JPS63107989A - セファロスポリン化合物 - Google Patents

セファロスポリン化合物

Info

Publication number
JPS63107989A
JPS63107989A JP62132887A JP13288787A JPS63107989A JP S63107989 A JPS63107989 A JP S63107989A JP 62132887 A JP62132887 A JP 62132887A JP 13288787 A JP13288787 A JP 13288787A JP S63107989 A JPS63107989 A JP S63107989A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
salt
compound
formulas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62132887A
Other languages
English (en)
Inventor
Kokichi Azuma
我妻 光吉
Toyoo Oine
大稲 豊生
Totaro Yamaguchi
山口 東太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanabe Seiyaku Co Ltd
Original Assignee
Tanabe Seiyaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanabe Seiyaku Co Ltd filed Critical Tanabe Seiyaku Co Ltd
Publication of JPS63107989A publication Critical patent/JPS63107989A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/36Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は新規セファロスポリン化合物又はその塩に関す
る。
(従来技術) 従来、数多くのセファロスポリン系抗生物質が得られて
おり、これらセファロスポリン系抗生物質の抗菌活性は
セフェム環の7位あるいは3位の置換基により大きく影
響されることが知られている。
(発明の構成及び効果) 本発明は次の一般式で示される新規セファロスポリン化
合物に関する。
(但し、R1は保護されていてもよいアミノ基、R2は
窒素原子及び硫黄原子から選ばれる1〜3個のへテロ原
子を有する置換もしくは非霞摸複素環式基、R3は保護
されていてもよいカルボキシル基又は弐ニーCoo−で
示される基を表す。)本発明の新規セファロスポリン化
合物(1)もしくはその塩はグラム陽性菌及びグラム陰
性菌を含む広範囲の各種微生物に対し優れた抗菌活性を
有し、抗菌剤として有用な医薬化合物である。例えば、
該化合物(1)は前記グラム陽性菌やグラム陰性菌によ
り惹起される各種怒染症治療剤として、人間を含む哺乳
動物の化学療法剤として、あるいは動物飼料の添加剤と
して用いることができる。
本発明の目的化合物の具体例としては、−C式(I)に
於いて、R2が式; H′′ (a)    、   (b)   、   (c)(
d)     、    (e)     、    
(f)   。
(g)              (h)で示される
複素環式基であり、R4が例えば、ビニル、アリル、1
−プロペニル、ブテニル、イソプロペニルなどの低級ア
ルケニル基;ピリジル基、オキソピロリジル基などの含
窒素5〜6員複素単環式基;ホルミルアミノ基、アセチ
ルアミノ基などのアシルアミノ基;メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などの低級ア
ルキル基であり RS及びR6が同−又は異なって、例
えば水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基などの低級アルキル基;アミノ基;ホルミルアミノ
基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などのア
シルアミノ基;カルボキシル基;カルバモイル基;チオ
カルバモイル基又はメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニルな
どの低級アルコキシカルボニル基であり、R7、R8及
ヒI? 9が、例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基などの低級アルキル基であり、■及びWは同
−又は異なって弐: −CH−又は−N=で示される基
であり、QI及びR2が、例えばシクロヘキセン環、ピ
リジン環の如きその隣接する2個の炭素原子と共に窒素
原子を含んでいてもよい6員環式基である化合物が挙げ
られる。また上記の例示化合物において、R4が低級ア
ルキル基のとき、当該低級アルキル基は置換基を有して
いてもよく、この置換基としては、例えば、シアノ基;
水酸基;メトキシ基、エトキシ基などの低級アルコキシ
基; (N−メチルカルバモイル)オキシ基、(N−エ
チルカルバモイル)オキシ基などの(N−低級アルキル
カルバモイル)オキシ基;カルボキシル基;アミノ基、
N、N−ジメチルアミノ基、N。
N−ジエチルアミノ基などのN、N−ジ低級アルキルア
ミノ基;ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピ
オニルアミノ基などのアシルアミノ基、(N−メチルカ
ルバモイル)アミノ基、(N−エチルカルバモイル)了
ミノ基などの(N−低級アルキルカルバモイル)アミノ
基;(N−メチルチオカルバモイル)アミノ基、(N−
エチルチオカルバモイル)アミノ基などの(N−(低級
アルキル)チオカルバモイル)アミノ基;メトキシカル
ボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ基など
の低級アルコキシカルボニルアミノ基;メチルチオ基、
エチルチオ基などの低級アルキルチオ基;フェニル基;
カルバモイルフェニル基;2−メチル−1,3,4−チ
アジアゾール−5−イル基などの2−低級アルキルー1
.3.4−チアジアゾール−5−イル基及び弐: (式中、R′″及びRbは同−又は異なり、水素原子;
メチル基、エチル基、プロピル基などの低級アルキル基
:水酸基;アミノ基又はビニル基、アリル基などの低級
アルケニル基を表すか、或いはR11とRbが互いに末
端で結合してその隣接する窒素原子と共にモルホリノ基
を形成することを表し、Zは酸素原子又は硫黄原子を表
す。)で示される基などが挙げられる。
これらのうち、好ましい化合物は、一般式(I)におい
て、R2が式(e)〜(h)、とりわけ式(e)で示さ
れる基であり、Rコが式: −Coo−で示される基で
ある化合物である。
また他の好ましい化合物としては、−i式(I)におい
て、R2が式(e)で示される基であり、R3が式ニー
COO−で示される基、R4が低級アルケニル基、ピリ
ジル基、オキソピロリジニル基、アシル基又は置換基を
