JPS60215690A - セフアロスポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤 - Google Patents

セフアロスポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤

Info

Publication number
JPS60215690A
JPS60215690A JP59071414A JP7141484A JPS60215690A JP S60215690 A JPS60215690 A JP S60215690A JP 59071414 A JP59071414 A JP 59071414A JP 7141484 A JP7141484 A JP 7141484A JP S60215690 A JPS60215690 A JP S60215690A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
reaction
add
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59071414A
Other languages
English (en)
Inventor
Masashi Shibahara
聖至 柴原
Takashi Yoshida
隆 吉田
Tsuneo Okonogi
小此木 恒夫
Yasushi Murai
村井 安
Shunzo Fukatsu
深津 俊三
Shinichi Kondo
信一 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Meiji Seika Kaisha Ltd
Original Assignee
Meiji Seika Kaisha Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Meiji Seika Kaisha Ltd filed Critical Meiji Seika Kaisha Ltd
Priority to JP59071414A priority Critical patent/JPS60215690A/ja
Priority to KR1019850001075A priority patent/KR920004820B1/ko
Priority to US06/704,077 priority patent/US4785090A/en
Priority to ES540664A priority patent/ES8606360A1/es
Priority to CA000474936A priority patent/CA1276013C/en
Priority to EP85101934A priority patent/EP0153709B1/en
Priority to AT85101934T priority patent/ATE66233T1/de
Priority to DE8585101934T priority patent/DE3583751D1/de
Publication of JPS60215690A publication Critical patent/JPS60215690A/ja
Priority to ES549498A priority patent/ES8606361A1/es
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は広範囲な抗菌スペクトルを有する新規セファロ
スポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤に関す
るものである。
〔従来技術及び問題点〕
セファロスポリン系抗生物質は従来きわめて多く製造さ
れている。そしてセファロスポリン環の7位にアミノチ
アゾール基と置換オキシイミノ基を有するアセトアミド
基を7位に持ち、31にピリジン4級塩をイオウを会し
て結合させた化合物は特開昭55−89289.58−
90590号公報に開示され試験管内試験では広範囲な
抗菌力を有することが知られている。しかし、これらの
セファロスポリン化合物は、一般の化学療法剤に用いら
れるセファロスポリン化合物に比べ高い毒性を有し、ま
た動物体内への吸収が悪くヒトを含む動物の化学療法剤
としては未だ十分ではなかった。
〔発明の目的〕
本発明はセフェム核の3位の置換体として1−(1−カ
ルボキシ)アルキルピリジニウムイルチオメチル基を有
し、7位にアミノチアゾール基と置換オキシイミノ基を
持つアセトアミド基、アミノチアゾール基と置換アミノ
基を持つアセトアミド基を有する新規セファロスポリン
化合物が広範囲な抗菌スペクトルを有し、ヒトを含む動
物に対しきわめて優れた感染治療効果を有し、しかも体
内吸収が良好で毒性の低い特有の性質を有することを見
い出し、この新規セファロスポリン化合物並びに同化合
物を有効成分とする抗菌剤を提供することを目的とする
ものである。
〔発明の構成〕
本発明は式 エチル基、アリル基、カルボキシメチル基、又はカルボ
キシイソプロピル基を示す)、ルー2.3−ジオキソピ
ペラジン−1−イル基を示す。)環の結合位は2位又は
3位である)を表わし、R2は水素原子、炭素数1〜4
個を有するアルキル基又はフェニル基を表わし、R3は
水素原子又はメトキシ基を表わす。なおピリジン環に結
合するイオウ側鎖の位置は2位又は4位である〕を有す
るセファロスポリン化合物及びその無毒性塩、無毒性エ
ステル及びこれを有効成分とする抗菌剤である。
上記式(1)を有する本発明の化合物中R3が場合は、
※部の立体化学は光学活性な(R)又は(S)のいずれ
かか、或いは光学不活性な混合物があるが、本発明の化
合物はその何れも包含する。
式(11の化合物としては下記化合物が例示される。
(6R,7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド)−3−(1−カルボキシメチルピリジニウム−4
−イルチオメチル)−七フー3−エム−4−カルボキシ
レート(6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)ア
セトアミド:l −3−(1−カルボキシメチルピリジ
ニウム−4−イルチオメチル)−セフ−3−エムー4−
カルボキシレート(6R,7R)−7−((Z)−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(カルボキ
シメトキシイミノ)アセトアミド) −3−(1−カル
ボキシメチルピリジニウム−4−イルチオメチル)−セ
フ−3−エム−4−カルボキシレー(6R,7R)−7
−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−(アリルオキシイミノ)アセトアミド〕−3−(
1=カルボキシメチルピリジニウム〜4−イルチオメチ
ル)−セフ−3−エム−4−カルボキシレート(6R,
7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド) 
−3−(L(α−カルボキシ)エチルピリジニウム−4
−イルチオメチルクーセフ−3−エム−4−カルボキシ
レー(6R,7R)−7−((Z)−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)アセ
トアミド) −3−(1−(α−カルボキシ)ベンジル
ピリジニウム−4−イルチオメチルクーセフ−3−エム
−4−カルボキシレート (6R,7R)−7−メドキシー7− (2−(チオフ
ェン−3−イル)−2−(カルボキシアセトアミド) 
−3−(1−カルボキシメチルピリジニウム−4−イル
チオメチル)−セフ−3−エムー4−カルボキシレート
(6R,7R)−7−(2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)=2−(ホルミルアミノ)〕〕アセトアミド
ー3−1−カルボキシメチルビリジニウム−4−イルチ
オメチル−セフ−3−エム−4−カルボキシレートCo
2co。
(6R,7R)−7−(2−(2−アミノチ了ゾール−
4−イル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソピペ
ラジン−1−イルカルボキサアミド)アセトアミド) 
−3−(1−カルボキシメチルピリジニウム−4−イル
チオメチル−セフ)−3−エム−4−カルボキシレート
(6R,7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド) −3−(Lカルボキシメチルピリジニウム−4
−イルチオメチル)−セフ−3−エムカルボキシレート
本発明は上記式(1)を有する化合物の溶媒和物、特に
水和物も含まれる。さらに該化合物の無毒性塩及び無毒
性エステル特に代謝上不安定なエステルも含まれる。無
毒性とは医薬的に許容し得る意味である。
式(11の化合物の無毒性塩としては該化合物に存在す
るカルボキシル基との反応によって生成される慣用的な
非毒性の塩1.−特に無機塩基との塩類、例えばナトリ
ウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウ
ム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩があ
り、また、リジン、アルギニン、オルニチン、ヒスチジ
ンのような塩基性アミノ酸との付加塩があり、さらに有
機アミン塩、その他のセファロスポリンと通常塩を形成
するような塩基性塩との付加塩がある。
さらに、無毒性塩としては、該化合物のアミノ基又は他
の塩基性基における塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸な
どの無機酸との付加塩、またトリフルオル酢酸、ベンゼ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸、マレイン酸、酒石酸
、P−トルエンスルホン酸のような有機カルボン酸又は
有機スルホン酸との付加塩並びにアスパラギン酸、グル
タミン酸のような酸性アミノ酸との付加塩類があり、さ
らに分子間又は分子内塩などがあげられる。
無毒性エステルとしては、そのカルボキシル基における
薬学的に許容できるエステル形成基とのエステルがある
が、その中でも代謝上不安定なエステルが好ましい。後
者は生体内で加水分解して除去し得るエステル形成基を
有する化合物である。
このエステル形成基の例としてはアセトキシメチル基、
ピバロイルオキシメチル基、α−エトキシカルボニルオ
キシエチル基、フタリジル基、フェニル基などの芳香族
基をあげることができる。
本発明の式fllを有する化合物は下に述べるようにし
て製造することができる。
本発明の化合物のセファロスポリン31位に置換されて
いるピリドチオン類は、一般のN−アルキルピリドチオ
ンの製法例えばジャーナルオブケミカルソサイティー(
ロンドン)+ 3610. (1958) に記載され
ている方法に準じ、下記反応式に示されるように、1−
(1−カルボキシ)アルキル−4−ピリドチオン(II
)及び1−(1−カルボキシ)アルキル−2−ピリドチ
オン(III)を製造する。
一 (TV) (Vl) (II) この反応は4−ピリドン(IV)を不活性溶媒中、塩基
の存在下l−ハロゲノ脂肪酸エステル(V)と反応せし
め、N−置換−4−ピリドン(Vl)を得る。
次いで(Vl)をピリジン中天硫化リンと加熱し、■−
