JPS60210512A - ダイヤモンドの合成方法 - Google Patents

ダイヤモンドの合成方法

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JPS60210512A
JPS60210512A JP59067855A JP6785584A JPS60210512A JP S60210512 A JPS60210512 A JP S60210512A JP 59067855 A JP59067855 A JP 59067855A JP 6785584 A JP6785584 A JP 6785584A JP S60210512 A JPS60210512 A JP S60210512A
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矢津 修示
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辻 一夫
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (])技術分野 本発明は高品質で大型のダイヤモンドの合成方法に関す
るもので、特に1回に多数個のダイヤモンドを合成する
ことによ怜、合成に要するコストを著しく低減するもの
である。
(2)従来技術と問題点 ダイヤモンドの合成方法に関しては大別して2つの方法
がある。一つは特公昭37−4407号、特公昭87−
8858号に記されているようtζ原料戻素と鉄、コバ
ルト、ニッケル等の溶媒金属を混合して又は接触させこ
れをダイヤモンド安定域の超高圧、高温下で溶媒金属の
作用下で炭素をダイヤモンドに変換せしめるものである
。この場合は原料炭素(通常は黒鉛が用いられる)中に
溶媒金属が浸透し、この薄膜状の溶媒金属を介して炭素
の拡散が生じダイヤモンドが生成する。このダイヤモン
ドの生成は黒鉛とダイヤモンドの一定温度下における溶
媒金属に対する溶解度差が駆動力となる。
このような方法ではダイヤモンドの核生成は自然に生じ
また一定の大きさまでは急速に成長する。
この方法により細かな粉末状のダイヤモンドは大量に合
成されている。しかしながらより大型の高品質の結晶は
、このような方法では合成できない。
大型で高品質のダイヤモンドを合成する方法としては米
国特許第3297407号に記載された方法が知られて
いる。これは第1図に示すような合成室の構成を用いて
いる。
1は種結晶でこれを合成室上、下端部に近い位置に置き
、合成室の軸方向中心部に炭素供給源2を、その両端に
溶媒金属3を配置する他の部分は圧力媒体である。合成
室は円筒状発熱体4により加熱される。このような構成
では合成室の軸方向中心部が最も高温となり、上下端部
は低温となる。
る種結晶上にダイヤモンドとして析出する。この方法は
温度差による炭素の溶媒金属に対する溶解度差を利用し
たもので、温度差法と呼ばれている。
温度差法の利点は種結晶のみからダイヤモンドを成長さ
せることが可能であり、温度差を所定の値に保つことで
成長速度を制御することが可能な点である。また特開昭
52−88289号ではこの温度差法の改良が開示され
ており、合成時に種結晶以外からダイヤモンドの成長を
阻止し、またダイヤモンドが成長するまでに種結晶が溶
解することを防止する具体的な方法が示されている。こ
のような温度差法によれば実験室的に1カラツトサイズ
の大型ダイヤモンドを合成するこ゛とができる。しかし
ながら合成に要する超高圧発生装置が極めて高価であり
、合成に長時間を要するため合成コストは美大なものに
なり大型の合成ダイヤモンドは工業的に生産されていな
かった。以下温度差法による従来技術の問題点を検討す
る。R,H,Wentorf。
Δ Jr、によるSowe Stv+bies of Di
amond Growth Rates”(The J
ournal of Physical Chemis
try、Vol、 75. Al1゜1971、 P]
838−1837 )には温度差法によるダイヤモンド
合成技術が述べられている。ここで用いている合成室は
第2図のものである。第1図のそれと異なる点は軸方向
中心部に隔壁を設けた点であるが他は同一である。第2
図に併記されているようにこのような合成室構成では軸
方向中心部が高温で上、下端に向って合成室の温度は低
下する上、下対称の温度分布を持つ。実際にこの合成室
で実験を行なうと、下部の合成室では良好な大型ダイヤ
モンド結晶が合成可能だが、上部の合成室では温度分布
と構成材料が下部と同一であっても良質な結晶は成長し
ない。この理由は前記Wentorf解し、炭素が溶は
込むと溶媒の比重は軽くなる。
また高温であるほど比重は軽い。下部では溶媒金属への
炭素の溶解は溶媒金属の上端部で生じ、また温度も上端
