JPS60217631A - 遠紫外光用レジスト露光方法 - Google Patents
遠紫外光用レジスト露光方法Info
- Publication number
- JPS60217631A JPS60217631A JP59073464A JP7346484A JPS60217631A JP S60217631 A JPS60217631 A JP S60217631A JP 59073464 A JP59073464 A JP 59073464A JP 7346484 A JP7346484 A JP 7346484A JP S60217631 A JPS60217631 A JP S60217631A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- far ultraviolet
- ultraviolet light
- ultraviolet rays
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は遠紫外光用レジストの露光方法に関するもので
ある。
ある。
従来例の構成とその問題点
半導体素子が微細化されるにつれて、露光用レジストも
光露光源の短波長化が図られ、波長200〜300nm
の遠紫外光露光が用いられ始めている。この場合、波長
400nm前後の、通常の紫外光露光に比較して、短波
長化にともなう回折の減少によシ、パターンの微細化を
図ることができる。しかしながら、紫外光露光の際に問
題となった、基板からの光の反射忙より、パターン幅が
変化する現象は、遠紫外光露光においても存在し、パタ
ーン微′細化の障害となるため、その解決が強く望まれ
ていた。
光露光源の短波長化が図られ、波長200〜300nm
の遠紫外光露光が用いられ始めている。この場合、波長
400nm前後の、通常の紫外光露光に比較して、短波
長化にともなう回折の減少によシ、パターンの微細化を
図ることができる。しかしながら、紫外光露光の際に問
題となった、基板からの光の反射忙より、パターン幅が
変化する現象は、遠紫外光露光においても存在し、パタ
ーン微′細化の障害となるため、その解決が強く望まれ
ていた。
発明の目的
本発明は、この問題を解決し、遠紫外光露光における基
板からの反射をなくし、パターンの微細化を図ることが
可能な遠紫外光用レジスト露光方法を提供するものであ
る。
板からの反射をなくし、パターンの微細化を図ることが
可能な遠紫外光用レジスト露光方法を提供するものであ
る。
発明の構成
すなわち、本発明は基板上に波長300nm以下の遠紫
外光で露光した、ポリスチレン系ネガ形レジストを反射
防止膜として形成し、同反射防止膜上に遠紫外光用レジ
ストを設けて露光処理することを特徴とする遠紫外光用
レジスト露光方法であシ、これによシ、基板面での遠紫
外光の反射を抑えて、高精度のパターン化ができる。
外光で露光した、ポリスチレン系ネガ形レジストを反射
防止膜として形成し、同反射防止膜上に遠紫外光用レジ
ストを設けて露光処理することを特徴とする遠紫外光用
レジスト露光方法であシ、これによシ、基板面での遠紫
外光の反射を抑えて、高精度のパターン化ができる。
実施例の説明
以下に第1図の工程順断面図にもとづいて本発明の実施
例について説明する。はじめに第1図aのようにSi基
板1上に0MSレジスト(クロロメチル化ポリスチレン
)2を1μm塗布し、130℃、30分間プリベークし
、ついで、キャノン製遠紫外露光装置PL’A320F
Aを用いて遠紫外光束3により2秒露光する。つぎに第
2図すのように中間層であるSiO□膜形成用材を0.
1μmの厚さで塗布形成し、200℃、20分のベーク
を行い、SiO□膜4を形成し、さらに、PMMAレジ
スト6を厚さ0.5μmで形成し、170℃。
例について説明する。はじめに第1図aのようにSi基
板1上に0MSレジスト(クロロメチル化ポリスチレン
)2を1μm塗布し、130℃、30分間プリベークし
、ついで、キャノン製遠紫外露光装置PL’A320F
Aを用いて遠紫外光束3により2秒露光する。つぎに第
2図すのように中間層であるSiO□膜形成用材を0.