(1−カルボキシ)アルキル−4−ピリドチオン(II
)を得る。式(nL (vL (Vl)のAはカルボン
酸の保護基であり、P−二トロベンジン■基、ジフェニ
ルメチル基、t−ブチル基、トリメチルシリル基、アリ
ル基などの一般的保護基でよい。しかし本発明の化合物
(1)を得る最終工程でセファロスポリン4位のカルボ
ン酸の保護基、7位の側鎖の保護基と同時に脱保護する
為にはジフェニルメチル基、t−ブチル基が好適である
。式(V)中のXはハロゲンで、クロル、ブロム、ヨー
ドが適している。N−置換−4−ピリドン(TV)を得
る反応の反応溶媒は通常の不活性溶媒でよく、ジオキサ
ン、テトロヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジメチル
ホルムアミド、塩化メチレン等が好適である。その反応
温度はO℃〜100’Cであり、好ましくは20〜30
℃である。この反応に用いる塩基はNaOH,K OF
I、 Na2CO:++ K 2CO31Ba0−K”
等の通常の塩基でよい。
(■)から(11)への反応はピリジン中硫化リンで処
理してカルボニル基をナオ力ルボニル基に変換する反応
であり、硫化リン化合物としては三硫化!I ン(P2
S5)、あルイはローソン試薬(LAWESSONが好
適であり、その反応温度は30℃〜150℃、好ましく
は80〜120℃である。この硫化リンとの反応はピリ
ジン中、あるいはピリジンを含む不活性溶媒との混合溶
媒中で行なわれ、1時間以内にはト 終了する。
なお、1−(1−カルボキシ)アルキル−2−ピリドを
出発物質として上述と同様の方法により行う。
本発明の化合物(1)は式 (0) ボリン化合物と前記の如くして製造した1−(1−カル
ボキシ)アルキル−4−ピリドチオン(II)又は1−
(l−カルボキシ)アルキル−2−ピリドチオン(II
I)をセファロスポリン側鎖として導入する。
この反応式を下記に示す。
(■) 式中、R+、 Rz、 A は既述の通りで、R6はセ
ファロスポリン3′、位置換反応に一般に用いられる説
離基で、好ましくはアセトキシ基(OCOCHi) 、
あるいはハロゲン類(CI、 Br、 l)である。尚
式中のnはO又は1であり、破線は二重結合位置が3位
あるいは2位である事を表わす。この(■)から(■)
への置換反応は業界ては広く知られている反応であり、
底置あるいは特許公開公報に記載されている。例えば「
セファロスポリン・アンド・ペニシリン」ニドウィン・
H・フリン、アカデミツク・プレス、P151〜17L
 1972年あるいは特開昭58−90590.特開昭
59−10593公報等である。二重結合位置が2位で
n=Qの場合は、酸化する事により二重結合位置が3位
であり、n=oの目的物を得る。この反応もそれ自体公
知であり、前述の底置、特許公開公報に記載されている
本発明の一般的(1)を得る最終工程は(W)(但し、
式中n=oであり、二重結合位置は3位)を脱保護し、
Aを水素原子に変換する反応である。
この反応もそれ自体公知であり、酸処理あるいは接触還
元等で行なわれる。酸としては塩酸等の鉱酸トリフルオ
ロ酢酸等の有機酸、あるいは塩化アルミ等のルイス酸が
用いられる。
以下本発明を参考例および実施例により詳細に説明する
実施例1 ジフェニルメチル(6R,7R) −7−アミノ−3−
ブロモメチル セフ−3−エム−4−カルボキシレート
塩酸塩120111g(0,24m mol)と(Z)
−2−(2−)リチルアミノ)チアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノ酢酸120■(0,27m mo
l)を塩化メチレン2.4n+j!に溶解する。水冷化
でピリジン98μm2 (1,2m mol)、オキシ
塩化リン24μII (0,27m mol)を加え1
0分反応させる。
反応後クロロホルム12++l加え5mj!の水で2回
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除去する。
ベンゼン−酢酸エチル(20:1)でシリカゲルのクロ
マトグラフで精製後目的物190■を得た。 (収率9
0%) n m r δ (CDCl2) 3.55(211bs) 4.05(3HS) 4.3
5(2HbS)5.05(IHd J−,4) 5.9
0(ill d d 、L−4J・8)6.75(lt
l S) 6.95(18S) 7.1 〜7.8(2
b l(m)ジフェニルメチル(6R,7R)−3−ブ
ロモメチル−7−((Z)−2−(2−)ジチルアミノ
チアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド〕−セフ−3−エム−4−カルボキシレート89g
(0,1m mol)をDMFo、89mj!に溶解し
1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−4−ピリド
チオン37mg(0,11m mol)を加え室温で1
時間反応する。反応後酢酸エチル5m1l!を加え0.
lN−HCl 3 m 14で洗い水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を除去を目的物120■を得た。
次の反応には精製せずに用いた。
(6R,7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチア
ゾール−4−ジフェニルメチル(6R,7R)−7−(
2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド)−3−(1−ジフェニ
ルメトキシカルボニルメチルピリジニウム−4−イルチ
オメチル)−セフ−3−エムー4−カルボキシレートブ
ロマイド120■をアニソール360m 14に溶解し
トリフルオロ酢酸1゜2m7!を氷冷下にて加え40分
反応させる。反応後イソプロピルエーテルで沈澱とする
。乾燥後61■の粉末を得た。これに水1.8ml1を
加えNa1(CO3でPHを7.8とじHP−20レジ
ン(メタノール:1IzO=1:4)で精製後30■の
目的物を得た。
n m r δ(020) 3.40. 3.75(2H八Bq J=16) 3.
95(38S)4.15.4.45(2)I ABq 
J=12) 5.00(2115)5.15(IHd 
J=4) 5.70(IHd J=4) 6.95(I
HS)7.25<2Hd J=8) 8.30(2Hd
 J=8>実施例2 実施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体46
0 mg(0,51m mol)を口MF4.6m(!
に溶解し、1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−
4−ピリドチオン258 nw(0,77m mol)
を加え室温で1時間反応する。反応後酢酸エチル25m
j!を加え0.lN−HCl15m#で洗い、水洗復硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒除去後目的物710■を
得た。次の反応には精製せずに用いたう ジフェニルメチル(6R,7R)−[(Z)−2−(2
−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)−2−エトキ
シイミノアセトアミド)−3−(1−ジフェニルメトキ
シカルボニルメチルピリジニウム−4−イルチオメチル
)−セフ−3−エム−4−カルボキシレートブロマイド
710■をアニソール2.13mj+に溶解し、トリフ
ルオロ酢酸7.1mffを水冷下にて加え、40分反応
させる。
反応後イソプロピルエーテルで沈澱とする。乾燥後44
0隊の粉末を得た。これに水13「βを加えNa)IC
O,でPHを7.8としIIP−20レジン(メタノー
ル:H2O=t ;4)で精製後240 mgの目的物
を得た。
nmr δ (DzO) 1.25(3n t 、r=6) 3.35.3.70
(2^Bq J=20)4.20(2Hq J=6) 
4.70.、4.40(28ABq J=12)4.9
5(2HS) 5.15(IHd J=4)5.75(
IHd 、L、4)6.90(IHS) 7.75(2
Hd 、bS) 8.30(211d J−8)実施例
3 ニウム−4−イルチオメチル)−セフ−3−エム−4−
カルボキシレートブロマイド 実施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体16
0 n+g(0,15m mol)をDMFl、6 m
l、に溶解し、1−ジフエニルメトキシ力ルポニルメチ
ルカルボニルメチル−4−ピリドチオン55+nir 
(0,165m mol)を加え室温で1時間反応する
。反応後酢酸エチル8m4を加え、0.lN−HCl 
5mlで洗い水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒除
去後目的物220■を得た。
次の反応には精製せずに用いた。
文五隻 ジフェニルメチル(6R,7R)−7−((Z)−2−
(2−)リチルアミノチアゾール)−2−ジフェニルメ
トキシカルボニルメトキシイミノアセトアミド) −3
−(1−ジフェニルメトキシカルボニルメチルビニジニ
ウム−4−イルチオメチル)−セフ−3−エムー4−カ
ルボキシレートブロマイド70■をアニソール0.21
 mj!に溶解し、トリフルオロ酢酸0.7nlを水冷
下にて加え、40分反応する。反応後イソプロピルエー
テルで沈澱とする。乾燥後40■の粉末を得た。これに
水1.2mffを加えNa)1c03でpH7,8とし
IP−20レジン(水)で精製後20■の目的物を得た
n m r δ(020) 3.55.3.85(28ABq J=12) 4.1
5.4.40(:28 ABqJ=8) 4.50(2
+15) 4.85(2+13) 4.95(III 
d J=4) 5.45(II(d J=4) 6.4
5(III S) 7.10(2)1 dJ=8) 7
.50(28d J=8)実施例4 実施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体11
0 mg (0,12m mol)をDMFl、1 m
l−に溶解し、1−ジフェニルメトキシカルボニルメチ
ル−4−ピリドチオン47nvr(0,14m mol
)を加え室温で1時間反応する。反発後酢酸エチル6m
l!加え0.lN−HCl釦βで洗い水洗後硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒除去後目的物150 mgを得た
。次の反応には精製せずに用いた。
隼4 ジフェニルメチル(6R,7R)−7−((Z)−2−
(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)−2−ア
リルオキシイミノアセトアミド)−3−(1−ジフェニ
ルメトキシカルボニルメチルピリジニウム−4−イルチ
オメチル)−セフ−3−エム−4−カルボキシレートブ
ロマイド150 Nを0.45mj!のアニソールニ溶
解し、トリフルオロ酢酸1.5m!を氷冷下にて加え4
0分反応させる。反応後イソプロピルエーテルで沈澱と
する。
乾燥後80■の粉末を得た。これに水2.4mβを加え
、)iaHcOsでPRを7.8 としIIP−レジン
(メタノール;)120 =1 : 4)で精製後、4
0■の目的物を得た。
nmr δ(DzO) 3.30. 3.65(2HABq J=18) 4.
