベンゾイル−４
Ｈ−キノリシン−４−オン。

融点　１７６−１７８°Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：１７ｓｏ、１６６ｏ、１５ａｏ、
ｔ４ａｓ、１ｚ２ｏ。

１１１０．７８５ｃノ「１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）：１．３７（３ｎ、ｔ、、Ｊ
＝７ｕｚ）。

４．３８　（２Ｈ、ｑ　、　、Ｔ＝７’ＨＺ　）　、　
７．２０−８．０７（７Ｈ，ｍ）、８．６２（ＩＨ，Ｓ
）、８．８２−９．１０（ＩＨ，’ｍ）、９．４２−９
．６７（ＩＨ，ｍ）元素分析　Ｃ□、Ｈ□５Ｎ０４とし
て、計算値：　Ｃ；７１．０２．Ｈ；４．７０．Ｎ；４
．３６実測値：　（！；７０．７６、Ｈ；４．９６．Ｎ
；４．３３（４）　３−エトキシカルボニｌレー１−ベ
ンジル−４Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　１０２−１０５°Ｃ ＩＲ（ヌジョーｌし）：１６９０．１６７０．１６２５
．１５９５．１ろ２０゜１２３５．７６５゜７２ケ？「
１ ＮＭＲ（Ｃ１ＤＣ１３，δ）：１．４３（３Ｈ，ｔ、Ｊ
＝７Ｈｚ）。

４．２３（２Ｈ，ｓ）、４．４８（２Ｈ，ｑ、、Ｊ＝７
Ｈ２）、７．０２−７．４２（６Ｈ，ｍ）、７．５２７
．７８（２Ｈ，ｍ）、８．２８（ＩＨ，ｓ）。

９．４５　（Ｉ　Ｈ、ｍ　） 元素分析　Ｃ□９Ｈ□７ＮＯ３として、計算値：Ｃ電７
４．２５　、　Ｈ屯５．５７　、　Ｎ；　４．５６実測
値：　Ｃ；７３．９７．Ｈ；５．７２．Ｎ；４．４２（
５）　３−’ｓ−トキシカｌレボニｙｖ’１−フェニル
ナオ−４Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　１７１−１７３°Ｃ 工Ｒ（ヌショーＩし）：１７４０．１６６０．１６２５
，１５７５．１２８０゜１２２０．１１４０，１１２０
，７８０．７５０Ｃノ、ＩＮＭＲ（ＣＤＣ！１３．δ）
：１．４０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

４．４２　（２Ｈ、ｑ　、　Ｊ＝７Ｈ２）　、　６．６
８−７．４７（５Ｈ，ｍ）、７．７ろ（ＩＨ，ｍ）、８
．３３（ＩＨ。

ｍ）、８．７２（ＩＨ，Ｓ）、９．５２（ＩＨ，ｍ）元
素分析　Ｃ□８Ｈ□５ＮＯ３Ｓとして、計算値：０層６
６．４４．Ｈ；４．６５．Ｎ；４．３０実測値：　Ｃ；
６６．１７．Ｈ；４．６９．Ｎ；４．２８製造例１５ ２−クロロメチルピリジン（５０ｇ）、Ｎ−メー？−７
１／７ニリン（４２ｇ）および炭酸カリウム（１２０ｙ
）のＮ、Ｎ−ジｊ−ｆ−）（／＊１ＶＪ４ミド（２００
ｍ？）混合物を１２０“Ｃで４時間攪拌する。反応混合
物を室温に冷却し、水（１４）に加え、エーテｌしで抽
出する。エーテル抽出物を水洗し、活性炭処理をする。

硫酸マグネシウムで乾燥後、エーテｌし抽出液を濾過し
、濃縮する。残漬をインプロピルアルコ−１しから結晶
化して、Ｎ−メナｙｖ　−Ｎ　−（２−ピリジルメチル
）アニリンｔ３９ｆ）を得ル。

融点　６０′Ｃ ＩＰ（ヌジョールＣｌ６１０．１５９０．１５７０．１
５１０．１４７０゜１４４０　、１３６０Ｃｒ１ 製造例１６ ２−メチルビリジン（？、ろ１ｙ〕のテトラヒドロフラ
ン（２００＋＋＋ｌ）溶液に、ｎ−ブチＩレリチウムの
１．５モルヘキサン溶液（７５，３ｍｌ　）を−２０°
Ｃで７ＪＯえる。生成する溶液を室温で６０分間撹拌シ
、安息香酸エチル（１５，０２ｙ）のテトラヒトａフラ
ｙ（１００ｍ１）溶液に一６０°Ｃ″′ｃ加える。

−６０”Ｃで２時間攪拌した後、酢酸（１５＋ｙｉを加
え、反応混合物を室温に１で上昇せしめ、減圧濃縮する
。残漬を酢酸エチルに溶解して水で洗浄する。水層を酢
酸エチｌしで再抽出し、それらの抽出液を水、炭酸水素
す）　ＩＪウム１０％水溶液および塩化すｌ−ＩＪウム
飽和水溶液で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、酢
酸エチル抽出液を濾過し、溶媒を留去する。残ａ＜　２
０．５　ｙ　）をシリカゲル（メｌレク社製、７０〜２
３０メツシユ、３０８．ｆ　）を使用するクロマトグラ
フィーに付［７、クロロホｗ　Ａ　ｆＲｌ　出して、２
−ビリシルメナＩＶフェニルケトン（１０，８６ｇ）を
油状物として得る。

ＩＲ（ヌショール）：１６８０，１６３０．１６００．
１５４５．１２７［Ｊ。

１２００．１１４５，１［］６０，８００，７７５．６
９ＤＣ＋ｎＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δＣ４，４３（１，５
Ｈ，８）、６．０２（０，５Ｈ，Ｓ）、６．８３−８．
６５（９Ｈ，ｍ）製造例１７ （１）５−ヒドロキシ−２−メチルピリジン（１０，６
６ｙ）のテトラヒドロフラン（４２６＋＋＋／）溶液［
ｎ＝ブチルリチウムの１．５モルヘキサンＦＪ（’Ｉ４
３ｖｔｌ）を−６０°〜−１０°Ｃでカロえる。反応混
合物を室温にまで加温し、室温で１時間攪拌する。

−７８°Ｃに冷却した後、シクロヘキサン（１１，１４
ｍ１）を滴下し、ｏ”ｃｔで上昇せしめて０℃で３０分
間攪拌する。酢酸Ｃ２４，６ｔｎｌ）を加えた後、溶媒
を留去し、残漬を酢酸エチルで蒸留し、水、炭酸水素ナ
トリウム１０％７ＪＣ溶液および塩化ナトリウ父飽和水
溶液で順次洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸
エナＩし抽出液をｐ過し、溶媒を留去する。残渣を酢酸
エナＩしで洗浄して５−ヒドロキシ−２−〔（１−ヒド
ロキシシクロヘキシル〕メチＩし〕ピリジン（１１，９
６Ｆ！　）’ｒｉル。

工Ｒ（ヌジョール）：１６１５．１５７５，１５００−
１４６０ｃ＊　”ＮＭＲ（Ｃ！Ｄ３０Ｄ、δ）：１．２
０−２．００（ＩＯＨ，ｒｒ＋）。

２．９０（ｉＨ，ｓ）、４．９５（２Ｈ，ｅ）。

７．２０（２Ｈ，ｍ）、８．０５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２、
ＯＨＺ　） （２）５−εドロキシ−２−（（１−ヒドロキシシクロ
ヘキシル）メチル〕ピリジン（１ｇ）の硫酸Ｃ５ｍ１）
含有酢酸（１５ｇ／）溶液を１時間還流する。室温にま
で冷却した後、反応混合物を水冷し、炭酸水素すｌ−Ｉ
Ｊウム１０％ＺＫ溶液で塩基化し、エーテルで抽出する
。合わせたエーテル抽出物を塩化す）　ＩＪウム飽和水
溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、ｐ
液を濃縮する。残漬をインプロピルアルコーｌしで？ｉ
ｌＪして、２−ベンジＩレー５−ヒドロキシピリジン（
４０９＋’ｌｌを得る。

工ＲＣヌジ−ａ−７’Ｃ１５６，０，１４５０，１３７
０，１２８０ｃｍ　”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）＝４．
０７　（２Ｈ、ｓ　）　、　６．８５−７．４３（７ｇ
１ｍ）、８．０８（ＩＨ，ａ、Ｊ＝３．０Ｈｚ）、１０
．３０（１ａ、１０−ド　Ｓ）製造例１８ １−フェニルチオ−６−エトキシカｌレボニル−４Ｈ−
キノリジン−４−オン（１，Ｑ　ｆ　）の酢酸（２０ｇ
／）およびクロロホルム（７，５ｉτ）溶液に過マンガ
ン酸カリウム（５８３〜）ヲ０”Ｃで児よる。同温で２
時間攪拌の後、反応混合物を室温に１で上昇せしめ、さ
らに１時間攪拌する。過マンガン酸カリウム（１９４＊
Ｐ）を加え、−夜攪拌する。生成する反応混合物にチオ
硫酸す）　ＩＪウム飽和水溶液を水冷Ｔｍえ、混合物を
クロロホルムで抽出する。硫酸マグネシウムで乾燥後、
クロロホルム抽出物を濾過し′Ｆ５液を蒸発させる。残
渣をジイソプロヒルエーテｌしで洗浄シて、１−フェニ
ルヌｌレホニｌレー６−エトキシカｌレボニｌレー４Ｈ
−キノリジン−４−オン（５８５〜）を得る。

融点　１８２°Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：１７’ＩＯ，１６８０，１６４０
，１５８０，１２００゜１１５０ｃ１Ｎ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）：１．４’５（３）１．ｔ、
、Ｔ＝７Ｈｚ）。

４．４５（２Ｈ，（１，Ｊ＝７Ｈ２）、７．２０−８．
１０（７Ｈ，ｍ）、８．６０（１Ｈ，ｄ　、Ｊ＝８Ｈ２
）。

９．１８（ＩＨ，ｓ）、９．５０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈ
ｚ）元素分析　Ｃ工、Ｈよ、Ｎｏ、Ｓとして、計算値：
Ｃ１６０，５０，Ｈ，４，２３，Ｎ、３．９２実測値：
　Ｏ；６０．４４．Ｈ；４．５１　、Ｎ；３．８８製造
例１９ ６−エトキシカルポニルー７−ヒドロキシー１−フェニ
ル−４Ｈ−キノリジン−４−オン（５ｇ）のＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（１００ｍ／）溶液に水素化す）　
ＩＪウム（鉱油中６６．６％、７６２ＭＩ／）を５０゛
Ｃで加える。５０°Ｃで６０分間攪拌後、ヨウ化ｎ−ブ
チｌしく　２．７７ｉτ　）を加える。５０゛Ｃで１時
間攪拌後、混合物を室温にまで冷却し、塩酸と氷の混合
物に加える。混合物をクロロホルムで抽出し、クロロホ
ルム抽出物を炭酸水素ナトリウム１０％水溶液および福
化すＩ−Ｕラム飽和７ＫＲＩ液で洗浄する。硫酸マグネ
シウムで乾燥後、クロロホルム抽出物を濾過し、減圧下
蒸留する。残渣をシリカゲル（メルク社Ｗ、７０〜２３
０メソシユ、１００ｆ　）を使用するクロマトグラフィ
ーに付し、クロロホルムおよびその後、クロロホルムノ
１０％メタノ−１し溶液で溶出して、５−エトキシカフ
レボニーＶ−７−（ｎ−ブトキシ）−１−フェニル−４
Ｈ−キノリジン−４−オン（２，３７ｆ）’ｔ−得る。

融点　９４−９５”Ｃ ＩＲ（ヌジａ−／Ｌ’）：１７３０，１６９０．１６５
５．１６３０．１４８０ａＮｔＡＲ（ＣＤＣＩ　、δ）
：０．９５（３Ｈ、ｔ　、　、ｒ−＝５Ｈｚ　）　。

１．４２　（３Ｈ、ｔ、　Ｊ＝５Ｈｚ　）　、　１．３
０−２．１０（４Ｈ，ｍ）、４．１３（２Ｈ，ｔ、、Ｔ
＝５Ｈｚ）。

４．４５（２Ｈ，＋１．Ｊ＝５Ｈｚ）、７．３０（ＩＨ
。

ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、７．４２（５Ｈ，ｍ）、７．６７（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７ａｚ）、３．２７（ｉＨ，Ｆり。

