JPS60209573A - １，２，４‐トリアザシクロアルカジエン誘導体、該誘導体を含む医薬製剤及び該誘導体の製造方法 - Google Patents
１，２，４‐トリアザシクロアルカジエン誘導体、該誘導体を含む医薬製剤及び該誘導体の製造方法Info
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- JPS60209573A JPS60209573A JP60050724A JP5072485A JPS60209573A JP S60209573 A JPS60209573 A JP S60209573A JP 60050724 A JP60050724 A JP 60050724A JP 5072485 A JP5072485 A JP 5072485A JP S60209573 A JPS60209573 A JP S60209573A
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P29/00—Non-central analgesic, antipyretic or antiinflammatory agents, e.g. antirheumatic agents; Non-steroidal antiinflammatory drugs [NSAID]
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P37/00—Drugs for immunological or allergic disorders
-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式（１）
〔式中基Ｒ１及びＲ２ばそれぞれ独立にアリール基又は
場合によりＮ−オキシド化されたヘテロアリール基を表
し、これらは非置換であるか、又は脂肪族炭化水素基、
遊離、エーテル化若しくはエステル化されたヒドロキシ
基、場合によりＳ−オキシド化されたエーテル化メルカ
プト基、遊離若しくは脂肪族基で置換されたアミノ基、
二１・四基及び／又はトリフルオロメチル基で置換され
ており、Ｒ３は少なくとも２個の炭素原子を有する非置
換脂肪族炭化水素基又はＮ１１ｉｌのシアノ基、１個の
場合によりエステル化若しくはアミド化されたカルボキ
シ基、１個又は２個の場合によりエステル化若しくはエ
ーテル化されたヒドロキシ基、１個又は２個のエーテル
化メルカプト基、１個のオキシド化エーテル化メルカプ
ト基或いはオキソ基で置換された脂肪族炭化水素基を表
し、これらの基は場合によりチア若しくはオキサで遮断
されていてもよく、又は非置換脂環式炭化水素基を表す
〕の新規１．２．４−）リアザシクロアルカジエン誘導
体及びその塩、本発明による化合物の製造方法、該化合
物を含む医薬製剤及びその用途に関する。
場合によりＮ−オキシド化されたヘテロアリール基を表
し、これらは非置換であるか、又は脂肪族炭化水素基、
遊離、エーテル化若しくはエステル化されたヒドロキシ
基、場合によりＳ−オキシド化されたエーテル化メルカ
プト基、遊離若しくは脂肪族基で置換されたアミノ基、
二１・四基及び／又はトリフルオロメチル基で置換され
ており、Ｒ３は少なくとも２個の炭素原子を有する非置
換脂肪族炭化水素基又はＮ１１ｉｌのシアノ基、１個の
場合によりエステル化若しくはアミド化されたカルボキ
シ基、１個又は２個の場合によりエステル化若しくはエ
ーテル化されたヒドロキシ基、１個又は２個のエーテル
化メルカプト基、１個のオキシド化エーテル化メルカプ
ト基或いはオキソ基で置換された脂肪族炭化水素基を表
し、これらの基は場合によりチア若しくはオキサで遮断
されていてもよく、又は非置換脂環式炭化水素基を表す
〕の新規１．２．４−）リアザシクロアルカジエン誘導
体及びその塩、本発明による化合物の製造方法、該化合
物を含む医薬製剤及びその用途に関する。
ヘテロアリール基は、例えば単環式であって、１個の酸
素原子又は硫黄原子及び場合により付加的に１個の窒素
原子を有する５員のヘテロアリール基又は１個若しくは
２個の窒素原子を有する６員のヘテロアリール基、例え
ばフリル貼、例えば２−フリル基、チェニル基、例えば
２−チェニル基、チアゾリル基、例えば２−チアゾリル
基、場合によりＮ−オキシド化されたピリジル基、例え
ば２−１４−若しくは特に３−ピリジル基又は３−（１
−オキシドピリジル）基、又はピリミジル基、例えば２
−ピリミジル基又は２−（１−オキシドピリミジル）基
である。
素原子又は硫黄原子及び場合により付加的に１個の窒素
原子を有する５員のヘテロアリール基又は１個若しくは
２個の窒素原子を有する６員のヘテロアリール基、例え
ばフリル貼、例えば２−フリル基、チェニル基、例えば
２−チェニル基、チアゾリル基、例えば２−チアゾリル
基、場合によりＮ−オキシド化されたピリジル基、例え
ば２−１４−若しくは特に３−ピリジル基又は３−（１
−オキシドピリジル）基、又はピリミジル基、例えば２
−ピリミジル基又は２−（１−オキシドピリミジル）基
である。
アリール基は、炭素原子数１０以下のアリール基、例え
ば単環式アリール基、例えばフェニル基である。
ば単環式アリール基、例えばフェニル基である。
了り−ル基又はヘテロアリール基は、１個以上、例えば
１個、２個若しくは３（１１ｉｌの同−又は異なる前記
置換基を有していてもよい。
１個、２個若しくは３（１１ｉｌの同−又は異なる前記
置換基を有していてもよい。
エーテル化ヒドロキシ基は、例えば脂肪族基でエーテル
化されたヒドロキシ基、例えば低級アルコキシ基又はビ
シナル位で結合した低級アルキレンジオキシ基若しくは
低級アルキリデンジオキシ基である。
化されたヒドロキシ基、例えば低級アルコキシ基又はビ
シナル位で結合した低級アルキレンジオキシ基若しくは
低級アルキリデンジオキシ基である。
Ｒ＋又はＲ２の置換基としてのエステル化しドロキシ基
は、例えば鉱酸又は有機カルボン酸でエステル化された
ヒドロキシ基、例えばハロゲン又は低級アルカノイルオ
キシ基、更に場合によりアリール基について記載した、
例えば低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及
び／又はトリフルオロメチル基で置換されたベンゾイル
オキシ基である。
は、例えば鉱酸又は有機カルボン酸でエステル化された
ヒドロキシ基、例えばハロゲン又は低級アルカノイルオ
キシ基、更に場合によりアリール基について記載した、
例えば低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン及
び／又はトリフルオロメチル基で置換されたベンゾイル
オキシ基である。
Ｒ１又はＲ２の置換基としての場合によりオキシ「化さ
れたエーテル化メルカプト基は、例えば低級アルキルチ
オ基、低級アルカンスルフィニル、ＩＩ又は低級アルカ
ンスルボニル基である。
れたエーテル化メルカプト基は、例えば低級アルキルチ
オ基、低級アルカンスルフィニル、ＩＩ又は低級アルカ
ンスルボニル基である。
脂肪族基で置換されたアミノ置換基は、例えば低級アル
キル基でＮ−モノ−又はＮ、Ｎ−ジ置換アミノ基、例え
はモノ−又はジ低級アルキルアミノ基、又は第二に、４
〜７員のアルキレンアミノ基又は３−アザ−１３−オキ
サ−若しくは３−チア−アルキレンアミノ基である。
キル基でＮ−モノ−又はＮ、Ｎ−ジ置換アミノ基、例え
はモノ−又はジ低級アルキルアミノ基、又は第二に、４
〜７員のアルキレンアミノ基又は３−アザ−１３−オキ
サ−若しくは３−チア−アルキレンアミノ基である。
脂肪族炭化水素基は、例えば低級アルキル基又は第二に
低級アルケニル基又は低級アルキニル基である。
低級アルケニル基又は低級アルキニル基である。
特に低級アルキル基の置換基としては、例えばヒドロキ
シ基、有機カルボン酸でエステル化されたヒドロキシ基
、例えば低級アルカノイルオキシ基、又は脂肪族基でエ
ーテル化されたヒドロキシ基、例えば低級アルコキシ基
、低級アルキレンジオキシ基又は低級アルキリデンジオ
キシ基、低級アルキルチオ基、低級アルカンスルフィニ
ル基、低級アルカンスルホニル基、低級アルキレンジチ
オ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基又は
遊離若しくはＮ−モノ−１Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキル化或
いは４〜７員アルキレン基、３−アザ−１３−オキザ−
若しくは３−チア−アルキレン基でジ置換されたカルバ
モイル基、シアノ基及びオキソ基が該当する。基Ｒ３は
、従って、例えば、低級アルキル基、更に低級アルケニ
ル基及び低級アルキニル基、同様に七）−若しくはジヒ
ドロキシ低級アルキル基、モノ−若しくはジ低級アルカ
ノイルオキシ低級アルキル基、七ノー若しくはジ低級ア
ルコキシ低級アルキル基、ヒトＩコキン低級アルコキシ