有していてもよい低級アルキル基R5及びR6が水素原
子、■及びWが式: −CH=で示される基である化合
物が挙げられる。
更に好ましい化合物としては、一般式(1)において、
R2が式(e)で示される基であり、R”が弐ニーCO
O−で示される基、R4が低級アルケニル基又は低級ア
ルキル基、R5及びR11が水素原子、■及びWが式:
 −CH=で示される基である化合物が挙げられる。
一般式(I)においてR2が式(a)〜(d)で示され
る基である化合物もそれ自体抗菌作用を示すが、これら
の化合物は一般式(1)においてR2が式(e)〜(h
)で示される基である化合物の合成中間体として利用す
ることができる。
なお、本発明の化合物(1)において、R1が保護され
たアミノ基である場合、このアミン基の保護基としては
、ペプチド合成化学の分野で通常用いられる種々の保護
基を使用することができる。このような保護基としては
、例えばホルミル基、アセチル基、ピバロイル基の如き
低級アルカノイル基;クロロアセチル基、トリフルオロ
アセチル基の如きモノ−、ジー又はトリハロゲノ−低級
アルカノイル基;メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、tert、−ブトキシカルボニル基の如き低
級アルコキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル
基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基の如き置
換もしくは非置換ベンジルオキシカルボニル基;ベンジ
ル基、p−メトキシベンジル基、3,4−ジメトキシベ
ンジル基の如き置換もしくは非置換フェニル低級アルキ
ル基;ベンズヒドリル基、トリチル基の如きジー又はト
リフェニル低級アルキル基などが含まれ、一方、R3が
保護されたカルボキシル基である場合、このカルボキシ
ル基の保護基としては加水分解、酸処理、還元の如き通
常の処理により除去しうる保8W基を用いるのが好まし
い。このような保護基としては、例えばメチル基、エチ
ル基、tert、−ブチル基の如き低級アルキル基;ベ
ンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ニトロベンジ
ル基の如き置換もしくは非置換フェニル低級アルキル基
;ベンズヒドリル基、トリメチルシリル基の如きトリ低
級アルキルシリル基などが含まれる。
また本発明における式、 −C−CONH− 隊 で示される部分構造は、別に定めない限り、式%式%) で示される幾何異性のいずれをもあるいはそれらの混合
物をも意味するものとする。しかしながら、医薬として
使用する場合、本発明の目的化合物(1)はオキシイミ
ノ基の異性配置が2(すなわち、シン)配置である化合
物が最良の生物学的性質を有し好ましいが、該異性体(
Z配置)はE(すなわち、アンチ)異性体を少量含むも
のであってもよい。
本発明によれば、目的化合物(1)又はその塩は、 (八)一般式 (但し、R1+は保護されていてもよいアミノ基を表す
。) で示されるオキシイミノ酢酸化合物、その塩モジくはそ
の反応性誘辱体と一般式 (但し、R31は保護されていてもよいカルボキシル基
又は式ニーCOO−で示される基、R2は前記と同一意
味を有する) で示される7−アミツセフアロスボリン化合物もしくは
その塩とを縮合させるか、又は (B)一般式 (但し、R目及びR3Iは前記と同一意味を有し、Xl
は反応性残基を表す。) で示されるセファロスポリン化合物、もしくはその塩と
一般式 %式%() (但し、R2は前記と同一意味を有する)で示されるチ
オール化合物、もしくはその塩とを縮合させ、 (C))l”が保護されたアミノ基および/又はR31
が保護されたカルボキシル基である場合は所望により該
保護基を除去し、 (D)所望により、生成物を更にその塩とすることによ
り製することができる。
又、目的化合物(1)において、基R2が式(e)〜(
h)で示される基である化合物又はその塩は、(E)目
的化合物(1)のうち、基R2が式(a)〜(d)で示
される基である化合物又はその塩と一般式%式%() (但し、R4は前記と同一意味を有し、X2は反応性残
基を表す。) で示される化合物とを反応させ、 (F)R’が保護されたアミノ基および/又はR3が保
護されたカルボキシ基である場合は所望により該保3!
!基を除去し、 (G)所望により生成物を更にその塩とすることによっ
て製することもできる。
(但し、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物又はその塩は、 (H)セファロスポリン化合物(IV)又はその塩と一
般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物とを反応させ、 (1) R”が保護されたアミノ基および/又はR11
が保護されたカルボキシ基である場合は、所望により該
保護基を除去し、 U)所望により生成物を更にその塩とすることにより製
することもできる。
本発明の原料化合物(n)、(III)及び(IV)の
塩としては、慣用の無機塩及び有機アミン塩をいずれも
好適に用いることができ、化合物(I−b)も同様の形
で上記反応に供することができる。一方、原料化合物(
V)の塩としてはアルカリ金属塩を好適に用いることが
できる。化合物(I−a)、(TI)、(III)及び
(IV)において、R11が保護されたアミノ基及び%
Iが保護されたカルボキシル基である場合、これらの保
護基としてはR1及びR3の保護基として説明した基を
いずれも使用することができる。
前記(A)工程の反応に於いて、遊離のオキシイミノ酢
酸化合物(II)と7−アミンセフアロスボリン化合物
(I[I)との縮合反応は、適当な溶媒中脱水剤の存在
下に実施することができる。脱水剤としては、例えば、
ジシクロへキシルカルボジイミド、オキシ塩化リン、塩
化チオニル、シュウ酸クロリド、或いはジメチルホルム
アミドとオキシ塩化リン、シュウ酸クロリド、ホスゲン
又は塩化チオニルとから調製されるヴイルスマイヤ試薬
など慣用の脱水剤をいずれも用いることができる。溶媒
としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ア
セトニトリル、クロロホルム、ピリジン、エタノール、
水などを好適に使用することができる。本反応は冷却下
〜室温で好適に進行する。
また、オキシイミノ酢酸化合物(II)の反応性誘導体
(例えば酸無水物、混酸無水物、活性エステル等)と7
−アミンセフアロスボリン化合物(■)もしくはその塩
との縮合反応は脱酸剤の存在又は非存在下に実施するこ
とができる。本反応は前記と同じ溶媒中で実施でき、ま
た脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ
金属、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルアミン、N
、 N−ジアルキルアニリン、ピリジンなどが好適に用
いることができる。本反応は冷却下〜室温で好適に進行
する。
前記(B)工程の反応は中性近<pH2−8、好ましく