９．０８（ｌＩｌ（、ａ、Ｊ−２ａｚ）元素分析　Ｃ２
２Ｈ２３ＮＯ４として、計算値’　Ｃ；　７２．３１　
、Ｈ；　６．３４−　Ｎ　；　６−８３実測値：　Ｃ；
７１．７４．Ｈ；６．３９．Ｎ；３．８０製造例２０ 製造例６と同様にして下記化合物を得る。

１−アリ！レオキシー６−エトキシカｌレポ二ｌレー４
Ｈ−キノリジン−４−オン。

融点　８２−８４−Ｃ 工Ｒ（ヌジョーｌし）：１６９０．１６８０．１６６０
．１６２０．１５８０゜１３２０．１２３５．１１００
．１０１５．７７０ｃｍＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．δ）：１
．４３（３ａ、ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

４．４２（２Ｈ，ｑ、Ｊ−＝７ａｚ）、４．５０−４．
７５（２Ｈ，ｍ）、５．１５−５．６７（２Ｈ，ｍ）。

５．７８−６．４７（１ｕ、ｍ）、６．９７−８．３２
（４Ｈ，ｍ）、９．４７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）
元素分析　Ｃ□５Ｈ□５ＮＯ４として、計算値：　ｃ；
６５．９３．ｕ；５．５３．ｎ；５．１３実測値：　ｃ
　；６６．１１　、Ｈ；５．３６　、Ｎ　；４．９４実
施例１ ６−エトキシカ！レポニＩレー４Ｈ−キノリジン−４−
オン（２，１７ｙ）のメタノール（６５，２ｉτ　）Ｒ
ＩＢに、６Ｎ水酸化ナトリウム（６，５ｉτ）を室温で
滴下する。２０分間攪拌後、水（１０＋＋＋／）を加え
る。２０分間攪拌後、さらに水（３０ｍ／）を加える。

１時間攪拌後、反応混合物を４Ｎ塩酸で酸性にしてｐＨ
３とする。沈殿を枦取、７に洗して、４Ｈ−キノリジン
−４−オン−６−カルボン酸（１，７５１を淡黄色結晶
として得る。

融点　２ろ３　”Ｃ 工Ｒ（ヌジ！−ル）：１７３０，１６１０．１５８５，
１３２０３１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−（１６＞δニア、２６
（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈ２）。

７．５０−７．９５（ｍ、ｉｎ）、８．００−８．２［
Ｊ（ｍ、２Ｈ）、８．４１（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈｚ’）
。

９．２０−９．４０　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ）実施例２ ４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カＩレポン酸（’１
．６９ｆ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（　１　６
．９肩ｌ）中懸濁敢に、１，１−カルボニルジイミダゾ
ール（２，１７ｐ）１常温で加える。この懸濁液を１０
０°ＣｖＣ３０分間加熱し、５−アミノ−１Ｈ−テトラ
ゾ−ｌしく１．０６１を１００°Ｃで加える。１００℃
で２０分間攪拌後、反応混合物を０”Ｃに冷却する。沈
ｗＬを戸数して予め冷却したＮ．Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、次いでエーテｌしで洗浄して、Ｎ−（５−＜ＩＨ
−テトラシリｌし）〕−〕４Ｈーキノリジンー４−オン
−６カフレボキサミド（２．Ｏｆ）’に黄色固体として
得る。

融点　〉２６０″Ｃ １Ｂ（ヌジ！−ＪしＣ３２００．１６６０．１６２０．
１５００，１３１０Ｃ１ｎＮ　Ｍｎ　（　ＣＦ　ｙ，　
Ｃ　Ｏ　Ｏ　Ｈ　）δニア、４２［、１ｕ，Ｊ＝３Ｈｚ
）。

７、６８−７．８８　（　ｍ　、　Ｉ　Ｈ　）　、　７
．９８−８．２９（ｍ，２Ｈ）、８．７２（ｄ．ＩＨ．
Ｊ＝８Ｈｚ）。

９、４８（ｄ，Ｌａ，Ｊ＝８Ｈｚ） 元素分析°Ｃよ、Ｈ８０２Ｎ６として、計算値：Ｃ硲５
１．５６　、Ｈ　；３．１　５　、　Ｎ　；３２．８０
実測値：　Ｃ；５１．７０．Ｈ；３．２２，Ｎ；３２．
９９実施例５ 実施例１と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−エチｌＶ−４）（−キノリジン−４−オン−
６−カルボン酸。

融点　１９３−１９５”Ｃ 工Ｒ（ヌショール）：３１００．１７２５，１７００．
１６０シ「１ＨＭＲ（　ＣＦ３ＣＯＯＨ　）δ：１．５
２（ｔ．３Ｈ．Ｊ＝８Ｈｚ）。

３、１２（ｑ．２Ｈ．Ｊ＝８ａｚ）、７．９２（ｄ。

Ｉｎ，Ｊ＝５＋Ｈｚ）、８．３２（ｓ．２ａ）。

８、７３ｔｄ．１ａ．、ｒ＝９ａｚ）、９．３０＜ｍ．
１ａ）元素分析　Ｃよ，Ｈ工□ＮＯ３として、計算値：
　Ｃ；６６、３５，Ｈ；５．１０．Ｎ；６．４５実測値
　Ｏｉ６６、４（Ｊ．Ｈｉ５．１４．Ｎ；６．４６（２
）１−フェニル−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カ
ルボン酸。

融点　１９８−Ｃ 工Ｒ（ヌショール）：ろ６１５。１７４０．１６２ダ１
ＨＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δニア、３２−７．８２　（
　ｍ　、　５Ｈ　）　、　７、９２−８．２３（ｍ．Ｉ
Ｈ）、８．２５−８．５２（ｍ．２Ｈ）。

８、７０（Ｒ　、ＩＨ）、９．４８−９．７２（ｍ．Ｉ
Ｈ）元素分析　Ｃ０６Ｈ工□Ｎ０３・５／４Ｈ２０とし
て、計算値：　Ｃ；６６、７８．ａ；４．６４．Ｎ；４
．８７実測値：Ｃｉ６６。８９．Ｈ；４．２２，Ｎ；４
．５９（３）ＩＨ−ピリド（１．２−ａ）キノリン−１
−オン−２−カルボン酸。

融点　２５８−２６０°Ｃ 工Ｒ（ヌジ＝ｚ−ｌし）：２５００．１７２０ｆｆ　１
ＨＭＲ（　ＣＦ３ＣＯＯＨ）δニア、７　５−８．３３
　（　ｍ　、　５Ｈ　）　。

８、４３（ａ．１ａ．Ｊ＝９Ｈｚ）、８．９２（　ｄ．
Ｉ　Ｈ　、　Ｊ＝８．５Ｈｚ　）、　９．７３（ｍ．１
ａ）元素分析　Ｃ□４Ｈ，Ｎ０３・１／１０Ｈ２ｏとし
て、計算値：　Ｏ　；　６９．７６　、Ｈ　ｉ　３．８
５　、　Ｎ　ｉ　５．８１実測値：　（！；６９．８７
．Ｈ；４．１３．ｓ；５．９４（４）７−ヒドロキシ−
４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カＩレポン酸。

融点　〉２７０℃ ８、０７−８．４２（ｍ．２Ｈ）、８．５８（ｄ．ＩＨ
。

Ｊ＝８．５Ｈｚ　）　、　９．０７　（　ｍ　、　Ｉ　
Ｈ　）元素分析　ｃ　１０　Ｈ　７　Ｎ　Ｏ　４　・１
　７４　Ｈ　２　０として、計算値：　Ｃ！；５７．２
８．ａ；３．６１　、Ｎ；６．６８実測値：　Ｃ！ｉ５
７．５１　、ａ已．６０．Ｎ；６．７５（５）４Ｈ−ピ
リド（２．１−ａ）イソ（／ｌＪン４ーオンー６ーカル
ボン酸。

融点　〉２５０°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：３１００．１７３０．１６４０．
１６２よ「１ＨＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：ｓ．ｏー８
．４０　（　ｍ　、　４Ｈ　）　。

８、８０−９．３０　（　ｍ　、　４Ｈ　）元素分析　
Ｃ工，Ｈ，ＮＯ３として、 計算値：　ｃ；７０．２９．Ｈ；３．７９．Ｎ；５．８
５実測値：Ｃ；７０．４３．Ｈ；４．１５．Ｎ；５．８
９（６）９．１０−ジヒドロ−８Ｈ−ベンゾ（ｉｊ：）
　−３Ｈ−キノリジン−５−オン−２−カルボン酸。

融点　２５４”Ｃ ＩＲ（ヌジｉｔ−ル）：３２００．１７１０．１６１０
．１５９ＤＣ＋＃−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−４６）δ：１
．８０−２．３０　（ｍ　、　２Ｈ）　。

２．７０−３．２０　（ｍ　、　６Ｈ）　、乙ろＣ１−
７，８５（ｍ、２Ｈ）、８．１０（ｓ、ＩＨ）、９．１
０（ｄ。

ＩＨ，Ｊ＝７ｎｚ）、１４．３０（ｑ、ＩＨ）元素分析
　Ｃ□３工１□□Ｎｏ３として、計算値：Ｃ；６８．１
’ｌ、Ｈ；４．８４．Ｎｉ６．１１実測倫；ｃ；６８．
２１．Ｈ；５．１２．Ｎ；６．０７（７）７−メドキシ
ー４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルボン酸。

融点　２１５−２１６°Ｃ ＩＲ（，５！ジ＝ｓ−ｚしｃ３１５０，３１００．１７
００．１６１０．１５９０ｚ　”ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯ
Ｈ）δ：４．１８ｔ８，３Ｈ）、７．８８（ｄ。

ＩＨ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、８．１０−８．４７（ｍ、２
Ｈ）。

８．６７　（ｄ、　Ｉ　Ｈ、Ｊ＝８．５Ｈ２）　、　８
．８８（ｍ、ＩＨ）元素分析　Ｃ□□Ｈ８ＮＯ４として
、 計算値：　ｃ；６０．２７．Ｈ；４．１４．Ｎ；６．３
９実測値：　Ｃ；５９．９０．Ｈ；４．３８．Ｎ；６．
４８（８）９−ノナルー４Ｈ−キノリジン−４−オン−
５−力ｌレポン酸。

融点　２５９−２６０°Ｃ 工Ｒ（ヌジョールＣ３１００，３０２０，１７４Ｄ、１
６１０．１５９Ｄ。

１１２０．７８０（Ｊ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−Ｃ６）δ：２．９２（ｓ、３Ｈ）、
７．９０（ＣＩ。

ＩＨ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、８．０７（ａ、Ｉｎ、Ｊ−９
，５Ｈ２）、８．０５−８．３８（ｍ、ＩＨ）、８．８
２（ｄ、１Ｈ１Ｊ＝９．５ｎｚ）、９．４２＋ｄ、１Ｈ
。

Ｊ二人５Ｈｚ　） 元素分析　Ｃ□□Ｈ８Ｎｏ３として、 計算値：　Ｃ１６５，０２，Ｈ；４．４６．Ｎ；６．８
９実測値：　Ｃ；６４．９２．Ｈ；４．７６、Ｎ；６．
８９（９）８−ノナルー４Ｈ−キノリジンー４−オン−
６−カルボン酸。

融点　２２８−２３０°Ｃ 工Ｒ（ヌジョールＣ３０９０，３０３０，２７００，１
６３０，１６２０゜１５８０　、７８５１「１ ＮＭＲ（ＣＦ、Ｃｏｏｎ　）δ：２．８２（Ｒ，３Ｈ）
、７．８２（ｄ。

Ｉｎ、ｒ＝９Ｈｚ）、７．９２１ａｄ、１ａ、Ｊ＝７Ｈ
ｚ、２Ｈｚ）、８．１７（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝２Ｈ２）８．
６８（’ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈｚ）、９．ろ７（ｄ。

ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） 元素分析　Ｃ工□Ｈ９Ｎｏ３として、 計算値：　Ｃ；６５．０２．Ｈ；４．４６’、Ｎ；６．
８９実測値：　Ｃ；６４．８８　、Ｈ；４．７９　、Ｎ
　；６．８５Ｑ０　６−メナ／Ｌ／４Ｂ−キノリジン−
４−オン−５−カルボン酸。

量中点　１８５−１８７”Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：３１Ｄ０．２７ＤＤ、１７２Ｄ、
１６１５．１５９５゜１２９５　、１０４０　、８［１
［１ｃｍ−”ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：３．４５（
ｐ、３１，７．８２（ｄ。

