JPS63107989A - セファロスポリン化合物 - Google Patents
セファロスポリン化合物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/36—Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規セファロスポリン化合物又はその塩に関す
る。
る。
(従来技術)
従来、数多くのセファロスポリン系抗生物質が得られて
おり、これらセファロスポリン系抗生物質の抗菌活性は
セフェム環の7位あるいは3位の置換基により大きく影
響されることが知られている。
おり、これらセファロスポリン系抗生物質の抗菌活性は
セフェム環の7位あるいは3位の置換基により大きく影
響されることが知られている。
(発明の構成及び効果)
本発明は次の一般式で示される新規セファロスポリン化
合物に関する。
合物に関する。
(但し、R1は保護されていてもよいアミノ基、R2は
窒素原子及び硫黄原子から選ばれる1〜3個のへテロ原
子を有する置換もしくは非霞摸複素環式基、R3は保護
されていてもよいカルボキシル基又は弐ニーCoo−で
示される基を表す。)本発明の新規セファロスポリン化
合物(1)もしくはその塩はグラム陽性菌及びグラム陰
性菌を含む広範囲の各種微生物に対し優れた抗菌活性を
有し、抗菌剤として有用な医薬化合物である。例えば、
該化合物(1)は前記グラム陽性菌やグラム陰性菌によ
り惹起される各種怒染症治療剤として、人間を含む哺乳
動物の化学療法剤として、あるいは動物飼料の添加剤と
して用いることができる。
窒素原子及び硫黄原子から選ばれる1〜3個のへテロ原
子を有する置換もしくは非霞摸複素環式基、R3は保護
されていてもよいカルボキシル基又は弐ニーCoo−で
示される基を表す。)本発明の新規セファロスポリン化
合物(1)もしくはその塩はグラム陽性菌及びグラム陰
性菌を含む広範囲の各種微生物に対し優れた抗菌活性を
有し、抗菌剤として有用な医薬化合物である。例えば、
該化合物(1)は前記グラム陽性菌やグラム陰性菌によ
り惹起される各種怒染症治療剤として、人間を含む哺乳
動物の化学療法剤として、あるいは動物飼料の添加剤と
して用いることができる。
本発明の目的化合物の具体例としては、−C式(I)に
於いて、R2が式; H′′ (a) 、 (b) 、 (c)(
d) 、 (e) 、
(f) 。
於いて、R2が式; H′′ (a) 、 (b) 、 (c)(
d) 、 (e) 、
(f) 。
(g) (h)で示される
複素環式基であり、R4が例えば、ビニル、アリル、1
−プロペニル、ブテニル、イソプロペニルなどの低級ア
ルケニル基;ピリジル基、オキソピロリジル基などの含
窒素5〜6員複素単環式基;ホルミルアミノ基、アセチ
ルアミノ基などのアシルアミノ基;メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などの低級ア
ルキル基であり RS及びR6が同−又は異なって、例
えば水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基などの低級アルキル基;アミノ基;ホルミルアミノ
基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などのア
シルアミノ基;カルボキシル基;カルバモイル基;チオ
カルバモイル基又はメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニルな
どの低級アルコキシカルボニル基であり、R7、R8及
ヒI? 9が、例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基などの低級アルキル基であり、■及びWは同
−又は異なって弐: −CH−又は−N=で示される基
であり、QI及びR2が、例えばシクロヘキセン環、ピ
リジン環の如きその隣接する2個の炭素原子と共に窒素
原子を含んでいてもよい6員環式基である化合物が挙げ
られる。また上記の例示化合物において、R4が低級ア
ルキル基のとき、当該低級アルキル基は置換基を有して
いてもよく、この置換基としては、例えば、シアノ基;
水酸基;メトキシ基、エトキシ基などの低級アルコキシ
基; (N−メチルカルバモイル)オキシ基、(N−エ
チルカルバモイル)オキシ基などの(N−低級アルキル
カルバモイル)オキシ基;カルボキシル基;アミノ基、
N、N−ジメチルアミノ基、N。
複素環式基であり、R4が例えば、ビニル、アリル、1
−プロペニル、ブテニル、イソプロペニルなどの低級ア
ルケニル基;ピリジル基、オキソピロリジル基などの含
窒素5〜6員複素単環式基;ホルミルアミノ基、アセチ
ルアミノ基などのアシルアミノ基;メチル基、エチル基
、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などの低級ア
ルキル基であり RS及びR6が同−又は異なって、例
えば水素原子;メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基などの低級アルキル基;アミノ基;ホルミルアミノ
基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などのア
シルアミノ基;カルボキシル基;カルバモイル基;チオ
カルバモイル基又はメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニルな
どの低級アルコキシカルボニル基であり、R7、R8及
ヒI? 9が、例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基などの低級アルキル基であり、■及びWは同
−又は異なって弐: −CH−又は−N=で示される基
であり、QI及びR2が、例えばシクロヘキセン環、ピ
リジン環の如きその隣接する2個の炭素原子と共に窒素
原子を含んでいてもよい6員環式基である化合物が挙げ
られる。また上記の例示化合物において、R4が低級ア
ルキル基のとき、当該低級アルキル基は置換基を有して
いてもよく、この置換基としては、例えば、シアノ基;
水酸基;メトキシ基、エトキシ基などの低級アルコキシ
基; (N−メチルカルバモイル)オキシ基、(N−エ
チルカルバモイル)オキシ基などの(N−低級アルキル
カルバモイル)オキシ基;カルボキシル基;アミノ基、
N、N−ジメチルアミノ基、N。
N−ジエチルアミノ基などのN、N−ジ低級アルキルア
ミノ基;ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピ
オニルアミノ基などのアシルアミノ基、(N−メチルカ
ルバモイル)アミノ基、(N−エチルカルバモイル)了
ミノ基などの(N−低級アルキルカルバモイル)アミノ
基;(N−メチルチオカルバモイル)アミノ基、(N−
エチルチオカルバモイル)アミノ基などの(N−(低級
アルキル)チオカルバモイル)アミノ基;メトキシカル
ボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ基など
の低級アルコキシカルボニルアミノ基;メチルチオ基、
エチルチオ基などの低級アルキルチオ基;フェニル基;
カルバモイルフェニル基;2−メチル−1,3,4−チ
アジアゾール−5−イル基などの2−低級アルキルー1
.3.4−チアジアゾール−5−イル基及び弐: (式中、R′″及びRbは同−又は異なり、水素原子;
メチル基、エチル基、プロピル基などの低級アルキル基
:水酸基;アミノ基又はビニル基、アリル基などの低級
アルケニル基を表すか、或いはR11とRbが互いに末
端で結合してその隣接する窒素原子と共にモルホリノ基
を形成することを表し、Zは酸素原子又は硫黄原子を表
す。)で示される基などが挙げられる。
ミノ基;ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピ
オニルアミノ基などのアシルアミノ基、(N−メチルカ
ルバモイル)アミノ基、(N−エチルカルバモイル)了
ミノ基などの(N−低級アルキルカルバモイル)アミノ
基;(N−メチルチオカルバモイル)アミノ基、(N−
エチルチオカルバモイル)アミノ基などの(N−(低級
アルキル)チオカルバモイル)アミノ基;メトキシカル
ボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ基など
の低級アルコキシカルボニルアミノ基;メチルチオ基、
エチルチオ基などの低級アルキルチオ基;フェニル基;
カルバモイルフェニル基;2−メチル−1,3,4−チ
アジアゾール−5−イル基などの2−低級アルキルー1
.3.4−チアジアゾール−5−イル基及び弐: (式中、R′″及びRbは同−又は異なり、水素原子;
メチル基、エチル基、プロピル基などの低級アルキル基
:水酸基;アミノ基又はビニル基、アリル基などの低級
アルケニル基を表すか、或いはR11とRbが互いに末
端で結合してその隣接する窒素原子と共にモルホリノ基
を形成することを表し、Zは酸素原子又は硫黄原子を表