はpH5−3で好適に実施することができる。原料化合
物(I’/)としては、その反応性残基X1が例えばカ
ルバモイルオキシ基、低級アルカノイルオキシ基、ハロ
ゲン原子などである化合物を使用することが出来る。本
反応は水又は水と容易に混合し、かつ原料と反応しない
有機溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジオキサン、アセトン、アルコール、アセ
トニトリル、ジメチルスルホキサイド、テトラヒドロフ
ラン等)又はその混液中で実施するのが好ましく、また
、所望により、界面活性作用を有する四級アンモニウム
塩(例えばトリ低級アルキルベンジルアンモニウム・ハ
ライド)、アルカリ金属ハロゲン化物、炭酸水素ナトリ
ウムあるいはリン酸緩衝溶液などを反応系に添加するこ
とによって円滑に進行させることもできる。
前記(E)工程の反応は溶媒中で好適に実施することが
できる。原料化合物(Vr)としては、反応性残基X2
がハロゲン原子、無機酸の酸残基などである化合物を好
適に用いることができる。溶媒としては(B)工程と同
じ反応溶媒を用いることができる。反応は室温〜加温下
で好適に進行する。
かくして得られる目的化合物においてR’(又はR目)
が保護されたアミノ基及び/又はR3(又はR31)が
保護されたカルボキシル基である場合は、所望により該
保護基を除去してもよい。これらの保護基の除去は、例
えば加水分解、加溶媒分解、酸処理、還元の如き常法を
適宜組み合わせて実施すことができる。
尚、本発明の原料化合物(I[[)は、例えば7−アミ
ツセフアロスボラン酸又はその塩と化合物(■)とを縮
合させることにより製造できる。この反応は化合物(1
’V )又はその塩と化合物(V)又はその塩との縮合
反応で説明したと同様の条件で実施できる。一方、原料
化合物(IV)は、例えば特開昭59−51292号記
載方法に従って、化合物(■)と式 (但し、R31及びXIは前記と同一意味を有する。)
で示される7−アミノセファロスポリン化合物とを通常
の方法により縮合させて製造できる。
本発明の目的化合物(1)もしくはその塩は、ストレプ
トコッカス(Streptococcus)属(例えば
、ストレプトコッカス・ニューモニエ(S、pneum
n1ae))、エンテロコツカス(En teroco
ccus)属(例えば、エンテロコツカス・フエカーリ
ス(E、 faecalis))、スタフィロコッカス
(Staphylococcus)属(例えば、スタフ
ィロコッカス・アウレウス(S。
aureus)、スタフィロコッカス・エビデルミゾイ
ス(S、 epidermidis))及びシュードモ
ナス(Pseudomonas)属(例えば、シュード
モナス・アエルギノーザ(P、 aeruginosa
)などに属する広範囲の種々の細菌に対し優れた抗菌活
性を示し、グラム陽性菌及びグラム陰性菌の両方に対し
優れた抗菌活性を示すという特徴がある。また、目的化
合物(■)もしくはその塩は、バシラス(Bacill
us)属(例えば、バシラス・サブチリス(B、 5u
btilis))、エシェリキア(Escherich
fa)属(例えば、エシェリキア・コリ(E、 col
i))、クレブシェラ(Xlebsiella)属(例
えば、クレブシェラ・ニューモニエ(K、 pneum
oniae))、エンテロバクタ−(En terob
ac ter)属(例えば、エンテロバクタ−・アエロ
ケネス(E、aerogenes)、エンテロバクタ−
・クロアカニ(E、 cloacae))、セレイシア
(Serra t ia)属(例えば、セレイシア・マ
ルセソセンス(S、 marcescens))などに
属する細菌に対しても、あるいはシトロバクタ−(Ci
trobacter)属、プロテウス(Pro teu
s)属、シゲラ(Shigel la)属、ヘモフィル
ス(Haem。
philus)属、サルモネラ(Salmonel l
a)属に属する細菌に対しても優れた抗菌活性を示す。
さらにまた、目的化合物(I)もしくはその塩は生体組
織での吸収が良く、また治療効果が長時間持続するため
、スタフィロコッカス・アウレウスやシュードモナス・
アエルギノーザを含む種々の細菌の感染症に対して優れ
た防禦効果を示す。特に、本発明の目的化合物(1)も
しくはその塩はin viv。
で高い抗菌活性を示すと言う特徴がある。また、目的化
合物(1)もしくはその塩は種々のβ−ラククマーゼ産
生細菌に対し安定性が良く、例えばプロテウス・ブルガ
リス(Proteus vulgaris)により産出
されるβ−ラゲタマーゼに対し安定性が良い。更に、目
的化合物(1)もしくはその塩は低毒性であり、医薬と
して高い安全性を示す。
本発明の目的化合物(1)は医薬として使用する場合、
′M遊離化合物しても、またその塩としても使用するこ
とができる。目的化合物(Hの塩はその遊離化合物を水
性溶媒中等モル■のアルカリ試薬又は酸で処理して得る
ことができ、又その薬理的に許容しうる塩としては、例
えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネ
シウム塩、アルミニウム塩の如き非毒性金属塩ニトリア
ルキルアミン(例えば、トリエチルアミン)、ピリジン
、エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミンの如き非毒性アミンとの塩;塩酸、硫酸
、臭化水素酸の如き無機酸との塩;シェラ酸、酒石酸の
如き有機酸との塩;グリシン、リジン、アルギニン、ア
スパラギン酸、グルタミン酸の如きアミノ酸との付加塩
などがあげられる。また目的化合物(I)の塩は例えば
アミノ基、四級アミノ基又はスルホン酸基を含むポリス
チレン樹脂又はカルボキシ基を含む樹脂例えばポリアク
リル酸樹脂などで形成される樹脂との塩の形であっても
よい。更にまた、鉄、銅などの金属あるい′は塩化アン
モニウムなどのアンモニウム塩との錯体であってもよい
。従って、本発明の目的化合物(I)及びその塩は、そ
の分子内塩、付加物、錯体、溶媒和物あるいは水和物な
どをいずれも含むものと解釈されるべきである。
目的化合物(I)もしくはその塩は経口的にも非経口的
(例えば、静脈内、筋肉内、皮下)にも投与することが
できる。目的化合物(I)もしくはその塩の1日当りの
投与量は、患者の年令、体重、状態および疾患の種類に
よっても異なるが、通常、1日当りの投与量は体重1k
g当り約0゜002〜約0.2g、好ましくは0.01
〜0゜04gが適当である。また目的化合物(I)もし
くはその塩を医薬として使用する場合、経口もしくは非
経口投与に適した医薬賦形剤と結合または混合した医薬
製剤として使用することができる。
医薬製剤は錠剤、顆粒剤、カプセルの如き固型剤であっ
てもよく、溶液、懸濁液、乳液の如き液剤であってもよ
い。これら医薬製剤は殺菌され及び/又は安定剤、湿潤
剤、乳化剤の如き補助剤を含むも′のであってもよい。
また上記本発明に於いて、目的化合物(1)、原料化合
物(II)及び(IV)にはオキソピロリジン基の不斉
炭素原子にもとづく光学異性体が存在するが、本発明は
これらの光学異性体及びラセミ体のいずれをも含むもの
である。