ＩＨ，、Ｔ＝９Ｈｚ）、７．５８−７．９７（ｍ、ＩＨ
）。

ａｌｏ−ｓ、ろＵ（ｍ、２Ｈ）、８．６８（ｄ、ＩＨ。

Ｊ＝９Ｈ２） 元素分析　Ｃ□□Ｈ９Ｎ０３として、 計算１＋Ｔ：ｃ；６５．０２．Ｈ漬４．４６．Ｎ；６．
８９実測値：　Ｃ；６４．６０．Ｈ；４．５２．Ｎ；６
．９１０υ　１−メチＩレー４Ｈ−キノリジンー４−オ
ン−６−カｌレポン酸。

融点　２５８−２６０″Ｃ 工Ｒ＜ヌジｑ−ルＣ１７４０，１６１０，１４５０，７
８００ｆ　１ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：２．８７（
Ｆｌ、３Ｈ）、８．１５（ｍ、ＩＨ）、８．３５−８．
７７（ｍ、３Ｈ）。

９．６６（ｍ、ＩＨ） 元素分析　Ｃ工、Ｈ９ＮＯ３として、 計算値：　ｃ；６５．０２．Ｈ；４．４６．Ｎ漬６８９
実測値：　Ｃ；６４．７０．Ｈ；４．５６．Ｎ；６．８
６αリ　シクロペンタ（ｉｊ）−３Ｈ−キノリジン−６
−オン−２−カルボン酸。

融点　〉２５０°Ｃ 工Ｒ（ヌジョ−ｚし）：１７３０．１６２０．１５９０
ａｆ１元素分析　Ｃ工、Ｈ７Ｎｏ３として、 計算値：　Ｃ；６７．６１　、Ｉ（；３．３１　、Ｎｉ
６．５７実測値：　Ｃ！；６７．７２．Ｈ；３．３７．
Ｎ；６．５９α３７−メナｔｖ４Ｈ−キノリジン−４−
オン−５−カルボン酸。

Ｎ点　２２２−２２４°Ｃ ＩＲ（ヌジョーｌし）：１７２０．１６００．１５９０
．１３２０，１１２５゜１１１０．８４ＤＩＪ ＮＭＲ（ＣＦ３０００Ｂ）δ：２．７７（Ｓ、３Ｈ）、
７．９３（ｄ。

ＩＨ，、Ｔ＝９Ｈｚ　）、８．２２−８．３８（ｍ、２
Ｈ）。

８．７３（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈｚ）、９．３２（ｓ、Ｉ
Ｈ）元素分析　Ｃ工、Ｈ０ＮＯ３として、 計算イ直：Ｃ；６５．口２．Ｈ；４．４６．Ｎ；６．８
９実測値：　ｃ　；６５．［Ｊ４．Ｈ；４．３１　、Ｎ
　；６．９１α４）　４Ｈ−キノリシン−４−オン−１
−力！レポン酸。

融点　〉２５０″Ｃ ■］：ｌ（ヌジョール）：１６９５．１６５よ？「１Ｎ
ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６）δ：６．４６　（ｃｌ　、　
Ｉ　Ｈ、Ｊ＝Ｉ　ＱＨｚ　）。

７．３０−８．２０（ｍ、２Ｈ）、８．４１　（ｄ、Ｉ
Ｈ１Ｊ＝１［ＪＨｚ）、９．２０−９．４０（ｍ、２Ｈ
）元素分析　ＣＩｏＨ７Ｎ０３として、 計算値：　ｃ　；６３．４９　、Ｈ；３．７３．Ｎ　；
７．４０実測値：　ｃ　；６３．５０　、Ｈ；３．８１
　、Ｎ　；７．５３ＱＧ　１−メトキシ−４Ｈ−キノリ
ジン−４−オン−５−カルボン酸。

融点　２５９−２６１°Ｃ 工Ｒ（ヌジョーｌし）：３１００．１６３０．１６２０
．１５８０．１１００゜１０７０．７８０Ｃｒ１ ＮＭＲ（ＣＦ３（１！ＯＯＨ）δ：４．２７　（ｓ　、
　３Ｈ）　、　８．００−８．６７（ｍ、３Ｈ）、８．
９０（ｍ、Ｉｎ）、９．５２（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ） 元素分析、Ｃ□□Ｈ９Ｎｏ４　として、計算値：　Ｏ；
６０．２８．ａ；４．１４．Ｎ；６．３９実測値：Ｃ；
５９．６４．Ｈ↓４．１５　、　Ｎ　；　６．３０ＱＱ
７−ｎ−ブトキシ−４Ｈ−”Ｅ−／　’Ｊ　シｙ−４−
オン−５−力ルボン酸。

融点　１２０−１２２”ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：１７２５，１６００．１５９０．
１３２０．１０７０゜１ｏｏｏ＜” ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：１．０７ｔｔ、、３Ｈ，
Ｊ＝６ｎｚ）。

１．３０−２．２０（ｍ、４Ｈ）、４．４０（ｔ；、２
Ｈ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、７．９０（ａ、１Ｈ，Ｊ＝＝９．５ａｚ
）。

８．１３−８．４３（ｍ、２Ｈ）、８．６７（ｄ、ＩＨ
。

Ｊ＝９．５Ｈｚ）、８．９３（ｄ、ＩＨ，、Ｔ＝２Ｈ２
）元素分析　Ｃ□４Ｈ工、Ｎｏ４として、計算値：Ｏ；
６４．３６．Ｈ；５．７９．Ｎ；５．３６実測値：Ｃ；
６４．４６．ｎ；５．８０．Ｎ；５．３１Ｑ？）　７−
イツブロボキシー４Ｈ−キノリジン−４−オン−ローカ
ルホン酸。

融点　２１８−２１９°Ｃ 工Ｒ（ヌショール）：ろ１４ｏ、３ｏ９ｏ、１７２ｏ、
１６ｚｏ、１１ｚｏ：１０６０．１［ＪＯＯ，７８ＵＪ
ｃｍ　’ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：１．６７（ｄ、
、６Ｈ，Ｊ＝６ａｚ）。

４．９７（ＩＨ，Ｊ＝６Ｈｚ）、７．８８（ｄ、ＩＨ。

Ｊ＝９Ｈｚ）、８．１０−８．４３（ｍ、４Ｈ）、８．
６３（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９ｎｚ）、８．９０（ｄ、ＩＨ。

Ｊ二２Ｈｚ　） 元素分析　Ｃ工、Ｈ□３ＮＯ４として、計算値：Ｃる６
３．１５．Ｈ；５．３０．Ｎ’；５．６６実測値：　Ｃ
；６３．２８．Ｈ；５．１８．Ｎ逼５．６５実施例４ 実施例２と同様にして下記化合物を得る。

（］）Ｎ−（ろ−（４Ｂ−１，２，４−）リアゾリル）
〕−〕４Ｈ−キノリジンー４−オンー６−カ！レボキサ
ミド 融点　＞２５０”Ｃ ＩＲ＋ヌジョーｌし）：３４００．３３００，１７００
．１６６０．１６５０゜１６２０Ｃｒ’ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δニア、９０−９．６０（ｍ
、７Ｈ）元素分析　Ｃｌ２Ｈ９Ｎ５ｏ２として、計算値
：　Ｏ；５６．４７．Ｈ；３．５５．Ｎ；２７．４４実
測値、：　ｃ；５６．８３．ａ；３．７９．Ｎ；２７．
５０（２）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラシリｌし））−
９−メチｌＬ／４Ｈ−キノリジンー４−オン−６−カル
ボキサミド。

融点　〉２７０″Ｃ ｘＲ＜ヌジｇ−ル）：３２００．３１００．３０８０．
１６６０．１６２０゜１５９’０　、７９０ｃｍ　１ ＮＭＲ（ＣＦ３０００Ｂ）δ：２．８０　（ｓ、　３Ｈ
）　、　７．５０−７．８７ｔｍ、２Ｂ）、８．０８（
ａ、１ａ、Ｊ＝７Ｈ２）、８．７８（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９
Ｈ２）。

９．４３（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈ２） 元素分析　Ｃ工、Ｈよ。Ｎ６０２として、計算値”　；
　５３．３３　、Ｈ；　６７３−　Ｎ　；　３５．１０
実測値：Ｃる５５．２８　、　Ｈ；　３．８８　、　Ｎ
　；　３１．３５（３）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラシ
リｌし））−７−ｘ４−ｔｖ　４Ｈ’６ノリジンー４−
オンー６−カルホキサミド。

融点　＞２５０”０ 工Ｒ（ヌジョーＩし）：３２（１０，１６６０，１６４
Ｕ、１６２０．１５９０　。

４９０ｆｆ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：１．５０（ｔ、３Ｈ，、
Ｔ＝７Ｈｚ）。

３．０５（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．４５（ｄ
。

ＩＨ，、Ｔ＝９Ｈｚ）、８．０８（ｓ、２Ｈ）、８．６
８（ｄ’、ＩＨ，、Ｔ＝９Ｈ２）、９．３３（ｍ、ＩＨ
）元素分析　Ｃよ、Ｈ８Ｎ６０３として、計算値：Ｃ暮
５４．９３．ａ；４．２５．Ｎ；２９．５６実測値：　
Ｃ；５５．３２．Ｈ；４．３２．Ｎ；２９．７２（４１
Ｎ−（５−（１Ｈ−テトラゾリル）））−１−フェニｌ
レー４’Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カ！レボキサ
ミド。

融点　＞２７０”Ｃ 、ＩＲ（ヌジョール）：３１８０，３１００，１６８０
．１６２０，１４９０Ｃ１ｙ１ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ
）δ：乙２７−８．０２　（ｍ　、　６Ｈ）　。

８．０５−８．３５（ｍ、２Ｈ）、８．７０（ｓ　、１
Ｂ）。

９．４８−９．７５（ｍ、ＩＨ） 元素分析　Ｃ□７Ｈよ。Ｎ６０２として、計算値：　Ｏ
；６１．４４．Ｈ；３．６４．Ｘ；２５．２９実測値：
　ｃ；６１．２１　、ａ；３．８０．ｊｆ；２４．８３
（５）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル））−１Ｈ−
ピリド（１，２−ａ）キノリン−１−オン−２−力ｌｖ
レボキサミド 融点　＞２７０”Ｃ ＩＲ（ヌジョーノＶＣ３２００，１６７０，１６１０，
１５８０，１５３０゜１４８０ｔｙｒ１ １１ＭＲ（［Ｆ３０００）ｉ）δニア、３２　（α、Ｉ
Ｈ，，：ｒ＝９ｎｚ）。

７．４８−８．３３（ｍ、５ａ）、８．８３（ｄ、Ｌａ
。

Ｊ＝＝８Ｈｚ）、９．６３（ｍ、ＩＨ）元素分析　Ｃ□
５Ｈ□。Ｎ６０２として、計算値：　Ｃ；５８．３２．
ａ；３．２９．Ｎ；２７．４４実測値：　Ｃ１５９，１
６，Ｈ，３，４２，Ｎｉ２７．２９（６）　Ｎ−（５−
（ＩＨ−テトラゾリル））−７−ヒドロキシ−４Ｈ−キ
ノリジン−４−オン−６−カＩＶポキサミド。

融点　＞２７［、ｌ”Ｃ ＩＲ（ヌショ−１しン：３１２０．３０９０．２５３０
．１６７０．１６４０　。

１５４０．９ＢＯａｎ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δニア、７３−７．７０（ｍ
、２Ｈ）、８．０３（ｍ、ＩＨ）、８．６７（ｍ、ＩＨ
）、９．１５（ｍ、ＩＨ）元素分析　Ｃ工、Ｈ８Ｎ６０
３として、計算値：　Ｃ；４９．０６．Ｈ；３．３２．
Ｎｉ３２．１１実測値：　ｃ；４８．５６．ｕ；５．４
７．ｔｑ；、５２．６６（７）　Ｎ−（５−（１Ｈ−テ
トラシリｌし））−４Ｈ−ピリド（２，１−ａ）インキ
ノリン−４−オン−ろ−カルボキサミド。

融点　〉２５０°Ｃ ＩＲ（ヌショール）：３２００．１６６０．１６４０．
１６２０ｒｍ元素分析　Ｃ□５Ｈよ。Ｎ６０２として、
計算餉：Ｃ；５８．８２．Ｈζ３．２９　、　Ｎ　；　
２７．４４実測１直：　Ｃ；５９．１２．Ｈ；３．５７
．Ｎ；２７．８６（８）　包−（５−（ＩＨ−テトラゾ
υｌし））−９，１０−ジヒドロ−８Ｈ−ベンゾ（ｉＤ
−３Ｈ−キノリジン−ろ−オン−２−カルボキサミド。