05. 4.35(2HABqJ=14) 4.50〜
6.20(5) 5.10(II(d J・4)5.7
0(IHd J=4) 6.85(IHS) 7.70
(2Hd J=8)8.25(2FI d J=8) 実施例5 ジカルボニル−1−エチルピリジニウム)−4−イルチ
オメチル〕−七フー3−エムー4−カルボキシレートブ
ロマイド 実施例2で用いた3−ブロモメチル体95■(0,10
5m mol)をDMFo、95m lに溶解し1−(
l−ジフェニルメトキシカルボニル−1−エチル)−4
−ピリドチオン42■(0,12m mol)を加え室
温で1時間反応する。反応後節酸エチル5mlを加え0
.lN−HCl 3m Rで洗い、水洗後硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒除去後目的物135■を得た。次の
反応には精製せずに用いた。
クツ1基 ジフェニルメチル(6R,7R)−7−((Z)−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−2−エトキシイミノ
アセトアミド) −3−(1−(1−ジフェニルメトキ
シカルボニル−1−エチルピリジニウム)4−イルチオ
メチル〕−セフー3−エム−4−カルボキシレートブロ
マイド135■をアニソール0.40m!!に溶解し、
トリフルオロ酢酸1.35mJを水冷下にて加え40分
反応させる。反応後イソプビルエーテルで沈澱とする。
乾燥後80■の粉末を得た。これに水2.4mffを加
えNaHCO3でpH7,8とじHP−20レジン(メ
タノール:H20=1:4)で精製後55曙の目的物を
得た。
n m r δ (020) 1.20(3Ht J=6) 1.75(2Hd 、b
8) 3.30.3.65(2ABq J=18) 4
.15(28q J=6) 4.00.4.30(28
ABq J=12) 5.05(IHq J・8) 5
.10(IHaJ=4) 5.65(II(d J−4
) 6.85(1)1s) 7.65(2Hd J=8
) 8.30(2)1 d J=8)実施例6 エ 実施例2で用いた3−ブロモメチル体90■(0,1m
mol)をDMFo、9 mlに溶解し1−ジフェニル
メトキシカルボニルベンジル−4−ビニトチオン62■
(0,15mmo+)を加え室温で1時間硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒除去後目的物150■を得た。次の
反応には精製ぜすに用いた。
ジフェニルメチル(6R,7R)−7−((Z) 2−
(2−)リチルアミノチアゾール−4−イル)2−エト
キシイミノアセトアミド)−3−(1−ジフェニルメト
キシカルボニルベンジルピリジニウム−4−イルチオメ
チル)−セフ−3−エム−4−カルボキシレートブロマ
イド150■をアニソール0.45m7!に溶解し、ト
リフルオロ酢酸1.5mj!を水冷下にて加え40分反
応させる。
反応後イソプロピルエーテルで沈澱とする。乾燥後80
■の粉末を得た。これに水2.4mzを加えNaHCO
3でP)17.8とし、)IP−20レジン(メタノー
ル:o、o = 1 : 4)で精製後30■の目的物
を得た。
n m r δ(020) 1.25(3Ht J=6) 3.35.3.70(2
11ABq J’=18)4.10(2Hq J=6)
 4.05.4.30(28ABq J=10)5.0
5(IHd J=4) 5.65(IHd J=4) 
6.85(IHS)7.40(5113) 7.60(
211d J=8) 8.25(21+ d J=8)
実施例7 盃ヱ 実施例1と同様な方法で合成した3−ブロモメチル体1
50 mg(0,19m mol)を1mAのDMFに
溶解し、1−ジフェニルメトキシカルボニル−4−ピリ
ドチオン95mg (0,285m mol)とNa1
34 g(0,23m mol) を加え室温で30分
反応する。反応後酢酸エチル10m1加え、0. lN
−HCl 6m lで洗い、水洗後硫酸マグネシウムで
乾燥し溶媒除去後クロロホルムーメタノ−ル(20:1
)でシリカゲルクロマト精製し目的物220 ff!?
(88%)を得た。
上記で得られた化合物200■を0.2mAのアニソー
ルに溶解しトリフルオロ酢酸2mlを冷下にて加え30
分反応した。反応後n−ヘキサンイソプロピルエーテル
(1: 1)で沈澱とする。乾燥後70■の粉末を得た
。これに2.1mj!の水を加えNaHCOiでPH7
,8とし、PH−20レジン(水)で精製後40■の目
的物を得た。
n m r δ(020) 3.40.3.80(28m) 3.40.3.5(1
(3H5) 4.10〜4.60(28m) 4.60
.4.65(IHS) ?、00,7.70(3Hm)
 7.75(2Hd J=8) 8.30(2Hd J
=8)実施例8 ジフェニルメチル(6R,7R)−7−(DL−2−(
)リチルアミノチアゾール)−2−ホルミルアミノアセ
トアミド)−3−(1−ジフェニルメトキシカルボニル
メチ実施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体
87■(0,1m mol)をDMFo、87m 12
に溶解し、1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−
4−ピリドチオン37■(0,11m mol)を加え
室温で1時間反応する。
反応後クロロホルム5mlを加え、Q、 lN−IC1
3m 7+で洗い水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒除去後目的物120■を得る。次の反応には精製せず
に用いた。
ジフェニルメチル(6R,7R)−7−[DL−2−(
)リチルアミノチアゾール)−2−ホルミルアミノアセ
トアミド)−3−(1−ジフェニルメトキシカルボニル
メチルピリジニウム−4−イルチオメチル)−3−セフ
−3−エム−4−カルボキシレートブロマイド120■
をアニソール0,36IIIIV、ニ溶解し、トリフル
オロ酸rI&1゜2IIlβを水冷下にて加え、40分
反応する。反応後イソプロピルエーテルで沈澱とする。
乾燥ff175■の粉末を得た。これに水2.25mj
!を加えNaHCO,でPH7,8とじHP−20レジ
ン(メタノール:HzO=1:3)で精製後30■の目
的物を得た。
n m r δ(DzO) 3.30〜3.90(28m) 4.1〜4.6(2H
m) 5.00(2HS) 5.3〜5.70(311
m) 6.20.6.25(18S)7.80(2d 
、L、8) 8.20(If(S) 8.35(2)I
 D J=8)実施例9 実施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体10
2 mg(0,1m mol)をDMP 1mIV、に
溶解し、■−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−4
−ピリドチオy37■(0,11m mol) と、N
al 30■(0,2m mol)を加え室温20分反
応する。反応後クロロホルム10mj+を加え、0.l
N−HCl 6n+4!で洗い、水洗後硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒除去後150■の目的物を得た。次の
反応には精製せずに用いた。
上記で得られた化合物150■をアニソール0.45t
tptに溶解しトリフルオロ酢酸1.5mβを水冷下に
て加え40分反応する。反応後イソプロピルエーテルで
沈澱とする。乾燥後90■の粉末を得た。これに水2.
7mj2加え、NaHCO,でPH7,8とし、)IP
−20レジン(メタノール:ozo =1 : 4)で
精製後目的物48■を得た。
n m r δ (DzO) 1.15(3u t J=6) 3.10〜4.40(
8)1) 4.90C2HS)4.95(ill a 
J=4) 5.35(In s) 5.5.5.6(I
HdJ=4) 6.65(Ill S) 7.75(2
Hd J=6) 8.3(2)1 dJ−6) 実施例1O 実施例2で用いた3−ブロモメチル体110 rNZ(
0,13m mol)をDMF 1.1n7!に溶解し
、1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2−ピリ
ドチオン47■(0,14m mol) とNal 4
2 m1r(0,28m mol)を加え室温で1時間
反応する。反応後6mβの酢酸エチルを加え0. lN
−HCl 3m l!で洗い、水洗復硫酸マグネシウム
で乾燥し溶媒除去後155■の目的物を得る。次の反応
には精製せずに用いた。
)−セフ−3−エム−4−カルボン酸ナトリウム塩上記
で得られたアイオダイド異性体155■をアニソール0
.47mnに溶解し、トリフルオロ酢酸1゜55m#を
氷冷下にて加え、40分反応させる。反応後イソプロピ
ルエーテルで沈澱とする。乾燥後90■の粉末を得た。
こにれ水2.7m j!を加えNaHCO3でP)17
.8としIP−20レジン((メタノール:H20=1
:4)で精製後50■の目的物を得た。
nmr δ (DzO) 1.25(3)1 t J=6) 3.40.3.75
(2)I ABq J=20)4.20(2Hq J=
6) 4.15. 4.45(211八Bq J=12
)5.20(2HS) 5.15(18d J=4) 
5.70(IHd J=4)6.90(18S) 7.
60〜8.70(4Hm)参考例1 1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−4−ビニ上
Z 4−ヒドロキシピリジン1.37 gを16mnのTI
IPにとかしボタソシウム3級ブトキサイド1.63g
を加え1夜反応する。そして次にジフェニルメチルブロ
モアセテート3.12gを加え6時間反応する。反応後
溶媒を除去しりUロホルムに溶解し水洗する。
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除去しクロロホルム
−メタノール(20:1)、シリカゲルのクロマトグラ
フで精製後目的物2.25gを得た。 (55%) ir(ヌジ−s −ル) p cm−’ : 1740
. 1640n m r δ (CDCl2) 4.40(2HS) 6.3(2Hd J=6) 6.
90(IB S)7.00〜7.50(12Hm) 1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−4−ピリド
チオン 1−ジフェニルメトキシカルボニル−4−ピリドン21
0呵をピリジン2.1+njl!に溶解しP2S522
2+ngを加え100℃で1時間反応する。反応後溶媒
を除去しクロロホルムを加えNaHCO,、でPH7,
8とし水洗復硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を除去
しクロロホルム−メタノール(20:1)でシリカゲル
のクロマトグラフで精製後目的物130■を得た。 (
58%) n m r δ (CDCIs) 5.10(2HS) 6.85(1)I S) 7.1
5(2Hd J=6)7.30(Loll S) 7.