す。)で示される基などが挙げられる。
これらのうち、好ましい化合物は、一般式(I)におい
て、R2が式(e)〜(h)、とりわけ式(e)で示さ
れる基であり、Rコが式: −Coo−で示される基で
ある化合物である。
て、R2が式(e)〜(h)、とりわけ式(e)で示さ
れる基であり、Rコが式: −Coo−で示される基で
ある化合物である。
また他の好ましい化合物としては、−i式(I)におい
て、R2が式(e)で示される基であり、R3が式ニー
COO−で示される基、R4が低級アルケニル基、ピリ
ジル基、オキソピロリジニル基、アシル基又は置換基を
有していてもよい低級アルキル基R5及びR6が水素原
子、■及びWが式: −CH=で示される基である化合
物が挙げられる。
て、R2が式(e)で示される基であり、R3が式ニー
COO−で示される基、R4が低級アルケニル基、ピリ
ジル基、オキソピロリジニル基、アシル基又は置換基を
有していてもよい低級アルキル基R5及びR6が水素原
子、■及びWが式: −CH=で示される基である化合
物が挙げられる。
更に好ましい化合物としては、一般式(1)において、
R2が式(e)で示される基であり、R”が弐ニーCO
O−で示される基、R4が低級アルケニル基又は低級ア
ルキル基、R5及びR11が水素原子、■及びWが式:
−CH=で示される基である化合物が挙げられる。
R2が式(e)で示される基であり、R”が弐ニーCO
O−で示される基、R4が低級アルケニル基又は低級ア
ルキル基、R5及びR11が水素原子、■及びWが式:
−CH=で示される基である化合物が挙げられる。
一般式(I)においてR2が式(a)〜(d)で示され
る基である化合物もそれ自体抗菌作用を示すが、これら
の化合物は一般式(1)においてR2が式(e)〜(h
)で示される基である化合物の合成中間体として利用す
ることができる。
る基である化合物もそれ自体抗菌作用を示すが、これら
の化合物は一般式(1)においてR2が式(e)〜(h
)で示される基である化合物の合成中間体として利用す
ることができる。
なお、本発明の化合物(1)において、R1が保護され
たアミノ基である場合、このアミン基の保護基としては
、ペプチド合成化学の分野で通常用いられる種々の保護
基を使用することができる。このような保護基としては
、例えばホルミル基、アセチル基、ピバロイル基の如き
低級アルカノイル基;クロロアセチル基、トリフルオロ
アセチル基の如きモノ−、ジー又はトリハロゲノ−低級
アルカノイル基;メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、tert、−ブトキシカルボニル基の如き低
級アルコキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル
基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基の如き置
換もしくは非置換ベンジルオキシカルボニル基;ベンジ
ル基、p−メトキシベンジル基、3,4−ジメトキシベ
ンジル基の如き置換もしくは非置換フェニル低級アルキ
ル基;ベンズヒドリル基、トリチル基の如きジー又はト
リフェニル低級アルキル基などが含まれ、一方、R3が
保護されたカルボキシル基である場合、このカルボキシ
ル基の保護基としては加水分解、酸処理、還元の如き通
常の処理により除去しうる保8W基を用いるのが好まし
い。このような保護基としては、例えばメチル基、エチ
ル基、tert、−ブチル基の如き低級アルキル基;ベ
ンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ニトロベンジ
ル基の如き置換もしくは非置換フェニル低級アルキル基
;ベンズヒドリル基、トリメチルシリル基の如きトリ低
級アルキルシリル基などが含まれる。
たアミノ基である場合、このアミン基の保護基としては
、ペプチド合成化学の分野で通常用いられる種々の保護
基を使用することができる。このような保護基としては
、例えばホルミル基、アセチル基、ピバロイル基の如き
低級アルカノイル基;クロロアセチル基、トリフルオロ
アセチル基の如きモノ−、ジー又はトリハロゲノ−低級
アルカノイル基;メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、tert、−ブトキシカルボニル基の如き低
級アルコキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル
基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基の如き置
換もしくは非置換ベンジルオキシカルボニル基;ベンジ
ル基、p−メトキシベンジル基、3,4−ジメトキシベ
ンジル基の如き置換もしくは非置換フェニル低級アルキ
ル基;ベンズヒドリル基、トリチル基の如きジー又はト
リフェニル低級アルキル基などが含まれ、一方、R3が
保護されたカルボキシル基である場合、このカルボキシ
ル基の保護基としては加水分解、酸処理、還元の如き通
常の処理により除去しうる保8W基を用いるのが好まし
い。このような保護基としては、例えばメチル基、エチ
ル基、tert、−ブチル基の如き低級アルキル基;ベ
ンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ニトロベンジ
ル基の如き置換もしくは非置換フェニル低級アルキル基
;ベンズヒドリル基、トリメチルシリル基の如きトリ低
級アルキルシリル基などが含まれる。
また本発明における式、
−C−CONH−
隊
で示される部分構造は、別に定めない限り、式%式%)
で示される幾何異性のいずれをもあるいはそれらの混合
物をも意味するものとする。しかしながら、医薬として
使用する場合、本発明の目的化合物(1)はオキシイミ
ノ基の異性配置が2(すなわち、シン)配置である化合
物が最良の生物学的性質を有し好ましいが、該異性体(
Z配置)はE(すなわち、アンチ)異性体を少量含むも
のであってもよい。
物をも意味するものとする。しかしながら、医薬として
使用する場合、本発明の目的化合物(1)はオキシイミ
ノ基の異性配置が2(すなわち、シン)配置である化合
物が最良の生物学的性質を有し好ましいが、該異性体(
Z配置)はE(すなわち、アンチ)異性体を少量含むも
のであってもよい。
本発明によれば、目的化合物(1)又はその塩は、
(八)一般式
(但し、R1+は保護されていてもよいアミノ基を表す
。) で示されるオキシイミノ酢酸化合物、その塩モジくはそ
の反応性誘辱体と一般式 (但し、R31は保護されていてもよいカルボキシル基
又は式ニーCOO−で示される基、R2は前記と同一意
味を有する) で示される7−アミツセフアロスボリン化合物もしくは
その塩とを縮合させるか、又は (B)一般式 (但し、R目及びR3Iは前記と同一意味を有し、Xl
は反応性残基を表す。) で示されるセファロスポリン化合物、もしくはその塩と
一般式 %式%() (但し、R2は前記と同一意味を有する)で示されるチ
オール化合物、もしくはその塩とを縮合させ、 (C))l”が保護されたアミノ基および/又はR31
が保護されたカルボキシル基である場合は所望により該
保護基を除去し、 (D)所望により、生成物を更にその塩とすることによ
り製することができる。
。) で示されるオキシイミノ酢酸化合物、その塩モジくはそ
の反応性誘辱体と一般式 (但し、R31は保護されていてもよいカルボキシル基
又は式ニーCOO−で示される基、R2は前記と同一意
味を有する) で示される7−アミツセフアロスボリン化合物もしくは
その塩とを縮合させるか、又は (B)一般式 (但し、R目及びR3Iは前記と同一意味を有し、Xl
は反応性残基を表す。) で示されるセファロスポリン化合物、もしくはその塩と
一般式 %式%() (但し、R2は前記と同一意味を有する)で示されるチ
オール化合物、もしくはその塩とを縮合させ、 (C))l”が保護されたアミノ基および/又はR31
が保護されたカルボキシル基である場合は所望により該
保護基を除去し、 (D)所望により、生成物を更にその塩とすることによ
り製することができる。
又、目的化合物(1)において、基R2が式(e)〜(
h)で示される基である化合物又はその塩は、(E)目
的化合物(1)のうち、基R2が式(a)〜(d)で示
される基である化合物又はその塩と一般式%式%() (但し、R4は前記と同一意味を有し、X2は反応性残
基を表す。) で示される化合物とを反応させ、 (F)R’が保護されたアミノ基および/又はR3が保
護されたカルボキシ基である場合は所望により該保3!
!基を除去し、 (G)所望により生成物を更にその塩とすることによっ
て製することもできる。
h)で示される基である化合物又はその塩は、(E)目
的化合物(1)のうち、基R2が式(a)〜(d)で示
される基である化合物又はその塩と一般式%式%() (但し、R4は前記と同一意味を有し、X2は反応性残
基を表す。) で示される化合物とを反応させ、 (F)R’が保護されたアミノ基および/又はR3が保
護されたカルボキシ基である場合は所望により該保3!