融点　〉２５０°Ｃ 工Ｒ（ヌジａ−／’）：３２０［Ｊ、１６６０．１６４
０．１６２０．１６００Ｇｌ＋ＮＭＲ（０Ｆ３０００Ｈ
）δ：２．００−２．５０ｔｍ、２ｎ）。

３．００−３．６０（ｍ、４Ｈ）、７．７０−８．２０
（ｍ、２Ｈ）、８．５５（８，ＩＨ）、９．４０（ｄ。

ｉ　Ｈ、Ｊ＝７Ｈ２） 元素分析　Ｃよ。Ｈ工。Ｎ６０２として、計算値：　Ｃ
；５６．７５．Ｈ；４．０８．Ｎ；２８．３６実測値’
：　Ｃ１５６，８６，Ｎｉ４．２７．Ｎｉ２８．５８（
９）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル）、１−７−メ
ドキシー４Ｈ−キノリジン−４−オン−５−力！レボキ
サミド。

融点　〉２７０°Ｃ 工Ｆ（ヌジ！−７ｖ）：３２００．３１００．１６８０
．１６５０．１６１０ＧＩ　”ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ
）δ：４．１３（Ｓ、３Ｈ）、７．４２（ｄ、１Ｈ，Ｊ
＝９Ｈｚ）、７．７５−８．１７（ｍ。

２Ｈ）、８．５８（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９Ｈ２）。

８．９２ｔｍ、Ｉｎ） 元素分析　Ｃ□２Ｈ１ｏＮ６０３として、計算値：　Ｃ
１５０，３５，Ｎｉ３．５２．Ｎｉ２９．３６実測値：
　Ｃ！ｉ５０．５４．Ｈ；ｌ＋、５５．Ｎ；２９．６３
α０Ｎ−（２−チアシリｌし）−４Ｂ−キノリジン−４
−オン−６−カｌレボキサミド。

融点　２４０″Ｃ ＩＲ（ヌジョールＣ３１００，１６６５，１６２０，１
４９０，１３２０ｃ１ｆｆＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ
ニア、３Ｄ−７，９０（ｍ　、　４Ｈ）　、　８．０３
−８．４７（ｍ、２Ｈ）、８．７５（ａ、ＩＨ，Ｊ＝９
Ｈｚ）、９．４２１ｄ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ）元素分析　
Ｃ□３Ｈ９Ｎ３０Ｓとして、計算値：　Ｃ；５７．５６
．Ｈ；３．３４．Ｎ；１５．４９実測値：　Ｃ；５７．
２５．Ｈ；３．７７、Ｎ；１５．２４０υ　Ｎ−（２−
ヒドロキシフェニルクー４Ｈ−キノリジン−４−オン−
６−カルボキサミド。

融点　２４７°Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：１６５０゜１６３０．１６００Ｑ
７ｒ”ＮＭＥ（ＣＤ０Ｉ３　）δ：６．８０＝７．５０
　（ｍ　、５Ｈ）。

７．７０（ｄ、２Ｈ，、：ｒ＝７ａｚ）、８．７６（ｄ
。

ＩＨ，Ｊ＝８Ｈｚ）、９．４０（ｄ、ｉＨ，Ｊ＝８Ｈｚ
）、１０．１０ｔＳ、ＩＲ） 元素分析″Ｃ□６Ｈ□２”２０３として、計算値：　Ｃ
；６８．５７．Ｈ；４．３２．Ｎ逼９．９９実測値：Ｃ
１６８，０４，Ｈ；４．４８．Ｎ；１０．１１（２）Ｎ
−（２−ビリミジニｌし）−４Ｈ−キノリジン−４−オ
ン−６−カｌレボキサミド。

融点　２１８”Ｃ ＩＰ（ヌジョーｌし）：１６９０．１６５０．１６２０
Ｃｒ１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−４６）δ：乙１０−８．２０
　（ｍ　、　５Ｈ）　。

８．５０−８．８０　（ｍ　、　３Ｈ）　、　９．２０
−９．４０（’ｍ、ＩＨ） 元素分析　Ｃ工。Ｈよ。Ｎ４０２として、計算値：Ｃ；
６３．１５．Ｈ；３．７９．Ｎ；２１．０４実測値：　
Ｏ；６１．２０．Ｈ；４．１９．Ｎ；２０．７６α３Ｎ
−（５−（ＩＨ−テトラゾリル１　）−８−メチル−４
Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カ！レボキサミド。

融点　〉２７０″Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：３２００．３１５０．１６６０．
１６３５，１５９０゜８０１１ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：２．７３（ｓ、３Ｈ）、
７．３５（ｄ。

１ａ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．６５＋ａａ、ＩＨ，Ｊ＝７ｔ
Ｈ２１２Ｈｚ）、７．８８（ｃｌ、ＩＨ，Ｊ＝２Ｈ２）
。

８．６５（ｄ、１ａ、Ｊ＝９ｎｚ）、９．３８（ａ。

ＩＨ，Ｊ＝７Ｈ２） 元素分析　Ｃ□２Ｈ１ｏＮ６０２として、計算値：　ｃ
；５３．３３．ｎ；３．７３．Ｎ；３１．１０実測値：
Ｃ；５４．０３．Ｈ；３．８４．Ｎ；３０．３８Ｑ弔　
Ｎ−（５−（１Ｈ−テトラゾリル））−６−メナル−４
Ｈ−キノリジンー４−オン−６−カｌレボキサミド。

融点　〉２７０°Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：３２００．１６６０．１６２０，
１５９０．１０３［１゜８２０゜７９０ｃｍ　１ ＮＭＲＩＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：３．３３（８，３Ｈ）　
、　７．３７　（ｄ　。

ＩＨ，、Ｔ＝９Ｈ２）、７．３７−７．６２（ｍ、ＩＨ
）。

７．８７−８．０７（ｍ、２Ｈ）、８．６０ｔｃｉ、Ｉ
Ｈ。

Ｊ＝９Ｈ２） 元素分析　Ｃ□２Ｈ□。Ｎ６０２として、計算値：　Ｃ
；５３．３３．Ｈ；、３．７３．Ｎ纂３１．１０実測値
：　ｃ；５３．６３．Ｈ；３．９２．Ｎ；３１．４２０
υ　が−（５−（ＩＨ−テトラゾリル））−１−メ十ｌ
レー４Ｈ−キノリジンー４−オン−６−カｌレボキサミ
ド。

融点　〉２７０℃ ＩＲ（ヌジョール）：３１８０．１６６５．１６４０．
１６２０．１５９５゜１５００．１０４０．１０２０．
７７Ｏｆ”ＮＭＲ（ｃＦ３ｃｏＯＩ（）δ：２．７７　
（ｓ　、　３Ｈ）　、　７．８３−８．１０（ｍ、ＩＨ
）、８３８（α、２Ｈ，Ｊ＝３Ｈｚ）、８．７２（８，
１ａ’）、９．６５（ｄ。

１Ｈ，Ｊ＝６Ｈ２） 元素分析　Ｃ工、Ｈ□。Ｎ６０２として、計算値：　Ｏ
；５３．５５．Ｈ；３．７３．Ｎ；３１．１０実測値：
Ｃ；５３．７１゜Ｈ；４．０４．Ｎ；３１．０３０６　
Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル））−７−メチ７Ｌ／
４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルボキサミド。

融点　〉２７０℃ 工Ｒ（ヌジョーｌし）：３２００．１６７０．１６１０
．１５８０．１５００゜１３１０、ｌ０６０．１０４０
．８４０ＱＩＩ　１ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：２．
７３（Ｓ、３Ｈ＞、７．４７（ａ、１ａ、Ｊ＝９Ｈｚ）
、８．０３−８．５３（ｍ。

２Ｈ）、８．７０（ｄ、１Ｈ，、Ｔ＝９Ｈｚ）、９．３
３（ｓ、ｉＨ） 元素分析　Ｃよ、Ｈ工。Ｎ６０２として、計算値：　ｃ
　；５３．３３．ａ　；３．７３．Ｎ　；３１．１０実
測値：　ｃ；５３．６１　、ａ；３．６９．Ｎ；３１．
５４α７）　ｌ１ｌ−（：６−（１，２，４−）リアジ
ニル）　）　−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カル
ボキサミド。

融点　２６ろ°Ｃ（分解） ＩＲ（ヌショール）：３１００，１６９０．１６２０．
１５８０．１５２０゜１５００．１０４０α ＮＭＲ（［Ｆ３Ｃｏｏｎ）δニア、３３（ｄ、ＩＨ，、
：ｒ＝９ｎｚ）。

７．６０−８．２３（ｍ、３Ｈ）、８．７２（ｄ、ＩＨ
。

Ｊ”９Ｈｚ）、９．１０−９．１７（ｍ、ＩＨ）。

９．２７−９．６８　（ｍ　、　２Ｈ）元素分析　Ｃ工
３Ｈ９Ｎ５０２・１／４Ｈ２０として、計算ｍ：Ｃ；５
７．５１．Ｈ；３．５９．Ｎ；２５．９７実測値：Ｃ；
５７．５１．Ｈ；３．５２．Ｎ；２５．７７０８）Ｎ−
ピラジニル−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カ！レ
ボキサミド。

融点　〉２５０°Ｃ ＩＲ（ヌショール）：３４００．１６７５．１６２０．
１５８０．１５２０゜１５００　、１４００　、１３２
０　、７８０ＣｎＩＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：乙４
３（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝＝９．５Ｈｚ）。

７．７８（ｒｎ、　１．Ｈ）、８．００−８．２３（ｍ
、２Ｈ）　。

８．７７ｔｃ１．９．５Ｈｚ）、８．８３（ｄ、Ｊ＝７
．５Ｈｚ）。

８．７８−８．９８（ｍ；３Ｈ）、９．５５（ｄ、ＩＨ
。

Ｊ＝入５Ｈｚ　）、９．８２（Ｒ、ＩＨ）元素分析　Ｃ
工、Ｈ工。Ｎ４０２・Ｈ２０として、゛計算値：　ｃ；
５９．１５．Ｈ；４．２５．Ｎ；１９．７１実測鎮：　
Ｃ；５９．５８．Ｈ；４．０３．Ｎ；１９．９９（１’
Ｊ　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトヲゾリｌし）〕−シクロベ
ンター（ｉ、））　−３Ｈ−キノリジン−５−オン−２
−カルボキサミド。

融点　〉２５０°Ｃ ＩＲ（ヌシ−ａ−ｚし）：３２００．３１００，１６６
０．１６２０．１６０ＤＣ＋ｘＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ
）δ：乙１０−９．５０　（ｍ　、　６Ｈ）元素分析　
Ｃ工３Ｈ８Ｎ６０２として、計算値：ｃ；５５．７２．
Ｈ；２．８８．Ｎ；２９．９９実測ｆｌＩ［：ｃ；５５
．９５．ａ纂３．０１　、Ｎ；２９．６４（イ）Ｎ−（
２−ビリジｗ）−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カ
！レボキサミド。

融点　２２８〜２３０”Ｃ ０υ　Ｎ−（５−（ＩＢ−テトラゾリレ））−４Ｈ−キ
ノリシン−４−オン−１−カルボキサミド。

一点　〉２５０°Ｃ ＩＲ（ヌショーｌしＣｌ６９０（８ｈ）、１６６０．１
６２陣ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δニア、４０−９．８
０　＜　ｍ　、　６Ｈ）元素分析　Ｃ工、Ｈ８Ｎ６０２
として、計算値：　Ｃ；５１．５６．Ｈ；３．１５．Ｎ
；３２．８０実測値：　Ｃ；５１．７１　、Ｈ；３．４
３．Ｎ逼３２．４１翰　Ｎ−（６−（３−クロロビリダ
ジニｌし）〕〕＝４Ｈ−キノリジンー４−オンー６−カ
！レボキサミド 融点　＞２５０”Ｃ 工Ｒ（ヌジａ−ル）：３１００．１６８０．１６２０．
１５８０．１５１０゜１　［Ｊ７０　、７８ＤＣ１Ｎ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：乙３８（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝
９Ｈｚ）。

７．６３−８．５０（ｍ、５Ｈ）、８．７７（ｄ、ＩＨ
。

Ｊ＝９ａｚ）、９．４８（ｍ、１Ｈ） 元素分析”６’響Ｈ９ＣＩＮ４０２として、計算値：　
Ｃ；５５．９２．Ｈ；３．０２．Ｎ；１８．６３実測値
：　Ｃ；５５．６５．Ｈ；３．１５．Ｎ；１９．１４Ｃ
！３　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル））−１−メト
キシ−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カ！レボキサ
ミド。