55(2Hd J=6)参考例2 1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2−ピ丈上
Z 2−ヒドロキシピリジン4.OOg、ジフェニルメチル
ブロモアセテート19.2 gをDMP80m lに溶
解し、Kzco38.70gを加え60℃で4時間反応
させた。
反応混合物を濾過し、濾液を減圧下濃縮し、残留物をシ
リカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸
エチル)で精製すると、結晶として目的物9.66g 
(収率72%)を得た。
i r (CHCI3) v cm −蔦 : 175
0. 1663nmr δ (CDCIi) 4.73(2n sメチレン) 6.91(IHS −
CHPh2)6、OO〜7.50(14Hm ピリドン
 フェニル×2)■−ジフェニルメトキシカルボニルメ
チル−2−ピリドチオン 1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2−ピリド
ン640■、2,4−ビス−(4−メトキシフェニル)
−2,4−ジチオキソ−1,3,2,4−ジチアジフォ
スフェタン492■をトルエン6m7!に溶解し、窒素
気流下30分間加熱還流後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒: PbMe−EtOAc (= 4 : 1 )
 )で精製すると目的物480 mg (収率72%)
を得た。
i r (CHCI、) v cm−’ : 1750
. 1140nmr δ (CHCI3) 5.23(211Sメチレン) 6.90(lu s 
−CHPh2)6.40−7.80(1411m ピリ
ドチオンフェニル×2) 参考例3 参考例1と同様にして合成した4−ピリドン2.31g
をピリジン23n/!に溶解しP2S51.55 gを
加え90℃で1時間反応する。
反応後溶媒を除去しクロロホルムを加えNaHCO+で
PH7,8とし、水洗復硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を除去しクロロホルム−メタノール(20:1)で
シリカゲルのクロマトグラフで精製後目的物1.38g
を得た。(57%) ir(ヌジュ−/l/) v cm−’ : 1754
n m r δ (DMSO−dJ l、70(3Ha 、r。(i) 4.65(IHq 
J=6) 6.85(IHS)7.10(2+(d 、
r−6ン 7.30(108S) 7.55(2Hd 
J=6)参考例4 参考例1と同様にして合成した4−ピリドン1.48g
をピリジン15IIllに溶解しP2S5 B32■を
加え70℃で1時間反応する。
反応後溶媒を除去しクロロホルムを加えNatlC(L
+でPH7,8とし、水洗復硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を除去しクロホルム酢酸エチル(10:1)で
シリカゲルのクロマトグラフで精製後目的物1゜1gを
得た。(70%) ir(ヌジュ−/L/) v cm−’ : 1740
n m r δ(CDCl2) 5.80(IHS) 6.95(IHS) 7.00−
7.40(19Hm)〔発明の効果〕 本発明の化合物は広範囲な抗菌スペクトルを有す。
イ)本発明化合物の試験管におけるダラム陽性及びグラ
ム陰性菌に対する抗菌スペクトルとして各種細菌に対す
る最低成育阻止濃度(MIC)を第1表に示す。
以上の表から明らかなるように、本発明の化合物は耐性
菌を含む各種細菌に実用上十分な抗菌力を有している。
更に該化合物は広範囲なグラム陰性菌に有効で、シトロ
バクタ−・フロインデーGN=346株を6.25〜1
2.5 g /m R、シュードモナス、エルギノーサ
M83833株を12.5〜25 r /m I!で阻
止する。
口)本発明による該化合物を動物体内に投与したときの
特長は、以下の血清中濃度感染治療実験、および毒性試
験で明らかである。
実施例1)、2)で示す本発明の該化合物は表−2に示
す血清中濃度を呈する。実験は一群三匹のマウス(平均
体重20g)を用い、試料25wg/kgを皮下投与し
た後、適時採血し血清を分離し、その中の試料濃度をエ
シェリヒア・コリを検定菌とする抗菌力検定で測定した
表−2:血清中濃度(μg /m l )1/12 1
/4 1/2 1(時間)実施例1)化合物 20 2
B 12.5 2.2〃2) 〃26 31 28.5
 4 実施例2)の化合物の感染治療実験の結果は表=3に示
す通りである。実験はセファロスポリナーゼ産生のエシ
ェリヒア・コリGN206 (菌量1.25XIO6C
FLI/マウス)を一群8匹のマウスに腹腔内に接種し
、感染一時間後に試料化合物を皮下投与し、その生存数
を一週後に観察した。
表−3:感染治療実験(一群8匹マウスの生存数)(ニ
ジエリエア・コリGN206) mg/mouse 実施例−2の化合物8 0.25 5 0.0625 4 0.0156 2 0.0031 1 EDs。(w/mouse) 0.065■/mous
e本実験に用いた実施例−2の化合物は試験菌ニジエリ
チア・コリGN206に対し最低発育阻止濃度(MIC
)は0.39μg7m7!であるが、そのHD、。値は
0゜065■/mouseであり、本化合物の感染治療
効果の高さを物語っている。
また、実施例−2の化合物を一群三品のマウスにIg/
kgの割合で静脈内投与し一週間観察した。
この結果全数のマウスが生存し、従って、そのLDs。
値はIg/kg以上である事を示した。
以上の如く、本発明の化合物は抗菌力、血中濃度のすぐ
れた抗菌性化合物で、動物に対する感染治療効果もきわ
めて高く、かつ毒性の低いセファロスポリン化合物であ
る。従って、この化合物を有効成分とした抗菌剤として
ヒト及び動物の病気の治療に用いることがてきる。
抗菌剤としての使用に際し、本発明の化合物はヒトの細
菌性感染症に対しては、成人に対し1回投与量として5
0〜1500■、好ましくは100〜1000■を1日
4〜6回非経ロ的に投与される。本発明の抗菌剤は通常
、本発明の化合物と固体又は液体の賦型剤とから構成さ
れる。剤型としては、錠剤、カプセル、散剤、予製散剤
のような固形製剤、又は注射液、懸濁液、シロップのよ
うな液体製剤に製造される。ここに使用される固体又は
液体の賦型剤としては、当該分野で公知のものが使用さ
れる。
特許出願人 明治製菓株式会社 代理人 新井 力(ばか1名) 丁−9,売 r市 正 凹− ロUI’11.59年 9月 5[」 11鳳′山皿官 志 ヱ′T′J″ 殿 1.ζ・、ア
1、゛用′1の、、l、′、示 昭1l15(iべl゛l11′、:°1” 願 第 7
1414℃3、 7+ii正庖すT・(j 市外との閏(糸 ’l!jシ′1出願人住所 氏 名 (G 09) ’!’lζ1製2T’t、’1
.」、t、、会社1、代理人 明1゛■1店全文 明 細 占 1、発明の名称 セファロスポリン化合物及びそれを有
効成分とする抗菌剤 2、特許請求の範囲 1、式 JニナルW8アリル基、カルボキシメチルはカルボキシ
イソプロピル基を示す)、ルー2,3−ジオキソピペラ
ジン−1−イル基を示す。)環の結合位は2位又は3位
である。)を表わし、R2は水素原子、炭素数1〜4個
を有するアルキル暴又はフ、;−ル占(を表わし、R3
は水素片f−又はメトキシWをkわず、なおピリジン環
に結合するイオウ側↑)“【の位置は2イ\″i又は4
位てあイ′)。〕を有するセファロスポリン化合物及び
その無Jj性塩、無毒性エステル。
2、 代 l昌 5 CO(翔 エチル基、)′リル基、カルボキシメチル基、又はカル
ボニ1.ンイソブロピル基を示す)、NlIC0Rz ルー2.3−ジオキソピペラジン−1−イル基を示す。
)環の結合位は2位又は3位である。)を表わし、しは
水素片r 炭素数1へ4個をイ1するアルキル基又はフ
ェニル基を表わし、Rx i;I水素原子又はメトキシ
基を表わず、なおピリジン環に結合するイオウ側鎖の位
置は2位又は4位である。〕を有するセファロスポリン
化合物及びその無毒性塩、無lji性エステルを有効成
分とする抗菌剤。
:つ1発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は広範囲な抗菌スペクトルを存する新規セファロ
スポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤に関す
るものである。
〔従来技術及び問題点〕
セファロスポリン系抗生物質は従来きわめて多く製造さ
れている。そしてセファロスポリン環の7位にアミノチ
アゾール基と置換オキシイミノ暴を有するアセトアミド
基を7位に持ち、3′にピリジン4級塩をイオウを介し
て結合させた化合物は特開昭55−89289.58−
90590号公報に開示され試験管内試験では広範囲な
抗菌力を有することが知られている。しかし、これらの
セファロスポリン化合物は、 般の化学療法剤に用いら
れるセファロスポリン化合物に比べ高い1η性を有し、
また動物体内への吸収か悪くヒトを含む動物の化学療法
剤としては未だ十分ではなかった。
〔発明の目的〕
本発明はセフエノ、核の3位の置換体として1−(l−
カルボキシ)アルキルピリジニウムイルチオメチルノN
を有し、7位にアミノチアゾール基と置換オー1−ジイ
ミノ基を持つアセトアミド基、アミノチアゾールWと置
換アミノ基を持つアセトアミド基ならびにチオフェン暴
とカルボキシル基をJ4iつアセトアミド基を有する新
規セファロスポリン化合物が広範囲な抗菌スペクトルを
有し、ヒトを含む動物に対しきわめて優れた感染治療効
果を有し、しかも体内吸収が良好で毒性の低い特有の性
質を有することを見い出し、この新規セファロスポリン
化合物並ひに同化合物を有効成分とする抗菌剤を提供す
ることを目的とするものである。
〔発明の構成〕
本発明は式 エチル基、アリル裁、カルボキシメチル基、又はカルホ
キジイソプロピルWを示す)、ルー2.3−ジオキソピ
ペラジン−1−イル基を示す。)環の結合位は2位又は
3位である)を表わし、R2は水素原子、炭素数1〜4
個を有するアルキル基又はフェニル基を表わし、R3は
水素原子又はメトキシ基を表わす。なおピリジン環に結
合するイオウ側鎖の位置はシ)位又は4位である〕を有
するセフ71.’lスポリン化合物及びその無毒性塩、
無毒性エステル及びこれを有効成分とする抗菌剤である