部が高温であるが、上部の合成室ではこれ等が逆になる
。従って上部の合成室では溶媒の下端部が最も低比重と
なり、重力の作用によって対流が生じ、炭素が過度に種
結晶の位置する上端部へ供給されるため良好な結晶が成
長する成長速度が制御されなくなる。
このような理由から従来の温度差による合成法では第2
図の如き合成室の下段でのみ合成が可能であった。
発明の構成 従来の温度差法によるダイヤモンド合成技術では前述の
如く超高圧高温の合成室空間が有効に利用できなかった
。本発明はこれに対して次の2点に着眼してなされたも
のである。
給源、種結晶を使用する。これによりある温度分布を持
つ合成室を適切に区切って複数の合成室で各々ダイヤモ
ンドを合成することが可能になる。
■合成基金体に上端部を高温に下端部を低温になるよう
に一定方向の温度勾配を設け、■と組合すことにより多
段に分割された合成室の各々に上部が高温、下部が低温
となる温度勾配を付与し、合成室全体の利用を@佃ヲ可
能とする。
以下図により具体的に説明する。
第8図は本発明による合成室の構成の一例である。円筒
状ヒーターの内部の合成室が2段に区切られている。こ
の中間の分離層はパイロフィライトやNaC1等の溶解
した溶媒金属と反応しない物質を用いる。第1,2図の
従来のものと構成が異なる点は炭素供給源2、溶媒金属
3−1.3−2.種結晶lが各段で同一の方向に並べら
れている点である。このとき合成室全体の軸方向温度勾
配は第3図に示した通りである。さて第3図の構成で合
成を行なう場合、各段の溶媒上端部と下端部の種結晶と
の間には温度差△Tis△T、が生じる。しかし当然の
ことながら各段の温度範囲は異なってくる。
第4図・はダイヤモンド−黒鉛の平衡線及び用いる溶媒
の炭素との共晶点温度の変化を示しである。
ダイヤモンドが合成可能な領域は例えば共晶点温度がA
A’上にある溶媒を用いる場合はAA’にで区切られた
圧力、温度領域である。イ11ロ、ハ二を第3図の各段
の溶媒金属の上端、下端の温度とするとAA’ の共晶
点温度を有する溶媒を上部に(8−1)、それよりも低
い共晶点温度BB’を有する溶媒を下部(8−2)の溶
媒として用いれば、上、下段共に合成が可能となるので
ある。当然のことであるが下段にもAA’の共晶点温度
を有する溶媒を使用してもダイヤモンドの合成は不可能
である。第5図は更に発展させた本発明の合成室構成を
示す。これは合成室全体に一定方向の温度勾配を持たせ
たもので図の如く有効な合成室の上部から下部に温度が
低下するように工夫したものである。このような温度勾
配を持たせるために円筒状ヒーター4の上部に円板状の
ヒーター7、更にそれに接して断面積の小さなヒーター
8が設けである。このヒーター構成により合成室の上部
がより加熱されて図の如く温度勾配がつけられる。合成
室は分離層6により4段に分割されてふ・す、各段は上
から炭素供給源、溶媒、種結晶(複数)の順に配置され
ている。分離層の厚みや溶媒金属の厚みを適当に設定す
ることにより、第4図の如く共晶点温度がAA’、BB
’、CC’、DD’と異なる4種類の溶媒金属を用いて
一度に4段の合成室において温度差法を用いてダイヤモ
ンドの合成が可能となる。この方法によると合成室全体
が有効となり、大型ダイヤモンドを1回に多数合成でき
る。
特に合成装置を大型化して合成室を拡大すると従来の方
法では合成室一段のみが利用できるに過ぎず、むだな空
間の割合が増加して、経済的ではなかったが、本発明に
よる方法をとると大型化した合成室を有効に利用するこ
とが可能となり合成コストを著しく低減せしめることが
できる。
本発明で用いる溶媒金属は従来のダイヤモンド合成に使
用されているものが利用できる。例えば特公昭87−8
358 に開示されているものの中で、代表的なものは
鉄、コバルト、ニッケル、マンガン、クロハ及びこれ等
の合金又はこれ等と他の金属の合金である。更には特開
昭56−69211に示されている如く、種結晶が溶解
することを防ぐために予め所定量の炭素を含む合金を用
いることは効果がある。更に前記したWe n t o
 r fの論文に記されている如くBを添加して青色の
半導体ダイヤモンドを合成することも可能で、この他に
AI!、Ti。
Zr等の窒素ゲッターを添加すると無色のダイヤモンド
が合成できる。炭素との共晶点温度が異なる溶媒は、上
記した各種の金属又は合金から選択することによって行
なう。例えばNi −Mn の合金系ではMnの量が0
から約54重量%まで増加するに従って圧力52kb下
における炭素との共晶点温度が1400℃から1100
℃まで連続的に変わる。従って合成室の温度勾配に合せ
て適当な合金組成を一決めれば良い。伺実際にはダイヤ
モンドの合成下限温度はその圧力下における溶媒金属と
炭素の共晶点温度よりも数十度高い。
本発明で用いる炭素供給源は黒鉛、もしくは黒鉛と微細