融点　＞２７０”Ｃ 工Ｒ（ヌジロール）：３２００．１６６０．１６５０．
１６２０．１２９０゜１０１５．７７５ｎ　１ ＮＭＲ（ＣＦ３０００Ｈ）δ：４．３３　（Ｒ、ろＨ）
　、　８．１３　（ｍ　。

ＩＨ）、８．３３（Ｆｌ、ＩＨ）、８．４３−９．０２
（ｍ、２Ｈ）、９．６２（（１，ＩＨ，Ｊ＝７．５Ｈｚ
）元素分析　Ｃ工、Ｈ□。Ｎ６０３として、計算値：　
（！；５０．３５．Ｈ；３．５２．Ｎ；２９．ろ６実測
値：Ｃ；５０．４６．Ｈ；３．４５．Ｎ；２９．３９（
財）　Ｎ−（２−（４，６−シメチルピリミジニｌし）
〕−〕４Ｈ−キノリジンー４−オンー５カルボキサミド
。

融点　２１７〜２１８°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：３４６０．３１２０．１６９０．
１６５０．１６２０゜１０６０．７９０（ｆＩ ＮＭＲ（ＣＦ３０００Ｈ）δ：２．８７１　ＦＴ　、　
６Ｈ）　、　７．３８（ｄ。

ＩＨ，Ｊ＝９Ｈ２）、７．４７−８．３２ｔｍ、４１゜
８．７５（ｄ、ＩＢ、、Ｔ＝＝９Ｈｚ）、９．６．５Ｌ
ｄ。

Ｉ　Ｈ、Ｊ＝７．５Ｈｚ　） 元素分析　Ｃｌ　６　Ｈ１４Ｎ　４０２・１／３Ｈ２０
として、計算須：　Ｃ；６３．９９．Ｈ；４．９２．Ｎ
；１９、Ｕ４実測値：　Ｃ１６３，９９，Ｉ’（ｉ４．
９２．Ｎｉ１８．６６（ハ）Ｎ−（５−ｚｎ−テトラゾ
リル））−７−ｎ−ブトキシ−４Ｈ−キノリシン−４−
オン−ろ〜カルボキサミド。

＾重点　〉２７０°Ｃ ■田ヌジョール）：ろ２（ＪＤ、１６６５．１６４０．
１６２５，１５９０゜１０００　、８５０　、７８Ｄｌ
ｌ’？１ＮＩ４Ｒ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：１．ｌ０ｔｔ
、ろＨ、Ｊ＝’６．５ＨＺ　）　。

１．５７−２．３（ｍ、４Ｈ）、４．３８（ｔ、２Ｈ。

Ｊ＝６．５Ｈ２）、７．５３（ｄ、ＩＨ，Ｊ二８．５Ｈ
ｚ）。

７．９７−８．２８（ｒｎ　、２Ｈ）　、　８．６７（
ｄ　、　ＩＨ。

Ｊ＝８．５Ｈｚ）、９．Ｄ３（８，ＩＨ）元素分析　Ｃ
工、Ｈ□６”６０３として、計算値：　ｃ；５４．８８
．ｎ；４．９１　、Ｎ；２６．［Ｊ［］実測値：Ｃ；５
５．１４．ａ嶌４．８９．Ｎｉ２５．８６（ハ）Ｎ−（
５−（ＩＨ−テトラゾリル））−７−イツプロボキシー
４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カｌレボキサミド。

融点　＞２７０”Ｃ ■Ｒ（ヌジョール）：ろ２００．１６８０，１６５０．
１６２０．１５［１０゜１ろ１０　、７８ＤＣｒ１ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δ：１．７７（ｄ、６ｕ、Ｊ
＝６Ｈｚ）。

５．１２　（７重線、ＩＨ，Ｊ＝６Ｈｚ）、７．６７（
ｄ。

ＩＨ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、８．０２−８．３７＜ｍ、２
ｎ）。

８．８０（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、９．２［］（
ｉＬＨ）元素分析　Ｃ□４Ｈ□４Ｎ６ｏ３として、計算
値：　ｃ；５３．５０．ａ；４．４９．Ｎ；２６．７４
実測値：　Ｃ；５３．７３．Ｈ；４．４１　、Ｎ；２７
．０４実施例５ （１）４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カｌレポン酸
（２，２７ｇ）の乾燥Ｎ、Ｎ−ジメナルホ７レムアミド
（２２，７ｔｐｔｌ　）中軸濁液に、１，１−カルボニ
！レジイミダゾール（２，９２９’）を加える。この懸
濁液を１００℃に加熱して６０分間十〇寸を維持する。

室温葦で冷却後、溶液を乾燥アンモニアて処理し、２０
分間攪拌する。析出する結晶を沖取、ｙＫ？９ｅして、
４月−キノリジン−４−オン−ろ−カルボキサミド（１
，９４ｇ）を得る。

融点　２ろＯ〜２３２”Ｃ 工Ｆ（ヌショーＩし）：３３５０．３１２０．１６６０
．１６３（ＣＩＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ）δニア、５８
（ｄ、Ｉｎ、Ｊ＝９ａｚ）。

７．７５−８．０７（ｍ、ＩＨ）、８．１２（ｍ、２Ｈ
）。

８．６０（ｃｌ　、、Ｉ　Ｈ、Ｊ＝＝９Ｈｚ　）および
９．５２（ｄ、Ｉｎ、Ｊ＝７ｎｚ） 元素分析　Ｃユ。Ｈ３Ｎ２０２として、計算値：　Ｃ；
６３．８３．Ｈ；４．２８．Ｎ；１４．８９実測値：　
Ｃ；６３．９６．ｕ；４．４ろ、１１；１４．９０（２
）４８−キノリジン−４−オン−６−カｌレボキサミｌ
”（１，Ｏｆりおよびオキシ塩化燐（５０ｍ？）の混合
物を１時間還流する。反応混合物を減圧濃縮し、残漬を
炭酸水素ナトリウム水溶液とクロロホルムとの混合物に
溶解する。クロロホルム抽出液を水洗して無水硫酸す）
　ＩＪウムで乾燥し、次いで溶媒を留去する。残渣をシ
リカゲル（ろＯｇ）を使用するクロマトグラフィーに付
し、クロロホｌレムーメタノール（５０：１）で溶出し
て得る６−ジアツー４Ｈ−キノリジン−４−オンをエー
テルから再結晶して、結晶（８００〜）を得る。

融点　１９８〜２００°Ｃ 工Ｒ（ヌショ−ｚ＋ｚ）　：２４２０　、１６８０　、
１６２ＤＣＩｎ　１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−４６）δ：６．
９３　（ｄ　、　Ｉ　Ｈ、Ｊ４３Ｈ２）　。

７．３０−７．６０　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ）　、　７．８
６−８．２０（ｍ、３Ｂ）、９．１３（６，、ＩＨ，Ｊ
＝８Ｈｚ）（３）６−ジアツー４Ｈ−キノリジン−４−
オン（１，２０ダ）のピリジン（５０ｍｌ）とトリエチ
ルアミン（３０Ｍ？）との混合物溶液に、硫化水素ガス
を室温で６０分間吹込む。この混合物を常温で６日間放
置する。溶媒を留去し、残渣をクロロホルムとメタノ−
Ｉしとの熱混合物（１：１　）で洗浄して濾過する。ろ
液を濃縮して残渣を再度クロロホルムとメタノ−１しと
の熱混合物（９：１）で洗浄して沖過する。フィルター
ケーキをクロロホルムとメタノ−１しとの混合物（９：
１　）で十分に洗浄シて、４Ｈ−キノリジン−４−オン
−６−ナオカルポキサミド（０，７６１）を得る。

融点　２２０〜２３０”Ｃ ＩＲ（ヌジョ−”）：３３［Ｊｏ、３１００．１６５［
Ｊ、１６２０，１５００ｃ１「１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−（
１６）δニア、０７（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８Ｈｚ）。

７．３６−７．６７（ｒｎ、１Ｈ）、７．８０−８．１
０（ｍ、２Ｈ）、９’、１３（ｄ、ｉＨ，Ｊ−＝ＢＨ２
）。

９．２６ｔａ、ＩＨ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、９．８０（）゛
ロード　ｓ、ｉ　Ｈ） （４）６−ジアツー４日−キノリジン−４−オン（４，
２１Ｆ）、ナトリウムアジド（１，７７ｙ）および塩化
アンモニウム（１，４５ｆ　）’ｒＮ、Ｎ−ジメチＩレ
ホルムアミド（４２＋＋＋／）に溶解し、この混合物を
＋２０”Ｃに２日間加熱する。反応混合物の溶Ｋｋ留去
し、残渣を炭酸水素す）　＋７ウム水溶液に溶解してｐ
過する。炉液を希塩酸で酸性にしてｐＨ１〜２とする。

沈殿を炉取、水洗し、次いで冷Ｎ、Ｎ−ジメナルホルム
アミドで洗浄する。固体ｔｊ７４！して熱Ｎ、Ｎ−ジメ
ナルホルムアミドに溶解して沖過する。ｐ亀をエーテル
で処理してＯｏＣで放置する。析出する結晶を戸数して
エーテルとＮ、Ｎ−ジメチｌレホＶムアミドとの混合物
力ら再結晶して、３−（５−（ＩＨ−テトラシリｌし）
〕−〕４Ｈ−キノリシンー４−オン　１．１１　）を得
る。

融点　〉２５０°Ｃ ＩＲ（ヌジせ−１しン：３２［ＪＯ，３１００，３０５
０，１６６０，１６２０。

１５９０副−１ ＮＭＲ（（！Ｆ３０００Ｈ）δニア、４０　（ｄ　、　
Ｉ　Ｈ、Ｊ＝８ａｚ　）　。

７．６０−８．３０（ｍ、３Ｈ）、８．６０（ｄ、ＩＨ
。

Ｊ丑８Ｈｚ）、８．９０（８，ＩＨ）、９．４０−９．
６０（ｍ、ＩＨ） 元素分析　Ｃ０゜Ｈ７ＯＮ、として、 計算値：　ｃ；５６．３４．Ｈ；３．３１　、Ｎ；３２
．８５実測値：　Ｃ；５６．５５．Ｈ；３．８７．Ｎ；
３３．０２実施例６ （１）４Ｈ−キノリジン−４−オン−５−力ｌレボン酸
（１９６，７ｍｇ）の０．１Ｎ７ＪＣ酸化す）　ＩＪ　
ウムＺＫ溶液（９，，９ｔｔｔｌ　）中懸濁酸を室温で
１時間攪拌する。

反応混合物を沖過し、次いでｐ液ヲ凍結乾燥して、４Ｈ
−キノリジン−４−オン−６−カｌレボン酸ナトリウム
（２０１＃１１７）を得る。

工Ｒ（ヌジｑ−”）：１６６０ａ「” ＮＭＲ（Ｄ２０）δ：６．８０　（ｄ　、　Ｉ　Ｈ、Ｊ
：８Ｈｚ　）　。

７．００−７．３０（ｍ、ＩＨ）、７．４０−７．６０
（ｍ、２ａ）、８．０５（ｄ、１ａ、、ｒ＝３ａｚ）。

８．９６（ｄ、ＩＨ，、ｒ＝８ａｚ） （２）実施例６−（１）と同様にして下記化合物を得る
。

Ｎ−（５−＜ＩＨ−テトラシリｌし））−４Ｈ−キノリ
ジン−４−オン−６−カルボキサミドナトリウム塩。

ＩＲ（ヌジョーＩし）：　１６７ＱＣＷＶ１ＮＭＲ（Ｄ
　２０−ＤＭＳ　Ｏ−４６）δ：６．８０（＋１．ＩＨ
，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−７．４０（ｍ、ＩＨ）、７
．４０−７．６０＋ｍ、２Ｈ）、８．１０（ｄ、ＩＨ，
、Ｔ＝８Ｈｚ）、８．８８（ａ、１ａ、、ｙ−４３ａｚ
）実施例７ 実施例１と同様にして下記化合物を得る。

（１）４　７　ｘ　：　ＩＶ−Ｉ　Ｈ−ピリド（１，２
−ａ）キノリン−７−オン−２−力ノシポン酸。

融点　１９４−１９５℃ 工Ｒ（ヌジョーＩし）：３１５０．２６５０．１７４０
．１７２５．１５９０　。

１４４０．１１１５．８２シ「１ ＮＭＲ（ＯＦ３ＣＯＯＨ，δ）　ニア、４８−７．８２
　（５Ｈ、ｍ　）　。

７．９′５−８．４８（５Ｈ，ｍ）、８．９５（ｉＨ，
ｅ　）。

９．７０（ＩＨ，ｍ） 元素分析　Ｃ２゜Ｈよ、Ｎｏ３として、計算値：Ｃ；７
６．１８．ａ纂４．１６．Ｎ；４．４４実測値：Ｃ暮７
６．３２．Ｈ；４．５６６Ｎ　ｉ　４．３２（２）１−
（１−ナフチル）−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−
カｌレボン酸。