!基を除去し、 (G)所望により生成物を更にその塩とすることによっ
て製することもできる。
(但し、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物又はその塩は、 (H)セファロスポリン化合物(IV)又はその塩と一
般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物とを反応させ、 (1) R”が保護されたアミノ基および/又はR11
が保護されたカルボキシ基である場合は、所望により該
保護基を除去し、 U)所望により生成物を更にその塩とすることにより製
することもできる。
化合物又はその塩は、 (H)セファロスポリン化合物(IV)又はその塩と一
般式 (但し、記号は前記と同一意味を有する。)で示される
化合物とを反応させ、 (1) R”が保護されたアミノ基および/又はR11
が保護されたカルボキシ基である場合は、所望により該
保護基を除去し、 U)所望により生成物を更にその塩とすることにより製
することもできる。
本発明の原料化合物(n)、(III)及び(IV)の
塩としては、慣用の無機塩及び有機アミン塩をいずれも
好適に用いることができ、化合物(I−b)も同様の形
で上記反応に供することができる。一方、原料化合物(
V)の塩としてはアルカリ金属塩を好適に用いることが
できる。化合物(I−a)、(TI)、(III)及び
(IV)において、R11が保護されたアミノ基及び%
Iが保護されたカルボキシル基である場合、これらの保
護基としてはR1及びR3の保護基として説明した基を
いずれも使用することができる。
塩としては、慣用の無機塩及び有機アミン塩をいずれも
好適に用いることができ、化合物(I−b)も同様の形
で上記反応に供することができる。一方、原料化合物(
V)の塩としてはアルカリ金属塩を好適に用いることが
できる。化合物(I−a)、(TI)、(III)及び
(IV)において、R11が保護されたアミノ基及び%
Iが保護されたカルボキシル基である場合、これらの保
護基としてはR1及びR3の保護基として説明した基を
いずれも使用することができる。
前記(A)工程の反応に於いて、遊離のオキシイミノ酢
酸化合物(II)と7−アミンセフアロスボリン化合物
(I[I)との縮合反応は、適当な溶媒中脱水剤の存在
下に実施することができる。脱水剤としては、例えば、
ジシクロへキシルカルボジイミド、オキシ塩化リン、塩
化チオニル、シュウ酸クロリド、或いはジメチルホルム
アミドとオキシ塩化リン、シュウ酸クロリド、ホスゲン
又は塩化チオニルとから調製されるヴイルスマイヤ試薬
など慣用の脱水剤をいずれも用いることができる。溶媒
としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ア
セトニトリル、クロロホルム、ピリジン、エタノール、
水などを好適に使用することができる。本反応は冷却下
〜室温で好適に進行する。
酸化合物(II)と7−アミンセフアロスボリン化合物
(I[I)との縮合反応は、適当な溶媒中脱水剤の存在
下に実施することができる。脱水剤としては、例えば、
ジシクロへキシルカルボジイミド、オキシ塩化リン、塩
化チオニル、シュウ酸クロリド、或いはジメチルホルム
アミドとオキシ塩化リン、シュウ酸クロリド、ホスゲン
又は塩化チオニルとから調製されるヴイルスマイヤ試薬
など慣用の脱水剤をいずれも用いることができる。溶媒
としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ア
セトニトリル、クロロホルム、ピリジン、エタノール、
水などを好適に使用することができる。本反応は冷却下
〜室温で好適に進行する。
また、オキシイミノ酢酸化合物(II)の反応性誘導体
(例えば酸無水物、混酸無水物、活性エステル等)と7
−アミンセフアロスボリン化合物(■)もしくはその塩
との縮合反応は脱酸剤の存在又は非存在下に実施するこ
とができる。本反応は前記と同じ溶媒中で実施でき、ま
た脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ
金属、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルアミン、N
、 N−ジアルキルアニリン、ピリジンなどが好適に用
いることができる。本反応は冷却下〜室温で好適に進行
する。
(例えば酸無水物、混酸無水物、活性エステル等)と7
−アミンセフアロスボリン化合物(■)もしくはその塩
との縮合反応は脱酸剤の存在又は非存在下に実施するこ
とができる。本反応は前記と同じ溶媒中で実施でき、ま
た脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ
金属、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルアミン、N
、 N−ジアルキルアニリン、ピリジンなどが好適に用
いることができる。本反応は冷却下〜室温で好適に進行
する。
前記(B)工程の反応は中性近<pH2−8、好ましく
はpH5−3で好適に実施することができる。原料化合
物(I’/)としては、その反応性残基X1が例えばカ
ルバモイルオキシ基、低級アルカノイルオキシ基、ハロ
ゲン原子などである化合物を使用することが出来る。本
反応は水又は水と容易に混合し、かつ原料と反応しない
有機溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジオキサン、アセトン、アルコール、アセ
トニトリル、ジメチルスルホキサイド、テトラヒドロフ
ラン等)又はその混液中で実施するのが好ましく、また
、所望により、界面活性作用を有する四級アンモニウム
塩(例えばトリ低級アルキルベンジルアンモニウム・ハ
ライド)、アルカリ金属ハロゲン化物、炭酸水素ナトリ
ウムあるいはリン酸緩衝溶液などを反応系に添加するこ
とによって円滑に進行させることもできる。
はpH5−3で好適に実施することができる。原料化合
物(I’/)としては、その反応性残基X1が例えばカ
ルバモイルオキシ基、低級アルカノイルオキシ基、ハロ
ゲン原子などである化合物を使用することが出来る。本
反応は水又は水と容易に混合し、かつ原料と反応しない
有機溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ジオキサン、アセトン、アルコール、アセ
トニトリル、ジメチルスルホキサイド、テトラヒドロフ
ラン等)又はその混液中で実施するのが好ましく、また
、所望により、界面活性作用を有する四級アンモニウム
塩(例えばトリ低級アルキルベンジルアンモニウム・ハ
ライド)、アルカリ金属ハロゲン化物、炭酸水素ナトリ
ウムあるいはリン酸緩衝溶液などを反応系に添加するこ
とによって円滑に進行させることもできる。
前記(E)工程の反応は溶媒中で好適に実施することが
できる。原料化合物(Vr)としては、反応性残基X2
がハロゲン原子、無機酸の酸残基などである化合物を好
適に用いることができる。溶媒としては(B)工程と同
じ反応溶媒を用いることができる。反応は室温〜加温下
で好適に進行する。
できる。原料化合物(Vr)としては、反応性残基X2
がハロゲン原子、無機酸の酸残基などである化合物を好
適に用いることができる。溶媒としては(B)工程と同
じ反応溶媒を用いることができる。反応は室温〜加温下
で好適に進行する。
かくして得られる目的化合物においてR’(又はR目)
が保護されたアミノ基及び/又はR3(又はR31)が
保護されたカルボキシル基である場合は、所望により該
保護基を除去してもよい。これらの保護基の除去は、例
えば加水分解、加溶媒分解、酸処理、還元の如き常法を
適宜組み合わせて実施すことができる。
が保護されたアミノ基及び/又はR3(又はR31)が
保護されたカルボキシル基である場合は、所望により該
保護基を除去してもよい。これらの保護基の除去は、例
えば加水分解、加溶媒分解、酸処理、還元の如き常法を
適宜組み合わせて実施すことができる。
尚、本発明の原料化合物(I[[)は、例えば7−アミ
ツセフアロスボラン酸又はその塩と化合物(■)とを縮
合させることにより製造できる。この反応は化合物(1
’V )又はその塩と化合物(V)又はその塩との縮合
反応で説明したと同様の条件で実施できる。一方、原料
化合物(IV)は、例えば特開昭59−51292号記
載方法に従って、化合物(■)と式 (但し、R31及びXIは前記と同一意味を有する。)
で示される7−アミノセファロスポリン化合物とを通常
の方法により縮合させて製造できる。
ツセフアロスボラン酸又はその塩と化合物(■)とを縮
合させることにより製造できる。この反応は化合物(1
’V )又はその塩と化合物(V)又はその塩との縮合
反応で説明したと同様の条件で実施できる。一方、原料
化合物(IV)は、例えば特開昭59−51292号記
載方法に従って、化合物(■)と式 (但し、R31及びXIは前記と同一意味を有する。)
で示される7−アミノセファロスポリン化合物とを通常
の方法により縮合させて製造できる。
本発明の目的化合物(1)もしくはその塩は、ストレプ
トコッカス(Streptococcus)属(例えば
、ストレプトコッカス・ニューモニエ(S、pneum
。
トコッカス(Streptococcus)属(例えば
、ストレプトコッカス・ニューモニエ(S、pneum
。
n1ae))、エンテロコツカス(En teroco
ccus)属(例えば、エンテロコツカス・フエカーリ
ス(E、 faecalis))、スタフィロコッカス
(Staphylococcus)属(例えば、スタフ
ィロコッカス・アウレウス(S。
ccus)属(例えば、エンテロコツカス・フエカーリ
ス(E、 faecalis))、スタフィロコッカス
(Staphylococcus)属(例えば、スタフ
ィロコッカス・アウレウス(S。
aureus)、スタフィロコッカス・エビデルミゾイ
ス(S、 epidermidis))及びシュードモ
ナス(Pseudomonas)属(例えば、シュード
モナス・アエルギノーザ(P、 aeruginosa
)などに属する広範囲の種々の細菌に対し優れた抗菌活
性を示し、グラム陽性菌及びグラム陰性菌の両方に対し
優れた抗菌活性を示すという特徴がある。また、目的化
合物(■)もしくはその塩は、バシラス(Bacill
us)属(例えば、バシラス・サブチリス(B、 5u
btilis))、エシェリキア(Escherich
fa)属(例えば、エシェリキア・コリ(E、 col
i))、クレブシェラ(Xlebsiella)属(例
えば、クレブシェラ・ニューモニエ(K、 pneum