低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ低級ア
ルキル基、ヒドロキシ低級アルキルチオ低級アルキル基
、低級アルコキシ低級アルキルチオ低級アルキル基、低
級アルキレンジオキシ低級アルキル基、低級アルキリデ
ンジオキシ低級アルキル基、モノ−若しくはジ低級アル
キルチオ低級アルキル基、低級アルカンスルフィニル低
級アルキル基又は低級アルカンスルボニル低級アルキル
基、低級アルキレンジチオ低級アルキル基、オキソ低級
アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、
カルバモイル低級アルキル基又はＮ−モノ−若しくはＮ
、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル拮、更
に４〜７員のＮ、Ｎ−低級アルキレンカルバモイル低級
アルキル基又はＮ、Ｎ−（３−アザ−１３−オキサ−若
しくは３−チア）−低級アルキレンカルハモイル低級ア
ルキル基である。
シ基、有機カルボン酸でエステル化されたヒドロキシ基
、例えば低級アルカノイルオキシ基、又は脂肪族基でエ
ーテル化されたヒドロキシ基、例えば低級アルコキシ基
、低級アルキレンジオキシ基又は低級アルキリデンジオ
キシ基、低級アルキルチオ基、低級アルカンスルフィニ
ル基、低級アルカンスルホニル基、低級アルキレンジチ
オ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基又は
遊離若しくはＮ−モノ−１Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキル化或
いは４〜７員アルキレン基、３−アザ−１３−オキザ−
若しくは３−チア−アルキレン基でジ置換されたカルバ
モイル基、シアノ基及びオキソ基が該当する。基Ｒ３は
、従って、例えば、低級アルキル基、更に低級アルケニ
ル基及び低級アルキニル基、同様に七）−若しくはジヒ
ドロキシ低級アルキル基、モノ−若しくはジ低級アルカ
ノイルオキシ低級アルキル基、七ノー若しくはジ低級ア
ルコキシ低級アルキル基、ヒトＩコキン低級アルコキシ
低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ低級ア
ルキル基、ヒドロキシ低級アルキルチオ低級アルキル基
、低級アルコキシ低級アルキルチオ低級アルキル基、低
級アルキレンジオキシ低級アルキル基、低級アルキリデ
ンジオキシ低級アルキル基、モノ−若しくはジ低級アル
キルチオ低級アルキル基、低級アルカンスルフィニル低
級アルキル基又は低級アルカンスルボニル低級アルキル
基、低級アルキレンジチオ低級アルキル基、オキソ低級
アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、
カルバモイル低級アルキル基又はＮ−モノ−若しくはＮ
、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル拮、更
に４〜７員のＮ、Ｎ−低級アルキレンカルバモイル低級
アルキル基又はＮ、Ｎ−（３−アザ−１３−オキサ−若
しくは３−チア）−低級アルキレンカルハモイル低級ア
ルキル基である。
脂環式炭化水素基は、例えば３〜８個、特に５〜７個の
環成員を有する単環脂環式炭化水素基、例えば相応する
シクロアルキル茫である。
環成員を有する単環脂環式炭化水素基、例えば相応する
シクロアルキル茫である。
以上及び以下において、「低級」有機基及び化合物とは
、好ましくは、７個以下、殊に４個以下の炭素原子を含
むものである。
、好ましくは、７個以下、殊に４個以下の炭素原子を含
むものである。
低級アルキル基Ｒ３は、例えば二級又は三級の炭素原子
を介して結合する炭素原子数３〜７個の低級アルキル基
、例えば２−プロピル基（イソプロピル基）、２−ブチ
ル基（ｓｅ、ｃ−ブチル基）、２−（２−メチル）−プ
ロピル基（Ｌｅｒｔ−ブチルＭ） 、２−ペンチル基、
３−ペンチル！、２−（３−メチル）−ブチル基、２−
（２−メチル）−ブチル基、２−へキシル基、３−ヘキ
シル基、２− （２，３−ジメチル）−ブチル基、３−
ヘプチル基若しくは３− （２，３−ジメチル）ペンナ
ル基又は第二に炭素原子数２〜７の一級低級アルキル基
、例えばエチル基、１−プロピル基、１−ブチル基、■
−ペンチル基、■−ヘキシル基又は１−ヘプチル基であ
る。Ｒ３としての他の低級アルキル基は、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
、イソブチル基、５ｅｃ−ブチル基又はｔｅｒ ｔ−ブ
チル基、更にペンチル基、ヘキシル基又はヘプチル基で
ある。
を介して結合する炭素原子数３〜７個の低級アルキル基
、例えば２−プロピル基（イソプロピル基）、２−ブチ
ル基（ｓｅ、ｃ−ブチル基）、２−（２−メチル）−プ
ロピル基（Ｌｅｒｔ−ブチルＭ） 、２−ペンチル基、
３−ペンチル！、２−（３−メチル）−ブチル基、２−
（２−メチル）−ブチル基、２−へキシル基、３−ヘキ
シル基、２− （２，３−ジメチル）−ブチル基、３−
ヘプチル基若しくは３− （２，３−ジメチル）ペンナ
ル基又は第二に炭素原子数２〜７の一級低級アルキル基
、例えばエチル基、１−プロピル基、１−ブチル基、■
−ペンチル基、■−ヘキシル基又は１−ヘプチル基であ
る。Ｒ３としての他の低級アルキル基は、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基
、イソブチル基、５ｅｃ−ブチル基又はｔｅｒ ｔ−ブ
チル基、更にペンチル基、ヘキシル基又はヘプチル基で
ある。
低級アルケニル基は、例えばビニル基、好ましくは飽和
炭素原子を介して結合した低級アルケニル基、例えばア
リル基、メタリル基又はブドー２−エニル基である。
炭素原子を介して結合した低級アルケニル基、例えばア
リル基、メタリル基又はブドー２−エニル基である。
低級アルキニル基は、例えばエチニル基、好ましくは飽
和炭素原子を介し゛ζ結合した低級アルキニル基、例え
はプロパルキル基又はブドー２−イニル基である。
和炭素原子を介し゛ζ結合した低級アルキニル基、例え
はプロパルキル基又はブドー２−イニル基である。
低級アルコキシ基は、例えばメトキシ基、エトキシ基、
プ１コボキシ基、イソプロポキシ茫、ブトキシ基、イソ
ブトキシ基、５ｅｃ−ブトキシ基、又はＬｅｒ ｔ−ブ
トキシ枯、更にペンデルオキシ基、ヘキシルオキシ基又
はヘプチルオキシ基である。
プ１コボキシ基、イソプロポキシ茫、ブトキシ基、イソ
ブトキシ基、５ｅｃ−ブトキシ基、又はＬｅｒ ｔ−ブ
トキシ枯、更にペンデルオキシ基、ヘキシルオキシ基又
はヘプチルオキシ基である。
低級アルキレンジオキシ基は、例えばメチレンジオキシ
基、エチレンジオキシ基、１．３−プロピレンジオキシ
基、２，３−ブチレンジオキシ基又は１．３− （２，
２−ジメチル）〜プロピレンジオキシ基であり、低級ア
ルキリデンジオキシ基は、例えばエチリデンジオキシ基
又はイソプロピリデンジオキシ基である。
基、エチレンジオキシ基、１．３−プロピレンジオキシ
基、２，３−ブチレンジオキシ基又は１．３− （２，
２−ジメチル）〜プロピレンジオキシ基であり、低級ア
ルキリデンジオキシ基は、例えばエチリデンジオキシ基
又はイソプロピリデンジオキシ基である。
低級アルカノイルオキシ基は、例えばアセトキシ基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリル
オキシ基、更にポルミルオキシ基又はピバロイルオキシ
基である。
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリル
オキシ基、更にポルミルオキシ基又はピバロイルオキシ
基である。
低級アルキルチオ基は、例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチ
オ基、イソブチルチオ基、５ｅｃ−ブチルチオ基又はｔ
ｅｒ Ｉ−ブチルチオ基、更にペンチルチオ基、ヘキシ
ルチオ基又はヘプチルチオ基である。
オ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチ
オ基、イソブチルチオ基、５ｅｃ−ブチルチオ基又はｔ
ｅｒ Ｉ−ブチルチオ基、更にペンチルチオ基、ヘキシ
ルチオ基又はヘプチルチオ基である。
低級アルキレンジチオ基は、例えばエチレンジチオ茫、
１，３−プロピレンジ千オ晶又は１，３−（２，２−ジ
メチル）−プロピレンジチオ基である。
１，３−プロピレンジ千オ晶又は１，３−（２，２−ジ
メチル）−プロピレンジチオ基である。
低級アルカンスルフィニル基は、例えばメタン−、エタ
ン−１１−若しくば２−プロパン−、ブタン−又はイソ
ブタンスルフィニル基である。
ン−１１−若しくば２−プロパン−、ブタン−又はイソ
ブタンスルフィニル基である。
低級アルカンスルボニル基は、例えばメタン−１エタン
−１１−若しくは２−プロパン−、ブタン−又はイソブ