実験例 叉竣1迭 (抗菌活性、旦 vitro ) 検体化合物の最小発育阻止濃度(M、 1.C,、μg
/m/りをミューラー・ヒントン寒天(Mueller
 −11inton agar) (M HA ; 二
yスイ社製)培地を使用して寒天平板希釈法(日本化学
療法学会標準法)により測定して求めた。
(マウスにおける細菌感染症防禦効果)雄性マウス(1
群=10匹、体重=20±1g)に非治療対照マウスを
24時間以内に死亡させるに十分な各種細菌を腹腔内に
接種した。これら細菌は6%ムチン加生理食塩液にけん
濁して接種した。菌接種1時間後に検体を筋肉内投与し
、菌接種7日後の生存率より、検体の50 %有効i1 (EDSO,mg/kg)をプロビット(
Probito)法によって求めた。
猜工 結果を下記第1表に示す。
第  1  表 ト 実施例 1 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸337+wg、
1−メチル−4−チオピリドン84mg、炭酸水素ナト
リウム77mg及びヨウ化ナトリウム898mgを水6
mj2に加え、混合物をアルゴン気流下、61℃で6時
間攪拌する。
反応液を減圧下濃縮し、濃縮液を非イオン性吸着樹脂(
商品名:ダイヤイオンHP −20,三菱化成社製、以
下11P−20と略称する)を充填したカラムクロマト
で精製(溶媒;20%メタノール)する。
目的物を含有するフラクションを集め濃縮し、残香を凍
結乾燥することにより、淡黄色の7β−((Z)−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−C((3S
)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕
アセトアミド)−3−(l−メチル−4−ピリジニオ)
チオメチル−3−セフェム−4−カルホキシレー)85
mgを得る。
m、p、  170℃から徐々に分解。
Mass (m/e) : 590(M+1) ”NM
R(D20)δ : 2.1〜2.8 (2H,m)、
3.5 (2H,m)。
3.49 and 3.80 (2H,each d、
 J=17 +1z)、 4゜2H3tl、s)、 4
.21 and 4.43 (2H,each d、 
J=14 H2)、 5.10 (LH,t、 J= 
81(z)、 5.24 (IH。
d、 J= 4 Hz)、 5.78 (ill、 d
、 J= 4 Hz)、 7.07(LH,s)、 7
.83 (2H,d、 J= 7 Hz)、 8.39
  (2tl。
d、 J= 7 )1z) 実施例 2 7β−(<Z’)−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(((33)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸341mg、
1−メチル−2−チオピリドン125mg及びヨウ化ナ
トリウム900mgを水4.81に加え、次いで炭酸水
素ナトリウム水溶液でpHを6.63に調整する。混合
物をアルゴン気流下、65℃で3.5時間攪拌する。反
応液を減圧下濃縮し、濃縮液をHP−20充填カラムク
ロマトで精1!(溶媒=20%及び25%メタノール)
する。目的物を含有するフラクションを集め濃縮し、残
香を凍結乾燥することにより、淡褐色の7β−((Z)
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−((
(3S)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイ
ミノ〕アセトアミド) −3−(1−メチル−2−ピリ
ジニオ)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート128mgを得る。
m、p、  230℃から徐々に分解。
Mass (m/e) : 590(M+1)”160
0、1560.154O NMR(020)δ : 2.1〜2.8(2H,m)
、 3.5(2H,m)。
3.62(2H,m)、 4.27(3H,s)、 4
.31 and 4.56(2H、each d、J=
131(z )+ 5.11(LH+t+J= 7 H
z )+5.22(IH,d、J= 5 Hz )、 
5.80(1B、t、J= 511z)、 7.08(
LH,s)、 7.73(LH,t、J=6.3■Z)
、 7.97(IH,d、J=8 )1z)、 8:3
3(1)1.dd、J=6.3 and 8.0)1z
)8.70(III、d、J= 6.3 Hz )上記
と同様にして次の化合物を得る。
7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド) −3−(1−(
N−メチルカルバモイルメチル)−2−ピリジニオ)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート m、p、  155〜165°C(着色分解)Mass
 (m/e) : 647(M+1)”1560.15
3O NMR(D、0)  δ : 2.54(2H,m)、
 2.93(2H,s)、 3.58(211,m)、
 3.51 and 3.82(2H,each d、
J=181fz)。
4.40 and 4.62(2H,each d、J
=13 Hz)、 5.15(LH,t、J= 7 H
z )、 5.28 and 5.84 (2H,ea
chd、J=4.611z)、 5.57 (2t(、
S)、 7.1’7(11Ls)、 8.53(1)1
.t、J=7 Hz)、 8.80 (III、d、J
=711z)実施例 3 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((、(3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩
710mg、  1−アリル−2−チオピリドン302
mg及びヨウ化ナトリウム1800mgを水4.8ml
及びアセトニトリル1.51の混液に加え、次いで希酢
酸水溶液でpHを6.80に調整する。以下、実施例2
と同様に処理して、淡褐色の7β−((Z) −2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−〔((3S)
−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕ア
セトアミドl −3−(1−アリル−2−ピリジニオ)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート10
0mgを得る。
m、p、  250℃から徐々に分解。
Mass (m/e) : 616(M+1)+161
0、1560.154O NMR(DzO)  δ : 2.1〜2.8(2H,
m)、 3.5(2H,m)。
3.50 and 3.81(2H,each d、J
=18 Hz )+ 4.30and 4.59(2H
,each d、J=13 Hz )、 5.11(I
H,t。
J= 81(z )、 5.22(LH,d、J= 4
.511z )+ 5.40(411、m、)、 5.