oniae))、エンテロバクタ−(En terob
ac ter)属(例えば、エンテロバクタ−・アエロ
ケネス(E、aerogenes)、エンテロバクタ−
・クロアカニ(E、 cloacae))、セレイシア
(Serra t ia)属(例えば、セレイシア・マ
ルセソセンス(S、 marcescens))などに
属する細菌に対しても、あるいはシトロバクタ−(Ci
trobacter)属、プロテウス(Pro teu
s)属、シゲラ(Shigel la)属、ヘモフィル
ス(Haem。
ス(S、 epidermidis))及びシュードモ
ナス(Pseudomonas)属(例えば、シュード
モナス・アエルギノーザ(P、 aeruginosa
)などに属する広範囲の種々の細菌に対し優れた抗菌活
性を示し、グラム陽性菌及びグラム陰性菌の両方に対し
優れた抗菌活性を示すという特徴がある。また、目的化
合物(■)もしくはその塩は、バシラス(Bacill
us)属(例えば、バシラス・サブチリス(B、 5u
btilis))、エシェリキア(Escherich
fa)属(例えば、エシェリキア・コリ(E、 col
i))、クレブシェラ(Xlebsiella)属(例
えば、クレブシェラ・ニューモニエ(K、 pneum
oniae))、エンテロバクタ−(En terob
ac ter)属(例えば、エンテロバクタ−・アエロ
ケネス(E、aerogenes)、エンテロバクタ−
・クロアカニ(E、 cloacae))、セレイシア
(Serra t ia)属(例えば、セレイシア・マ
ルセソセンス(S、 marcescens))などに
属する細菌に対しても、あるいはシトロバクタ−(Ci
trobacter)属、プロテウス(Pro teu
s)属、シゲラ(Shigel la)属、ヘモフィル
ス(Haem。
philus)属、サルモネラ(Salmonel l
a)属に属する細菌に対しても優れた抗菌活性を示す。
a)属に属する細菌に対しても優れた抗菌活性を示す。
さらにまた、目的化合物(I)もしくはその塩は生体組
織での吸収が良く、また治療効果が長時間持続するため
、スタフィロコッカス・アウレウスやシュードモナス・
アエルギノーザを含む種々の細菌の感染症に対して優れ
た防禦効果を示す。特に、本発明の目的化合物(1)も
しくはその塩はin viv。
織での吸収が良く、また治療効果が長時間持続するため
、スタフィロコッカス・アウレウスやシュードモナス・
アエルギノーザを含む種々の細菌の感染症に対して優れ
た防禦効果を示す。特に、本発明の目的化合物(1)も
しくはその塩はin viv。
で高い抗菌活性を示すと言う特徴がある。また、目的化
合物(1)もしくはその塩は種々のβ−ラククマーゼ産
生細菌に対し安定性が良く、例えばプロテウス・ブルガ
リス(Proteus vulgaris)により産出
されるβ−ラゲタマーゼに対し安定性が良い。更に、目
的化合物(1)もしくはその塩は低毒性であり、医薬と
して高い安全性を示す。
合物(1)もしくはその塩は種々のβ−ラククマーゼ産
生細菌に対し安定性が良く、例えばプロテウス・ブルガ
リス(Proteus vulgaris)により産出
されるβ−ラゲタマーゼに対し安定性が良い。更に、目
的化合物(1)もしくはその塩は低毒性であり、医薬と
して高い安全性を示す。
本発明の目的化合物(1)は医薬として使用する場合、
′M遊離化合物しても、またその塩としても使用するこ
とができる。目的化合物(Hの塩はその遊離化合物を水
性溶媒中等モル■のアルカリ試薬又は酸で処理して得る
ことができ、又その薬理的に許容しうる塩としては、例
えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネ
シウム塩、アルミニウム塩の如き非毒性金属塩ニトリア
ルキルアミン(例えば、トリエチルアミン)、ピリジン
、エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミンの如き非毒性アミンとの塩;塩酸、硫酸
、臭化水素酸の如き無機酸との塩;シェラ酸、酒石酸の
如き有機酸との塩;グリシン、リジン、アルギニン、ア
スパラギン酸、グルタミン酸の如きアミノ酸との付加塩
などがあげられる。また目的化合物(I)の塩は例えば
アミノ基、四級アミノ基又はスルホン酸基を含むポリス
チレン樹脂又はカルボキシ基を含む樹脂例えばポリアク
リル酸樹脂などで形成される樹脂との塩の形であっても
よい。更にまた、鉄、銅などの金属あるい′は塩化アン
モニウムなどのアンモニウム塩との錯体であってもよい
。従って、本発明の目的化合物(I)及びその塩は、そ
の分子内塩、付加物、錯体、溶媒和物あるいは水和物な
どをいずれも含むものと解釈されるべきである。
′M遊離化合物しても、またその塩としても使用するこ
とができる。目的化合物(Hの塩はその遊離化合物を水
性溶媒中等モル■のアルカリ試薬又は酸で処理して得る
ことができ、又その薬理的に許容しうる塩としては、例
えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネ
シウム塩、アルミニウム塩の如き非毒性金属塩ニトリア
ルキルアミン(例えば、トリエチルアミン)、ピリジン
、エタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミンの如き非毒性アミンとの塩;塩酸、硫酸
、臭化水素酸の如き無機酸との塩;シェラ酸、酒石酸の
如き有機酸との塩;グリシン、リジン、アルギニン、ア
スパラギン酸、グルタミン酸の如きアミノ酸との付加塩
などがあげられる。また目的化合物(I)の塩は例えば
アミノ基、四級アミノ基又はスルホン酸基を含むポリス
チレン樹脂又はカルボキシ基を含む樹脂例えばポリアク
リル酸樹脂などで形成される樹脂との塩の形であっても
よい。更にまた、鉄、銅などの金属あるい′は塩化アン
モニウムなどのアンモニウム塩との錯体であってもよい
。従って、本発明の目的化合物(I)及びその塩は、そ
の分子内塩、付加物、錯体、溶媒和物あるいは水和物な
どをいずれも含むものと解釈されるべきである。
目的化合物(I)もしくはその塩は経口的にも非経口的
(例えば、静脈内、筋肉内、皮下)にも投与することが
できる。目的化合物(I)もしくはその塩の1日当りの
投与量は、患者の年令、体重、状態および疾患の種類に
よっても異なるが、通常、1日当りの投与量は体重1k
g当り約0゜002〜約0.2g、好ましくは0.01
〜0゜04gが適当である。また目的化合物(I)もし
くはその塩を医薬として使用する場合、経口もしくは非
経口投与に適した医薬賦形剤と結合または混合した医薬
製剤として使用することができる。
(例えば、静脈内、筋肉内、皮下)にも投与することが
できる。目的化合物(I)もしくはその塩の1日当りの
投与量は、患者の年令、体重、状態および疾患の種類に
よっても異なるが、通常、1日当りの投与量は体重1k
g当り約0゜002〜約0.2g、好ましくは0.01
〜0゜04gが適当である。また目的化合物(I)もし
くはその塩を医薬として使用する場合、経口もしくは非
経口投与に適した医薬賦形剤と結合または混合した医薬
製剤として使用することができる。
医薬製剤は錠剤、顆粒剤、カプセルの如き固型剤であっ
てもよく、溶液、懸濁液、乳液の如き液剤であってもよ
い。これら医薬製剤は殺菌され及び/又は安定剤、湿潤
剤、乳化剤の如き補助剤を含むも′のであってもよい。
てもよく、溶液、懸濁液、乳液の如き液剤であってもよ
い。これら医薬製剤は殺菌され及び/又は安定剤、湿潤
剤、乳化剤の如き補助剤を含むも′のであってもよい。
また上記本発明に於いて、目的化合物(1)、原料化合
物(II)及び(IV)にはオキソピロリジン基の不斉
炭素原子にもとづく光学異性体が存在するが、本発明は
これらの光学異性体及びラセミ体のいずれをも含むもの
である。
物(II)及び(IV)にはオキソピロリジン基の不斉
炭素原子にもとづく光学異性体が存在するが、本発明は
これらの光学異性体及びラセミ体のいずれをも含むもの
である。
実験例
叉竣1迭
(抗菌活性、旦 vitro )
検体化合物の最小発育阻止濃度(M、 1.C,、μg
/m/りをミューラー・ヒントン寒天(Mueller
−11inton agar) (M HA ; 二
yスイ社製)培地を使用して寒天平板希釈法(日本化学
療法学会標準法)により測定して求めた。
/m/りをミューラー・ヒントン寒天(Mueller
−11inton agar) (M HA ; 二
yスイ社製)培地を使用して寒天平板希釈法(日本化学
療法学会標準法)により測定して求めた。
(マウスにおける細菌感染症防禦効果)雄性マウス(1
群=10匹、体重=20±1g)に非治療対照マウスを
24時間以内に死亡させるに十分な各種細菌を腹腔内に
接種した。これら細菌は6%ムチン加生理食塩液にけん
濁して接種した。菌接種1時間後に検体を筋肉内投与し
、菌接種7日後の生存率より、検体の50 %有効i1 (EDSO,mg/kg)をプロビット(
Probito)法によって求めた。
群=10匹、体重=20±1g)に非治療対照マウスを
24時間以内に死亡させるに十分な各種細菌を腹腔内に
接種した。これら細菌は6%ムチン加生理食塩液にけん
濁して接種した。菌接種1時間後に検体を筋肉内投与し
、菌接種7日後の生存率より、検体の50 %有効i1 (EDSO,mg/kg)をプロビット(
Probito)法によって求めた。
猜工
結果を下記第1表に示す。
第 1 表
ト
実施例 1
7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸337+wg、
1−メチル−4−チオピリドン84mg、炭酸水素ナト
リウム77mg及びヨウ化ナトリウム898mgを水6
mj2に加え、混合物をアルゴン気流下、61℃で6時
間攪拌する。
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸337+wg、
1−メチル−4−チオピリドン84mg、炭酸水素ナト
リウム77mg及びヨウ化ナトリウム898mgを水6
mj2に加え、混合物をアルゴン気流下、61℃で6時
間攪拌する。
反応液を減圧下濃縮し、濃縮液を非イオン性吸着樹脂(
商品名:ダイヤイオンHP −20,三菱化成社製、以
下11P−20と略称する)を充填したカラムクロマト
で精製(溶媒;20%メタノール)する。
商品名:ダイヤイオンHP −20,三菱化成社製、以
下11P−20と略称する)を充填したカラムクロマト
で精製(溶媒;20%メタノール)する。
目的物を含有するフラクションを集め濃縮し、残香を凍