融点　〉２７０°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：１７３０．１７２０．１６１０．
７７（ＣｒｌＮＭＲ（Ｃ１Ｆ３ＣＯＯＨ，δ）ニア、１
０−８３７１１　ｏＩ（、ｍ　）　。

８．８２（Ｉ　Ｈ，ｓ　ン　、９．６２（１］（、ｍ）
元素分析　１１Ｅ　２０　Ｈ１３Ｎ　Ｏ３・１７”２Ｈ
２０として、計算値：Ｃ±７４．０７．Ｈ；４．３５．
Ｎ；４．３’２実測値：　Ｏ；７４．１２．Ｈ；４．１
３．Ｎ；４．２２（３）１−（４−ビフェニリＩし）−
４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルボン酸。

融点　２６１−２６３°Ｃ 工Ｒ（ヌジョールＣ３１００，１７２０，１６６０，１
６１０，１５８０゜１２９０．８９０．７７５ｆ” ＮＭＲ（Ｃ！Ｆ３ＣＯＯＨ，δＣ７，２０−８．４７（
１２Ｈ’、ｍ）。

８．７０（１ａ、、ｓ）、９．’５３（ＩＨ，ｍ）元素
分析　Ｃ２２Ｈ□５ＮＯ３・１μＨ２０として、計算値
：　Ｃ；７６．４０　、Ｈ；４．５２　、Ｎｉ４．０５
実測値：　ｃ；７６．４１　、Ｈ；４．５７．Ｎ；３．
９３（４）１−フェノキシ−４Ｈ−キノリジン−４−オ
ン−６−カルボン酸。

融点　２２４−２２６°Ｃ 工Ｒ（ヌジョーｌし）：３１００．２６５０．１７２５
．１６４０．１６２０　。

１５８０．１２１０．９１０α ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）ニア、２Ｄ−７，３７（
２Ｈ，ｍ）。

７．４３−７．７３（３ａ、ｍ）、８．７８（’ＩＨ。

Ｓ）、８．２７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝＝７．５ａｚ　）、８
．６０（ＩＨｌｔ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）、９．［Ｊ５（Ｉ
Ｈ，σ。

Ｊ＝８．５Ｈｚ）、９．６３（ＩＨ，ｄ、、ｙ＝７．５
Ｈｚ）元素分析　Ｃよ。Ｈ□、Ｎ０４として、計算値：
　ｃ；６８．３３．ｎ；３．９４１；４．９８実測値：
Ｃｌ６８．４５　、　Ｈ；　３．９６　、　Ｎ　；　４
．９６（５）１−（３−トリル）−４Ｈ−キノリジン−
４−オン−６−カｌレボン酸。

融点　１７６−１７８°Ｃ 工狙ヌジョール）：３１３０゜１７４０．１６２０．１
５９０．１２２０゜７７０．７０５Ｃｒ” ＮＭＲ（Ｃ！Ｆ３ＣＯＯＨ，δＣ２，５２（３Ｈ、ｓ　
）　、　７．１７−７．６７（４Ｈ，ｍ）、７．９０−
８．５（３（５Ｈ，ｍ）。

８．７０（ＩＨ，ｓ’）、９．５８（ＩＨ，ｍ）元素分
析　Ｃ２２Ｈ□５ＮＯ３として、計算値：　ｃ；７３．
１１　、ａ；４．６９．Ｎ；５．０２実測値：Ｃｌ７．
３．１１　、Ｈ；４．８５．Ｎ；５．１３（６）１−（
４−クロロフエニｌし）−４Ｈ−キノリジン−４−オン
−３−力ｉｖポン酸。

融点　２６９−２７１°Ｃ 工Ｒ（ヌジョー”Ｃ３１４０，１７４０，１６２０，１
４９０，１３２０゜１２９０．１０９０．Ｂ２Ｏ，８２
５，７７”ｆ、ｍＮＭＲ（ＯＦ、Ｃ１０ＯＨ，δ）　ニ
ア、３５−７．７８（４Ｈ、ｍ　）　。

７．９２−８．４７（３Ｈ，ｍ）、８．７３（ＩＨ，Ｒ
）。

９．６２（ＩＨ，ｍ） 元素分析　Ｃ□６Ｈ工。ＣｌＮＯ３として、計算値：　
Ｏ；６４．１２．ａ；３．３６．Ｎ；４．６７実測値：
　Ｃｌ６３．９５．Ｈ；３．３３．Ｎ；４．５８（７）
　１−（２−１−リル）−４Ｈ−キノリジン−４−オン
−６−カルボン酸。

融点　１６８−１７０°Ｃ ＩＲ（ヌショール）：３４００．１７２０．１６１０．
１２９０．１０７０゜７３ＱＣ＋ｎ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＲ，δ）：２．１７　（３Ｈ、Ｓ
）　、　７．２５−７．７５（４Ｈ，ｍ）、７．９８−
８．６３（３Ｈ，ｍ）。

８．８［）ＬＩＨ，ｓ）、９．７２（ＩＨ，ｍ）元素分
析　Ｃｌ、Ｈ□３ＮＯ３として、計算値：Ｃｌ７３．１
１　、　Ｈ；４．６９　、　Ｎ　；　５．０２実測値：
Ｃｌ７２．９５　、　Ｈｉ　４．９１　、　Ｎ　；　５
．０１（８）１−（３−メトキシフェニ７１／　）　−
４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルボン酸。

融点　２２２−２２４°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール＞：３１００．１７２５．１６００．
１４９０．１２２０゜１０３０　、７８時 ＮＭＲ（０Ｆ３ＣＯＯＨ、δ）：４．１［］ｔ３ｎ、ｓ
）、７．１５−８．６２．（７Ｈ，ｍ）、８．７７（Ｉ
Ｈ，８）。

９．６２（ＩＨ，ｍ） 元素分析　Ｃ２２Ｈ□５ＮＯ３として、計算値：　ｃ　
；６９．１５　、ａ　；４．４４　、　Ｎ　；４．７４
実測値：　Ｃ；６９．６７、Ｈ；４．７０．Ｎｉ４．６
７（９）１−ヒドロキシ−４Ｈ−キノリジン−４−オン
−５−力ｌレポン酸。

工垣ヌジＷ−ＩＶ）：３２００．３１００．１６９０．
１６２ＤＣ１ｆ”ＮＭＲ（ＯＦ、Ｃ０ＯＨ，δ）：８．
０Ｏ−９，５０（５Ｈ、ｍ　）元素分析　Ｃ□。Ｈ７Ｎ
ｏ４　として、　。

計算値：　ｃ；５８．５４．ａ；３．４４．Ｎ；６．８
３実測値：　Ｃ；５７．９３．Ｈ；３．５６．Ｎ；６．
７７実施例８ 実施例２と同様にして下記化合物を得る。

（１）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラシリｌし））−４−
フェニル−１Ｈ−ピリド（１，２−ａ）キノリン−１−
オン−２−力！レボキサミド。

融点　〉２７０°Ｃ 工Ｒ（ヌジョーＩし）：３２５０．３１５［］、１６７
５．１６４０．１６１０゜１５８０　、１１１シ「１ 元素分析　Ｃ２□Ｈ□４Ｎ６０２として、計算値：　に
６５．９６．Ｈｉ３．６９．Ｎｉ２１．９８実測値：　
ｃ　；６６．４３　、Ｈ；３．９９　、Ｎ　；２２．１
５（２１Ｎ−（５−（ＩＥｉ−テトラゾリル））−１−
ナフチル）−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルポ
キザミ１〜゛。

融点　〉２７０°Ｃ 工Ｅ（ヌジョール）：３２８０．１６６５．１６４Ｄ、
１６２０．１２９［Ｊ。

７８０．７７０ｃｍ　１ ＮＭＲ（ＣＦ、Ｃ○ＯＨ，δ）ニア、２７−８．２５ｔ
１０Ｈ，ｍ）。

８．７７（１ＦＴ、ｓ）、’９．６８Ｌ　１ｎ、ｍ）元
素分析　Ｃ２□Ｈ□４Ｎ６０２として、計算イ直：　Ｃ
；６５．９６．Ｈ；３．６９．Ｎ；２１．９８実測値：
　Ｃ；６０．５１　、Ｈ；３．７５．Ｎ；２１．９１（
３１Ｎ−４：５−（ＩＨ−テトラゾリル））−１−（４
−ビフェニリル）−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−
カルボキサミド。

融点　＞２７０”Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：３１８０．１６７０．１６２５．
１５９０．１１００゜１０３５．７８０．７３ＤＣ＃Ｉ
　’ 元素分析　Ｃ２３）１□６Ｎ６０２として、計算値：　
ｃ；６７．６４．Ｈ；３．９５．Ｎ；２０．５８実測ｆ
ｌ＆：Ｃ；６８．０４．Ｈ；４．３１．Ｎる２　０．３
９（４）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル））−１−
フェノキシ−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルポ
キザミド。

融点　＞２７０”Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：３２００，３１５０，１６６０．
１６２Ｄ、１５９０゜１０１Ｄ、７８０．７５０ＣｎＶ
１ ＮＭＲ＋ＣＦ３ＣＯＯＨ，δＣ７，［］］８−７．６７
（５Ｈ、ｍ　）　。

７．９７（１ｎ、ｍ）、８．２２−８．４７（２Ｈ，ｍ
）。

８．７０（ＩＨ，ｍ）、９．６７（ＩＨ，ｍ）元素分析
　Ｃ工。Ｈ８Ｎ６０３として、計算値：　Ｃ；５８．６
２．Ｈ；３．４７．Ｎ；２４．１３実測値：　Ｃ１５９
，３９，Ｈ；３．５４．Ｎ；２４．０６（５）　Ｎ−（
５−（ＩＨ−テトラシリｌし））−１−（６−トリル）
−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルボキサミド。

融点　＞２７０”Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：３１６０．１６７０．１６４０．
１６２０．１６［］０゜１５８５ｆＪｆ１ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ、δ）：２．５２（２Ｈ，Ｆｌ
）、７．１７−７．６２（ｍ、４ａ）、７．７０−８．
４０（３ｎ１ｍ）。

８．７５＋ＩＨ，Ｓ）、９．６’３（ＩＨ，ｍ）元素分
析　Ｃ工。Ｈ工。Ｎ６ｏ２として、計算値：Ｃ；６２．
４２．Ｈ；４．０７．Ｎ；２４．２６実測値：　Ｃ；６
３．０３．Ｈ；４．１６．Ｎ；２４．５６（６）　Ｎ−
（５−（ＩＨ−テトラゾリル）、：１ｌ−１−（４−１
０ロフエニｌし）−４Ｈ−キ／Ｕジンー４−オン−ろ一
力ｌレボキサミド。

融点　〉２７ｕ″Ｃ ＩＲ（ヌジョーＩし）：３２２０．１６７５．１６４０
．１６［１０，１４８０゜１２９０．１０４０，７７０
ｃｌ＃−１元素分析　Ｃ□７Ｈ，□ＣｌＮ６０２として
、計′Ｊ１．値：　ｃ；５５．６７、Ｈ；３．０２．Ｎ
；２２．９１実泄価：　Ｃ；５７．４５．Ｈ；３．２６
．Ｎ；２１．４７（７）■リー（２−ビリジ１Ｖ）−１
−フェニ／Ｌ／−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６＝カ
ルボキサミド。

融点　２２７−２２９°Ｃ 工Ｒ（ヌショール）：１６８０．１６２０．１５５［Ｊ
、１４８０．１３００゜７８０．７７０ｃｍ　１ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）ニア、３５−８．１８（
１０Ｈ１ｍ）。

８．３５−８．７７（２Ｈ，ｍ　）、９．６０（ＩＨ，
ｍ）元素分析　Ｃ２□Ｅ□５Ｎ３０２として、計算値：
０士７３．８９．Ｈ；４．４３．Ｎ；１２．ろ１実測値
：　ｃ；７４．１７．Ｈ；４．６１　、Ｎ；１２．２６
（８）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル））−１−ヒ
ドロキシ−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルボキ
サミド。