80(LH,d、J= 4.5 Hz )、 6.11
(IH,m)。
7.15(11(、s)、 8.76 (IH,d、J
= 5.8 Hz )、 7.81(IH,t、J=5
.8 Hz)、 8.04(1■、d、J=8 Hz)
 8.38(1)1.dd、J=5.8 and 8 
Hz)上記と同様にして次の化合物を得る。
7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((、(3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセ1〜アミド) −3−(1
−アリル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートm、p、  165℃から徐々
に分解。
60O NMR(DzO)  δ : 2.2〜2.8(2H,
m)、 3.4〜3.6(2)1.m)、 3.49 
and 3.80(2H,each d、J=18 H
z)。
4.21 and 4.27(2H,each d、J
=13 Hz )、 5.06(28,d、J= 8 
+1z)、 5.10(LH,t、J= 8 tlz)
、 5.23(LH,d、J= 5 Hz)、 5.4
5(LH,d、J= 17 tlz)、 5.55(I
H,d、J= 10 Hz)、 5.80(IH,d、
J= 5 )1z)、 5.9〜6.4 (IH,m)
、 7.06(Ill、s)、 7.87(211,d
、J=6 H2)、 8.46(2H,d、J=6Hz
)実施例 4 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−C((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4=力ルボン酸682mg、1
−ベンジル−4−チオピリドン300mg、ヨウ化ナト
リウム1.8g及び炭酸水素ナトリウム110mgを水
20mA’に加え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液で
pHを6.6に調整する。混合物をアルゴン気流下、7
0℃で1.5時間攪拌する。以下、実施例2と同様に処
理して、7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−(((33) −2−オキソピロリ
ジン−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミドl −3
−(1−ベンジル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート270mgを得る。
m、p、  170〜185℃ (分M)1625、1
595 NMR(DzO)  δ : 2.5(2H,m)、 
3.5(2H,m)、 3.46and 3.74(L
H,eacJ d、J=18 Hz )、 4.31 
and 4.52(Ill、each d、J=13 
)1z )+ 5.04(10,t、J= 7゜811
z )+ 5.18(18,d、J= 4.4 Hz 
)、 5.68(20,s)、 5.77(it(、d
、J= 4.4 Hz )+ 7.02(LH,s)、
 7゜56(5H,s)、 7.97 (2H,d、J
= 6.5 Hz )+ 8.64(2H,d、J= 
 6.5 Hz  ) 実施例 5 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸682mg、1
−(4−ピリジル)−4−チオピリドン225mg、ヨ
ウ化ナトリウム2g及び炭酸水素ナトリウム120mg
を水15m1に加え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液
でpHを6.7に調整する。混合物をアルゴン気流下、
70℃で2時間攪拌する。以下、実施例2と同様に処理
して、7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(((3g)−2−オキソピロリジン
−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミド) −3−(
1−(4−ピリジル)−4−ピリジニオ)チオメチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート290mgを得る
m、p、  160〜175℃ (分解)1625.1
59O NMR(DzO)  δ : 2.5(2H,m)、 
 3.5(2B、m)、  3.53and 3.82
(IH,each d、J=18 fiz )+  4
.44(2M、brs)、 5.07(Ill、t、J
= 7.7 Hz )、 5.27(LH,d、J=4
.6 Hz )+  5.78(LH,d、J= 4.
6 Hz )、 6.99(IH、s)、 7.85 
(211,d、J= 6.3 Hz )+  8.10
(2H,d、J=7 Hz )、  8.79(2)1
.d、J= 7 Hz )、  8.90(21,d、
J=6.3  Hz  ) 実施例 6 実施例24で得られる7β−((Z)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(((3S)−2−オ
キソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミ
ドl −3−(4−ピリジル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸カリウム塩600■を水0.5−及
びジメチルホルムアミド5 mlの混液に溶解し、次い
でギ酸46mg及びヨードメチル710mgを加え室温
で10時間撹拌する。混合物を減圧下濃縮し、残香にア
セトン−エーテル混液を加える。不溶物をろ取し、ろ液
をトIP−20充填カラムクロマトで精製することによ
り7β=((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド’I  −3−(
1−メチル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレートを得る。
本品の物理恒数は実施例1で得た目的物のそれと一致し
た。
実施例 7〜64 対応原料化合物を実施例1〜5と同様に処理することに
より下記第2表記載の目的化合物(1)を得る。
(但し、下記表記載の目的化合物中、R1はアミノ基、
R3は式ニーCoo−で示される基であり、そのオキシ
イミノ基部位はZ(即ち、シン)配置を有し、また2−
オキソピロリジン基はすべて(3S)−配置を有する。
) 第2表 実施例65−67 対応原料化合物を実施例1〜5と同様に処理することに
より、下記第3表記載の目的化合物(■)を得る。
(但し、下記第3表記載の目的化合物中、R1はアミノ
基、R3はカルボキシル基であり、そのオキシキミノ基
部位はZ−(即ち、シン)配置を有し、また2−オキソ
ピロリジン基はすべて(3s> −配置を有する。
第3表 尚、上記実施例66及び67で得た化合物を、それぞれ
実施例6と同様に処理することにより、7β−((Z)
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(1
3s)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミ
ノ〕アセトアミド)−3−(1−メチル−2−ピリジニ
オ)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
及び7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−
3−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−(1−
メチル−チアゾロC5,4−b)ピリジニウム−2−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
を得る。これらの化合物の物理恒数は、実施例2及び2
2で得た目的物のそれと一致した。
参考例 1 4−クロロピリジン7.56g及びアリルプロミド4.