結乾燥することにより、淡黄色の7β−((Z)−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−C((3S
)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕
アセトアミド)−3−(l−メチル−4−ピリジニオ)
チオメチル−3−セフェム−4−カルホキシレー)85
mgを得る。
結乾燥することにより、淡黄色の7β−((Z)−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−C((3S
)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕
アセトアミド)−3−(l−メチル−4−ピリジニオ)
チオメチル−3−セフェム−4−カルホキシレー)85
mgを得る。
m、p、 170℃から徐々に分解。
Mass (m/e) : 590(M+1) ”NM
R(D20)δ : 2.1〜2.8 (2H,m)、
3.5 (2H,m)。
R(D20)δ : 2.1〜2.8 (2H,m)、
3.5 (2H,m)。
3.49 and 3.80 (2H,each d、
J=17 +1z)、 4゜2H3tl、s)、 4
.21 and 4.43 (2H,each d、
J=14 H2)、 5.10 (LH,t、 J=
81(z)、 5.24 (IH。
J=17 +1z)、 4゜2H3tl、s)、 4
.21 and 4.43 (2H,each d、
J=14 H2)、 5.10 (LH,t、 J=
81(z)、 5.24 (IH。
d、 J= 4 Hz)、 5.78 (ill、 d
、 J= 4 Hz)、 7.07(LH,s)、 7
.83 (2H,d、 J= 7 Hz)、 8.39
(2tl。
、 J= 4 Hz)、 7.07(LH,s)、 7
.83 (2H,d、 J= 7 Hz)、 8.39
(2tl。
d、 J= 7 )1z)
実施例 2
7β−(<Z’)−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(((33)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸341mg、
1−メチル−2−チオピリドン125mg及びヨウ化ナ
トリウム900mgを水4.81に加え、次いで炭酸水
素ナトリウム水溶液でpHを6.63に調整する。混合
物をアルゴン気流下、65℃で3.5時間攪拌する。反
応液を減圧下濃縮し、濃縮液をHP−20充填カラムク
ロマトで精1!(溶媒=20%及び25%メタノール)
する。目的物を含有するフラクションを集め濃縮し、残
香を凍結乾燥することにより、淡褐色の7β−((Z)
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−((
(3S)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイ
ミノ〕アセトアミド) −3−(1−メチル−2−ピリ
ジニオ)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート128mgを得る。
イル)−2−(((33)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸341mg、
1−メチル−2−チオピリドン125mg及びヨウ化ナ
トリウム900mgを水4.81に加え、次いで炭酸水
素ナトリウム水溶液でpHを6.63に調整する。混合
物をアルゴン気流下、65℃で3.5時間攪拌する。反
応液を減圧下濃縮し、濃縮液をHP−20充填カラムク
ロマトで精1!(溶媒=20%及び25%メタノール)
する。目的物を含有するフラクションを集め濃縮し、残
香を凍結乾燥することにより、淡褐色の7β−((Z)
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−((
(3S)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイ
ミノ〕アセトアミド) −3−(1−メチル−2−ピリ
ジニオ)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート128mgを得る。
m、p、 230℃から徐々に分解。
Mass (m/e) : 590(M+1)”160
0、1560.154O NMR(020)δ : 2.1〜2.8(2H,m)
、 3.5(2H,m)。
0、1560.154O NMR(020)δ : 2.1〜2.8(2H,m)
、 3.5(2H,m)。
3.62(2H,m)、 4.27(3H,s)、 4
.31 and 4.56(2H、each d、J=
131(z )+ 5.11(LH+t+J= 7 H
z )+5.22(IH,d、J= 5 Hz )、
5.80(1B、t、J= 511z)、 7.08(
LH,s)、 7.73(LH,t、J=6.3■Z)
、 7.97(IH,d、J=8 )1z)、 8:3
3(1)1.dd、J=6.3 and 8.0)1z
)8.70(III、d、J= 6.3 Hz )上記
と同様にして次の化合物を得る。
.31 and 4.56(2H、each d、J=
131(z )+ 5.11(LH+t+J= 7 H
z )+5.22(IH,d、J= 5 Hz )、
5.80(1B、t、J= 511z)、 7.08(
LH,s)、 7.73(LH,t、J=6.3■Z)
、 7.97(IH,d、J=8 )1z)、 8:3
3(1)1.dd、J=6.3 and 8.0)1z
)8.70(III、d、J= 6.3 Hz )上記
と同様にして次の化合物を得る。
7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド) −3−(1−(
N−メチルカルバモイルメチル)−2−ピリジニオ)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート m、p、 155〜165°C(着色分解)Mass
(m/e) : 647(M+1)”1560.15
3O NMR(D、0) δ : 2.54(2H,m)、
2.93(2H,s)、 3.58(211,m)、
3.51 and 3.82(2H,each d、
J=181fz)。
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド) −3−(1−(
N−メチルカルバモイルメチル)−2−ピリジニオ)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート m、p、 155〜165°C(着色分解)Mass
(m/e) : 647(M+1)”1560.15
3O NMR(D、0) δ : 2.54(2H,m)、
2.93(2H,s)、 3.58(211,m)、
3.51 and 3.82(2H,each d、
J=181fz)。
4.40 and 4.62(2H,each d、J
=13 Hz)、 5.15(LH,t、J= 7 H
z )、 5.28 and 5.84 (2H,ea
chd、J=4.611z)、 5.57 (2t(、
S)、 7.1’7(11Ls)、 8.53(1)1
.t、J=7 Hz)、 8.80 (III、d、J
=711z)実施例 3 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((、(3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩
710mg、 1−アリル−2−チオピリドン302
mg及びヨウ化ナトリウム1800mgを水4.8ml
及びアセトニトリル1.51の混液に加え、次いで希酢
酸水溶液でpHを6.80に調整する。以下、実施例2
と同様に処理して、淡褐色の7β−((Z) −2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−〔((3S)
−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕ア
セトアミドl −3−(1−アリル−2−ピリジニオ)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート10
0mgを得る。
=13 Hz)、 5.15(LH,t、J= 7 H
z )、 5.28 and 5.84 (2H,ea
chd、J=4.611z)、 5.57 (2t(、
S)、 7.1’7(11Ls)、 8.53(1)1
.t、J=7 Hz)、 8.80 (III、d、J
=711z)実施例 3 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((、(3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩
710mg、 1−アリル−2−チオピリドン302
mg及びヨウ化ナトリウム1800mgを水4.8ml
及びアセトニトリル1.51の混液に加え、次いで希酢
酸水溶液でpHを6.80に調整する。以下、実施例2
と同様に処理して、淡褐色の7β−((Z) −2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−〔((3S)
−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕ア
セトアミドl −3−(1−アリル−2−ピリジニオ)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート10
0mgを得る。
m、p、 250℃から徐々に分解。
Mass (m/e) : 616(M+1)+161
0、1560.154O NMR(DzO) δ : 2.1〜2.8(2H,
m)、 3.5(2H,m)。
0、1560.154O NMR(DzO) δ : 2.1〜2.8(2H,
m)、 3.5(2H,m)。
3.50 and 3.81(2H,each d、J
=18 Hz )+ 4.30and 4.59(2H
,each d、J=13 Hz )、 5.11(I
H,t。
=18 Hz )+ 4.30and 4.59(2H
,each d、J=13 Hz )、 5.11(I
H,t。
J= 81(z )、 5.22(LH,d、J= 4
.511z )+ 5.40(411、m、)、 5.
80(LH,d、J= 4.5 Hz )、 6.11
(IH,m)。
.511z )+ 5.40(411、m、)、 5.