融点　〉２５０″Ｃ ＩＲ（ヌジョ＝／’Ｃ３２００（８ｈ）、１６６０．１
６２０．１５８（ｌｋｌ　１元素分析　Ｃ工、Ｈ８Ｎ６
０３・１／２Ｈ２ｏとして、計算値：Ｃ；４６．９７．
Ｈ；３．２２．Ｎ；２９．８５実測値：Ｃ；４６．４８
．Ｈ；３．３１　、Ｎ漬２９．５７（９）　Ｎ−（５−
（ＩＨ−テトラシリＩし））−１−（３−メトキシフェ
ニル）−４Ｈ−キノリシン−４−オン−６−カルボキサ
ミド。

融点　＞２７０”Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：３１５０．１６８０．１６４０．
１６２０．１５９０゜１４９０．１３００．１２１０．
１０３０．７９０．７８０ＣＩＩ＋−”ＮＭＲ（ＣＦ３
０００Ｈ，δＣ４，１３（３ｎ、ｓ）、７．１７−７．
５２（３Ｈ，ｍ）、７．５５〜８．１５（２Ｈ，ｍ）。

８．１８−８．４３（２Ｈ，ｍ）、８．８０（ＩＨ，ｑ
）。

ソ、６７（ＩＨ，ｍ） 元素分析　Ｃ□８Ｈ□４Ｎ６０３として、計算値：　ｃ
；５９．６７、Ｈ；３．８９．Ｎ；２３．１９実測値：
　Ｃ；　５９．８１　、　Ｈ；　４．１９．Ｎ二２３．
３５αＩＮ−（５−（ＩＨ−テトラゾリフ〕）〕−１−
（２−トリル）−４Ｈ−キノリシン−４−オンーサ ６−カルポキキミド。

融点　〉２７０°Ｃ ＬＲ（ヌジョール）：３２００．３１２０．１６８０，
１６２０．１４９０゜１２９０　、１０３０　、７８Ｕ
）：ｍＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）：２．１５ｔ　３
Ｈ、Ｓ）　、　７．２５−７．７０（４Ｈ，ｉｎ）、７
．７７−８．４３（３Ｈ。

ｍ）、８．７７＋ＩＨ，８）、９．７７（ＩＨ，Ｓ）元
素分析　Ｃ□８Ｈ工。Ｎ６０２として、計算値：　Ｃ；
６２．４２．Ｈ；４．Ｄ７．Ｎ；２４．２６実測値：　
ｃ；６２．７５．ｎ；４．［Ｊ６．Ｎ；２４．３５実施
例９ 実施例１と同様にして下記化付物を得る。

（１）、７−４ｎ−ブトキシ）・−１−フｚ−”’−４
Ｈ−キノリジンー４−オンーろ一力ｌレポン酸。

融点　１５５−１５７°Ｃ 工ｎ（ヌジーｒ−ル）：１７２０．１６１０，１４９５
．１４２５＜ｍ　１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δＣ０，
９５（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

１．３−２．０ｔ４ｎ、ｍ）、４．２０（２ｎ、ｔ、Ｊ
＝＝５Ｈｚ）、７．３−７．７（５Ｈ，ｍ）、７．８０
（２Ｈ。

８）、８．１０（ＩＨ，８）、８．８０（１Ｈ，Ｓ）。

１４．１（ＩＨ，ブロード　５） （２）１−−アリフレオキシ−４Ｈ−キノリジン−４−
オン−６−カルボン酸。

融点　１４０−１４３°Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：３１０Ｄ、１７３０．１７２０．
１６１０，１５８０゜１４２０．１０９５．１，０６５
，７７０Ｃｒ１ＨＭＲ（ＯＦ３Ｃｏ２Ｈ，δＧ４．９０
−５．１３（２Ｈ，ｍ）。

５、ろ５−５．７８（２ｎ、ｍ）、５．９０−６．５７
ｔｌａ、ｍ）、７．９７−８．６７（３Ｈ，ｍ）。

８．７７−９．０３（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　９．３９−
９．６７（ＩＨ，ｍ） （３１１−（Ｎ−メチルアニリノ）−４Ｈ−キノリジン
−４−オン、−６−カ！Ｖボン酸。

融点　１８５”Ｃ（分解） 工Ｒ（ヌジョ−ｚし）：１７２０．１７０［Ｊｔｓｈ）
、１６２０ｃｍ　１ＨＭｎ（ｃｐ３ｃｏｏＨ，δ）　：
３．５８　（３Ｈ、ｓ　）　、　６．６０−７．５［Ｊ
　（５Ｈ、ｍ　）　、　７．８０−８．６ｒＪ　（３Ｈ
。

ｍ１ｋ）、８．６４（ＩＨ，ｓ）、９．５０（ＩＨ，ｄ
。

Ｊ＝７Ｈｚ） 元素分析　Ｃ工、Ｈ□４Ｎ２０３として、計算値：Ｃ↓
６９．３８．Ｈ；４．７９；Ｎ＋＋９．５２実測値：　
Ｃ；６９．０３．Ｈ；４．７６、’Ｎ；９．ろ１（４）
１−ベンジ／ｌ／−４Ｈ−キノリジン−４−オン−５−
カルボン酸。

融点　２２１−２２３°Ｃ ＩＲ（ヌジョーｌし）：３３８０．１７２０．１６２０
．１４１０．１３２０　。

１０７０．１０２０．７８０（ｊｆｉ−１元素分析　Ｃ
□７Ｈ□３ＮＯ３として、計算値：　Ｃ；７３．１１　
、Ｈ；４．６９．Ｎ；５．Ｕ２実測値：Ｃ；７３．７２
．Ｈ暮４゜９２　、　Ｎ　；　５．［］４（５）１−フ
ェニルチオ−４Ｈ−キノリジン−４−オン−５−力ｌレ
ポン酸。

融点　１９５−１９７’Ｄ ＩＲ（ヌショー！し）：３３５０．１７２０．１６２０
．１４００．１２８５゜１０６５．８８５．７８０．７
４０Ｃｍ　１元素分析　Ｃ□６Ｈ工、Ｎ０３Ｓとして、
計算値：Ｃ纂６４，６ろ、Ｈ；３．７３．Ｎ　；４．７
１実測値：　Ｃ；６５．０４．Ｈ；３．９０．Ｎ；４．
７３（６）１−ｙエニルヌルホニル−４Ｈ−４−ノリジ
ン−４−オン−６−カルボン酸。

融点　〉２５０″Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：１７３０．１６４０．１６２０．
１５８０．１１６０゜１１４０ｃｖｒ’−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−４６，６）ニア、３０−８．５０　
（７１（、ｍ　）　。

８．６０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、９．００（ＩＨ。

８）、９．５０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）元素分析　Ｃ
□６Ｈ□、Ｎ０５Ｓとして、計算値：　Ｏ＋　５８．３
５　、　Ｈ；　３．３７実測値：　ｃ；５８．６２．Ｈ
；３．３１実施例１０ ６−エトキシカ！レボニルー１−ペンシイｌレ−４Ｈ−
キノリジン−４−オン（２，１４ｉのクロロホルム（６
５ｇ／）溶液にトリメナｌレシリＩレヨージト（’１．
０４肩ｊ）をＯｏＣで滴下して加える。Ｏ−Ｃで６０分
間撹拌後、トリメナルシリ！レヨージド（１，’０４ゴ
）を加える。室温で１時間攪拌後、トリメナｌレシリル
ヨージド（１，［Ｊ４＊Ｊ）を加える。室温で２時間攪
拌後、反応混合物をクロロホルムで蒸留し水洗する。硫
酸マグネシウムで乾燥後、クロロ小ＩＶム抽出液を戸数
し、濃縮する。沈殿物を冷りロロホｌレムで＋５１Ｊし
て、１−ペンシイフレー４Ｈ−キノリジン−４−オン−
６−カｌレボン酸（１，２５２１３７００＋１１ ＮＭＲ（ＣＤＣ１６，δＧ６．７０−８．３０（９Ｈ，
ｍ）、８．４２−８．６８　（Ｉ　Ｈ、ｄ、　Ｊ＝３Ｈ
２）元素分析　Ｃ□ヮＨ工、ＮＯ４として、計算値：　
Ｃ；６９．６２．Ｈ；３．７８．Ｎ；４．７８実測値：
　ｃ　；６２．８９　、Ｈ；３．５４　、Ｎ　；３．７
０ＭａｓＳ：ｍ／ｅ　２９３（Ｍ＋） 実施例１１ 実施例２と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−ｔｎ−ブトキシ）−１−フエ二ｌレーＮ−（
５−（ＩＨ−テトラシリ！し））−４Ｈ−キノ１ノジン
−４−オン−６−カＩレポギサミド。

融点　＞２０５−Ｃｔ分解） 工Ｒ（ヌジョール）：１６７０．１６３５．１５８０．
１３７０ＣｒＮＭＲｔ　ＤＭＳＯ−ｄ６．δＣ１，Ｄ［
］（５Ｈ，ｔ、Ｊ＝５．６Ｈ２）。

１．０２−２．１０（ｌ（、ｍ）、４．１８ｔ２Ｈ，ｔ
。

Ｊ＝６Ｈ２）、６．８０−７．２５（２Ｈ’、ｍ）。

７．３０−７．６５（３Ｈ、ｍ　）　、　７．６８−８
．００（２Ｈ，ｍ）、８．２０（ＩＨ，ｑ）、８．８７
（１Ｈ。

ブロード　日） （２）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル）’）−１−
フェニルチオ−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カフ
レボキサミド。

融点　〉２７０″Ｃ 工Ｒ（ヌジョー／Ｖ）：３１８０．１６６０．１６４０
．１６２０．１２８５゜１０３５．７８０．７３（１）
「１ 元素分析　Ｃ工、Ｈ□２Ｎ６０２Ｓとして、計算値：　
Ｃ；５６．０４．Ｈ；３．３２．Ｎ　；２３．０６実測
値：Ｃ；５６．６１　、Ｈ；３．５３．Ｎ；２３．４８
（３）１−（Ｎ−メチｌレアニリノ）−Ｎ−（５−（１
Ｈ−テトラゾリル））−４Ｈ−キノリジン−４−オン−
６−カｌレボキサミド。

融点　〉２３０“Ｃ 工Ｒ（ヌジロール）：３２００．１６６Ｕ、１６４０．
１６２０．１２９０゜１０３０Ｃ１ｆ” ＮＭＲ（ＣＦ３Ｃ００Ｈ，δ）：３．７４（３ｎ、ｑ）
、６．８０−７．６０ｔ５Ｈ，ｍ）、、７．６２−８．
０８（ＩＨ，ｍ）。

８．１５−８．４０（２Ｈ，ｍ）、８．８５（１Ｈ，８
）。

９．６５　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、　、Ｔ＝７Ｈ２）（４）　
Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラゾリル））−１−アリフレオ
キシ−４Ｈ−キノリジン−４−オン−５−力ルポキサミ
ド。

融点　〉２７Ｕ″Ｃ（分解） 工Ｒ（ヌショール＋：３２００．１６６０．１６２０．
１５８０．１５００゜１２２０．１１００．１０４０．
１’０２０，９５５．７７Ｏｆ’ＮＭＲ（ＣＦ３０００
Ｈ，δ）：４．９０−５．１７　（２Ｈ、ｍ、　）　。

５．３７−５．８０（２Ｈ，ｍ）、５．９０−６．５５
（１ａ、ｍ）、８．９３−９．０２（４ｎ、ｍ）。

９．５［）−９，７３（Ｉ　Ｈ、ｍ　）元素分析　Ｃ，
４Ｈ工２Ｎ６０３として、計算値：　Ｃ１５３，８５，
Ｈｉ３．８７．Ｎｉ２６．９１実測値：　ｃ　；５４．
２０　、Ｈ；３．８１　、Ｎ；２６．９３（５１Ｎ−（
５−（１Ｈ−テトラシリｌし）’）−１−ベンジル−４
Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルボキサミド。

融点　〉２７０℃ １只（ヌジョー／Ｖ）：３１４０．１６６０．１６２０
．１５９５．１４９０；１２９５．１ｏ４ｏ、１ｏｃ＋
５．７７５．７ｚｏ、６９ｏｚ−１元素分析　Ｃ，８Ｈ
よ。Ｎ６０２として、計算値：　Ｃ’；６２．４２．Ｈ
；４．’０７．ｒｑ；２４．２６実測値：　Ｃ；　６　
Ｚ８８　、Ｈ；　４．５４　、Ｎ　；　２４３２（６）
　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラシリｌし））−１−フェニ
ルスｌレホニルー４Ｈ−キノリジン−４−オン−カルボ
キサミド。