タンスルボニル基である。
−１１−若しくは２−プロパン−、ブタン−又はイソブ
タンスルボニル基である。
モノ−又はジ低級アルキルアミノ基は、例えばメチルア
ミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチル
アミノ基、プロピルアミノ基又はブチルアミノ基である
。
ミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチル
アミノ基、プロピルアミノ基又はブチルアミノ基である
。
４〜７員のアルキレンアミノ基又は３−アザ−１３−オ
キザー若しくは３−チア−アルキレンアミノ基は、例え
ばピロリジノ、！ン、ピペリジノ基、モルホリノ基、チ
オモルホリノ基又はピペラジノ基又は４−メチル−若し
くは４−エチルピペラジノ基である。
キザー若しくは３−チア−アルキレンアミノ基は、例え
ばピロリジノ、！ン、ピペリジノ基、モルホリノ基、チ
オモルホリノ基又はピペラジノ基又は４−メチル−若し
くは４−エチルピペラジノ基である。
４〜７員のＮ、Ｎ−アルキレン−又はＮ、Ｎ−（３−ア
ザ−１３−オキサ−若しくは３−チア）−アルキレンカ
ルハモイル低級アルキル基は、例えばピロリジノ−、ピ
ペリジノ−、モルホリノー、チオモルホリノー又はピペ
ラジノ−又は４−メチル−若しくば４−エチルピペラジ
ノ力ルポニルメチル基である。
ザ−１３−オキサ−若しくは３−チア）−アルキレンカ
ルハモイル低級アルキル基は、例えばピロリジノ−、ピ
ペリジノ−、モルホリノー、チオモルホリノー又はピペ
ラジノ−又は４−メチル−若しくば４−エチルピペラジ
ノ力ルポニルメチル基である。
カルボキシ低級アルキル基は、例えばカルホキジメチル
基、１−若しくは２−カルボキシエチル基、■−１２−
若しくは３−カルボキシプロピル基、２−（２−カルボ
キシ）−プロピル基又は４−カルポキシブチル基、更に
２−（２−カルボキシ）−ブチル基である。
基、１−若しくは２−カルボキシエチル基、■−１２−
若しくは３−カルボキシプロピル基、２−（２−カルボ
キシ）−プロピル基又は４−カルポキシブチル基、更に
２−（２−カルボキシ）−ブチル基である。
低級アルコキシカルボニル低級アルキル哉は、例えばメ
トキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル
基、ｌ−若しくは２−メトキシカルボニルエチル基、１
−若しくは２−工１−キシカルボニルエチル基、１−１
２−若しくは３−メトキシカルボニルプロピル基、■−
１２−若しくは３−工トキシカルボニルプロピル基、２
’−（２〜メトキシカルボニル）−若しくは２−（２−
エトキシカルボニル）−プロピル基又は４−工Ｉ・キシ
カルボニル−若しくは４−メトキシカルボニルブチル基
、更に２−（２−メトキシカルボニル）−若しくは２−
（エトキシカルボニル）−ブチル基である。
トキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル
基、ｌ−若しくは２−メトキシカルボニルエチル基、１
−若しくは２−工１−キシカルボニルエチル基、１−１
２−若しくは３−メトキシカルボニルプロピル基、■−
１２−若しくは３−工トキシカルボニルプロピル基、２
’−（２〜メトキシカルボニル）−若しくは２−（２−
エトキシカルボニル）−プロピル基又は４−工Ｉ・キシ
カルボニル−若しくは４−メトキシカルボニルブチル基
、更に２−（２−メトキシカルボニル）−若しくは２−
（エトキシカルボニル）−ブチル基である。
カルバモイル低級アルキル基又はＮ−モノ−若しくはＮ
、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル基は、
例えばカルバモイルメチル基、１−若しくは２−カルバ
モイルエチル基又は２−（２−カルバモイル）−プロピ
ル基、Ｎ−メチル−１Ｎ−エチル−若しくはＮ、Ｎ−ジ
メチルカルバモイルメチル基、ｌ−若しくは２−（Ｎ−
メチル−１Ｎ−エチル−若しくはＮ、Ｎ−ジメチルカル
バモイル）−エチル基又は２− Ｃ２−（Ｎ−メチル−
１Ｎ−エヂルー若しくはＮ、Ｎ−ジメチルカルバモイル
）〕−プロピル基である。
、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル基は、
例えばカルバモイルメチル基、１−若しくは２−カルバ
モイルエチル基又は２−（２−カルバモイル）−プロピ
ル基、Ｎ−メチル−１Ｎ−エチル−若しくはＮ、Ｎ−ジ
メチルカルバモイルメチル基、ｌ−若しくは２−（Ｎ−
メチル−１Ｎ−エチル−若しくはＮ、Ｎ−ジメチルカル
バモイル）−エチル基又は２− Ｃ２−（Ｎ−メチル−
１Ｎ−エヂルー若しくはＮ、Ｎ−ジメチルカルバモイル
）〕−プロピル基である。
シアノ低級アルキル基は、例えばシアノメチル基、■−
シアノエヂル基又は２−（２−シアノ）−プロビル基で
ある。
シアノエヂル基又は２−（２−シアノ）−プロビル基で
ある。
七ノー又はジ低級アルコキシ低級アルキル基は、例えば
２−メトキシ−１２−エトキシ−１２−プロポキシ−１
２−イソプロポキシ−１２，２−ジメトキシ−若しくは
２．２−ジェトキシ−エチル基、３−メトキシ−若しく
は３−工トキシ−プロピル基又は３．３−ジメトキシ−
１３，３−ジェトキシ−１２，３−ジメトキシ−若しく
は２．３〜ジエトキシプロピル基又は４，４−ジメトキ
シ−ブチル基、同様にメトキシ−、エトキシ−、ジメト
キシ−、プロポキシ−若しくはイソプロポキシメチル基
である。
２−メトキシ−１２−エトキシ−１２−プロポキシ−１
２−イソプロポキシ−１２，２−ジメトキシ−若しくは
２．２−ジェトキシ−エチル基、３−メトキシ−若しく
は３−工トキシ−プロピル基又は３．３−ジメトキシ−
１３，３−ジェトキシ−１２，３−ジメトキシ−若しく
は２．３〜ジエトキシプロピル基又は４，４−ジメトキ
シ−ブチル基、同様にメトキシ−、エトキシ−、ジメト
キシ−、プロポキシ−若しくはイソプロポキシメチル基
である。
低級アルキレンジオキシ低級アルキル基は、例えば２，
２−エチレンジオキシ−若しくは２，２−プロピレンジ
オキシ−エチル基又は３．３−若しくは２，３−エチレ
ンジオキシ−プロピル基、同様にエチレンジオキシ−又
はプロピレンジオキシメチル基である。
２−エチレンジオキシ−若しくは２，２−プロピレンジ
オキシ−エチル基又は３．３−若しくは２，３−エチレ
ンジオキシ−プロピル基、同様にエチレンジオキシ−又
はプロピレンジオキシメチル基である。
低級アルキリデンジオキシ低級アルキル暴は、例えば２
，３−エチリデンジオキシプロピル基又は２．３−イソ
プロピリデンジオキシプロピル基である。
，３−エチリデンジオキシプロピル基又は２．３−イソ
プロピリデンジオキシプロピル基である。
モノ−又はジ低級アルカノイルオキシ低級アルキル基は
、例えば１−若しくは２−アセトキシエチル基、■−若
しくは２−ピバロイルオキシエチル基、１−アセトキシ
プロピル＝（２）基、１−ピバロイルオキシプロビル−
（２） 基、１−アセトキシ−２−メチル−プロピル−
（２）基又は１−ピバロイルオキシ−２−メチル−プロ
ピル−（２）又は３−アセトキシ−若しくは２．３−ジ
アセトキシプロピル基であるが、ピバロイルオキシメチ
ル基又はアセトキシメチル基であってもよい。
、例えば１−若しくは２−アセトキシエチル基、■−若
しくは２−ピバロイルオキシエチル基、１−アセトキシ
プロピル＝（２）基、１−ピバロイルオキシプロビル−
（２） 基、１−アセトキシ−２−メチル−プロピル−
（２）基又は１−ピバロイルオキシ−２−メチル−プロ
ピル−（２）又は３−アセトキシ−若しくは２．３−ジ
アセトキシプロピル基であるが、ピバロイルオキシメチ
ル基又はアセトキシメチル基であってもよい。
モノ−又はジ低級アルキルチオ低級アルキル基は、例え
ば２−メチルチオ−１２−エチルチオ−１２−プロピル
チオ−若しくは２−イソプロピルチオ−１２，２−ジメ
チルチオ−若しくは２．２−ジエチルチオ−エチル基、
３−メチルチオ−若しくは３−エチルチオ−プロピル基
又は３，３−ビス（メチルチオ）−１３，３−ビス（エ
チルチオ）−１２，３−ビス（メチルチオ）−若しくは
２゜３−ヒス（エチルチオ）−プロピル基又は４，４−
ビス（メチルチオ）−ブチル基、同様にメチルチオ−、
エチルチオ−、ヒス（メチルチオ）−、プロピルチオ−
若しくはイソプロピルチオ−メチル基である。
ば２−メチルチオ−１２−エチルチオ−１２−プロピル
チオ−若しくは２−イソプロピルチオ−１２，２−ジメ
チルチオ−若しくは２．２−ジエチルチオ−エチル基、
３−メチルチオ−若しくは３−エチルチオ−プロピル基
又は３，３−ビス（メチルチオ）−１３，３−ビス（エ
チルチオ）−１２，３−ビス（メチルチオ）−若しくは
２゜３−ヒス（エチルチオ）−プロピル基又は４，４−
ビス（メチルチオ）−ブチル基、同様にメチルチオ−、
エチルチオ−、ヒス（メチルチオ）−、プロピルチオ−
若しくはイソプロピルチオ−メチル基である。