80(LH,d、J= 4.5 Hz )、 6.11
(IH,m)。
7.15(11(、s)、 8.76 (IH,d、J
= 5.8 Hz )、 7.81(IH,t、J=5
.8 Hz)、 8.04(1■、d、J=8 Hz)
8.38(1)1.dd、J=5.8 and 8
Hz)上記と同様にして次の化合物を得る。
= 5.8 Hz )、 7.81(IH,t、J=5
.8 Hz)、 8.04(1■、d、J=8 Hz)
8.38(1)1.dd、J=5.8 and 8
Hz)上記と同様にして次の化合物を得る。
7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((、(3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセ1〜アミド) −3−(1
−アリル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートm、p、 165℃から徐々
に分解。
ル)−2−((、(3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセ1〜アミド) −3−(1
−アリル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボキシレートm、p、 165℃から徐々
に分解。
60O
NMR(DzO) δ : 2.2〜2.8(2H,
m)、 3.4〜3.6(2)1.m)、 3.49
and 3.80(2H,each d、J=18 H
z)。
m)、 3.4〜3.6(2)1.m)、 3.49
and 3.80(2H,each d、J=18 H
z)。
4.21 and 4.27(2H,each d、J
=13 Hz )、 5.06(28,d、J= 8
+1z)、 5.10(LH,t、J= 8 tlz)
、 5.23(LH,d、J= 5 Hz)、 5.4
5(LH,d、J= 17 tlz)、 5.55(I
H,d、J= 10 Hz)、 5.80(IH,d、
J= 5 )1z)、 5.9〜6.4 (IH,m)
、 7.06(Ill、s)、 7.87(211,d
、J=6 H2)、 8.46(2H,d、J=6Hz
)実施例 4 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−C((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4=力ルボン酸682mg、1
−ベンジル−4−チオピリドン300mg、ヨウ化ナト
リウム1.8g及び炭酸水素ナトリウム110mgを水
20mA’に加え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液で
pHを6.6に調整する。混合物をアルゴン気流下、7
0℃で1.5時間攪拌する。以下、実施例2と同様に処
理して、7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−(((33) −2−オキソピロリ
ジン−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミドl −3
−(1−ベンジル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート270mgを得る。
=13 Hz )、 5.06(28,d、J= 8
+1z)、 5.10(LH,t、J= 8 tlz)
、 5.23(LH,d、J= 5 Hz)、 5.4
5(LH,d、J= 17 tlz)、 5.55(I
H,d、J= 10 Hz)、 5.80(IH,d、
J= 5 )1z)、 5.9〜6.4 (IH,m)
、 7.06(Ill、s)、 7.87(211,d
、J=6 H2)、 8.46(2H,d、J=6Hz
)実施例 4 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−C((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4=力ルボン酸682mg、1
−ベンジル−4−チオピリドン300mg、ヨウ化ナト
リウム1.8g及び炭酸水素ナトリウム110mgを水
20mA’に加え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液で
pHを6.6に調整する。混合物をアルゴン気流下、7
0℃で1.5時間攪拌する。以下、実施例2と同様に処
理して、7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール
−4−イル)−2−(((33) −2−オキソピロリ
ジン−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミドl −3
−(1−ベンジル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート270mgを得る。
m、p、 170〜185℃ (分M)1625、1
595 NMR(DzO) δ : 2.5(2H,m)、
3.5(2H,m)、 3.46and 3.74(L
H,eacJ d、J=18 Hz )、 4.31
and 4.52(Ill、each d、J=13
)1z )+ 5.04(10,t、J= 7゜811
z )+ 5.18(18,d、J= 4.4 Hz
)、 5.68(20,s)、 5.77(it(、d
、J= 4.4 Hz )+ 7.02(LH,s)、
7゜56(5H,s)、 7.97 (2H,d、J
= 6.5 Hz )+ 8.64(2H,d、J=
6.5 Hz ) 実施例 5 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸682mg、1
−(4−ピリジル)−4−チオピリドン225mg、ヨ
ウ化ナトリウム2g及び炭酸水素ナトリウム120mg
を水15m1に加え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液
でpHを6.7に調整する。混合物をアルゴン気流下、
70℃で2時間攪拌する。以下、実施例2と同様に処理
して、7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(((3g)−2−オキソピロリジン
−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミド) −3−(
1−(4−ピリジル)−4−ピリジニオ)チオメチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート290mgを得る
。
595 NMR(DzO) δ : 2.5(2H,m)、
3.5(2H,m)、 3.46and 3.74(L
H,eacJ d、J=18 Hz )、 4.31
and 4.52(Ill、each d、J=13
)1z )+ 5.04(10,t、J= 7゜811
z )+ 5.18(18,d、J= 4.4 Hz
)、 5.68(20,s)、 5.77(it(、d
、J= 4.4 Hz )+ 7.02(LH,s)、
7゜56(5H,s)、 7.97 (2H,d、J
= 6.5 Hz )+ 8.64(2H,d、J=
6.5 Hz ) 実施例 5 7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3−
イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸682mg、1
−(4−ピリジル)−4−チオピリドン225mg、ヨ
ウ化ナトリウム2g及び炭酸水素ナトリウム120mg
を水15m1に加え、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液
でpHを6.7に調整する。混合物をアルゴン気流下、
70℃で2時間攪拌する。以下、実施例2と同様に処理
して、7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(((3g)−2−オキソピロリジン
−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミド) −3−(
1−(4−ピリジル)−4−ピリジニオ)チオメチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート290mgを得る
。
m、p、 160〜175℃ (分解)1625.1
59O NMR(DzO) δ : 2.5(2H,m)、
3.5(2B、m)、 3.53and 3.82
(IH,each d、J=18 fiz )+ 4
.44(2M、brs)、 5.07(Ill、t、J
= 7.7 Hz )、 5.27(LH,d、J=4
.6 Hz )+ 5.78(LH,d、J= 4.
6 Hz )、 6.99(IH、s)、 7.85
(211,d、J= 6.3 Hz )+ 8.10
(2H,d、J=7 Hz )、 8.79(2)1
.d、J= 7 Hz )、 8.90(21,d、
J=6.3 Hz ) 実施例 6 実施例24で得られる7β−((Z)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(((3S)−2−オ
キソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミ
ドl −3−(4−ピリジル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸カリウム塩600■を水0.5−及
びジメチルホルムアミド5 mlの混液に溶解し、次い
でギ酸46mg及びヨードメチル710mgを加え室温
で10時間撹拌する。混合物を減圧下濃縮し、残香にア
セトン−エーテル混液を加える。不溶物をろ取し、ろ液
をトIP−20充填カラムクロマトで精製することによ
り7β=((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド’I −3−(
1−メチル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレートを得る。
59O NMR(DzO) δ : 2.5(2H,m)、
3.5(2B、m)、 3.53and 3.82
(IH,each d、J=18 fiz )+ 4
.44(2M、brs)、 5.07(Ill、t、J
= 7.7 Hz )、 5.27(LH,d、J=4
.6 Hz )+ 5.78(LH,d、J= 4.
6 Hz )、 6.99(IH、s)、 7.85
(211,d、J= 6.3 Hz )+ 8.10
(2H,d、J=7 Hz )、 8.79(2)1
.d、J= 7 Hz )、 8.90(21,d、
J=6.3 Hz ) 実施例 6 実施例24で得られる7β−((Z)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(((3S)−2−オ
キソピロリジン−3−イル)オキシイミノ〕アセトアミ
ドl −3−(4−ピリジル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸カリウム塩600■を水0.5−及
びジメチルホルムアミド5 mlの混液に溶解し、次い
でギ酸46mg及びヨードメチル710mgを加え室温
で10時間撹拌する。混合物を減圧下濃縮し、残香にア
セトン−エーテル混液を加える。不溶物をろ取し、ろ液
をトIP−20充填カラムクロマトで精製することによ
り7β=((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−3
−イル)オキシイミノ〕アセトアミド’I −3−(
1−メチル−4−ピリジニオ)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレートを得る。
本品の物理恒数は実施例1で得た目的物のそれと一致し
た。
た。
実施例 7〜64
対応原料化合物を実施例1〜5と同様に処理することに
より下記第2表記載の目的化合物(1)を得る。
より下記第2表記載の目的化合物(1)を得る。
(但し、下記表記載の目的化合物中、R1はアミノ基、
R3は式ニーCoo−で示される基であり、そのオキシ
イミノ基部位はZ(即ち、シン)配置を有し、また2−
オキソピロリジン基はすべて(3S)−配置を有する。
R3は式ニーCoo−で示される基であり、そのオキシ
イミノ基部位はZ(即ち、シン)配置を有し、また2−
オキソピロリジン基はすべて(3S)−配置を有する。
)
第2表
実施例65−67
対応原料化合物を実施例1〜5と同様に処理することに
より、下記第3表記載の目的化合物(■)を得る。
より、下記第3表記載の目的化合物(■)を得る。
(但し、下記第3表記載の目的化合物中、R1はアミノ
基、R3はカルボキシル基であり、そのオキシキミノ基
部位はZ−(即ち、シン)配置を有し、また2−オキソ
ピロリジン基はすべて(3s> −配置を有する。
基、R3はカルボキシル基であり、そのオキシキミノ基
部位はZ−(即ち、シン)配置を有し、また2−オキソ
ピロリジン基はすべて(3s> −配置を有する。
第3表
尚、上記実施例66及び67で得た化合物を、それぞれ
実施例6と同様に処理することにより、7β−((Z)
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(1
3s)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミ
ノ〕アセトアミド)−3−(1−メチル−2−ピリジニ
オ)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
及び7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−
3−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−(1−
メチル−チアゾロC5,4−b)ピリジニウム−2−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
を得る。これらの化合物の物理恒数は、実施例2及び2
2で得た目的物のそれと一致した。
実施例6と同様に処理することにより、7β−((Z)
−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(1
3s)−2−オキソピロリジン−3−イル)オキシイミ
ノ〕アセトアミド)−3−(1−メチル−2−ピリジニ
オ)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
及び7β−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−(((3S)−2−オキソピロリジン−
3−イル)オキシイミノ〕アセトアミド)−3−(1−
メチル−チアゾロC5,4−b)ピリジニウム−2−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
を得る。これらの化合物の物理恒数は、実施例2及び2
2で得た目的物のそれと一致した。
参考例 1
4−クロロピリジン7.56g及びアリルプロミド4.