上記式(1)を有する本発明の化合物中R1が一 場合は、X部の立体化学は光学話1η’−f、c(R)
又は(S)のい3れかか、或いは光学不活性な7R合物
があるが、本発明の化合物はその何れも包含する。
式(1)の化合物としては下記化合物が例示される。
(6R,7R)−7−((Z)−2−(2−7ミノチア
ゾールー4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミ)”) −3−’(l−カルボキンメチルピリンニウ
ム−4−イルチオメチル)−セフ−3−エム−4−カル
ボキシレート(6R,7R)−7−r(Z)−2−(2
〜アミノチアゾール−4−イル)−2−(工目−シイミ
ノ)アセ1−アミド) 、、3−(1−カルボキシメチ
ルピリジニウム−4−イルチオメチル)−セフ3−エム
−4−カルボキシレート(6R,7R)−7−((Z)
−2−(2−アミノデアゾール−4−イル)−2−(カ
ーレボキシメトキシイミノ)アセトアミ1”) −3−
(1−カルボキシメチルピリジニウム−4−イルチオメ
チル)−セフ−3−エム−4−カルボキシレート (6R,7+1) 7− [(Z)〜2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(アリルオー1−ジイミ
ノ)アセ1−アミド〕 3=(1−カルボキシメチルピ
リジニラJ、−4−イルチオメチル)−セフ−3−エム
、4−カルボキシレ−ト・(61?、7R)−7((7
,)−2−(2−アミノチアソール−4−イル)−2−
(エト−)−ジイミノ)アセトアミl’) −3−(1
−(α−カルボキン)エチルピリジニウム−4−イルチ
オメチルシーセフ−3−エム−4−カルボキシレート (6R,7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド) −3−(1−(α−カルボキシ)ヘンジルピリ
ソニウ71−4−イルチオメチル〕−セフ−3−工l、
=4−カルボキシレート (6R,7R)−7−メドキシー7− C2−Cチオフ
ェン−3−イル)−2−カルボキシアセトアミド) −
3−(1−カルボキシメチルピリジニウム−4−イルチ
オメチル)−七フー3−エム−4−カルボキシレート (6R,71υ−7(2(2アミノチアヅール−4−イ
ル)−2−ポルミルアミノ シメチルビリノニーウムー4ーイルナメメチル)七フ−
3 工J、−4−カルボキシレート −〜−−=0 し、土。
H2CIh (611,7R)−7− C2(2−アミノチアソール
−4−イル)−2−(4−エチル2,3−ジオキソピペ
ラジン−1−イルカルボキサ了ミド)アセトアミド) 
−3−(1−カルレボキつメチルピリジ斗ウムー4−イ
ルチオメチル)セフ−3ーエムー4ーカルボキシレート (6R,71υ−7− ((Z)−2−(2− 7’ミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(工トキ゛ジイミノ)
アセトアミド) −3−(Lカルボキシメチルピリジニ
ウム−4−イルチオメチル)−セフ−3ーエムー4ーカ
ルボキシレート本発明は上記式(1)を有する化合物の
溶媒和物、特に永和吻も含まれる。さらに該化合物の無
毒性塩及び無毒性エステル特に代謝上不安定なエステル
も含まれる。無毒性とは医薬的に許容し得る意味である
弐fl)の化合物の無毒性塩としては該化合物に存在す
るカルボキシル基との反応によって生成される慣用的な
非毒性の塩、特に無機塩基との塩類、例えばナトリウム
塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩
、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩があり、
また、リジン、アルギニン、オルニチン、ヒスチジンの
ような塩基性アミノ酸,どの(=J加塩かあり、さI)
lこ有機アミン塩、その他のセファし+スポリンと進’
+’l’+ 塩を形7成するような塩7111寸1塩と
の付加塩かある。
さらに、j(1(毒性塩としては,該化合物のアミノ基
又は他の塩基性基にお&)る塩酸、臭化水素酸、硫酸、
リン酸なとの無機酸との(=J加塩、またトリフルオル ボン酸、−7レイン酸、冶イj酸、11トルJ〜ンスル
ポン酸のような有機カルボン酸又は有機スルボン酸との
付加塩並びにアスパラギン酸、グルタミン酸のような酸
性アミノ酸との(」加塩類があり、さらに分子間又は分
子内塩などがあげられる。
jjj% fJ性エステルとしては、そのカルボキシル
基におりる薬学的に許容できるエステル形成基とのエス
テルがあるが、その中でも代謝上不安定なエステルか好
ましい。後者は生体内で加水分解して除去しくyBるニ
スう一ル形成裁を有する化合物である。
このエステル形成栽の例としてはアセ1−キンメチル暴
、ピバロイルオキシメチル基、αーエトキシカルボニル
オキシエチルW1フタリジル基、フェニル尽などの芳呑
族法をあげるごとができる。
本発明の弐F+1を佇する化合物は上に述べるようにし
て製造することができる。
本発明の化合物のセファロスポリン3“位に置換されて
いるピリドチオン類は、一般のN−アルキルビリドナオ
ンの製法例えばンヤーナルオブケミカルソサイティ−(
o7ド7)、 3610, (195B) ニ記載され
ている方法に準じ、下記反応式に示されるように、1−
(1−カルボキシ)アルキル−4−ピリドチオン(n)
及びI−(1−カルボキシ)アルキル−2−ピリドチオ
ン(I[l)を製造する。
2 (TV) (VJ) (II) この反応は4−ピリドン(IV)を不活性溶媒中、塩基
の存在下1−ハロゲノ脂肪酸エステル(V)と反応せし
め、N−:1¥挨11−ピリドン(Vl)を得る。
次い−jr(Vl)をビリンン中−11硫化リンと加メ
、1シシ、1−(1−カルボキン)アル−1−ルー4−
ピリド−f−オン(Il )を得る。式(IIL (V
)、 (Vl) C)八番、1カルホン酸の(呆+:j
(ノー; ’(あり、P−二1−ロヘンノル占(、ラフ
lニルメチル基、L−ブチル粘、トリメチルンリル基、
アリル7、(なとの一般的保護U−で、Lい。しかし7
本発明の化合物(1)を得る最終上(′J!でセファ1
」スポリン4位のカルボン酸の保護拮、7位の側1)“
(の保+1ffl ”Il、と同111Iに脱保護する
為にはジフェニルメチル基、L−ジチル基か好適である
。式(V)中O)Xはハl:Iゲンで、りrtル、ブl
Jム、ヨードが適している。N −:Vl換−4−ピリ
ドン(TV)を得る反応の反応硲媒は通常の不活性溶媒
でよく、ンオキ4Jン、テ1〜ロヒトI−Jフラン、シ
メトキンエタン、ジメチルホルムアミド、塩化メチレン
等か好心である。その反応温度は0°(”〜100°C
であり、好ましくは20〜30℃である。この反応に用
いる塩基はNa0tl、K 011. NazCO3,
K zCOi、t−BuO−K”等の通常の塩山5−(
よい。
(V[”)から(旧への反応はピリジン中硫化リンで処
理し、てカルボニル基をチオカルボニルWに変換する反
応であり、硫化リン化合物としては五硫化り7(PzS
s)、あるいはローソン試薬(LAWESSONがり1
通であり、その反応温瓜は30℃〜150 ℃、好まし
くば80〜120°Cである。この硫化リンとの反応は
ピリジン中、あるいはピリジンを含む不活性溶媒との混
合溶媒中で行なわれ、1時間以内には終了する。
なお、I−(1−カルポ二トン)アルキル−(l を出発物質として−上述と同様の方法により行う。
本発明の化合物(1)は武 (2)・ 1′・ ゛ (’.Oz八 ボリン化合物と前記の如くして製造したI− (1−カ
ルボニ1−7)アル−1−rレ−4 ピリドチオン/(
口)又は■−(1 カルボ:)−ノ)アルキル2−ピリ
ドチオン(nl)をセファ111スポリン側鎖として導
入する。
この反応式を1・記に小ず。
(Vll) (■) 式中、Dr. Rz. Aは既述の通りで、R6はセフ
ァロスポリン3°位置換反応に一般に用いられる脱Ml
f基で、好ましくは一j’ セlーキン基(OCOCH
i) 、するいはハ1Jゲン類(CI, llr, I
)である。尚i(中のnはO又は1であり、破線は二重
結合位置が3位あるいは2位である事を表わす。この(
■)から(■)への置換反応は業界では広く知られてい
る反応であり、放置あるいは特許公開公報に記載されて
いる。例えば[セファロスポリン・アント・ペニシリン
」ニドウィン・Il・フリン,アカデミツク・プレス、
PL51〜171. 1972年あるいは特開昭58−
90590.特開昭59−10593公報各テある。二
重結合位置が2位でn=oの場合は、酸化する事により
二重結合位置が3位であり、n−Qの目的物を得る。こ
の反応もそれ自体公知であり、前述の放置、特許公開公
報に記載されている。
本発明の一般的(1)を得る最終工程は(■)(但し、
式中n=Qであり、二重結合位置は3位)を脱保護し、
Aを水素原子に変換する反応である。
この反応もそれ自体公知であり、酸処理あるいは接触還
元等で行なわれる。酸としては塩酸等の鉱酸トリフルオ
ロ酢酸等の有8g酸、あるいは塩化アルミ等のルイス酸
か用いられる。
以ト本発明を参凡例および実施例により詳細に説明する
実施例1 ジフェニルメチル(6R,71υ−3−)Iド〔メチル
−7−[(Z)−2−(2−11,1チルアミノチアゾ
ール−4〜イり二’4二=□□2ミ1−」二・l:ンイ
−う一ノラー詔−1−η−夫−トー1−1−尤−ム3ユ
ーコニムー4−カルボ;1−ソレート ジフェニルメチル(6R,7R)−7−アミノ−3−ブ
ロモメチル セフ−3−エム−4−カルボキシレー1−
塩酸塩120 mg(0,24m mol)と(Z)−
2−(2−)リチルアミノチア・ゾール−4−イル)−
2−メトニ1−ジイミノ酢酸120 mg(0,27m
 mol)を塩化メチレン2.4m Aに熔解する。氷
冷1・でピリジノ98μg (1,2m mol) 、
オキシ塩化リン2411 n (0,27m mol)
を加え10分反応させる。
反応1にクロロボルム12川p加え6m6の水で2回水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除去する。ヘ
ンゼンー酢酸エチル(20:1)でシリカゲルのクロマ
1−グラフで精製後目的物190■を得た。(収率90
%) nml−δ (Cl)Ch) 3.55(211bS) 4.05(31(S) 4.
35(211bS)5.05(illd、1=4)5.