83 gの混合物を室温で撹拌する。混合物にアセトン
を加えて得られる析出物を18%−NaSH水溶液36
−に冷却下で加える。混合物を室温で反応させ、析出結
晶をろ取してm、p、 212〜217℃ (分解)の
1−(4−ピリジル)−4〜チオピリドン2.81gを
得る。一方、ろ液のクロロホルム抽出液を乾燥後濃縮し
、残香を精製してm、9.77〜79℃の1−アリル−
4−チオピリドン1.22g及び1−(4−ピリジル)
−4−チオピリドン0.18gを得る。
参考例 2〜6 対応原料を参考例1と同様に処理することにより、下記
第4表記載の化合物を得る。
第4表 参考例 7 1−メチル−2−クロロ−5−(アセチルアミノ)ピリ
ジニウム・ヨーシト1.03gを水に加熱溶解し、冷後
、18%Na SH水溶液2−を加える。混合物を室温
で反応させ、析出結晶をろ取、精製して、l−メチル−
5−(アセチルアミノ)−2−チオピリドン0.34g
を得る。
m、p、135  159°C(分解)参考例 日 1− (2−(ジメチルアミノ)エチル)−4−ピリド
ン2.4]gとロウエソソン試!3.63gのジメトキ
シエタン混液を撹拌後還流し、更に室温で一夜反応させ
る。溶媒を留去後、残香を精製して、1− (2−(ジ
メチルアミノ)エチル)−4−チオピリドン2.02g
を得る。
m、p、 138−139℃ 参考例 9〜12 対応原料を参考例8と同様に処理することにより、下記
第5表記載の化合物を得る6 第5表 参考例 13 1−エトキシカルボニルメチル−4−チオピリドン2.
40 gのメタノール溶液に30%メチルアミン−メタ
ノール溶液50W1を加え、室温で反応させ、溶媒を留
去後エタノールから再結晶して、!−1N−メチルカル
バモイル)メチル)−4−チオピリドン1.85gを得
る。
m、p、 184−185℃ 参考例 14〜23 対応原料を参考例13と同様に処理することにより、下
記第6表記載の化合物を得る。
第6表 参考例 24 1−エトキシカルボニルメチル−4−チオピリドン2.
5gのメタノールシン容ン夜にlN−NaOH13−を
加え加水分解して、1−カルボキシメチル−4−チオピ
リドン・ナトリウム塩2.27gを得る。n+、p、2
79  280℃ (分解)参考例 25−33 対応原料を参考例24と同様に処理するか、或いは常法
によりアシル化、カルバモイル化又はつレイド化して、
下記第7表記載化合物を得る。
第7表 参考例 34 (1)2−メルカプト−4−メチルピリミジン塩酸塩8
.10 g、ヨウ化メチル7.88g及び炭酸カリウム
13.82 gのメタノール混液を遮光上反応させ、不
溶物をろ去、溶媒を留去後残香を水に溶解し、塩化メチ
レン抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後溶媒を留去する。
得られた残香4.75 g及びヨウ化メチル4.63g
のアセトニトリル混液を封管中100℃で反応後、溶媒
を留去し、残香を精製して、1゜4−ジメチル−2−メ
チルチオピリミジニウム・ヨーシト5.14 gを得る
(2)本島3.49gの水40mji液に硫化ナトリウ
ム・9水和物4.46gの水15−溶液を滴下し反応さ
せ、塩化メチレンで抽出し、抽出液を乾燥後溶媒を留去
する。残香を精製して、3.6−シメチルビリミジンー
2(3H)−チオン2gを得る。
糟、p、 138〜140℃ 参考例 35〜36 対応原料を参考例34と同様に処理して次の化合物を得
る。
(35)1−メチル−IH−チアゾロ(5,4−b〕ピ
リジン−2−チオン m、p、 258〜260.5℃ (36)3−メチル−3H−チアゾロ(4,5−C〕ピ
リジン−2−チオン m、p、 265〜266℃(分解、メタノールから再
結晶) 参考例 37 1.2−ジメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4
−キノロン6.7gのジメトキシエタンQfi液にロウ
エッソン試薬15.27g及びピリジン100+dを加
え還流後、溶媒を留去し残香をクロロホルムに溶解し、
洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残香を精製して、1.2
−ジメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4−チオ
キノロン5.29gを得る。
m、p、 209〜210℃(エーテル−イソプロピル
エーテル混液から再結晶) 参考例 38 2.6−シメチルーγ−チオピロン3.0gのエタノー
ル懸濁液に、エタノールアミン5.2gを加え反応後溶
媒を留去し、残香を精製して、1−(2−ヒドロキシエ
チル)−2,6−シメチルー4−チオピリドン2.50
 gを得る。m、p、 212〜213 ℃(エタノー
ルから再結晶) 参考例 39〜41 対応原料を参考例38と同様に処理することにより、下
記第8表記載化合物を得る。
第8表 参考例 42 1−シアノメチル−4−ピリドン5.31 gのオキシ
塩化リン溶液を還流後溶媒を留去し、残香に氷水及び1
8%Na5II水溶液を加え撹拌する。析出結晶を濾取
して、1−((チオカルバモイル)メチル)−4−チオ
ピリドン2.07gを得る。−、p、 195〜197
℃ (分解、含水メタノールから再結晶)参考例 43 対応原料を参考例42と同様に処理することにより、1
,2.3− )ジメチル−5−チオキソ−3−ピラゾリ
ンを得る。 m、p、 143〜146℃(イソプロパ
ツールから再結晶) 参考例 44 1−(N−メチルカルバモイルメチル)−4−チオピリ
ドン2. Is g、ロウェフリン試薬4.77g及び
ピリジン70艷のジメトキシエタン溶液を還流し、溶媒
を留去後残香を精製して、1−(N−メチル(チオカル
バモイル)メチル)−4−チオピリドン1.61 gを
得る。m、2.178〜179℃ (分解、エタノール
から再結晶) 参考例 45〜48 対応原料化合物を参考例44と同様に処理することによ
り、下記第9表記載化合物を得る。
第9表 参考例 49 対応原料を参考例26次いで参考例4と同様に処理する
ことにより、1−カルバモイルメチル−2゜6−シメチ
ルー4−チオピリドンを得る。m、p、 251℃  
(徐々に分解) 参考例 50 (x15−(p−メトキシベンジルチオ)ニコチン酸2
.02gの塩酸−メタノール溶液を還流後濃縮し、残香
にクロロホルム及び水を加える。クロロホルム抽出し、
乾燥後溶媒を留去し、残香をイソプロピルエーテルから
再結晶して、5−(p−メトキシベンジルチオ)ニコチ
ン酸メチルエステルを得る。m、p、 72〜74 ℃ (2)本島2.07g及びヨウ化メチル8.1gのアセ
トン溶液を反応させ、溶媒を減圧留去して結晶2.86
gを得る。
(3)本島517■、ギ酸6−及び酢酸水銀1.16g
の水溶液を反応後析出物をろ去し、ろ液にH,Sガスを
導入する。析出物をろ去し、ろ液をクロロホルム−メタ
ノール混液で抽出する。乾燥後溶媒を留去し残香を精製
して、1−メチル−3−メルカプト−5−メトキシカル
ボニルピリジニウム(分子内塩)49■を得る。m、p
、 120〜123℃(分解、メタノール−エーテル混
液から再結晶) 参考例 51〜53 対応原料化合物を参考例50と同様に処理することによ
り、下記第10表記載化合物を得る。
第10表 参考例 55 1−(N−アセトアミドカルバモイルメチル)−4−チ
オピリドン(1−(N−アミノカルバモイルメチル)−
4−チオピリドンから調製32.50g、ロウエソソン