83 gの混合物を室温で撹拌する。混合物にアセトン
を加えて得られる析出物を18%−NaSH水溶液36
−に冷却下で加える。混合物を室温で反応させ、析出結
晶をろ取してm、p、 212〜217℃ (分解)の
1−(4−ピリジル)−4〜チオピリドン2.81gを
得る。一方、ろ液のクロロホルム抽出液を乾燥後濃縮し
、残香を精製してm、9.77〜79℃の1−アリル−
4−チオピリドン1.22g及び1−(4−ピリジル)
−4−チオピリドン0.18gを得る。
83 gの混合物を室温で撹拌する。混合物にアセトン
を加えて得られる析出物を18%−NaSH水溶液36
−に冷却下で加える。混合物を室温で反応させ、析出結
晶をろ取してm、p、 212〜217℃ (分解)の
1−(4−ピリジル)−4〜チオピリドン2.81gを
得る。一方、ろ液のクロロホルム抽出液を乾燥後濃縮し
、残香を精製してm、9.77〜79℃の1−アリル−
4−チオピリドン1.22g及び1−(4−ピリジル)
−4−チオピリドン0.18gを得る。
参考例 2〜6
対応原料を参考例1と同様に処理することにより、下記
第4表記載の化合物を得る。
第4表記載の化合物を得る。
第4表
参考例 7
1−メチル−2−クロロ−5−(アセチルアミノ)ピリ
ジニウム・ヨーシト1.03gを水に加熱溶解し、冷後
、18%Na SH水溶液2−を加える。混合物を室温
で反応させ、析出結晶をろ取、精製して、l−メチル−
5−(アセチルアミノ)−2−チオピリドン0.34g
を得る。
ジニウム・ヨーシト1.03gを水に加熱溶解し、冷後
、18%Na SH水溶液2−を加える。混合物を室温
で反応させ、析出結晶をろ取、精製して、l−メチル−
5−(アセチルアミノ)−2−チオピリドン0.34g
を得る。
m、p、135 159°C(分解)参考例 日
1− (2−(ジメチルアミノ)エチル)−4−ピリド
ン2.4]gとロウエソソン試!3.63gのジメトキ
シエタン混液を撹拌後還流し、更に室温で一夜反応させ
る。溶媒を留去後、残香を精製して、1− (2−(ジ
メチルアミノ)エチル)−4−チオピリドン2.02g
を得る。
ン2.4]gとロウエソソン試!3.63gのジメトキ
シエタン混液を撹拌後還流し、更に室温で一夜反応させ
る。溶媒を留去後、残香を精製して、1− (2−(ジ
メチルアミノ)エチル)−4−チオピリドン2.02g
を得る。
m、p、 138−139℃
参考例 9〜12
対応原料を参考例8と同様に処理することにより、下記
第5表記載の化合物を得る6 第5表 参考例 13 1−エトキシカルボニルメチル−4−チオピリドン2.
40 gのメタノール溶液に30%メチルアミン−メタ
ノール溶液50W1を加え、室温で反応させ、溶媒を留
去後エタノールから再結晶して、!−1N−メチルカル
バモイル)メチル)−4−チオピリドン1.85gを得
る。
第5表記載の化合物を得る6 第5表 参考例 13 1−エトキシカルボニルメチル−4−チオピリドン2.
40 gのメタノール溶液に30%メチルアミン−メタ
ノール溶液50W1を加え、室温で反応させ、溶媒を留
去後エタノールから再結晶して、!−1N−メチルカル
バモイル)メチル)−4−チオピリドン1.85gを得
る。
m、p、 184−185℃
参考例 14〜23
対応原料を参考例13と同様に処理することにより、下
記第6表記載の化合物を得る。
記第6表記載の化合物を得る。
第6表
参考例 24
1−エトキシカルボニルメチル−4−チオピリドン2.
5gのメタノールシン容ン夜にlN−NaOH13−を
加え加水分解して、1−カルボキシメチル−4−チオピ
リドン・ナトリウム塩2.27gを得る。n+、p、2
79 280℃ (分解)参考例 25−33 対応原料を参考例24と同様に処理するか、或いは常法
によりアシル化、カルバモイル化又はつレイド化して、
下記第7表記載化合物を得る。
5gのメタノールシン容ン夜にlN−NaOH13−を
加え加水分解して、1−カルボキシメチル−4−チオピ
リドン・ナトリウム塩2.27gを得る。n+、p、2
79 280℃ (分解)参考例 25−33 対応原料を参考例24と同様に処理するか、或いは常法
によりアシル化、カルバモイル化又はつレイド化して、
下記第7表記載化合物を得る。
第7表
参考例 34
(1)2−メルカプト−4−メチルピリミジン塩酸塩8
.10 g、ヨウ化メチル7.88g及び炭酸カリウム
13.82 gのメタノール混液を遮光上反応させ、不
溶物をろ去、溶媒を留去後残香を水に溶解し、塩化メチ
レン抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後溶媒を留去する。
.10 g、ヨウ化メチル7.88g及び炭酸カリウム
13.82 gのメタノール混液を遮光上反応させ、不
溶物をろ去、溶媒を留去後残香を水に溶解し、塩化メチ
レン抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後溶媒を留去する。
得られた残香4.75 g及びヨウ化メチル4.63g
のアセトニトリル混液を封管中100℃で反応後、溶媒
を留去し、残香を精製して、1゜4−ジメチル−2−メ
チルチオピリミジニウム・ヨーシト5.14 gを得る
。
のアセトニトリル混液を封管中100℃で反応後、溶媒
を留去し、残香を精製して、1゜4−ジメチル−2−メ
チルチオピリミジニウム・ヨーシト5.14 gを得る
。
(2)本島3.49gの水40mji液に硫化ナトリウ
ム・9水和物4.46gの水15−溶液を滴下し反応さ
せ、塩化メチレンで抽出し、抽出液を乾燥後溶媒を留去
する。残香を精製して、3.6−シメチルビリミジンー
2(3H)−チオン2gを得る。
ム・9水和物4.46gの水15−溶液を滴下し反応さ
せ、塩化メチレンで抽出し、抽出液を乾燥後溶媒を留去
する。残香を精製して、3.6−シメチルビリミジンー
2(3H)−チオン2gを得る。
糟、p、 138〜140℃
参考例 35〜36
対応原料を参考例34と同様に処理して次の化合物を得
る。
る。
(35)1−メチル−IH−チアゾロ(5,4−b〕ピ
リジン−2−チオン m、p、 258〜260.5℃ (36)3−メチル−3H−チアゾロ(4,5−C〕ピ
リジン−2−チオン m、p、 265〜266℃(分解、メタノールから再
結晶) 参考例 37 1.2−ジメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4
−キノロン6.7gのジメトキシエタンQfi液にロウ
エッソン試薬15.27g及びピリジン100+dを加
え還流後、溶媒を留去し残香をクロロホルムに溶解し、
洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残香を精製して、1.2
−ジメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4−チオ
キノロン5.29gを得る。
リジン−2−チオン m、p、 258〜260.5℃ (36)3−メチル−3H−チアゾロ(4,5−C〕ピ
リジン−2−チオン m、p、 265〜266℃(分解、メタノールから再
結晶) 参考例 37 1.2−ジメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4
−キノロン6.7gのジメトキシエタンQfi液にロウ
エッソン試薬15.27g及びピリジン100+dを加
え還流後、溶媒を留去し残香をクロロホルムに溶解し、
洗浄、乾燥後溶媒を留去する。残香を精製して、1.2
−ジメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4−チオ
キノロン5.29gを得る。
m、p、 209〜210℃(エーテル−イソプロピル
エーテル混液から再結晶) 参考例 38 2.6−シメチルーγ−チオピロン3.0gのエタノー
ル懸濁液に、エタノールアミン5.2gを加え反応後溶
媒を留去し、残香を精製して、1−(2−ヒドロキシエ
チル)−2,6−シメチルー4−チオピリドン2.50
gを得る。m、p、 212〜213 ℃(エタノー
ルから再結晶) 参考例 39〜41 対応原料を参考例38と同様に処理することにより、下
記第8表記載化合物を得る。
エーテル混液から再結晶) 参考例 38 2.6−シメチルーγ−チオピロン3.0gのエタノー
ル懸濁液に、エタノールアミン5.2gを加え反応後溶
媒を留去し、残香を精製して、1−(2−ヒドロキシエ
チル)−2,6−シメチルー4−チオピリドン2.50
gを得る。m、p、 212〜213 ℃(エタノー
ルから再結晶) 参考例 39〜41 対応原料を参考例38と同様に処理することにより、下
記第8表記載化合物を得る。
第8表
参考例 42
1−シアノメチル−4−ピリドン5.31 gのオキシ
塩化リン溶液を還流後溶媒を留去し、残香に氷水及び1
8%Na5II水溶液を加え撹拌する。析出結晶を濾取
して、1−((チオカルバモイル)メチル)−4−チオ
ピリドン2.07gを得る。−、p、 195〜197
℃ (分解、含水メタノールから再結晶)参考例 43 対応原料を参考例42と同様に処理することにより、1
,2.3− )ジメチル−5−チオキソ−3−ピラゾリ
ンを得る。 m、p、 143〜146℃(イソプロパ
ツールから再結晶) 参考例 44 1−(N−メチルカルバモイルメチル)−4−チオピリ