なダイヤモンド粉末の混合物であることが望ましい。種
結晶はダイヤモンドの小さな粒を使用する。合成室を複
数段に分割する分離層は溶媒金属と接しているためにこ
れと反応しない物質を選択することが要求される。Al
2O3,ZrO2。
MgO等の酸化物、NaC1,KCl などのハロゲン
化物、パイロフィライト、タルク等の鉱物の他、炭化物
、窒化物等の多くのものが使用できる。またこの分離層
は第3図、第5図に示した如く種結晶の床としても利用
される。炭素供給源、溶媒金属、種結晶を収容する容器
はパイロフィライ) 、NaC1゜BN等の圧力媒体か
ら構成される。
また本発明を実施するに当って必要となる溶媒金属部の
温度差は10°〜150°Cの範囲である。
20〜70℃が特に好適な範囲と言える。温度差が小さ
いとダイヤモンドの成長速度が遅く、大き過ぎると良質
な結晶が得られない。
本発明によるダイヤモンドの合成に用いる装置は特公昭
36−23468号公報に記載されているベルト型装置
やガードル型装置が適しているが、六面体アンビル装置
、ピストンとリーダー型装置等信の超高圧発生装置も使
用できる。本発明で合成を行なう圧力、温度条件は用い
る溶媒金属によって異なるが、良質のダイヤモンドが合
成できるのはダイヤモンドが成長する溶媒金属の低温部
の温度が1000℃以上であることが必要で、圧力は4
0kb以上が必要である。
本発明で合成室に一定方向の温度勾配を設ける方法は各
種のものが考えられる。第5図の発熱体構造の他に例え
ば第6図(a)の如く発熱体の断面形状を変化させて上
部を高温にする方法や(b)の如く円筒状発熱体を多層
に分割して各層の固有抵抗を上段から順次低下せしめる
如く発熱体の材質を変える方法或いはこれ等の組合せが
用いられる。
以下実施例により具体的に説明する。
実施例1゜ 第5図に示した合成室構成を用いた。
各段の溶媒の直径は25羽、厚みは6闘とし、最上段は
Ni、 2段目は50Fe−5ONj合金、3段目は6
4Fe−31Ni−5Co合金、4段目は40Fe−4
ON −20Mn合金を用いた、炭素給供源としてはダ
イヤモンドと黒鉛の粉末を重量で2:1の割合に混合型
押した円板を使用した。種結晶は直径約Q、 7 yt
tmの合成ダイヤモンド結晶を用い、各段の溶媒金属の
底面に接するようN a Clの分離層に埋め込んだ。
種結晶の個数は各段7ケとした。黒鉛発熱体の外周部に
は圧力媒体としてパイロフィライトを用い、内部及び合
成室の分離層としてNa(J’を用いた。
ガードル型超高圧発生装置を用い、圧力55kbで発熱
体tζ通電し、最上段のNi溶媒の底面温度が約145
0℃となるよう加熱した。このとき4段目の40 Fe
−4ONj −20Mn 合金の底面温度が約1220
℃であった。この条件で60時間保持し、取出した。
4段の合成室で各々約0.5カラツトのダイヤモンドが
種結晶より成長しており、合計の収量は35カラツトで
あった。
実施例2゜ 実施例1と同じ合成室構成で溶媒金属のみを最上段から
Ni 、 Ni−15Mn、 NiNi−3O,Ni 
−45Mn合金とした。圧力温度条件も実施例1と同様
にして60時間保持した。2〜4段の分離されたNi 
−Mn溶媒を用いた合成室では種結晶から成長したOB
〜0,4 カラットのダイヤモンド以外に小粒のダイヤ
モンドが自然核発生により成長しており合計の収量は2
5カラツトであった。
実施例3゜ 第3図に示した合成室構成を使用した。上段には50F
e−5ONj合金の溶媒金属を用い、下段は64Fe−
31Ni−5Co合金を使用した、溶媒金属の直径は1
2 MIMで厚みは5Mである。炭素源は実施例1と同
様のダイヤモンドと黒鉛の混合粉末型押体を用いた。種
結晶は合成ダイヤモンドの直径約0.7朋の粒を各段に
3ケ配置した。圧力52kbで上段の溶媒の上面位置温
度を1400℃となるよう加熱した。
このときの下面温度は約1370℃、まに2段目の溶媒
金属の上面温度は1350℃、下面温度は1280℃と
推定された。30時間保持後取出したところ上段では約
0.1カラツトのダイヤモンドが3ヶ成長し下段では0
.3カラツトのダイヤモンドが3ヶ成長していた。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は比較のために示した従来の温度差法に
よるダイヤモンド合成室である。■は種結晶、2は炭素
給供源、3は溶媒金属、4は発熱体で残りの部分は圧力
媒体である。第2図には合成室軸方向断面の温度勾配を
模式的に示した。・餌゛は種結晶位置と溶媒金属の最高
温度部分の温度差を意味する。第3図は本発明による合
成室の一例である。1は種結晶、2は炭素供給源、3−
1゜3−2 は炭素との共晶点温度の異なる(3−1が
高い)溶媒金属、4は円筒状発熱体、5は種結晶より成
