JPS60216548A - 露光用板状物 - Google Patents
露光用板状物Info
- Publication number
- JPS60216548A JPS60216548A JP60030356A JP3035685A JPS60216548A JP S60216548 A JPS60216548 A JP S60216548A JP 60030356 A JP60030356 A JP 60030356A JP 3035685 A JP3035685 A JP 3035685A JP S60216548 A JPS60216548 A JP S60216548A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- target
- exposure
- pattern
- constitution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は露光板状物などに関する。
半導体装置の製造過程で、ホトマスク上に描画されたパ
ターンをウェハ上に転写するマスク合せ装置（マスクア
ライナ−）が使用される。従来のマスクアライナ−にお
いては、第１図に示すようにマスク１とウェハ２との位
置合せをそれぞれの上に設けた各１対のターゲットパタ
ーンを検出器５により光電的に検出して両者の位置を比
較することによ−て自動的にアライメントする機能を有
しているが、マスクターゲットの中心を２つの対物レン
ズ６．６０光軸に合せる作業は作業者が顕微鏡で観察し
ながら行なうマニュアルアライメントであり、１対のタ
ーゲットの間隔が異なることもあって、マスク交換が行
なわれるたびに作業者の手を煩わす必要がある。
ターンをウェハ上に転写するマスク合せ装置（マスクア
ライナ−）が使用される。従来のマスクアライナ−にお
いては、第１図に示すようにマスク１とウェハ２との位
置合せをそれぞれの上に設けた各１対のターゲットパタ
ーンを検出器５により光電的に検出して両者の位置を比
較することによ−て自動的にアライメントする機能を有
しているが、マスクターゲットの中心を２つの対物レン
ズ６．６０光軸に合せる作業は作業者が顕微鏡で観察し
ながら行なうマニュアルアライメントであり、１対のタ
ーゲットの間隔が異なることもあって、マスク交換が行
なわれるたびに作業者の手を煩わす必要がある。
たとえば、位置決めのためのパターンが書かれている露
光用板状物については、電子材料１９８２年３月号、９
６９〜ｐ７４に記載されている。
光用板状物については、電子材料１９８２年３月号、９
６９〜ｐ７４に記載されている。
本発明は上記した従来技術の欠点を解消するべくなされ
たものである。したがってこの発明の目的はマスク自動
位置合せの完全自動化などに必要な情報を与えた露光板
状物すなわちマスクあるいはレチクルの提供などＫある
。
たものである。したがってこの発明の目的はマスク自動
位置合せの完全自動化などに必要な情報を与えた露光板
状物すなわちマスクあるいはレチクルの提供などＫある
。
上記目的を達成するためこの発明の一実施例に用いるマ
スクアライメント装置は、マスク上に設けられたコード
化されたパターンを認識することにより光学系の視野内
にマスクターゲットを導入する粗アライ°メント機能と
、マスクターゲットとウェハ上のターゲットの各パター
ンを光電的に検出して両者の位置を比較することにより
設定された位置誤差内にマスク位置合せする精密アライ
メント機能とを有することを特徴とする。
スクアライメント装置は、マスク上に設けられたコード
化されたパターンを認識することにより光学系の視野内
にマスクターゲットを導入する粗アライ°メント機能と
、マスクターゲットとウェハ上のターゲットの各パター
ンを光電的に検出して両者の位置を比較することにより
設定された位置誤差内にマスク位置合せする精密アライ
メント機能とを有することを特徴とする。
以下、本発明を一実施例にそって図面を参照しながら詳
述する。
述する。
第２図は本発明の一実施例によるマスクをマスクアライ
メント装置へ装着したところを示すものであり、１はマ
スク、２はウェハで、ウェハはそのオリエンテーション
フラットによって所定位置に固定され、マスク１がＸ、
Ｙ、０方向に移動可能となっている。マスク合せは例え
ばスリット走査方式により、ウェハ２上に４５″傾斜し
た十字線のターゲットパターン４と、マスクｌ上の４５
″傾斜した複十字のターゲット３を使用し、縦横に配し
た４５°傾斜スリツトを多数有するドラムを高速で回転
して走査する検出器５に前記１対のターゲットパターン
からの光を対物レンズ６．６を通して導き、スリットを
通過した光を光電変換して得た電気信号により両者の位
置の差を計測し、その差分だけマスクを移動させ、これ
を再検出してあらかじめ設定された位置誤差内に入って
いれば露光を行なう。このようなターゲットパターンを
検出してマスク位置合せを行な５機能口体は従来のマス
クアライナ−に設備されており、高い精度でのマスク位
置合せが可能である。本発明においてはさらに下記の機
能を付加するものである。
メント装置へ装着したところを示すものであり、１はマ
スク、２はウェハで、ウェハはそのオリエンテーション
フラットによって所定位置に固定され、マスク１がＸ、
Ｙ、０方向に移動可能となっている。マスク合せは例え
ばスリット走査方式により、ウェハ２上に４５″傾斜し
た十字線のターゲットパターン４と、マスクｌ上の４５
″傾斜した複十字のターゲット３を使用し、縦横に配し
た４５°傾斜スリツトを多数有するドラムを高速で回転
して走査する検出器５に前記１対のターゲットパターン
からの光を対物レンズ６．６を通して導き、スリットを
通過した光を光電変換して得た電気信号により両者の位
置の差を計測し、その差分だけマスクを移動させ、これ
を再検出してあらかじめ設定された位置誤差内に入って
いれば露光を行なう。このようなターゲットパターンを
検出してマスク位置合せを行な５機能口体は従来のマス
クアライナ−に設備されており、高い精度でのマスク位
置合せが可能である。本発明においてはさらに下記の機
能を付加するものである。
すなわち、第２図に示すようにマスクの一部にコード化
されたパターンを焼付けてあり、ホトセンサ１１を用い
てマスクターゲットの中心よりの位置、あるいはターゲ
ット間隔を読み取り部１２により電気的に読み取り、こ
れを粗アライメント部１３を介してマスクを移動させマ
スク位置、対物レンズの光軸間隔を自動的に調整するよ
うになっている。
されたパターンを焼付けてあり、ホトセンサ１１を用い
てマスクターゲットの中心よりの位置、あるいはターゲ
ット間隔を読み取り部１２により電気的に読み取り、こ
れを粗アライメント部１３を介してマスクを移動させマ
スク位置、対物レンズの光軸間隔を自動的に調整するよ
うになっている。