90(II−1dd、■・4J・8)6.75(18S
) 6.95(1N S) 7.1 −7.8(261
1m)ジフェニルメチル(6R,7R)−3−ブロモメ
チル−7−((Z)−2−(2−)リチルアミノチアゾ
ールー4=イル)−2−メトキシイミノアセトアミドク
ーセフ−3−エム−4−カルボキシレート89mg(0
,1m mol)をD M It 0.89mjl!に
ン容解し1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル− 室温で1時間反応する。反応後酢酸エチル5mffを加
え0. IN−tlcl 3 m j!で洗い水洗後、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除去し目的物120
 mgを得た。次の反応には精製せずに用いた。
(plj.−71j)−7− ( (:Q −7,− 
<2− j”z−)− 、−Jz−? ’/■二1Vー
4−一(少−)−2−メ トー1ーンーイミノli’−
−1:. 十−アミ−F:j...,3,(1−二次/
L/ ;j(−4−p ノチール−e +J イa’:
J J,=4−7( J.Li丈,t ) 、(− /
Lz.)忠フーーー±ーーエム− 4−−≠μり歩二イ
Mじに1−1之−ウ−みUm−ジファ.ニールメチルI
liR,刊)−7− C2−、<2− 1−リチルアミ
ノチアヅールー4ーイル)−2メトキソイミノアセトア
ミト)−3−(1−ジフェニルメト4−ジカルボニルメ
チルピリジニウム−4−イルチオメチル)−セフ−3ー
エム4ーカルボキンレートブロマイド120 mgをア
ニソール360 II 7!に/8解しトリフルオロ酢
酸1、2mffを水冷下にて加え40分反応させる。反
応後イソブl−1ビルエーテルで沈澱とする。乾燥後6
1mgの粉末を得た。これに水1.8m 7!を加えN
allCO3て1]11を7.8としIIll−2(l
 レシン(メタノール: 11.0 == 1:4)で
精製後30mgのI」約物を得た。
nmr δ (+120) 3、40, 3.75(211^11qJ・16) 3
.95(311 5)4、15. 4.45(2+1へ
Bq J・12) 5.00(211 S)5、15(
ill d J=4) 5’.70(IH d J・4
) 6.95(ill S)7、25(211 d 、
1.8) ’8.30(211 d J−8)実施例2 実施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体46
0 mg(0.51m mol)をDMF4.6 mj
!に溶解し、1−シフェニルメ1ーキシカルボニルメチ
ル4−ピリドチオン258 w(0.77m mol)
を加え室温で1時間反応する。反応後酢酸エチル25 
mρを加え0.IN−11C115m/′c洗い、水洗
後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒除去後目的物710
 mgを11′)だ。次の反応には精製せずに用いた。
ジフェニルメチル(6R,7R)− ((Z)−2−(
2− 1−ジチルアミノチアゾール−4ーイル)−2−
エトキシイミノアセ1アミ1〕 3(lジフェニルメト
キンカルボニルメチ列ビリノユウム−4−・rルチオメ
−y〜ル)−セフ−3エム−4−力ルポー1−ル−トフ
1:Iマ・イト710■をアニソール213mρに溶解
し、1リフルオロ酢酸7.1mp、を氷冷下にて加え、
40分反応させる。
反応後イソプトlビルエーラ−ルで沈澱とする。乾燥後
440 mgの粉末を得た。これに水13mp?i:加
えNa1lc01てpHを7.)(とし肝−2OL・シ
ン(メタノール+120 = 1 : 4)で精製後2
40 mgのl」約物を得た。
n rn r δ (1120) 1.25(311L 、l−6) 3.35. 3.7
0(211八Bq 、1・20)4.20(211q 
、1・6) 4.1帆 4.40(2+1 八llq 
、1=12)4、!15(211S) 5.15(Il
l d J=4)5.75(Ill d J4)6.9
0(III S) 7.75(211d J=8) 8
.30(2H6,1−8)実施例3 実施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体16
0 mg(0,15m mol)をDMFl、6 ml
に溶解し、1−ジフェニルメトキシカルボニルメチルカ
ルボニルメチル−4−ピリドチオン55■(0,165
m mol)を加え室温で1時間反応する。反応後酢酸
エチル8mlを加え、O,lN−HCl 5m 12で
洗い水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒除去後目的
物220■を得た。
次の反応には精製せずに用いた。
文ム隻 ジフェニルメチル(6R,711)−7−((Z)−2
−(2−)リチルアミノチアゾール)−2−ジフェニル
メトキシカルボニルメトキシイミノアセトアミド) −
3−(1−ジフェニルメトキシカルボニルメチルビニジ
ニウム−4−イルチオメチル)−セフ−3−エム−4−
カルボキシレートブロマイド70mgをアニソール0.
21 ml!に溶解し、l・リフルオロ酢酸0.7mj
+を水冷下にて加え、40分反応する。反応後イソプロ
ピルエーテルで沈澱とする。乾燥後40■の粉末を得た
。これに水1.2m#を加えNaHCO,、でPH7,
8とじHP−20レジン(水)で精製後20■の目的物
を得た。
nmr δ(0,0) 3.55. 3.85(2HABq J=12) 4.
15. 4.40(2HABqJ=8) 4.50(2
HS) 4.85(2HS) 4.95(18d J−
4) 5.45(1)1 d J・4) 6.45(I
II S) 7.10(211dJ=8) 7.50(
28d 、h8)実施例4 ミノアセトアミド)−3−(1−ジフェニルメトキシカ
ルボニルメチルピリジニウム−4−イルチオメチル)実
施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体110
 mg (0,12m n+ol)をDMFl、1 m
Aに溶解し、1〜ジフエニルメトキシカルボニルメチル
−4−ピリドチオン47■(0,14m mol)を加
え室温で1時間反応する。反応後酢酸エチル6ml加え
0.IN−HC13m lで洗い水洗後硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒除去後目的物150■を得た。次の反
応には精製せずに用いた。
隻 ジフェニルメチル(6R,7R)−7−((Z)−2−
(2−1−’Jチルアミノチアゾールー4−イル)−2
−アリルオキシイミノアセトアミド)−3−(1−ジフ
ェニルメトキシカルボニルメチルピリジニウム−4−イ
ルチオメチル)−セフ−3−エム−4−カルボキシレー
トブロマイド150 mgを0.45mffのアニソー
ルにン容解し、[リフルオロ酸11.5mpを水冷下に
て加え40分反応させる。反応後イソプロピルエーテル
で沈澱とする。
乾燥後80■の粉末を得た。これに水2.4m7!を加
え、Na1lCOiでpHを7,8としIIP−20レ
ジン(メタノール:h2o = 1 : 4)で精製後
、40■の目的物を得た。
nmr δ (+120) 3.30.3.65(211ABq J=18) 4.
05.4.35(211ABqJ=14) 4.90−
6.20(511m) 5.10(IHd J=4)5
.70(III d J−4) 6.85(Ill S
) 7.70(2Hd J=8)8.25(211d 
、b8) 実施例5 ブロマイド 実施例2で用いた3−ブロモメチル体95■(0,10
5mmol)をDMFo、95n+ j2に溶解し1−
(1−ジフェニルメトキシカルボニル−1−エチル)−
4−ピリドチオン42■(0,12m mo+)を加え
室温で1時間反応する。反応後酢酸エチル5mfを加え
0. lN−11c1 3m Aで洗い、水洗後硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒除去後目的物135■を得た
。次の反応には精製せずに用いた。
ジフェニルメチル(6R,7R)−7−((Z)−2−
(2−トリチルアミノチアゾール−2−エトキシイミノ
アセトアミド)−3−(1−(1−ジフェニルメトキシ
カルボニル−1−エチルピリジニウム)4−イルチオメ
チルゴーセフ−3−エム−4−カルボキシレートブロマ
イド135■をアニソール0.40 mβに溶解し、ト
リフルオロ酸91.35m1を水冷下にて加え40分反
応させる。反応後イソプピルエーテルで沈澱とする。乾
燥後80■の粉末を得た。これに水2.4nlを加えN
aHCO3でP117.8としIIP−20レジン(メ
タノール:lI20=1:4)で精製後55■の目的物
を得た。
nmr δ(020) 1.20(311t J−6) 1.75(2+1 d
 J=8) 3.30.3.65(21(^Bq J・
18) 4.15(211q J=6) 4.00.4
.30(2HABq J・12) 5..05(IHq
 J=8) 5.10(III dJ=4) 5.65
(IHd J=4) 6.Ej5(IHS) 7.65
(2HdJ工8) 8.30(2Hd J=8)実施例
6 上 実施例2で用いた3−ブロモメチル体90mg(0,1
mmol)をDMFo、9 m7!に溶解し1−ジフェ
ニルメトキシカルボニルヘンシル−4−ビニトチオン6
2■(0,15mmol)を加え室温で1時間反応する
。反応後酢酸エチル5mβを加えO,lN−11c l
! 3m Itで洗い水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒除去後目的物150■を得た。次の反応には精製
せずに用いた。
」 ジフェニルメチル(6R,7R)−7−((Z) 2−
(2−トリチルアミンチアゾール−4−イル)2−エト
キシイミノアセトアミド)−3−(1−ジフェニルメト
キシカルボニルベンジルビリジニウム−4−イルチオメ
チル)−セフ−3−エムー4−カルボキシレートブロマ
イド150■をアニソール0.45m7!に?容解し、
トリフルオロ酢酸1.5mffを水冷下にて加え40分
反応させる。
反応後イソプロピルエーテルで沈澱とする。乾燥後80
mgの粉末を得た。これに水2.4mj+を加えNaH
CO3でPH7,8とし、HP−20レジン(メタノー
ル:HzO= 1 : 4)で精製後30■の目的物を
得た。
nmr δ(D20) 1.25(3Ht J=6) 3.35. 3.70(
2n 八Bq J=18)4.10(211q 、J=
6) 4.05. 4.30(211ABq J=10
)5.05(IHa J=4) 5.65(H+ dJ
・4) 6.85(III S)7.40(5115)
 7.60(2+1 d J=8) 8.25(2Hd
 J−8)実施例7 グ随上 実施例1と同様な方法で合成した3−ブロモメチル体1
50■(0,19m mol)を1m12のDMFに溶
解し、1−ジフェニルメトキシカルボニル−4−ピリド
チオン95+n+r (0,285m mol)とNa
134 g(0,23m mol) を加え室温で30
分反応する。反応後酢酸エチル10mj!加え、0.l
N−HCl 6m 7!で洗い、水洗後硫酸マグネシウ
ムで乾燥し溶媒除去後クロロホルム−メタノール(20
:1)でシリカゲルクロマト精製し目的物220■(8
8%)を得た。
(6R,7R)−7−メドキシー7−(2−(チオフェ
ン−3−イル)−2−カルボキシアセトアミド) −3
−(1−カルボ上記で得られた化合物200■を0.2
mnのアニソールに溶解しトリフルオロ酢酸2mpを冷
下にて加え30分反応した。反応後n−ヘキサンイソプ
ロピルエーテル(1: 1)で沈澱とする。乾燥後70
曙の粉末を得た。これに2.1mlの水を加えNaHC
O:+で円17.8とし、IIP−20レジン(水)で
精製後40■の目的物を得た。
n m r δ(020) 3.40.3.80(2Hm) 3.40.3.50(
3HS) 4.10〜4.60(2Hm) 4.60.