長したダイヤモンド、6は合成室を仕切る分離層。 第4図は本発明の詳細な説明するためのもので、ダイヤ
モンドの合成可能な圧力、温度領域を示す図である。(
、)はダイヤモンド安定域、(b)は黒鉛安定域を示す
。KK’ はダイヤモンドと黒鉛の平衡線、AA′八″
へB B / B II、c c / c LL、DD
’D″は異なった溶媒金属の炭素との共晶点温度の圧力
依存性を示したもの、イー口、ハーニは第3図に示した
合成試料室内の温度と対応する。 第5図は本発明による合成室の例で合成室が4段に分割
されている。1.2.3.4.6 は第3図と同じ構成
物を意味する。7は円筒状発熱体4に接続された円板状
の発熱体、8は7に接続された径の小さな円柱状の発熱
体である。図は合成室軸方向断面の温度勾配と各段の溶
媒の上端、下端の温度が示されている。△t1.△t8
.△t3.Δt、はその温度差である。 第6図は本発明を実施するための発熱体構成を示す例で
、(a)は断面が変化する発熱体の図を示し、(b)は
3段に分割され各々異なった抵抗を有する物質で構成さ
れた発熱体の図4−1.4−2.4−3を示している。 手続補正書 昭和60年 3月ケ日 特許庁長官 志 賀 学 殿 2、発明の名称 ダイヤモンドの合成方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 大阪市東区北浜5丁目15番地名 称(213
) 住友電気工業株式会社社長 川上哲部 4、代理人 住 所 大阪市此花区島屋1丁目1番3号住友電気工業
株式会社内 自発補正 6、補正の対象 明細書中、発明の詳細な説明の欄。 7、補正の内容 (1)明細書中、第5頁、第5行目、 rsoweJをrSOmeJに訂正する。 (2)同書第8頁、第10行目、 「・・・・・・どなるのである。」と「当然の・・・・
・りの間に次の文章を挿入する。 「ここで上段及び下段の両方に、共晶点温度BB−を有
する溶媒を用いることが考えられる。 この場合、ダイヤモンドの合成は、上下段とも可能とな
るが、本発明の目的の一つである高品質のダイヤモンド
結晶を合成するという観点からは好ましいことではない
。何故ならばダイヤモンド結晶の品質は、合成温度条件
に左右されやすく、溶媒金属の共晶点温度より著しく高
い温度で合成した場合、結晶内に不純物が多く取り込ま
れ、高品質のダイヤモンド結晶を合成することは困難と
なるからである。 また」 (3)同書第11頁第14行目、 「20〜70℃」を「20〜100℃」に訂正する。 手続補正書 昭和60年 3月29日 1、事件の表示 昭和69年特許願 第067855号 2、発明の名称 ダイヤモンドの合成方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 大阪市東区北浜5丁目15番地名 称(213
) 住友電気工業株式会社社長 川上哲部 住友電気工業株式会社内 自発補正 6、補正の対象 明細書中、発明の詳細な説明の欄。 補正の内容 \1ノ明細書、第14頁第12行目、 「の粒を各段に3ケ配置した。」を「の粒を用い、各段
の溶媒金属の底面に接するようにAlp O3の分離層
に3ケずつ埋め込んだ。」に訂正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (+)ダイヤモンドが安定な超高圧、高温下において炭
    素供給源及びこれを溶解する溶媒金属と種結晶を用いて
    ダイヤモンド合成を行なう際、合成室を溶媒金属と反応
    しない分離層によって少くとも2つ以上の空間に分割し
    、かかる分割された各空間の各々に炭素との共晶点温度
    が異なる溶媒金属を置き、且つ各々の溶媒金属の最高温
    部に接して炭素供給源を、最低温部に種結晶をそれぞれ
    配置し、各溶媒金属内でダイヤモンド結晶を成長せしめ
    ることを特徴とするダイヤモンドの合成方法。 (2、特許請求の範囲第(+)項記載の方法において、
    合成室を加熱する発熱体が円筒状もしくは一部が円筒状
    のもので、これを合成室の外周部に配置し、合成室内の
    軸方向上部が高温で、下部が低温になるように一定方向
    の温度勾配を設け、多段に分割された合成室の上段部か
    ら炭素との共晶点温温度属の上部に接して炭素供給源及
    び下部に種結晶を各段に配置することを特徴とするダイ
    ヤモンドの合成方法。・ (3)特許請求の範囲第0)項及び第(2)項記載の方
    法において、ダイヤモンドを合成する圧力が40kb以
    上で、且つ多段に分割された合成室の各段の温度が異な
    っており、最低温の段の合成室の溶媒下面温度がI 0
    00℃以上であることを特徴とするダイヤモンドの合成
    方法。
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