以上に述べた構成によれば、ターゲットパターンととも
にマスクに焼付けられたコード化されたパターンよりマ
スクターゲット位置、ターゲット間隔を読みとり、この
情報を入力して対物レンズの視野内圧マスクターゲット
を自動的に粗アライメントし、次にウェハ及びマスクの
ターゲットパターンを用いた従来のアライメント検出機
能を利用して光軸に対するマスク位置を演算し、光軸に
対するマスク位置を精密にアライメントするものであり
、既に完成している高性能の自動マスクアライナの基本
構成を変えることなく、マスク交換の際にも作業者によ
るマニエアルアライメントを不要としてマスクの位置合
せとこれＫつづく露光作業の全自動化を可能ならしめる
ことＫなった。
にマスクに焼付けられたコード化されたパターンよりマ
スクターゲット位置、ターゲット間隔を読みとり、この
情報を入力して対物レンズの視野内圧マスクターゲット
を自動的に粗アライメントし、次にウェハ及びマスクの
ターゲットパターンを用いた従来のアライメント検出機
能を利用して光軸に対するマスク位置を演算し、光軸に
対するマスク位置を精密にアライメントするものであり
、既に完成している高性能の自動マスクアライナの基本
構成を変えることなく、マスク交換の際にも作業者によ
るマニエアルアライメントを不要としてマスクの位置合
せとこれＫつづく露光作業の全自動化を可能ならしめる
ことＫなった。
本発明は前記実施例に限定されるものではない。
相克Ｉｔ’
す央、本発明の一実施例におけるマスクアライメント装
置は縮小投影露光装置であってもかまわない。この場合
、マスクｌはレチクルとなり、ウェハ２はマスクあるい
はウェハとなる。・また４・夏マスク位置の精密アライ
メントは前記、スリット走査方式以外にスポット走査方
式（レーザビーム方式）、光量バランス方式ＴＶカメラ
方式、固体撮像素子（リニアイメージセンサ−）方式等
を利用してもよい。又、マスクの粗アライメント方式と
してコードパターンを検出する方式以外の、光学的１機
械的、電気的パターン認識手段などを用いてもよい。
置は縮小投影露光装置であってもかまわない。この場合
、マスクｌはレチクルとなり、ウェハ２はマスクあるい
はウェハとなる。・また４・夏マスク位置の精密アライ
メントは前記、スリット走査方式以外にスポット走査方
式（レーザビーム方式）、光量バランス方式ＴＶカメラ
方式、固体撮像素子（リニアイメージセンサ−）方式等
を利用してもよい。又、マスクの粗アライメント方式と
してコードパターンを検出する方式以外の、光学的１機
械的、電気的パターン認識手段などを用いてもよい。
第１図は従来の自動マスク合せ装置の原理的構造図、第
２図は本発明の一実施例による自動マスク合せ装置の原
理的構造図である。 １・・・マスク、２・・・ウェハ、３・・・マスクター
ゲット、４・・・ウェハターゲット、５・・・検出器、
６・・・対物レンズ（光学系）、７・・・光電変換器、
８・・・マスク位置算出器、９・・・精密アライメント
部、１０・・・コード化されたパターン、１１・・・ホ
トセンサ、１２・・・読み取り部、１３・・・粗アライ
メント部。
２図は本発明の一実施例による自動マスク合せ装置の原
理的構造図である。 １・・・マスク、２・・・ウェハ、３・・・マスクター
ゲット、４・・・ウェハターゲット、５・・・検出器、
６・・・対物レンズ（光学系）、７・・・光電変換器、
８・・・マスク位置算出器、９・・・精密アライメント
部、１０・・・コード化されたパターン、１１・・・ホ
トセンサ、１２・・・読み取り部、１３・・・粗アライ
メント部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 コード化されたパターンが挿入されてなることを
特徴とする露光用板状物。 ２、上記コード化されたパターンには露光するのに必要
な情報が書かれていることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の露光用板状物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60030356A JPS60216548A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 露光用板状物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60030356A JPS60216548A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 露光用板状物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7465379A Division JPS55166921A (en) | 1979-06-15 | 1979-06-15 | Automatic mask alignment apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60216548A true JPS60216548A (ja) | 1985-10-30 |
Family
ID=12301575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60030356A Pending JPS60216548A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 露光用板状物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60216548A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0494789A2 (en) * | 1991-01-11 | 1992-07-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment method |
-
1985
- 1985-02-20 JP JP60030356A patent/JPS60216548A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0494789A2 (en) * | 1991-01-11 | 1992-07-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment method |
| US5377009A (en) * | 1991-01-11 | 1994-12-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment method |
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