試薬5g及びピリジン100n+1を還流し、ピリジン
を留去後残香を精製して、1−((5−メチル−1,3
,4−チアジアゾール−2−イル)メチル)−4−チオ
ピリドンを得る。!n、p、 195〜197℃(分解
、アセトン−エーテル混液がら再結晶)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (但し、R^1は保護されていてもよいアミノ基、R^
    2は窒素原子及び硫黄原子から選ばれる1〜3個のヘテ
    ロ原子を有する置換もしくは非置換複素環式基、R^3
    は保護されていてもよいカルボキシル基又は式:−CO
    O^−で示される基を表す。)で示されるセファロスポ
    リン化合物又はその塩。
  2. (2)一般式( I )において、R^2が式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^4は低級アルケニル基、置換基を有してい
    てもよい含窒素5〜6員複素環式基、アシルアミノ基又
    は置換基を有していてもよい低級アルキル基、 R^5及びR^6は同一又は異なって水素原子、低級ア
    ルキル基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル基
    、カルバモイル基、チオカルバモイル基又は低級アルコ
    キシカルボニル基、 R^7、R^8及びR^9は低級アルキル基、V及びW
    は同一又は異なって式:−CH=又は−N=で示される
    基、 Q_1及びQ_2はその隣接する2個の炭素原子と共に
    窒素原子を含んでいてもよい6員環式基を形成すること
    を表す。) で示される基であり、R^3が式:−COO^−で示さ
    れる基である特許請求の範囲第1項記載の化合物又はそ
    の塩。
  3. (3)一般式( I )において、R^2が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基であり、 R^4は低級アルケニル基、ピリジル基、オキソピロリ
    ジニル基、アシルアミノ基であるか、又は置換基として
    シアノ基、水酸基、低級アルコキシ基、(N−低級アル
    キルカルバモイル)オキシ基、カルボキシル基、アミノ
    基、N,N−ジ低級アルキルアミノ基、アシルアミノ基
    、(N−低級アルキルカルバモイル)アミノ基、(N−
    低級アルキルチオカルバモイル)アミノ基、低級アルコ
    キシカルボニルアミノ基、低級アルキルチオ基、フェニ
    ル基、カルバモイルフェニル基、2−低級アルキル−1
    ,3,4−チアジアゾール−5−イル基及び式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基から選ばれる基を有していてもよい低級ア
    ルキル基であり、R^a及びR^bは同一又は異なって
    水素原子、低級アルキル基、水酸基、アミノ基又は低級
    アルケニル基を表すか、或いはR^aとR^bが互いに
    末端で結合してその隣接する窒素原子と共にモルホリノ
    基を形成し、Zは酸素原子又は硫黄原子である特許請求
    の範囲第2項記載の化合物又はその塩。
  4. (4)V及びWが式:−CH=で示される基である特許
    請求の範囲第3項記載の化合物又はその塩。
  5. (5)一般式( I )において、R^1がアミノ基であ
    る特許請求の範囲第1〜4項記載の化合物又はその塩。
  6. (6)一般式( I )において、R^2が式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^5及びR^6は同一又は異なって水素原子
    、低級アルキル基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボ
    キシル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、低級
    アルコキシカルバモイル基又は低級アルコキシカルボニ
    ル基、 R^7、R^8及びR^9は低級アルキル基、V及びW
    は同一又は異なって式:−CH=又は−N=で示される
    基、 Q_1及びQ_2はその隣接する2個の炭素原子と共に
    窒素原子を含んでいてもよい6員環式基を形成すること
    を表す。) で示される基であり、R^3が保護されていてもよいカ
    ルボキシル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物
    又はその塩。
JP62132887A 1986-06-04 1987-05-28 セファロスポリン化合物 Pending JPS63107989A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61-130879 1986-06-04
JP13087986 1986-06-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63107989A true JPS63107989A (ja) 1988-05-12

Family

ID=15044827

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62132887A Pending JPS63107989A (ja) 1986-06-04 1987-05-28 セファロスポリン化合物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4786633A (ja)
EP (1) EP0248645A3 (ja)
JP (1) JPS63107989A (ja)
KR (1) KR880000450A (ja)
CA (1) CA1288764C (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0327388A (ja) * 1989-05-11 1991-02-05 Lucky Co Ltd 新規のセファロスポリン化合物およびその製造方法
JPH03118381A (ja) * 1989-09-04 1991-05-20 Beecham Group Plc 新規化合物、その製法及びそれを含む医薬組成物
JPH04217987A (ja) * 1990-03-24 1992-08-07 Lucky Co Ltd セファロスポリン、中間体および製法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9006728D0 (en) * 1990-03-26 1990-05-23 Beecham Group Plc Novel compounds
MY106991A (en) * 1989-09-04 1995-08-30 Pfizer Novel cephalosporin derivatives or compounds
DE69016719T2 (de) * 1989-09-04 1995-06-01 Beecham Group Plc Cephalosporinderivate, Verfahren zu ihrer Herstellung, pharmazeutische Präparate und Zwischenverbindungen.