（１アル力ンスルフイニル低級アルキルｉは、例えば２
−メタンスルフィニル−１３−エタンスルフィニルー、
２−プロパンスルフィニル−若シ＜４；ｔ：２−（２−
プロパンスルフィニル）−エチル基、３−メタンスルフ
ィニル−若しくは２−エタンスルフィニル−プロピル基
、同様にメタンスルフィニル−、エタンスルフィニル−
若しくはｌ−若しくは２−プロパンスルフィニル−メチ
ル基である。
−メタンスルフィニル−１３−エタンスルフィニルー、
２−プロパンスルフィニル−若シ＜４；ｔ：２−（２−
プロパンスルフィニル）−エチル基、３−メタンスルフ
ィニル−若しくは２−エタンスルフィニル−プロピル基
、同様にメタンスルフィニル−、エタンスルフィニル−
若しくはｌ−若しくは２−プロパンスルフィニル−メチ
ル基である。
低級アルカンスルボニル低級アルキル基は、例えば２−
メタンスルボニル−１３−エタンスルボニル−１２−プ
ロパンスルホニル−若しくは２−（２−プロパンスルホ
ニル）−エチル基、３−メタンスルボニル−若しくは３
−エタンスルボニル−プロピル基、同様にメタンスルホ
ニル−、エタンスルボニル−若しくば１−若しくは２−
プロパンスルボニルーメ、チル基である。
メタンスルボニル−１３−エタンスルボニル−１２−プ
ロパンスルホニル−若しくは２−（２−プロパンスルホ
ニル）−エチル基、３−メタンスルボニル−若しくは３
−エタンスルボニル−プロピル基、同様にメタンスルホ
ニル−、エタンスルボニル−若しくば１−若しくは２−
プロパンスルボニルーメ、チル基である。
低級アルキレンジチオ低級アルキル基は、例えば２，２
−エチレンジチオ−若しくは２．２−プロピレンジチオ
−エチル基又は３．３−若（、くは２．３−エチレンジ
チオプロピル基、同様にエチレンジチオ−若しくはプロ
ピレンジチオ−メチル基である。
−エチレンジチオ−若しくは２．２−プロピレンジチオ
−エチル基又は３．３−若（、くは２．３−エチレンジ
チオプロピル基、同様にエチレンジチオ−若しくはプロ
ピレンジチオ−メチル基である。
モノ−又はジヒドロキシ低級アルキル基は、例えばヒド
ロキシエチル基、■＝若しくは２−ヒドロキシエチル基
、３−ヒドロキシ−若しくは２゜３−ジヒドロキシ−プ
ロピル基、２−ヒドロキシ−プロピル−（２）基、１−
ヒドロキシ−２−メチル−プロピル−（２）基、４−ヒ
ドロキシ−若しくは２，４−ジヒドロキシブチル基、５
−ヒドロキシ−１２，５−ジヒドロキシ−若しくは３゜
５−ジヒドロキシペンチル基である。
ロキシエチル基、■＝若しくは２−ヒドロキシエチル基
、３−ヒドロキシ−若しくは２゜３−ジヒドロキシ−プ
ロピル基、２−ヒドロキシ−プロピル−（２）基、１−
ヒドロキシ−２−メチル−プロピル−（２）基、４−ヒ
ドロキシ−若しくは２，４−ジヒドロキシブチル基、５
−ヒドロキシ−１２，５−ジヒドロキシ−若しくは３゜
５−ジヒドロキシペンチル基である。
ヒドロキシ低級アルコキシ低級アルキル基は、例えば２
−（２−ヒドロキシエトキシ）−１２−（３−ヒドロキ
シプロポキシ）−若しくは２−（２，３−ジヒドロキシ
エトキシ）−エチル基又は３−（２−ヒドロキシエトキ
シ）−若しくは３−（３−ヒドロキシプロポキシ）−プ
ロピル基、同様に２−ヒドロキシエトキシー若しくは３
−ヒドロキシプロポキシメチル基を表す。
−（２−ヒドロキシエトキシ）−１２−（３−ヒドロキ
シプロポキシ）−若しくは２−（２，３−ジヒドロキシ
エトキシ）−エチル基又は３−（２−ヒドロキシエトキ
シ）−若しくは３−（３−ヒドロキシプロポキシ）−プ
ロピル基、同様に２−ヒドロキシエトキシー若しくは３
−ヒドロキシプロポキシメチル基を表す。
低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキル姑は、例え
ば２−（メトキシエトキシ）−１２−（エトキシメトキ
シ）−１２−（２−メトキシプロポキシ）−若しくは２
−（２−工トキシエ１−キシ）−エチル基又は３−（３
−メトキシエトキシ−プロピル基、同様にメトキシエト
キシ−、エトキシメトキシ−若しくは工Ｉ〜キシエトキ
シーメチル基を表す。
ば２−（メトキシエトキシ）−１２−（エトキシメトキ
シ）−１２−（２−メトキシプロポキシ）−若しくは２
−（２−工トキシエ１−キシ）−エチル基又は３−（３
−メトキシエトキシ−プロピル基、同様にメトキシエト
キシ−、エトキシメトキシ−若しくは工Ｉ〜キシエトキ
シーメチル基を表す。
ヒドロキシ低級アルキルチオ低級アルキル基は、例えば
２−（２−ヒドロキシエチルチオ）−、２−（３−ヒド
ロキシプロピルチオ）−若しくは２− （２．３−ジヒ
ドロキジブＩＪピルチオ）−エチル基又は３−（２−ヒ
ドロキシエチルチオ）−若Ｌ＜は３−（３−ヒドロキシ
プロピルチオ）−プロピル基、同様に２−ヒドロキシエ
チルチオ−若しくは３−ヒドロキシプロピルチオメチル
基を表す。
２−（２−ヒドロキシエチルチオ）−、２−（３−ヒド
ロキシプロピルチオ）−若しくは２− （２．３−ジヒ
ドロキジブＩＪピルチオ）−エチル基又は３−（２−ヒ
ドロキシエチルチオ）−若Ｌ＜は３−（３−ヒドロキシ
プロピルチオ）−プロピル基、同様に２−ヒドロキシエ
チルチオ−若しくは３−ヒドロキシプロピルチオメチル
基を表す。
オキソ低級アルキル基しま、例えば２−オキソエチル基
、２−若しくは３−オキソプロピル栽又は２−、３−若
しくば４−オキソブチル基、更に相応するオキソペンチ
ル基、オキソヘキシル基又はオキソヘプチル基又はホル
ミル基を表す。
、２−若しくは３−オキソプロピル栽又は２−、３−若
しくば４−オキソブチル基、更に相応するオキソペンチ
ル基、オキソヘキシル基又はオキソヘプチル基又はホル
ミル基を表す。
３〜８個の環成員を有するシクロアルキル基は、例えば
シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はシクロヘプチ
ル基、更にシクロプロピル基又はシクロオクチル基であ
る。
シクロペンチル基、シクロヘキシル基又はシクロヘプチ
ル基、更にシクロプロピル基又はシクロオクチル基であ
る。
ハロゲンは、例えば原子番号３５以下のハロゲン−１例
えば弗素、塩素又は臭素である。
えば弗素、塩素又は臭素である。
一般式（１）の化合物の塩は、殊に、医薬に使用しうる
塩、即ち、医薬に使用しろる強酸、例えば鉱酸との酸イ
］加塩、例えばハロゲン水素酸、殊に塩化水素酸又は臭
化水素酸との塩、即ちハロゲン水素酸塩、殊に塩酸塩及
び臭化水素酸塩又は硫酸塩、即ち硫酸水素塩及び硫酸塩
、並びに適当な有機酸、例えばジカルボン酸若しくはス
ルボン酸との塩、例えばマレイン酸塩、フマル酸塩、リ
ンコ酸塩、酒石酸塩又はメタンスルホン酸塩、及びＮ−
シクロへキシルスルファミン酸塩、更にＲ３がカルボキ
シ基を有する一般式（１）の化合物の分子内塩、又はそ
の医薬に使用しうる金属塩又はアルカリ土類金属塩又は
アンモニア若しくは適当な有機アミン、例えばモノ−、
ジー若しくは１−り低級アルキルアミン、例えばジエチ
ルアミン、モノ−、ジー若しくはトリヒドロキシ低級ア
ルキルアミン、ジェタノールアミン又は２−ジメチルア
ミノエタノール、又はへテロ脂肪族アミン、例えばモル
ボリンとの塩である。
塩、即ち、医薬に使用しろる強酸、例えば鉱酸との酸イ
］加塩、例えばハロゲン水素酸、殊に塩化水素酸又は臭
化水素酸との塩、即ちハロゲン水素酸塩、殊に塩酸塩及
び臭化水素酸塩又は硫酸塩、即ち硫酸水素塩及び硫酸塩
、並びに適当な有機酸、例えばジカルボン酸若しくはス
ルボン酸との塩、例えばマレイン酸塩、フマル酸塩、リ
ンコ酸塩、酒石酸塩又はメタンスルホン酸塩、及びＮ−
シクロへキシルスルファミン酸塩、更にＲ３がカルボキ
シ基を有する一般式（１）の化合物の分子内塩、又はそ
の医薬に使用しうる金属塩又はアルカリ土類金属塩又は
アンモニア若しくは適当な有機アミン、例えばモノ−、
ジー若しくは１−り低級アルキルアミン、例えばジエチ
ルアミン、モノ−、ジー若しくはトリヒドロキシ低級ア
ルキルアミン、ジェタノールアミン又は２−ジメチルア
ミノエタノール、又はへテロ脂肪族アミン、例えばモル
ボリンとの塩である。
一般式（１）の化合物は、有用な薬理作用を有する。該
化合物は、特に、（ｇれた抗侵害受容作用及びプロスタ
グランジン合成に対する抑制作用、同様に著しい消炎作
用を示す。該化合物は、シェイ・ファルマコル・エクス
プ・セラプ（Ｊ。
化合物は、特に、（ｇれた抗侵害受容作用及びプロスタ
グランジン合成に対する抑制作用、同様に著しい消炎作
用を示す。該化合物は、シェイ・ファルマコル・エクス
プ・セラプ（Ｊ。
Ｐｈａｒｍａｃｏｌ、 ｅｘｐ、 Ｔｈｅｒａｐ、 ）
１２５巻、２３７ （１９５９）によりフェニル−ｐ
−ベンゾキノンによって起こされたライジング（Ｗｒｉ
ｔｈｉｎｇ）症候群のマウスで経口投与で約３〜４０■
／ｋｇの投与量範囲で著しく有効であることが判る。
１２５巻、２３７ （１９５９）によりフェニル−ｐ
−ベンゾキノンによって起こされたライジング（Ｗｒｉ
ｔｈｉｎｇ）症候群のマウスで経口投与で約３〜４０■