1μmの厚さで塗布形成し、200℃、20分のベーク
を行い、SiO□膜4を形成し、さらに、PMMAレジ
スト6を厚さ0.5μmで形成し、170℃。
20分のプリベークを行い、三層レゾスト構造を完成す
る。
る。
つぎに、前述した遠紫外光露光装置を用いてPMMAレ
ジスト5に所定図形を露光し、つづいて、第1図Cのよ
うにメチルイソブチルケトン液で2分間現像する。
ジスト5に所定図形を露光し、つづいて、第1図Cのよ
うにメチルイソブチルケトン液で2分間現像する。
そして、PMM人レジスト5をマスクとしてRIE装置
を用いて03F8−1−0□ガスで5i02膜4をエツ
チングし、5in2膜4をマスクとし、下層の0MSレ
ジスト2を02ガスでエツチングするととにより、第1
図dのように、最終的なパターンが形成される。
を用いて03F8−1−0□ガスで5i02膜4をエツ
チングし、5in2膜4をマスクとし、下層の0MSレ
ジスト2を02ガスでエツチングするととにより、第1
図dのように、最終的なパターンが形成される。
PMMAレジスト5を遠紫外光露光する場合、基板から
の反射がないので微細なパターンが形成できる。これは
、0MSレジスト2によす1遠紫外光がすべて吸収され
るからである。第2図に厚さ0.6μmの0MSレジス
トの遠紫外光(波長260nmピーク)の透過率を示す
。未照射の場合、14チの光が透過するが、遠紫外光露
光後は、光の透過量は1チ以下となる。
の反射がないので微細なパターンが形成できる。これは
、0MSレジスト2によす1遠紫外光がすべて吸収され
るからである。第2図に厚さ0.6μmの0MSレジス
トの遠紫外光(波長260nmピーク)の透過率を示す
。未照射の場合、14チの光が透過するが、遠紫外光露
光後は、光の透過量は1チ以下となる。
なお、本実施例では、クロロメチル化ポリスチレンを例
として説明を行ったが、その他のポリスチレン系ネガ形
レジスト、たとえば、ヨウ素化ポリスチレンなどでも同
様の効果がある。
として説明を行ったが、その他のポリスチレン系ネガ形
レジスト、たとえば、ヨウ素化ポリスチレンなどでも同
様の効果がある。
発明の効果
以上に詳述したように、本発明によれば、波長300
nm以下の遠紫外光で露光したポリスチレン系ネガ形レ
ジストを反射防止膜として用いることにより、簡単な工
程で遠紫外光の反射を防ぐことができ、微細なパターン
の形成が可能である。
nm以下の遠紫外光で露光したポリスチレン系ネガ形レ
ジストを反射防止膜として用いることにより、簡単な工
程で遠紫外光の反射を防ぐことができ、微細なパターン
の形成が可能である。
第1図a −dは本発明の詳細な説明する断面図、第2
図は本発明の効果を示す、ポリスチレン系ネガ形レジス
トの遠紫外光透過率を示す特性図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・0MSレジ
スト、3・・・・・・遠紫外光、4・・・・・・酸化膜
、5・・・・・・PMMA、6・・・・・・PMMAパ
ターン、7・・・・・・パターン。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 + 3
図は本発明の効果を示す、ポリスチレン系ネガ形レジス
トの遠紫外光透過率を示す特性図である。 1・・・・・・半導体基板、2・・・・・・0MSレジ
スト、3・・・・・・遠紫外光、4・・・・・・酸化膜
、5・・・・・・PMMA、6・・・・・・PMMAパ
ターン、7・・・・・・パターン。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 + 3
Claims (1)
- 基板上に、波長300nm以下の遠紫外光で露光した、
ポリスチレン系ネガ形レジストを反射防止膜として形成
し、同反射防止膜上に遠紫外用レジストを設けて露光処
理することを特徴とする遠紫外光用レジスト露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59073464A JPS60217631A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 遠紫外光用レジスト露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59073464A JPS60217631A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 遠紫外光用レジスト露光方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60217631A true JPS60217631A (ja) | 1985-10-31 |
Family
ID=13519004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59073464A Pending JPS60217631A (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 遠紫外光用レジスト露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60217631A (ja) |
-
1984
- 1984-04-12 JP JP59073464A patent/JPS60217631A/ja active Pending
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