融点　〉２５０°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：１６８０．１６４０，１６２０．
１５９［１１Ｃｌｌｆ１元累分析　Ｃ□７Ｈ□２Ｎ６０
４Ｓとして、計算値：　Ｃ；５１．５１４纂３．０５．
Ｎ；２１．２０実測値：　Ｃ；５１．７１　、Ｈ；２．
９３．Ｎ；２１．８３（７）１−ベンゾイル−Ｎ−（５
−ｔＩＨ−テトラシリｌし））−４Ｈ−キノリジン−４
−オン−５−カルボキサミド。

一点　＞２５０”Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：１６９０．１６３０．１３８０．
１２４０．１１２０ａｆ１ＮＭＲ（０Ｆ３ＣＯＯＨ、δ
）ニア、４１Ｊ−８，２５（５Ｈ，ｍ）。

８．２２−８．５１（ＩＨ，ｍ）、８．７０（ＩＨ。

ブロード　Ｓ）、８．９３Ｎａ、ｓ）、９．１２（１ａ
、ａ、Ｊ＝９ａｚ）、９．７３（Ｈｒ、ｄ。

Ｊ＝７Ｈｚ） 元素分析　Ｃ□８Ｈ□２Ｎ６０３として、計算値：　ｃ
；６０．００．ａ；３．３６．Ｎ；２３．３２実測値：
　Ｃ；５６．９（Ｊ、Ｈ；３．８０．Ｎ；２４．９７実
施例１２ 実施例６−（１）と同様にして下記化合物を得る。

（１）１−ベンゾイル−Ｎ−Ｃ５＋−＜ＩＨ−テトラゾ
リル））−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カルボキ
サミドのナトリウム塩。

融点　２４８−２５０°Ｃ（分解） より（ヌジョ−”Ｃ１６７０，１６１０，１５５０，１
４８０，１４５０ａｘ　”（２）Ｎ−（５−（ＩＢ−テ
トラゾリル））−１−フエニｌレー４Ｈ−キノリ・ジン
−４−オン−６−カ！レホキサミドのナトリウム塩。

融点　〉２５０°Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：３１５Ｄｔブロード）、１６６Ｄ
［ｓｈ）、１６５０゜１６４０．１６２０ｕ　１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６．δ）ニア、４０−８．００
　（９Ｈ、ｍ　）　。

８．５０（１Ｈ，８）、９．３０−９．６０（１Ｈ、ｍ
）（３１Ｎ−（５−ｔｌｍ−テトラゾリル）’）−１−
フェノキシ−４Ｈ−キノリジン−４−オン−６−カｌレ
ボキサミドのナトリウム塩。

融点　〉２５０°Ｃ ＩＲ（ヌジョ−７’）：１６６Ｄａ「１ＮＭＦｔ（ＤＭ
ＳＯ−４１６，δ）：６．９−７．８（６Ｈ、ｍ　）　
。

８、ＩＪｌ（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝＝４ｎｚ）、８．３２（Ｉ
Ｈ。

８）、９．４２Ｎａ、ｄ、、ｒ＝７ａｚ）、１２．３０
（１Ｈ，Ｆり

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （式中、Ｒ１Ｕカルボキシ基、アミド化されたカルボキ
   シ基、シアノ基、チオカルバモイル基マタはテトラゾリ
   ル基； Ｒ７は水素ｔたはアリール基； Ｒ２は水素、ヒドロキシ基、低級アノレキｌし基または
   低級アルコキシ基； Ｒ３はＺＫ索、ヒドロキシ基、低級アｌレキル基、低級
   アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、適当な置換基
   を有していてもよいアリール基、アリールナオ基、アロ
   イル基、アル（低級→アルコキシ基、アレーンスルホニ
   ル基、適当な置換基を有していてもよいアリールアミノ
   基またはアリ−ｌレオキシ基をそれぞれ意味し、Ｒ２お
   よびＲ３はキノリジノン環のいかなる位置にも位置する
   ことができ、かつ互いに結合して一０Ｈ２ＣＨ８ＯＨ２
   ＝、−Ｃ！Ｈ＝（！Ｈ−または−ｃｎ＝ＯＨ−ＣＨ＝Ｏ
   Ｂ−を形成することができる）で示されるキノリジノン
   化合物およびその塩。 ２）Ｒ１が力ｌレボキシ基、カルバモイＩし基、ピリジ
   ルカルバモイル イル基、低級アルキｌし基を有するピリミジニＩＶ力！
   レバモイル基、ピラジニルカルバモイル基、フェニルカ
   ルバモイ１し基、ヒドロキシ基ｅ有ｆるフェニルカｌレ
   バモイｌし基、チアシリｌレカｌレバモイｌし基、トリ
   アジニルカルバモイル基、トリアシリ！レカｌレバモイ
   １し基、ピリダジニル力！レバモイｌし基、ハロゲンを
   有するピリダジニル力ｌンパモイｌＶ基、テトラシリｌ
   しカルバモイル基、シアノ基、ナオカルバモイル基、ま
   たはテトラゾリル基であジ、Ｂ　が水素またはフェニル
   基であｐ、Ｒ２が７に素、ヒドロキシ基、低級アルキ薯 ル基または低級アルコキシＦあｆ）、Ｒ３がＸｍ、ヒド
   ロキシ基、低級アルキｌし基、低級アルコキシ基、低級
   アルケニルオキシ基、フェニル基、ナフチル基、ビフェ
   ニＷ基、低級アルキル基ヲ有するフェニル基、ハロゲン
   を有ｆるフェニｌし基、低級アルコキシ基を有するフェ
   ニル基、フェニルチオ基、ベンシイｌＶ基、フェニルｌ
   Ｊ＆）アルキル基、ベンゼンスルホニル基、窒素原子上
   に低級アルキル基を有するフェニルアミノ基またはフェ
   ノキシ基であシ、Ｒ２およびＲ３はキノリジノン環のい
   かなる位置にも位置することができ、かつ互いに結合し
   て−ＣＨ８ＣＨ２０Ｈ２−１−ＣＨ＝ＣＨ−または−０
   Ｈ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を形成することができる、であ
   る特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３）　Ｒ”がカルボキシ、カルバモイル、ピリド−２−
   イルカフレバモイル、４．６−シメチルビリジミンー２
   −イルカルバモイル ｌレバモイル、フェニルカルバモイル、ピリミジン−２
   −イルカルバモイル、２−ヒドロキシフェニルカルバモ
   イル、４Ｈ−１，２，４−４リアゾール−６−イルカル
   バモイル、１Ｈ−テトラｙ−−ｚｖ　５−イルカフレバ
   モイル、チアゾール−２−イルカルバモイル、１．２．
   ４−　トＵアジン−６−イルカルパモイｌし、ピラジニ
   ルカルバモイル、６〜クロロピリダジン−６−イルカ！
   レバモイＷ１シアノ、チオカｌレバモイ７Ｉ／またはテ
   トラシリｌレアアシζＲ２が水素、ヒドロキシ、メチｌ
   し、エチＩＶまたはメトキシであり、Ｒ３が水素、ヒド
   ロキシ、メチｌし、メトキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブ
   トキシ、アリルオキシ、フェニル、ナフチル、ビフェニ
   ル、６−メチｌレフエニル、フェノキシ、４−クロロフ
   ェニル、２−ノナルフェニル、６−メドキシフエニｌし
   、ベンジル、フェニｌレチオ、ベンゾイル、ベンゼンス
   ルホニＩしまたはＮ−メチルアニリノである特許請求の
   範囲第２項記載の化合物。 ４）　”−（５−（ＩＨ−テトラゾリル）：）−４Ｈ−
   キノリジン−４−オン−６−カルボキサミドである特許
   請求の範囲第６項記載の化合物。 ５）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラシリｌし）〕−〕１−
   フェニルー４Ｈ−キノリジン４−オン−６−カルボキサ
   ミドである特許請求の範囲第６項記載の化合物。 ６）　Ｎ−（５−（ＩＨ−テトラシリｌし）〕−〕１−
   ７エノキシー４Ｂ−キノリジン４−オン−５−カルボキ
   サミドである特許請求の範囲第６項記載の化合物。 ７）　Ｎ−（５−（Ｉ　Ｈ−テトラゾリル）〕−〕１−
   ベンゼンヌルホニｌレー４Ｈキノリジン−４−オン−５
   −カルボキサミドである特許請求の範囲第６項記載の化
   合物。 し く式中、Ｒ７は水素筒たはアリール基；Ｒ４は保護され
   たカルボキシ基； Ｒ２は刀（素、ヒドロキシ基、低級アルキル基または低
   級アルコキシ基； Ｒ３は）に素、ヒドロキシ基、低級アルキル基、低級ア
   ルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、適当な置換基を
   有していてもよいアＩ３　７し基、アリールチオ基、ア
   ロイル基、アル（低級）７／レキノＶ基、アレーンス！
   レホニｌし基、適当すｆｆｉ［基を有していてもよいア
   リー！レアミノ基またはアリールオキシ基をそれぞれ意
   味し、Ｒ２およびＲｕキノリジノン環のいかなる位置に
   も位置することができ、かつ互いに結合して−ＣＨ２Ｃ
   Ｈ８ＯＨ２−１−ｃａ＝ｃＨ−または−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ
   Ｈ＝ＣＨ−を形成することができる）で示される化合物
   またばその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付して、
   式： （式中、Ｒ，ＲおよびＲはそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその福を得るか、（式中、Ｒ７
   、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前と同じ意味〕 で示芒れる化合物または力！レボキシ基におけるその反
   応性誘導体筒たはその塩をアミド化（式中、Ｒ７、Ｒ２
   およびＲ３はそれぞれ前と同じ意味であり、 Ｒλはアミド化されたカルボキシ基を意味する） で示される化合物またはその塩を得るか、（式中、Ｒ，
   ＲおよびＲはそれぞれ前と同じ意味） で示はれる化合物またはその塩を脱水反応に付して、式
   ： （式中、Ｒ’ｙ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前と同じ意
   味） で示される化合物またはその塩を得るか、（式中、Ｒ７
   、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩を硫化水素と反応させて
   、式： （式中、Ｒ７、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前と同じ意味
   ） で示される化合物′！またけその塩を得るか、または （５）式： （式中　Ｒ７、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前と同じ意味
   ） で示芒れる化合物葦たはその塩をテトラゾール基生成反
   応に付して、式： （式中、Ｒ７、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前と同じ意味
   ） で示される化合物またはその福を得ることを特徴とする
   一般式： （式中、Ｒ７、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前と同じ意味
   であり、 Ｒ１ハカルポキシ基、アミド化された力ｌレボキシ基、
   シアノ基、チオカルバモイＩし基またはテトラゾリル基
   を意味する） で示されるキノリジノン化合物またはその塩の製造法。 ４ （式中、Ｒはスに累、ヒドロキシ基、低級アルキＷ基ま
   たは低級アルコキシ基； Ｒ４は保護された力ｌレボキシ基； Ｒ５は低級アルコキシ基； Ｒ６は水素、保護されたヒドロキシ基、低級アルキル基
   、低級アルコキシ基、低級アｌレケニＩレオキシ基、適
   当な置換基を有していてもよいアリ−１し基、アリ−フ
   レチオ基、アロイル基、アｌしく低級）アｌレキｌｖ基
   、アレーンヌルホニル基、適当な置換基を有していても
   よいアリーＩレアミノ基またはアリールオキシ基でアル
   ） で示される化合物またはその塩を閉環反応に付すことを
   特徴とする一般式： Ｏ （式中、Ｒ２、Ｒ４およびＲ６は前と同じ意味ンで示で
   れる化合物およびその塩の製造法。 （式中、Ｒ１は力！レボキシ基、アミド化されたカルボ
   キシ基、シアノ基、ナオカｌレバモイｌし基またはテト
   ラゾリル基； Ｒ７は水素またはアリール基； Ｒは水素、ヒドロキシ基、低級ア７レキル基または低級
   アルコキシ基； Ｒは７に索、ヒドロキシ基、低級アルキｌし基、（Ｊ４
   Ｊアルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、適当な置換
   基を有していてもよいアリール基、アリールチオ基、ア
   ロイｌし基、アｊｖ（低ｉ）アルキル基、アレーンスル
   ホニｌし基、ｍ当１ｆｌ基を負ニジていてもよいアＩＪ
   　／レアミノ基またはアリールオキシ基をそれぞれ意味
   し、 Ｒ２およびＲ３はキノリジノン環のいかなる位置にも位
   置することができ、かつ互いに結合して一０Ｈ２０Ｈ２
   ＣＨ２−１−０Ｈ＝ＯＲ−寸たは−ＣＨ＝ＣＨ−０Ｈ＝
   ＣＨ−４形成することができる）で示されるキノリジノ
   ン化合物およびその塩全有効成分とするアレルギー性疾
   患および潰瘍治療剤。