／ｋｇの投与量範囲で著しく有効であることが判る。
この薬理学的モデルにおいて、次のＥＤ、０値（試験６
０分前に前処理）を決定した。
０分前に前処理）を決定した。
２− （１，５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−ＩＨ
−１，２，４−）リアゾール−３−〕−〕プロパンー２
−オール：３．０＋叫／ｋｇ経口１−フェニル−５−（
３−ピリジル） ３−ｔｅｒｔ−ブヂルーＩＨ−１，２
，４１−リアゾール：５、０ Ｉｎｇ ／ ｋｇ経口； １．５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−３−ｔｅｒｔ
−ブチル−ＩＨ−１，２，４−）リアゾール： ４．
Ｏｍｇ／ｋｇ経口； ３−エチルチオメチル−１，５−ビス（ｐ−メトキシフ
ェニル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール：４．０ｍ
ｇ／ｋｇ経口。
−１，２，４−）リアゾール−３−〕−〕プロパンー２
−オール：３．０＋叫／ｋｇ経口１−フェニル−５−（
３−ピリジル） ３−ｔｅｒｔ−ブヂルーＩＨ−１，２
，４１−リアゾール：５、０ Ｉｎｇ ／ ｋｇ経口； １．５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−３−ｔｅｒｔ
−ブチル−ＩＨ−１，２，４−）リアゾール： ４．
Ｏｍｇ／ｋｇ経口； ３−エチルチオメチル−１，５−ビス（ｐ−メトキシフ
ェニル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール：４．０ｍ
ｇ／ｋｇ経口。
同様に、該化合物は経口投与で約１０〜１００■／ｋｇ
の投与量てラットの実験的カラゲニン銹発足浮腫に対し
て著しい抑制作用を示す〔ジ・パスカル（旧 Ｐａ５ｑ
ｕａｌｅ）ら著、エージエンッ・アンド・アクションス
（＾ｇｅｎＬｓ ａｎｄ Ａｃｔｉｏｎｓ） 、５巻２
５６ （１９７５） ）。
の投与量てラットの実験的カラゲニン銹発足浮腫に対し
て著しい抑制作用を示す〔ジ・パスカル（旧 Ｐａ５ｑ
ｕａｌｅ）ら著、エージエンッ・アンド・アクションス
（＾ｇｅｎＬｓ ａｎｄ Ａｃｔｉｏｎｓ） 、５巻２
５６ （１９７５） ）。
更に、該化合物は試験管内で約０．１〜１．５μＭ／ρ
の濃度範囲で、アラキドン酸からのプロスタグランジン
合成に対して顕著な抑制作用を示す〔プロスタグランジ
ンズ（Ｐｒｏｓｔａｇｌａｎｄｉｎｓ） 、７巻、１２
３ （１９７４）による試験法で証明される〕。
の濃度範囲で、アラキドン酸からのプロスタグランジン
合成に対して顕著な抑制作用を示す〔プロスタグランジ
ンズ（Ｐｒｏｓｔａｇｌａｎｄｉｎｓ） 、７巻、１２
３ （１９７４）による試験法で証明される〕。
従って、一般式（１）の化合物は、痛みのある炎症、殊
にリウマチ性疾患、例えば慢性関節炎の慢性疼痛状態を
治療する医薬製剤の有効成分として好適である。
にリウマチ性疾患、例えば慢性関節炎の慢性疼痛状態を
治療する医薬製剤の有効成分として好適である。
本発明は、特に、基Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立に非置
換又は低級アルキル基、低級アルコキシ基又はビシナル
位の炭素原子のところで低級アルキレンジオキシ基又は
低級アルキリデンジオキシ基・ヒドロキシ基、ハロゲン
、低級アルカノイルオキシ基、更に非置換又は低級アル
キル基、低級アルコキシ基及び／又はハロゲンで置換さ
れたヘンジイルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級ア
ルカンスルフィニル基、低級アルカンスルボニル基、ア
ミノ基、モノ−若しくはシー低級アルキルアミノ基、更
に４〜７員のアルキレンアミノ基、３−アザ−１３−オ
キサ−若しくは３−チアー低級アルキレンアミノ基、ニ
トロ基及び／又はトリフルオロメチル茫で置換された、
６〜ＬＯ＋ｌ１ｉＩの炭素原子を有するアリール基又は
１個の酸素原子或いは硫黄原子及び場合により更に１個
の窒素原子を有する５員のヘテロアリール話又は場合に
よりＮ〜オキシド化され、１個若しくは２個の窒素原子
を有する６員へテロアリール基を表し、Ｒ３が少なくと
も２１１Ｍの炭素原子を有する低級アルキル基、３〜８
員のシクロアルキル基、モノ−若しくはジ−ヒドロキシ
低級アルキル基、モノ−若しくはジー低級アルカノイル
オキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ低級
アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキ
ル基、ヒドロキシ低級アルキルチオ低級アルキル基、低
級アルコキシ低級アルキルチオ低級アルキル基、モノ−
若しくはシー低級アルコキン低級アルキル基、低級アル
ギレンシオキシ低級アルキル基、低級アルキレンジチオ
低級アルキル基、七ノー名しくはシー低級アルキルチオ
低級アルキル基、低級アルカンスルフィニル低級アルキ
ル基、低級アルカンスルボニル低級アルキル基、オキソ
低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル
基、カルバモイル低級アルキル基、Ｎ−モノ−若しくは
Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、
更に４〜７員のＮ、Ｎ−低級アルキレン部分いはＮ、Ｎ
−（３−アラ−１３−オキザー若しくは３−チア）−低
級アルキレンカルハモイル低級アルキル基を表す一般式
（１）の化合物及びその塩に関する。
換又は低級アルキル基、低級アルコキシ基又はビシナル
位の炭素原子のところで低級アルキレンジオキシ基又は
低級アルキリデンジオキシ基・ヒドロキシ基、ハロゲン
、低級アルカノイルオキシ基、更に非置換又は低級アル
キル基、低級アルコキシ基及び／又はハロゲンで置換さ
れたヘンジイルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級ア
ルカンスルフィニル基、低級アルカンスルボニル基、ア
ミノ基、モノ−若しくはシー低級アルキルアミノ基、更
に４〜７員のアルキレンアミノ基、３−アザ−１３−オ
キサ−若しくは３−チアー低級アルキレンアミノ基、ニ
トロ基及び／又はトリフルオロメチル茫で置換された、
６〜ＬＯ＋ｌ１ｉＩの炭素原子を有するアリール基又は
１個の酸素原子或いは硫黄原子及び場合により更に１個
の窒素原子を有する５員のヘテロアリール話又は場合に
よりＮ〜オキシド化され、１個若しくは２個の窒素原子
を有する６員へテロアリール基を表し、Ｒ３が少なくと
も２１１Ｍの炭素原子を有する低級アルキル基、３〜８
員のシクロアルキル基、モノ−若しくはジ−ヒドロキシ
低級アルキル基、モノ−若しくはジー低級アルカノイル
オキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルコキシ低級
アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルキ
ル基、ヒドロキシ低級アルキルチオ低級アルキル基、低
級アルコキシ低級アルキルチオ低級アルキル基、モノ−
若しくはシー低級アルコキン低級アルキル基、低級アル
ギレンシオキシ低級アルキル基、低級アルキレンジチオ
低級アルキル基、七ノー名しくはシー低級アルキルチオ
低級アルキル基、低級アルカンスルフィニル低級アルキ
ル基、低級アルカンスルボニル低級アルキル基、オキソ
低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基、シアノ低級アルキル
基、カルバモイル低級アルキル基、Ｎ−モノ−若しくは
Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、
更に４〜７員のＮ、Ｎ−低級アルキレン部分いはＮ、Ｎ
−（３−アラ−１３−オキザー若しくは３−チア）−低
級アルキレンカルハモイル低級アルキル基を表す一般式
（１）の化合物及びその塩に関する。
本発明は、特に、基Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立に非置
換又は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ
基、ハロケン、低級アルカノイルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、低級アルカンスルボニル基、ジ低級アルキル
アミノ基及び／又はトリフルオロメチル基で置換された
フェニル基又は非置換若しくは低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、へロケン若しくはヒドロキシ基で置換され
たフリル基、例えば２−フリル基、チェニル基、例えば
２−チェニル基、ピリジル占（、例えば２−２３−若し