JP3115455B2 (ja) * 1992-12-18 2000-12-04 明治製菓株式会社 新規セファロスポリン誘導体
KR0154901B1 (ko) * 1992-12-26 1998-11-16 성재갑 신규 세팔로스포린계 항생제(v)
US5567698A (en) * 1995-02-15 1996-10-22 Bristol-Myers Squibb Company Pyridinium thiomethyl substituted chepholosporin derivatives
US5620969A (en) * 1995-04-25 1997-04-15 Bristol-Myers Squibb Company Cephalosporin derviatives
AU2603700A (en) * 1999-01-08 2000-07-24 General Electric Company Topical compositions comprising protected functional thiols
US6703007B2 (en) 1999-01-08 2004-03-09 The Procter & Gamble Company Topical compositions comprising functional nucleophiles protected by phosphorus-containing moieties
IT201900019896A1 (it) * 2019-10-28 2021-04-28 Ambrosia Srl Composto per il rivestimento di un oggetto realizzato in vetro e/o in ceramica e oggetto in vetro e/o in ceramica rivestito con tale composto

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AR228726A1 (es) * 1978-05-26 1983-04-15 Glaxo Group Ltd Procedimiento para la preparacion del antibiotico(6r,7r)-7-((z)-2-(2-aminotiazol-4-il)-2-(2-carboxiprop-2-oxiimino)acetamido)-3-(1-piridiniometil)cef-3-em-4-carboxilato
US4576938A (en) * 1981-12-08 1986-03-18 Tanabe Seiyaku Co., Ltd. Cephalosporin compound and process for preparing the same
IE55406B1 (en) * 1982-08-07 1990-09-12 Tanabe Seiyaku Co Novel cephalosporin compounds and preparation thereof
JPS59155391A (ja) * 1983-02-22 1984-09-04 Tanabe Seiyaku Co Ltd 新規セファロスポリン誘導体
JPS60226884A (ja) * 1984-04-25 1985-11-12 Dai Ichi Seiyaku Co Ltd セフアロスポリン誘導体
JPS6178792A (ja) * 1984-09-26 1986-04-22 Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(4−オキソ−2−アゼチジニル置換イミノ)アセトアミド〕−3−置換メチル−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸およびその製造法
GB2177691A (en) * 1985-07-18 1987-01-28 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotics

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0327388A (ja) * 1989-05-11 1991-02-05 Lucky Co Ltd 新規のセファロスポリン化合物およびその製造方法
JPH03118381A (ja) * 1989-09-04 1991-05-20 Beecham Group Plc 新規化合物、その製法及びそれを含む医薬組成物
JPH04217987A (ja) * 1990-03-24 1992-08-07 Lucky Co Ltd セファロスポリン、中間体および製法

Also Published As

Publication number Publication date
KR880000450A (ko) 1988-03-25
US4786633A (en) 1988-11-22
EP0248645A2 (en) 1987-12-09
CA1288764C (en) 1991-09-10
EP0248645A3 (en) 1989-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4008246A (en) Aminothiazole derivatives
US4396619A (en) Cephalosporin betaines
JPS63152370A (ja) 新規カルボン酸
JPS63107989A (ja) セファロスポリン化合物
EP0153709B1 (en) Novel cephalosporin derivatives
US4379787A (en) Oximino-substituted cephalosporin compounds
JPS6153359B2 (ja)
FR2569195A1 (fr) Derives du 7-carboxymethoxyphenylacetamido-3-cepheme utiles comme medicaments antibacteriens et procedes pour leur preparation
US4382932A (en) Isoquinolinium substituted cephalosporins
FI74972B (fi) Foerfarande foer framstaellning av farmaceutiskt vaerdefull 7 -/(z)-2-(2-aminotiazol/-4-yl)-2-oxi- imino-acetamido/-3-cefem-4-karboxylsyra.
EP0376724A2 (en) Cephalosporin compounds
GB2051810A (en) Cephalosporin compounds processes for their preparation and antibacterial drugs containing them
JPH0228185A (ja) セファロスポリン化合物及びその合成中間体
US4382931A (en) 3'-Substituted quinolinium cephalosporins
JPH0516437B2 (ja)
JPS5919114B2 (ja) セフアロスポリンの製造法
JPS62209082A (ja) セフアロスポリン誘導体
JPS6067483A (ja) チアゾリオメチル置換基を有するセフアロスポリン誘導体
JPS6322570A (ja) 1−メタンスルホニルオキシ−6−トリフルオロメチル−1h−ベンゾトリアゾ−ル及びセファロスポリン誘導体の製造方法
US4182868A (en) 7-Methoxycephalosporin derivatives
JPH02275886A (ja) セファロスポリン化合物及びその製法
JPH04266889A (ja) 抗生物質c−3カテコ−ル−置換セファロスボリン化合物、組成物およびその使用法
HU185685B (en) Process for preparing new cefem-carboxylic acid derivatives
DK151027B (da) Analogifremgangsmaade til fremstilling af 7alfa-methoxy-7beta-(2-aminothiazol-4-ylacetamido)cephalosporiner eller farmaceutisk acceptable salte eller estere deraf
JPH04338392A (ja) 新規セフェム誘導体及びその製造方法