4.65(IHS) 5.10(IHS)7、’OO,
7,70(311m) 7.75(211d J=8)
 8.30(2HdJ−8) 実施例8 ボニルメチルピリジニウム−4−イルチオメチル)−セ
フ−3−エムー4−カルボキシレートブロマイド実施例
1と同様にして合成した3−ブロモメチル体87mg(
0,1m mol)をI)MFo、87m 14に溶解
し、1−ジフェニルメトキンカルボニルメチル−4−ピ
リドチオン37■(0,11m mol)を加え室温で
1時間反応する。
反応後クロロホルム5m7!を加え、0.IN−11C
j!3m7!で洗い水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒除去後目的物120■を得る。次の反応には精製せ
ずに用いた。
ジフェニルメチル(6R,7R)−7−(DL−2−(
2−1−リチルアミノチアゾールー4−イル)−2−ホ
ルミルアミノ7セトアミド)−3−(1−ジフェニルメ
トキシカルボニルメチルピリジニウム−4−イルチオメ
チル)−セフ−3−エム−4−カルボキシレートブロマ
イド120 mgをアニソール0.36m/に溶解し、
トリフルオロ酢酸1.2m7!を氷冷下にて加え、40
分反応する。
反応後イソプロピルエーテルで沈澱とする。乾燥後75
曙の粉末を得た。これに水2.25n+j!を加えNa
11GO3でPI+7.8としHP−20レジ7(/ 
9/ −/l/ : II。
0=1:3)で精製後30■の目的物を得た。
n m r δ(020) 3.30〜3.90(211m) 4.1〜4.6(2
11m) 5.00(2HS) 5.3〜5.70(3
Hm) 6.20.6.25(IHS)7.80(2H
、d J=8) 8.20(IHS) 8.35(2H
d J=8)実施例9 実施例1と同様にして合成した3−ブロモメチル体10
2 g(0,1m mol)をDMF1mj!に溶解し
、1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−4−ピリ
ドチオン37+ng(0,11m mol)と、Nar
 30mg(0,2m mol)を加え室温20分反応
する。反応後クロロボルム10mβを加え、O,lN−
11c1 6m IIで洗い、水洗後硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒除去後150■の目的物を得た。次の反
応には精製せずに用いた。
上記で得られた化合物150■をアニソール0.45m
eに溶解しトリフルオロ酢酸1.5ml1を水冷下にて
加え40分反応する。反応後イソプロピルエーテルで沈
澱とする。乾燥後90■の粉末を得た。これに水2.1
m11加え、Na11CO3で円17.8とし、IP−
20レジン(メタノール:H2O= 1 : 4)で精
製後目的物48mgを得た。
n m r δ(H2O) 1.15(3Ht J=6) 3.10〜4.40(8
H) 4.90(2HS)4.95(18d J=4)
 5.35(IHS) 5.5.5.6(IHdJ=4
) 6.65(IHS) 7.75(2Hd J=6)
 8.3(2HdJ−6) 実施例10 実施例2で用いた3−ブロモメチル体110■(0,1
3m mol)をDMF 1.1m7!に溶解し、1−
ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2−ピリドチオ
ン47■(0,14m mol) とNal 42 m
g(0,28m mol)を加え室温で1時間反応する
。反応後6m7!の酢酸エチルを加え0.lN−HCl
 3nlで洗い、水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒
除去後155■の目的物を得る。次の反応には精製せず
に用いた。
上記で得られたアイオダイド異性体155■をアニソー
ル0.47 mj!に溶解し、トリフルオロ酢酸1゜5
5mnを水冷下にて加え、40分反応させる。反応後イ
ソプロピルエーテルで沈澱とする。乾燥後90■の粉末
を得た。こにれ水2.71+14を加え11allcO
3で11117.8とし旧)−20レジン(メタノール
:11□0−1=4)で精製後50■の目的物を得た。
n m r δ (020) 1.25(3Ht J=6) 3.40.3.75(2
HABq J=20)4.20(211q J・6)4
.15.4.45(2+1^Bq J=12)5.20
(2+15) 5.15(18d J=4) 5.70
(11Ld J、、4)6.90(III S) 7.
60−8.70(4tl m)参考例1 1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−4−ビ丈上
1 4−ヒドロキシピリジン1.37gを16mffのTI
IFにとかしポタノンウム3級ブトキ→ノ′イド1.6
3gを加え1夜反応する。そして次にジフェニルメチル
ブロモアセテ−) 3.12 gを加え6時間反応する
。反応後溶媒を除去しクロロホルムに溶解し水洗する。
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除去しクロロホルム
−メタノール(20:1)、シリカゲルのクロマトグラ
フで精製後目的物2.25gを得た。(55%) ir(ヌジョール)シcm−’ : 1740.164
0n m r δ(CDCl2) 4.40(2115) 6.3(2Hd J−6) 6
.90(18S)7.00〜7.50(12)1 m) 1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−4−ピリド
チオン 1−ジフェニルメトキシカルボニル−4−ピリドン21
0■をピリジン2.1m 12に溶解しP2S5222
mgを加え100℃で1時間反応する。反応後溶媒を除
去しクロロホルムを加えNaHCO3で円17.8とし
水洗後硫酸マグネシウネで乾燥した。溶媒を除去しクロ
ロホルム−メタノール(20:1)でシリカゲルのクロ
マトグラフで精製後目的物130■を得た。 (58%
) n m r δ(CDC1i) 5.10(2HS) 6.85(IHS) 7.15(
2Hd J−6)7.30(101S) 7.55(2
8d J−6)参考例2 1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2−ピ丈上
/ 2−ヒドロキシピリジン4.OOg、ジフェニルメチル
フ゛ロモアセテート19.2gをDMF80m j+に
?容解し、K2CO38,70gを加え60℃で4時間
反応させたう反応混合物を濾過し、濾液を減圧上濃縮し
、残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒:酢酸エチル)で精製すると、結晶として目的物
9.66g (収率72%)を得た。
i r (CIICI3) シcm−’ : 1750
.1663nmr δ (CDCI3) 4.73(2115メチレン”) 6.91(1)I 
S −C■Ph、)6.00〜7.50(1411m 
ピリドン フェニル×2)1−ジフェニルメトキシカル
ボニルメチル−2〜ピリドチオン 1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2−ピリド
ン640■、2,4−ビス−(4−メトキシフェニル)
−2,4−ジチオキラー1.3,2.4〜ジチアジフオ
スフエタン492■をトルエン6m7!に溶解し、窒素
気流下30分間加熱還流後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒: PhMe−EtOAc (= 4 : 1 )
 )で精製すると目的物480■(収率72%)を得た
i r (CHCI:l) v cm−’ : 175
0.1140n m r δ(CDCI3) 5.23(2)I Sメチレン> 6.90(III 
S −CHPhz)6.40〜7.80(14Hm ピ
リドチオン フェニル×2) 参考例3 参考例1と同様にして合成した4−ピリドン2.31g
をピリジン23m#に溶解しP2S51.55 gを加
え90℃で1時間反応する。
反応後溶媒を除去しクロロホルムを加えNa1lCO=
でPH7,8とし、水洗後硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を除去しクロロホルム−メタノール(20:l)
でシリカゲルのクロマトグラフで精製後目的物1.38
gを得た。(57%) ir(ヌジュール)シcm−’ : 1754nmr 
δ (DMSO−d6) 1.70(311d J=6) 4.65(IHq J
=6) 6.85(IHS)7.10(211d J・
6) 7.30(10115) 7.55(2Hd 、
b6)参考例4 参考例1と同様にして合成した4−ピリドン1.48g
をピリジン15+++jHに溶解しPa5s 8321
Wを加え70°Cで1時間反応する。
反応後溶媒を除去しクロロホルムを加えNa1lCO。
で円17.8とし、水洗後硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を除去しクロホルム酢酸エチル(10:1)でシ
リカゲルのクロマトグラフで精製後目的物1゜1 gを
得た。(70%) ir(ヌジュール)シCm−’ : 1740n m 
r δ(CDCI s) 5.80(1)I S) 6.95(III S) 7
.00〜7.40(19Hm)〔発明の効果〕 本発明の化合物は広範囲な抗菌スペクトルを有す。
イ)本発明化合物の試験管におけるダラム陽性及びグラ
ム陰性菌に対する抗菌スペクトルとして各種細菌に対す
る最低成育阻止濃度(旧C)を第1表に示す。′ 以上の表から明らかなるように、本発明の化合物は耐性
菌を含む各種細菌に実用上十分な抗菌力を有している。
更に該化合物は広範囲なグラム陰性菌に有効で、シトロ
バクタ−・フロインデーGN−346株を6.25〜1
2.5 g/、m 12、シュードモナス、エルギノー
サM83833株を12.5〜25γ/m7!で阻止す
る。
口)本発明による該化合物を動物体内に投与したときの
特長は、以下の血清中濃度感染治療実験、および毒性試
験で明らかである。
実施例1)、2)で示す本発明の該化合物は表−2に示
す血清中濃度を呈する。実験は一群三匹のマウス(平均
体重20g)を用い、試料25■/ kgを皮下投与し
た後、適時採血し血清を分離し、その中の試料濃度をエ
シェリヒア・コリを検定筒とする抗菌力検定で測定した
表−2;血清中濃度(μB7mり 1/12 1/4 1/2 1(時間)実施例1)化合
物 20 2B 12.5 2.2〃2) 〃26 3
1 2B、5 4 実施例2)の化合物の感染治療実験の結果は表−3に示
す通りである。実験はセファロスポリナーゼ産生のエシ
ェリヒア・コリGN206 (菌量1.25XIObC
FU/マウス)を一群8匹のマウスに腹腔内に接種し、
感染一時間後に試料化合物を皮下投与し、その生存数を
一週間後に観察した。
表−3:感染治療実験(一群8匹マウスの生存数)(ニ
ジエリエア・コリGN206) ng/mouse 実施例−2の化合物8 0.25 5 0.0625 4 0.0156 2 0.0031 1 EDso (mg/mouse) 0.065mg/m
ouse本実験に用いた実施例−2の化合物は試験菌ニ
ジエリチア・コリGN206に対し最低発育阻止濃度(
MIC)は0.39μg/mβであるが、そのED、。
値は0゜065■/mouseであり、本化合物の感染
治療効果の高さを物語っている。
また、実施例−2の化合物を一1¥3匹のマウスにIg
/kgの割合で静脈内投与し一週間観察した。
この結果全数のマウスが生存し、従って、そのLD、。
値はIg/kg以上である事を示した。
以上の如く、本発明の化合物は抗菌力、血中濃度のすぐ
れた抗菌性化合物で、動物に対する感染治療効果もきわ
めて高く、かつ毒性の低いセファロスポリン化合物であ
る。従って、この化合物を有効成分とした抗菌剤として
ヒト及び動物の病気の治療に用いることができる。
抗菌剤としての使用に際し、本発明の化合物はヒトの細