ドン2. Is g、ロウェフリン試薬4.77g及び
ピリジン70艷のジメトキシエタン溶液を還流し、溶媒
を留去後残香を精製して、1−(N−メチル(チオカル
バモイル)メチル)−4−チオピリドン1.61 gを
得る。m、2.178〜179℃ (分解、エタノール
から再結晶) 参考例 45〜48 対応原料化合物を参考例44と同様に処理することによ
り、下記第9表記載化合物を得る。
塩化リン溶液を還流後溶媒を留去し、残香に氷水及び1
8%Na5II水溶液を加え撹拌する。析出結晶を濾取
して、1−((チオカルバモイル)メチル)−4−チオ
ピリドン2.07gを得る。−、p、 195〜197
℃ (分解、含水メタノールから再結晶)参考例 43 対応原料を参考例42と同様に処理することにより、1
,2.3− )ジメチル−5−チオキソ−3−ピラゾリ
ンを得る。 m、p、 143〜146℃(イソプロパ
ツールから再結晶) 参考例 44 1−(N−メチルカルバモイルメチル)−4−チオピリ
ドン2. Is g、ロウェフリン試薬4.77g及び
ピリジン70艷のジメトキシエタン溶液を還流し、溶媒
を留去後残香を精製して、1−(N−メチル(チオカル
バモイル)メチル)−4−チオピリドン1.61 gを
得る。m、2.178〜179℃ (分解、エタノール
から再結晶) 参考例 45〜48 対応原料化合物を参考例44と同様に処理することによ
り、下記第9表記載化合物を得る。
第9表
参考例 49
対応原料を参考例26次いで参考例4と同様に処理する
ことにより、1−カルバモイルメチル−2゜6−シメチ
ルー4−チオピリドンを得る。m、p、 251℃
(徐々に分解) 参考例 50 (x15−(p−メトキシベンジルチオ)ニコチン酸2
.02gの塩酸−メタノール溶液を還流後濃縮し、残香
にクロロホルム及び水を加える。クロロホルム抽出し、
乾燥後溶媒を留去し、残香をイソプロピルエーテルから
再結晶して、5−(p−メトキシベンジルチオ)ニコチ
ン酸メチルエステルを得る。m、p、 72〜74 ℃ (2)本島2.07g及びヨウ化メチル8.1gのアセ
トン溶液を反応させ、溶媒を減圧留去して結晶2.86
gを得る。
ことにより、1−カルバモイルメチル−2゜6−シメチ
ルー4−チオピリドンを得る。m、p、 251℃
(徐々に分解) 参考例 50 (x15−(p−メトキシベンジルチオ)ニコチン酸2
.02gの塩酸−メタノール溶液を還流後濃縮し、残香
にクロロホルム及び水を加える。クロロホルム抽出し、
乾燥後溶媒を留去し、残香をイソプロピルエーテルから
再結晶して、5−(p−メトキシベンジルチオ)ニコチ
ン酸メチルエステルを得る。m、p、 72〜74 ℃ (2)本島2.07g及びヨウ化メチル8.1gのアセ
トン溶液を反応させ、溶媒を減圧留去して結晶2.86
gを得る。
(3)本島517■、ギ酸6−及び酢酸水銀1.16g
の水溶液を反応後析出物をろ去し、ろ液にH,Sガスを
導入する。析出物をろ去し、ろ液をクロロホルム−メタ
ノール混液で抽出する。乾燥後溶媒を留去し残香を精製
して、1−メチル−3−メルカプト−5−メトキシカル
ボニルピリジニウム(分子内塩)49■を得る。m、p
、 120〜123℃(分解、メタノール−エーテル混
液から再結晶) 参考例 51〜53 対応原料化合物を参考例50と同様に処理することによ
り、下記第10表記載化合物を得る。
の水溶液を反応後析出物をろ去し、ろ液にH,Sガスを
導入する。析出物をろ去し、ろ液をクロロホルム−メタ
ノール混液で抽出する。乾燥後溶媒を留去し残香を精製
して、1−メチル−3−メルカプト−5−メトキシカル
ボニルピリジニウム(分子内塩)49■を得る。m、p
、 120〜123℃(分解、メタノール−エーテル混
液から再結晶) 参考例 51〜53 対応原料化合物を参考例50と同様に処理することによ
り、下記第10表記載化合物を得る。
第10表
参考例 55
1−(N−アセトアミドカルバモイルメチル)−4−チ
オピリドン(1−(N−アミノカルバモイルメチル)−
4−チオピリドンから調製32.50g、ロウエソソン
試薬5g及びピリジン100n+1を還流し、ピリジン
を留去後残香を精製して、1−((5−メチル−1,3
,4−チアジアゾール−2−イル)メチル)−4−チオ
ピリドンを得る。!n、p、 195〜197℃(分解
、アセトン−エーテル混液がら再結晶)
オピリドン(1−(N−アミノカルバモイルメチル)−
4−チオピリドンから調製32.50g、ロウエソソン
試薬5g及びピリジン100n+1を還流し、ピリジン
を留去後残香を精製して、1−((5−メチル−1,3
,4−チアジアゾール−2−イル)メチル)−4−チオ
ピリドンを得る。!n、p、 195〜197℃(分解
、アセトン−エーテル混液がら再結晶)
Claims (6)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (但し、R^1は保護されていてもよいアミノ基、R^
2は窒素原子及び硫黄原子から選ばれる1〜3個のヘテ
ロ原子を有する置換もしくは非置換複素環式基、R^3
は保護されていてもよいカルボキシル基又は式:−CO
O^−で示される基を表す。)で示されるセファロスポ
リン化合物又はその塩。 - (2)一般式( I )において、R^2が式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^4は低級アルケニル基、置換基を有してい
てもよい含窒素5〜6員複素環式基、アシルアミノ基又
は置換基を有していてもよい低級アルキル基、 R^5及びR^6は同一又は異なって水素原子、低級ア
ルキル基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル基
、カルバモイル基、チオカルバモイル基又は低級アルコ
キシカルボニル基、 R^7、R^8及びR^9は低級アルキル基、V及びW
は同一又は異なって式:−CH=又は−N=で示される
基、 Q_1及びQ_2はその隣接する2個の炭素原子と共に
窒素原子を含んでいてもよい6員環式基を形成すること
を表す。) で示される基であり、R^3が式:−COO^−で示さ
れる基である特許請求の範囲第1項記載の化合物又はそ
の塩。 - (3)一般式( I )において、R^2が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基であり、 R^4は低級アルケニル基、ピリジル基、オキソピロリ
ジニル基、アシルアミノ基であるか、又は置換基として
シアノ基、水酸基、低級アルコキシ基、(N−低級アル
キルカルバモイル)オキシ基、カルボキシル基、アミノ
基、N,N−ジ低級アルキルアミノ基、アシルアミノ基
、(N−低級アルキルカルバモイル)アミノ基、(N−
低級アルキルチオカルバモイル)アミノ基、低級アルコ
キシカルボニルアミノ基、低級アルキルチオ基、フェニ
ル基、カルバモイルフェニル基、2−低級アルキル−1
,3,4−チアジアゾール−5−イル基及び式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基から選ばれる基を有していてもよい低級ア
ルキル基であり、R^a及びR^bは同一又は異なって
水素原子、低級アルキル基、水酸基、アミノ基又は低級
アルケニル基を表すか、或いはR^aとR^bが互いに
末端で結合してその隣接する窒素原子と共にモルホリノ
基を形成し、Zは酸素原子又は硫黄原子である特許請求
の範囲第2項記載の化合物又はその塩。 - (4)V及びWが式:−CH=で示される基である特許
請求の範囲第3項記載の化合物又はその塩。 - (5)一般式( I )において、R^1がアミノ基であ
る特許請求の範囲第1〜4項記載の化合物又はその塩。 - (6)一般式( I )において、R^2が式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^5及びR^6は同一又は異なって水素原子
、低級アルキル基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボ
キシル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、低級
アルコキシカルバモイル基又は低級アルコキシカルボニ
ル基、 R^7、R^8及びR^9は低級アルキル基、V及びW
は同一又は異なって式:−CH=又は−N=で示される
基、 Q_1及びQ_2はその隣接する2個の炭素原子と共に
窒素原子を含んでいてもよい6員環式基を形成すること
を表す。) で示される基であり、R^3が保護されていてもよいカ
ルボキシル基である特許請求の範囲第1項記載の化合物
又はその塩。
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- 1987-06-03 US US07/056,958 patent/US4786633A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-06-04 KR KR870005655A patent/KR880000450A/ko not_active Application Discontinuation
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