くは４−ピリジル基、又は１−オキシドピリジル基、例
えば２−１３−若しくば４−（１−オキシド）−ピリジ
ル基を表し、Ｒ３ば少なくとも２個の炭素原子を有する
低級アルキル基、モノ−若しくはンヒトＸコキシ低級−
アルキル基、モノ−若しくはジ低級アルコキシ低級アル
キル基、低級アルキレンジオキシ低級アルキル基、オキ
ソ低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル基、
カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル
低級フルキル基、Ｎ−モノ−若しくはＮ、Ｎ−ジ低級ア
ルキルカルバモイル低級アルキル基を表す一般式（１）
の化合物及びその塩、特に医薬に使用しうる塩に関する
。
換又は低級アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ
基、ハロケン、低級アルカノイルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、低級アルカンスルボニル基、ジ低級アルキル
アミノ基及び／又はトリフルオロメチル基で置換された
フェニル基又は非置換若しくは低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、へロケン若しくはヒドロキシ基で置換され
たフリル基、例えば２−フリル基、チェニル基、例えば
２−チェニル基、ピリジル占（、例えば２−２３−若し
くは４−ピリジル基、又は１−オキシドピリジル基、例
えば２−１３−若しくば４−（１−オキシド）−ピリジ
ル基を表し、Ｒ３ば少なくとも２個の炭素原子を有する
低級アルキル基、モノ−若しくはンヒトＸコキシ低級−
アルキル基、モノ−若しくはジ低級アルコキシ低級アル
キル基、低級アルキレンジオキシ低級アルキル基、オキ
ソ低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル基、
カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル
低級フルキル基、Ｎ−モノ−若しくはＮ、Ｎ−ジ低級ア
ルキルカルバモイル低級アルキル基を表す一般式（１）
の化合物及びその塩、特に医薬に使用しうる塩に関する
。
本発明は、殊に、基Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立に非置
換又は炭素原子数４以下の低級アルコキシ基、例えばメ
トキシ基、炭素原子数４以下の低級アルキルチオ基、例
えばメチルチオ基、又は原子番号３５以下のハロゲン、
例えは弗素若しくは塩素で置換されたフェニル基、場合
によりＮ−オキソト化されたピリジル基、例えば３−ピ
リジル基、又は非置換チェニル基、例えば２−チェニル
基を表し、Ｒ３が二級又は三級炭素原子を介して結合す
る炭素原子数３〜７の低級アルキル基、例えばイソプロ
ピル基若しくはｔｅｒ ｔ−ブチル基、α−位にシアン
基若しくは低級アルキルチオ基を有し、低級アルキル部
分に４１１υ以下の炭素原子を有するシアノ低級アルキ
ル基、例えばシアノメチル基若しくは２−シアノプロピ
ル−（２）基、又ハ低級アルキル部分にそれぞれ４個以
下の炭素原子を有する低級アルキルチオ低級アルキル基
、例えばアルキルチオメチル基を表すか、又は炭素原子
数４以下のヒドロキシ低級アルキル基、例えばヒドロキ
シエチル茫、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシプロ
ピル−（２）基若しくは１−ヒドロキシ−２−メチルー
プｌコピルー（２）基、低級アルカノイルオキシ部分に
７個以下の炭素原子を有し、低級アルキル部分に４個以
下の炭素原子を有する低級アルカノイルオキシ低級アル
ギルＷ、例えば１−ピバロイルオキシ−２−メチル−プ
ロピル−（２）基、炭素原子数４以下のオキソ低級アル
キル基、例えばアセチル基若しくは２−オキソエチル基
、又は各アルキル部分又はアルキレン部分に４個以下の
炭素原子を有するジ低級アルコキシ低級アルキル基或い
は低級アルキレンシオキシ低級アルキル基、例えば２，
２−ジメトキシエチル基、３，３−ジメトキシプロピル
基、ジメトキシメチル基若しくは２．２−エチレンジオ
キシエチル基を表す一般式（１）の化合物及びその塩、
特に医薬に使用しうる塩に関する。
換又は炭素原子数４以下の低級アルコキシ基、例えばメ
トキシ基、炭素原子数４以下の低級アルキルチオ基、例
えばメチルチオ基、又は原子番号３５以下のハロゲン、
例えは弗素若しくは塩素で置換されたフェニル基、場合
によりＮ−オキソト化されたピリジル基、例えば３−ピ
リジル基、又は非置換チェニル基、例えば２−チェニル
基を表し、Ｒ３が二級又は三級炭素原子を介して結合す
る炭素原子数３〜７の低級アルキル基、例えばイソプロ
ピル基若しくはｔｅｒ ｔ−ブチル基、α−位にシアン
基若しくは低級アルキルチオ基を有し、低級アルキル部
分に４１１υ以下の炭素原子を有するシアノ低級アルキ
ル基、例えばシアノメチル基若しくは２−シアノプロピ
ル−（２）基、又ハ低級アルキル部分にそれぞれ４個以
下の炭素原子を有する低級アルキルチオ低級アルキル基
、例えばアルキルチオメチル基を表すか、又は炭素原子
数４以下のヒドロキシ低級アルキル基、例えばヒドロキ
シエチル茫、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシプロ
ピル−（２）基若しくは１−ヒドロキシ−２−メチルー
プｌコピルー（２）基、低級アルカノイルオキシ部分に
７個以下の炭素原子を有し、低級アルキル部分に４個以
下の炭素原子を有する低級アルカノイルオキシ低級アル
ギルＷ、例えば１−ピバロイルオキシ−２−メチル−プ
ロピル−（２）基、炭素原子数４以下のオキソ低級アル
キル基、例えばアセチル基若しくは２−オキソエチル基
、又は各アルキル部分又はアルキレン部分に４個以下の
炭素原子を有するジ低級アルコキシ低級アルキル基或い
は低級アルキレンシオキシ低級アルキル基、例えば２，
２−ジメトキシエチル基、３，３−ジメトキシプロピル
基、ジメトキシメチル基若しくは２．２−エチレンジオ
キシエチル基を表す一般式（１）の化合物及びその塩、
特に医薬に使用しうる塩に関する。
本発明は、特に、Ｒ１及びＲ２が炭素原子数４以下の低
級アルコキシ基、例えばメトキシ基で置換されたフェニ
ル基を表すか、又はＲ１がピリジル基を表し、Ｒ２がフ
ェニル基を表し、Ｒ３が三級炭素原子を介して結合する
炭素原子数７以下の低級アルキル基、例えばｔｅｒ ｔ
−ブチル基、α−位にカルボキシ基、シアノ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、低級アルキルチオ基、ヒドロキ
シ低級アルキルチオ基、オキソ低級アルキルチオ基、ジ
低級アルコキシ低級アルキルチオ基又は低級アルキレン
ジオキシ低級アルキルチオ基を有するカルボキシ低級ア
ルキル基、例えばカルボキシメチル基若しくは１−カル
ボキシエチル基、シアノ低級アルキル基、例えばシアノ
メチル基若しくは２−シアノプロビル−（２）基、低級
アルコキシカルボニル低級アルキル基、例えば２−エチ
ルカルボニルプロピル−（２）基、低級アルキルチオ低
級アルキル基、例えばエチルチオメチル基、ω−ヒドロ
キシ低級アルキルチオ低級アルキル基、ω−オキソ低級
アルキルチオ低級アルキル基、ジ低級アルコキシ低級ア
ルキルチオ低級アルキル基又は合計炭素原子数７以下の
低級アルキレンジオキシ低級アルキルチオ低級アルキル
基、例えば２−ヒドロキシエチルチオ−１２−オキソエ
チルチオ−１２，２−ジメトキシエチルチオ−若しくは
２．２−エチレンジオキシエチルメチル基、又は炭素原
子数７以下のヒドロキシ低級アルキル基、例えば２−ヒ
ドロキシプロピル−（２）基若しくは１−ヒドロキシ−
２−メチル−プロピル−（２）基を表す一般式（１）の
化合物及びその、特に医薬に使用しうる塩に関する。
級アルコキシ基、例えばメトキシ基で置換されたフェニ
ル基を表すか、又はＲ１がピリジル基を表し、Ｒ２がフ
ェニル基を表し、Ｒ３が三級炭素原子を介して結合する
炭素原子数７以下の低級アルキル基、例えばｔｅｒ ｔ
−ブチル基、α−位にカルボキシ基、シアノ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、低級アルキルチオ基、ヒドロキ
シ低級アルキルチオ基、オキソ低級アルキルチオ基、ジ
低級アルコキシ低級アルキルチオ基又は低級アルキレン
ジオキシ低級アルキルチオ基を有するカルボキシ低級ア
ルキル基、例えばカルボキシメチル基若しくは１−カル
ボキシエチル基、シアノ低級アルキル基、例えばシアノ
メチル基若しくは２−シアノプロビル−（２）基、低級
アルコキシカルボニル低級アルキル基、例えば２−エチ
ルカルボニルプロピル−（２）基、低級アルキルチオ低
級アルキル基、例えばエチルチオメチル基、ω−ヒドロ
キシ低級アルキルチオ低級アルキル基、ω−オキソ低級