菌性感染症に対しては、成人に対し1回投与■とじて5
0〜1500■、好ましくは100〜1000■を1日
A〜6回経口または非経口的に投与される。本発明の抗
菌剤は通常、本発明の化合物と固体又は液体の賦型剤と
から構成される。剤型としては、錠剤、カプセル、散剤
、予調散剤のような固形製剤、又は注射液、懸濁液、シ
ロップのような液体製剤に製造される。ここに使用され
る固体又は液体の賦型剤としては、当該分野で公知のも
のが使用される。
特許出願人 明治製菓株式会社 代理人 新井 力(ばか1名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 エチル基、アリル基、カルボキシメチル基、又はカルボ
    キシイソプロピル基を示す)、ルー2,3−ジオキソピ
    ペラジン−1−イル基を示す。)環の結合位は2位又は
    3位である。)を表わし、R2は水素原子、炭素数1〜
    4個を有するアルキル基又はフェニル基を表わし、R1
    は水素原子又はメトキシ基を表わす、なおピリジン環に
    結合するイオウ側鎖の位置は2位又は4位である。〕を
    有するセファロスポリン化合物及びその無毒性塩、無毒
    性エステル。 2、式 エチル基、アリル基、カルボキシメチル基、又はカルボ
    キシイソプロピル基を示す)、ルー2,3−ジオキソピ
    ペラジン−1−イル基を示す。)環の結合位は2位又は
    3位である。)を表わし、R2は水素原子、炭素数1〜
    4個を有するアルキル基又はフェニル基を表わし、R3
    は水素原子又はメトキシ基を表わす、なおピリジン環に
    結合するイオウ側鎖の位置は2位又は4位である。〕を
    有するセファロスポリン化合物及びその無毒性塩、無毒
    性エステルを有効成分とする抗菌剤。
JP59071414A 1984-02-23 1984-04-09 セフアロスポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤 Pending JPS60215690A (ja)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59071414A JPS60215690A (ja) 1984-04-09 1984-04-09 セフアロスポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤
KR1019850001075A KR920004820B1 (ko) 1984-02-23 1985-02-21 새로운 세팔로스포린 유도체의 제조방법
US06/704,077 US4785090A (en) 1984-02-23 1985-02-21 Cephalosporin derivatives
ES540664A ES8606360A1 (es) 1984-02-23 1985-02-22 Un derivado de cefalosporina.
CA000474936A CA1276013C (en) 1984-02-23 1985-02-22 Cephalosporin derivatives
EP85101934A EP0153709B1 (en) 1984-02-23 1985-02-22 Novel cephalosporin derivatives
AT85101934T ATE66233T1 (de) 1984-02-23 1985-02-22 Cephalosporinverbindungen.
DE8585101934T DE3583751D1 (de) 1984-02-23 1985-02-22 Cephalosporinverbindungen.
ES549498A ES8606361A1 (es) 1984-02-23 1985-12-02 Un procedimiento para la preparacion de nuevos derivados de cefalosporina.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59071414A JPS60215690A (ja) 1984-04-09 1984-04-09 セフアロスポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60215690A true JPS60215690A (ja) 1985-10-29

Family

ID=13459829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59071414A Pending JPS60215690A (ja) 1984-02-23 1984-04-09 セフアロスポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60215690A (ja)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50131989A (ja) * 1974-04-11 1975-10-18
JPS511489A (en) * 1974-05-22 1976-01-08 Rusherushu E Andeyusutorii Ter Chikan arufuaa karubokishiasetoamidosefuarosuhorinnoseiho
JPS52116492A (en) * 1976-03-25 1977-09-29 Roussel Uclaf Alkyloxim derivative of novel 77aminothiazolylacetamide cephalospolanate process for preparing same and medical composition
JPS54106495A (en) * 1978-02-09 1979-08-21 Dai Ichi Seiyaku Co Ltd Cephem derivative
JPS54130594A (en) * 1978-03-31 1979-10-09 Toyama Chem Co Ltd Novel cephalosporin derivative
JPS55167290A (en) * 1979-03-22 1980-12-26 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic
JPS5745190A (en) * 1981-07-25 1982-03-13 Toyama Chem Co Ltd Novel 7alpha-methoxycephalosporin
JPS5810589A (ja) * 1981-06-22 1983-01-21 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd 新規セフエム化合物およびその製造法、並びに細菌感染症予防・治療剤

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50131989A (ja) * 1974-04-11 1975-10-18
JPS511489A (en) * 1974-05-22 1976-01-08 Rusherushu E Andeyusutorii Ter Chikan arufuaa karubokishiasetoamidosefuarosuhorinnoseiho
JPS52116492A (en) * 1976-03-25 1977-09-29 Roussel Uclaf Alkyloxim derivative of novel 77aminothiazolylacetamide cephalospolanate process for preparing same and medical composition
JPS54106495A (en) * 1978-02-09 1979-08-21 Dai Ichi Seiyaku Co Ltd Cephem derivative
JPS54130594A (en) * 1978-03-31 1979-10-09 Toyama Chem Co Ltd Novel cephalosporin derivative
JPS55167290A (en) * 1979-03-22 1980-12-26 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic
JPS5810589A (ja) * 1981-06-22 1983-01-21 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd 新規セフエム化合物およびその製造法、並びに細菌感染症予防・治療剤
JPS5745190A (en) * 1981-07-25 1982-03-13 Toyama Chem Co Ltd Novel 7alpha-methoxycephalosporin

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59219292A (ja) 有機化合物
JP2845752B2 (ja) セファロスポリン誘導体
US4678781A (en) 3-substituted-aminomethyl cephalosporin derivatives
PH26644A (en) Acyl derivatives
JPH05502884A (ja) 新規3―置換セフェム化合物及びその製造方法
EP0153709B1 (en) Novel cephalosporin derivatives
SE438854B (sv) 3-metylensmorsyraderivat till anvendning sasom mellanprodukt vid syntesen av 3-cefemforeningar
JPS5857386A (ja) セフアロスポリン・イソキノリニウム・ベタイン類
US4692443A (en) 3-bicyclicpyridinium-methyl cephalosporins
JPS61122285A (ja) 3位置換カルバセフエム化合物
JPS63107989A (ja) セファロスポリン化合物
US4748172A (en) 3-bicyclicpyridinium-methyl cephalosporins
US4322347A (en) 2-Carbamoyloxymethyl-penicillin derivatives
JPS5857390A (ja) チエノ−およびフロ−ピリジニウム置換セフアロスポリン誘導体
JPS62491A (ja) 3−(置換)プロペニルアミノチアゾリルセフアロスポラン酸およびそのエステル
JPS60215690A (ja) セフアロスポリン化合物及びそれを有効成分とする抗菌剤
JPS60178890A (ja) 新規セフアロスポリン誘導体およびその製造法
FR2531711A1 (fr) Nouveaux derives de la cephalosporine, leur preparation et les medicaments qui les contiennent
JPH06500788A (ja) セファロスポリン誘導体およびそれらの同族体
US4374982A (en) Cepham compounds
US4518773A (en) "3-Carbamoyloxy cephalosporins"
JPS6097984A (ja) セフエム誘導体、その製造方法および医薬組成物
JPH04266889A (ja) 抗生物質c−3カテコ−ル−置換セファロスボリン化合物、組成物およびその使用法
US4426520A (en) 3-Carbamoyloxy-cepham-4-carboxylic acid derivatives
US4497811A (en) 1-Oxadethiacephalosporin compound and antibacterial agent containing the _same