アルキルチオ低級アルキル基、ジ低級アルコキシ低級ア
ルキルチオ低級アルキル基又は合計炭素原子数７以下の
低級アルキレンジオキシ低級アルキルチオ低級アルキル
基、例えば２−ヒドロキシエチルチオ−１２−オキソエ
チルチオ−１２，２−ジメトキシエチルチオ−若しくは
２．２−エチレンジオキシエチルメチル基、又は炭素原
子数７以下のヒドロキシ低級アルキル基、例えば２−ヒ
ドロキシプロピル−（２）基若しくは１−ヒドロキシ−
２−メチル−プロピル−（２）基を表す一般式（１）の
化合物及びその、特に医薬に使用しうる塩に関する。
本発明は、特に、Ｒ１及びＲ２が炭素原子数４以下の低
級アルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、Ｒ３が
三級炭素原子を介して結合する炭素原子数７以下の低級
アルキル基、例えばｔｅｒｔ −ブチル基、α−位にシ
アノ基、低級アルキルチオ基若しくはジ低級アルコキシ
低級アルキルチオ基を有する合計炭素原子数７以下のシ
アノ低級アルキル基、例えばシアノメチル基若しくは２
−シアノプロピル−（２）基、合計炭素原子数７以下の
低級アルキルチオ低級アルキル基、例えばエチルチオメ
チル基、合計炭素原子数７以下のジ低級アルコキシ低級
アルキルチオ低級アルキル基又は炭素原子数７以下のヒ
ドロキシ低級アルキル基、例えば２−ヒドロキシプロピ
ル−（２）基若しくは１−ヒドロキシ−２−メチル−プ
ロピル−（２）基を表す一般式（１）の化合物及びその
、特に医薬に使用しうる塩に関する。
級アルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、Ｒ３が
三級炭素原子を介して結合する炭素原子数７以下の低級
アルキル基、例えばｔｅｒｔ −ブチル基、α−位にシ
アノ基、低級アルキルチオ基若しくはジ低級アルコキシ
低級アルキルチオ基を有する合計炭素原子数７以下のシ
アノ低級アルキル基、例えばシアノメチル基若しくは２
−シアノプロピル−（２）基、合計炭素原子数７以下の
低級アルキルチオ低級アルキル基、例えばエチルチオメ
チル基、合計炭素原子数７以下のジ低級アルコキシ低級
アルキルチオ低級アルキル基又は炭素原子数７以下のヒ
ドロキシ低級アルキル基、例えば２−ヒドロキシプロピ
ル−（２）基若しくは１−ヒドロキシ−２−メチル−プ
ロピル−（２）基を表す一般式（１）の化合物及びその
、特に医薬に使用しうる塩に関する。
本発明は、殊に、一般式（１）の実施例に挙げた新規化
合物及びその医薬に使用しうる塩、その製造方法、該化
合物を含む医薬製剤及びその用途に関する。
合物及びその医薬に使用しうる塩、その製造方法、該化
合物を含む医薬製剤及びその用途に関する。
一般式（１）の化合物は、自体公知の方法で、例えば一
般式（■）： ４ １ ＩＹ２ 〔式中基Ｙ１及びＹｌの一方は脱離可能な基Ｙを表し、
他方は水素原子を表し、Ｙ３及びＹ４は一緒に付加的結
合を表すか、又はＹ４が脱離可能な基Ｙを表し、Ｙ３が
水素を表し、Ｙｌ及びＹｌは一緒に付加的結合を表す〕
の化合物又はその塩から付加的結合を導入しなからＨＹ
を脱離させ、各方法により得られた異性体混合物を必要
に応じて成分に分離し、一般式（Ｉ）の異性体を単離し
、各方法により得られた化合物を必要に応して一般式（
１）の他の化合物に変え、及び／又は各方法により得ら
れた遊離化合物を塩に変えるか、又は各方法により得ら
れた塩を遊離化合物又は他の塩に変えることによって製
造することができる。
般式（■）： ４ １ ＩＹ２ 〔式中基Ｙ１及びＹｌの一方は脱離可能な基Ｙを表し、
他方は水素原子を表し、Ｙ３及びＹ４は一緒に付加的結
合を表すか、又はＹ４が脱離可能な基Ｙを表し、Ｙ３が
水素を表し、Ｙｌ及びＹｌは一緒に付加的結合を表す〕
の化合物又はその塩から付加的結合を導入しなからＨＹ
を脱離させ、各方法により得られた異性体混合物を必要
に応じて成分に分離し、一般式（Ｉ）の異性体を単離し
、各方法により得られた化合物を必要に応して一般式（
１）の他の化合物に変え、及び／又は各方法により得ら
れた遊離化合物を塩に変えるか、又は各方法により得ら
れた塩を遊離化合物又は他の塩に変えることによって製
造することができる。
脱離可能な基Ｙは、例えば場合によりエステル化若しく
はエーテル化されたヒドロキシ基又はエステル化若しく
はエーテル化されたメルカプト基更に、アミノ基、アン
モニオ基及びスルホニウム基である。エステル化された
ヒドロキシ基としては、例えば無機酸又は有機カルボン
酸でエステル化されたヒｌｊ ｔｒキシ基、例えばハｌ
」ゲン、例えば塩素若しくは臭素、又は低級アルカノイ
ルオキシ基、例えばアセトキシ基が該当する。エーテル
化ヒドロキシ基は、例えば低級アルコキシ基、例えばメ
Ｉ・キシ基又はエトキシ基である。エステル化メルカプ
ト基は、例えば低級アルカンカルボン酸でエステル化さ
れたメルカプト基、例えばアセチルチオ基である。エー
テル化されたメルカプト基又はスルホニウム基は、例え
ば低級アルキルチオ基又はジ低級アルキルスルポニウム
基、例えばメヂルチオ基、エチルチオ基又はジメチルス
ルホニウム基である。アミノ基は、基Ｒ＋ ＮＨ−の他
に、例えばジ低級アルキルアミノ基又はアルキレンアミ
ノ基又はアザ−、オキサ−若しくはチアー低級アルキレ
ンアミノ基、例えばジメチルアミノ晶、ジエヂルアミノ
基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基若しく
はチオモルホリノ基、更にアニリノ基である。アンモニ
ウム基は、例えば前記のアミノ基に対応する第三級アン
モニウム基又は第四級アンモニウム基、例えば１・り低
級アルキルアンモニオ基名しく ４Ｊピリジニオ基であ
る。
はエーテル化されたヒドロキシ基又はエステル化若しく
はエーテル化されたメルカプト基更に、アミノ基、アン
モニオ基及びスルホニウム基である。エステル化された
ヒドロキシ基としては、例えば無機酸又は有機カルボン
酸でエステル化されたヒｌｊ ｔｒキシ基、例えばハｌ
」ゲン、例えば塩素若しくは臭素、又は低級アルカノイ
ルオキシ基、例えばアセトキシ基が該当する。エーテル
化ヒドロキシ基は、例えば低級アルコキシ基、例えばメ
Ｉ・キシ基又はエトキシ基である。エステル化メルカプ
ト基は、例えば低級アルカンカルボン酸でエステル化さ
れたメルカプト基、例えばアセチルチオ基である。エー
テル化されたメルカプト基又はスルホニウム基は、例え
ば低級アルキルチオ基又はジ低級アルキルスルポニウム
基、例えばメヂルチオ基、エチルチオ基又はジメチルス
ルホニウム基である。アミノ基は、基Ｒ＋ ＮＨ−の他
に、例えばジ低級アルキルアミノ基又はアルキレンアミ
ノ基又はアザ−、オキサ−若しくはチアー低級アルキレ
ンアミノ基、例えばジメチルアミノ晶、ジエヂルアミノ
基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基若しく
はチオモルホリノ基、更にアニリノ基である。アンモニ
ウム基は、例えば前記のアミノ基に対応する第三級アン
モニウム基又は第四級アンモニウム基、例えば１・り低
級アルキルアンモニオ基名しく ４Ｊピリジニオ基であ
る。
ＨＹの脱離は、審決で自然に又は僅かに加熱、例えば約
４０〜１００℃に加熱して、必要に応して助剤及び／又
は不活性溶剤の存在で行う。助剤としては、例えば酸性
試薬、例えば鉱酸又はその無水物又は酸性塩、例えばハ
ロゲン水素酸、殊に塩化水素酸、臭化水素酸若しくは沃
化水素酸、硫酸、アルカリ金属硫酸水素塩、燐酸、ポリ
燐酸五酸化燐、三塩化燐、オキシ塩化燐若しくは三土・
化燐、有ｔＪｌｌスルホン酸、例えばｐ−）ルエンスル
ボン酸、又はカルボン酸又はその無水物、例えば低級ア
ルカン酸及びその無水物又はハロゲン化物、例えば酢酸
、酢酸無水物若しくは塩化アセチル、更に緩衝酸溶液、
例えば燐酸塩緩衝液若しくは酢酸塩緩衝液、窒素塩基の
ハロゲン水素酸塩、例えば塩化アンモニウム若しくはピ
リジニウムクロリドが該当する。
４０〜１００℃に加熱して、必要に応して助剤及び／又
は不活性溶剤の存在で行う。助剤としては、例えば酸性
試薬、例えば鉱酸又はその無水物又は酸性塩、例えばハ
ロゲン水素酸、殊に塩化水素酸、臭化水素酸若しくは沃
化水素酸、硫酸、アルカリ金属硫酸水素塩、燐酸、ポリ
燐酸五酸化燐、三塩化燐、オキシ塩化燐若しくは三土・
化燐、有ｔＪｌｌスルホン酸、例えばｐ−）ルエンスル
ボン酸、又はカルボン酸又はその無水物、例えば低級ア
ルカン酸及びその無水物又はハロゲン化物、例えば酢酸
、酢酸無水物若しくは塩化アセチル、更に緩衝酸溶液、
例えば燐酸塩緩衝液若しくは酢酸塩緩衝液、窒素塩基の
ハロゲン水素酸塩、例えば塩化アンモニウム若しくはピ
リジニウムクロリドが該当する。
更に、しばしば縮合剤、例えばアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の水酸化物、炭酸塩又は低級アルコキシド、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム若しくは水酸
化カルシウム、炭酸ナトリウム若しくは炭酸カリウム又
はすトリウムメトキシド、更に有機窒素塩基、例えばト
リ低級アルキルアミン、例えばトリエチルアミン又は芳
香族第三級塩基、例えばピリジンを使用することもでき
る。
リ土類金属の水酸化物、炭酸塩又は低級アルコキシド、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム若しくは水酸
化カルシウム、炭酸ナトリウム若しくは炭酸カリウム又
はすトリウムメトキシド、更に有機窒素塩基、例えばト
リ低級アルキルアミン、例えばトリエチルアミン又は芳
香族第三級塩基、例えばピリジンを使用することもでき
る。
一般式（Ｕ）の出発原料は、好ましくはその場で、例え
ば一般式（■）： ＲＡ ＮＨＣ（Ｙ５）（ＹＧ） ＲＢ （ｎ［）〔式中
ＲＡは式Ｒ＋ ＮＨＮ＝Ｃ（Ｒ３） （Ｄ基を表し、Ｒ
Ｂは基Ｒ２を表すが、又はＲＡは式％式％ Ｒｅは基Ｒ３を表し、Ｙ５及びＹＧはそれぞれ独立に基
Ｙ、例えば場合によりエステル化若しくはエーテル化さ
れたヒドロキシ基、エーテル化メルカプト基又は場合に
より置換されたアミン基を表ずか、又は−緒にオキソ基
、チオオキソ基又は場合により置換されたイミノ基、例
えば低級アルキルイミノ基、場合により置換されたアニ
ロ基又は式＝Ｎ−１，，Ｒ，の基を表す〕の化合物又は
その塩を閉環さ−Ｕることによって製造される。
ば一般式（■）： ＲＡ ＮＨＣ（Ｙ５）（ＹＧ） ＲＢ （ｎ［）〔式中
ＲＡは式Ｒ＋ ＮＨＮ＝Ｃ（Ｒ３） （Ｄ基を表し、Ｒ
Ｂは基Ｒ２を表すが、又はＲＡは式％式％ Ｒｅは基Ｒ３を表し、Ｙ５及びＹＧはそれぞれ独立に基
Ｙ、例えば場合によりエステル化若しくはエーテル化さ
れたヒドロキシ基、エーテル化メルカプト基又は場合に
より置換されたアミン基を表ずか、又は−緒にオキソ基
、チオオキソ基又は場合により置換されたイミノ基、例
えば低級アルキルイミノ基、場合により置換されたアニ
ロ基又は式＝Ｎ−１，，Ｒ，の基を表す〕の化合物又は
その塩を閉環さ−Ｕることによって製造される。
一般式（Ｉｌｌ）の化合物の閉環は、常法で中性、酸性
又は塩基性条件下に必要に応じて前記の酸性又は塩基試
薬の存在で、不活性溶剤又は希釈剤の存在又は不存在で
、加熱しながら、例えば約４０〜２００℃、好ましくは
約６０〜１４０ ”ｃの温度範囲で及び／又は不活性ガ
ス、例えば窒素ガス下に行う。
又は塩基性条件下に必要に応じて前記の酸性又は塩基試
薬の存在で、不活性溶剤又は希釈剤の存在又は不存在で
、加熱しながら、例えば約４０〜２００℃、好ましくは
約６０〜１４０ ”ｃの温度範囲で及び／又は不活性ガ
ス、例えば窒素ガス下に行う。
一般式（ＩＩＩ）の化合物を製造するには、数種の製造
方法を利用できる。ＲＡが式Ｒ＋ＮＨ−Ｎ−Ｃ（Ｒ３）
−の基を表し、ＲＢが基Ｒ２を表し、Ｙ５及びＹＧが一
緒にオキソ基を表す一般式（Ｉ■）の化合物は、例えば
一般式（■）： Ｒ＋ ＮＨＮ＝Ｃ（Ｒ３） ＮＨ２（ＴＶ）の化合物又
はその塩を一般式（■）： Ｙ ’ ７Ｃ（Ｙ５ ） （ＹＧ ） Ｒ２（ＩＸ）〔
式中Ｙ５及びＹｅは前記のものを表し、Ｙ″は貼Ｙを表
すか、又はＹ５及びＹｅが一緒にオキソ基を表す限り、
低級アルコキシカルボニルメチル基、低級アルカノイル
オキシ基、１−イミダゾリル基又はフタルイミノオキシ
基又は式 Ｒ２Ｃ（−０）〜０−の基を表す〕の化合物と常法で、
例えば塩基性縮合剤の存在で反応させることによって得
られる。なお、前記一般式（ＩＶ）の化合物は、例えば
一般式（Ｖ）： Ｙ−Ｃ（−ＮＨ）−Ｒ３（Ｖ） 〔式中Ｙば前記のものを表し、特に低級アルコキシ基、
ハロケン又はアミノ基を表す〕のイミノ化合物又はその
酸イ」加塩、例えばハロゲン水素酸塩を、例えばエタノ
ール中で、又は一般式（■）；３ のトリアジン誘導体を一般式（■） Ｒ＋ ＮＨＮＨ２（■） の置換ヒドラジンと反応させるか、又は一般式（）： ％式％（） のアミンの存在で５−Ｒ３−テトラゾールを分解するこ
とによって容易に得られる。
方法を利用できる。ＲＡが式Ｒ＋ＮＨ−Ｎ−Ｃ（Ｒ３）
−の基を表し、ＲＢが基Ｒ２を表し、Ｙ５及びＹＧが一
緒にオキソ基を表す一般式（Ｉ■）の化合物は、例えば
一般式（■）： Ｒ＋ ＮＨＮ＝Ｃ（Ｒ３） ＮＨ２（ＴＶ）の化合物又
はその塩を一般式（■）： Ｙ ’ ７Ｃ（Ｙ５ ） （ＹＧ ） Ｒ２（ＩＸ）〔
式中Ｙ５及びＹｅは前記のものを表し、Ｙ″は貼Ｙを表
すか、又はＹ５及びＹｅが一緒にオキソ基を表す限り、
低級アルコキシカルボニルメチル基、低級アルカノイル
オキシ基、１−イミダゾリル基又はフタルイミノオキシ
基又は式 Ｒ２Ｃ（−０）〜０−の基を表す〕の化合物と常法で、
例えば塩基性縮合剤の存在で反応させることによって得
られる。なお、前記一般式（ＩＶ）の化合物は、例えば
一般式（Ｖ）： Ｙ−Ｃ（−ＮＨ）−Ｒ３（Ｖ） 〔式中Ｙば前記のものを表し、特に低級アルコキシ基、
ハロケン又はアミノ基を表す〕のイミノ化合物又はその
酸イ」加塩、例えばハロゲン水素酸塩を、例えばエタノ
ール中で、又は一般式（■）；３ のトリアジン誘導体を一般式（■） Ｒ＋ ＮＨＮＨ２（■） の置換ヒドラジンと反応させるか、又は一般式（）： ％式％（） のアミンの存在で５−Ｒ３−テトラゾールを分解するこ
とによって容易に得られる。
しかし、一般式（Ｘ）；
Ｒ２Ｃ（−〇） ＮＨ２（Ｘ）
のアミンを一般式（ＸＩ）：
Ｒ３−Ｃ（Ｙ５ ） （Ｙｅ ） −Ｙ （ＸＩ）ｃ式
中Ｙ５＝Ｙ’６−エーテル化ヒドロキシ基又はエーテル
化メルカプト基又はハロケン、Ｙ−ジ置換アミノ基、特
にジ低級アルキルアミノ基〕のオルトカルボン酸誘導体
と例えばジメチルボルムアミド中で約３０〜１６０℃で
反応させて、一般式（）： ％式％） 〔式中Ｙ５’＋Ｙ６’−オキソ暴、Ｙ−置換アミノ基、
例えばジ低級アルキルアミノ基〕の化合物にし、これを
引き続き酸性条件下に、例えば酢酸中で約５０〜１００
℃で一般式（■） Ｒ＋ ＮＨＮＨ２（■） のヒドラジンと縮合させることもできる。
中Ｙ５＝Ｙ’６−エーテル化ヒドロキシ基又はエーテル
化メルカプト基又はハロケン、Ｙ−ジ置換アミノ基、特
にジ低級アルキルアミノ基〕のオルトカルボン酸誘導体
と例えばジメチルボルムアミド中で約３０〜１６０℃で
反応させて、一般式（）： ％式％） 〔式中Ｙ５’＋Ｙ６’−オキソ暴、Ｙ−置換アミノ基、
例えばジ低級アルキルアミノ基〕の化合物にし、これを
引き続き酸性条件下に、例えば酢酸中で約５０〜１００
℃で一般式（■） Ｒ＋ ＮＨＮＨ２（■） のヒドラジンと縮合させることもできる。
ＲＡが式Ｒ２−〇 （＝ＮＨ） Ｎ （Ｒ＋ ）−の基
を表し、Ｙ５＋ＹＧがオキソ基を表し、ＲＢがＲ３基を
表す一般式（ＩＩＩ）の化合物は、例えば一般式（Ｘｌ
ｌｌ） ： Ｒ２−ｃ （＝ＮＨ）−Ｙ （Ｘｌｌ［）の化合物又は
そのハロゲン化水素酸塩を一般式％式％）： ） （） 〔式中Ｙはエステル化又はエーテル化ヒドロキシ基、例
えばハロゲン又は低級アルコキシ基を表し、Ｙ５＋Ｙ６
は特にオキソ基を表す〕の化合物と、例えば低級アルカ
ノール、例えばエタノール中で相互に反応させることに
よって得られる。
を表し、Ｙ５＋ＹＧがオキソ基を表し、ＲＢがＲ３基を
表す一般式（ＩＩＩ）の化合物は、例えば一般式（Ｘｌ
ｌｌ） ： Ｒ２−ｃ （＝ＮＨ）−Ｙ （Ｘｌｌ［）の化合物又は
そのハロゲン化水素酸塩を一般式％式％）： ） （） 〔式中Ｙはエステル化又はエーテル化ヒドロキシ基、例
えばハロゲン又は低級アルコキシ基を表し、Ｙ５＋Ｙ６
は特にオキソ基を表す〕の化合物と、例えば低級アルカ
ノール、例えばエタノール中で相互に反応させることに
よって得られる。
しかし、一般式（ＩＩＩ）及び（’ＩＩ）の中間段階を
経る一般式（１）の目的物質の合成は、中間生成物を単
離することなく、若干の重要な変法により実施すること
ができるので、一般には一般式（ＩＩＩ）の中間体を単
離しないであろう。重要な変法により、例えば一般式（
■）： Ｒ＋ ＮＨＮＨ２（■） の化合物及び一般式（ＸＶ）： Ｒ２Ｃ（ＹＳ’） （Ｙε’）−ＮＨ−Ｃ（−〇）−、
Ｒ３（ＸＶ） 〔式中ｙ ５４ ＋ｙ ６１は、オキソ基又は場合によ
り置換された式Ｒ１−Ｎ−のイミノ基を表ず〕の化合物
を相互に反応させることができる。この反応は常法で、
例えば前記の酸性又は塩基性縮合剤の存在で、必要に応
じて不活性溶剤又は希釈剤の存在で、加熱しながら、例
えば約４０〜２００°Ｃ１好ましくは約６０〜１４０℃
の温度範囲で加熱しながら、及び／又は不活性ガス、例
えば窒素ガス下に行う。
経る一般式（１）の目的物質の合成は、中間生成物を単
離することなく、若干の重要な変法により実施すること
ができるので、一般には一般式（ＩＩＩ）の中間体を単
離しないであろう。重要な変法により、例えば一般式（
■）： Ｒ＋ ＮＨＮＨ２（■） の化合物及び一般式（ＸＶ）： Ｒ２Ｃ（ＹＳ’） （Ｙε’）−ＮＨ−Ｃ（−〇）−、
Ｒ３（ＸＶ） 〔式中ｙ ５４ ＋ｙ ６１は、オキソ基又は場合によ
り置換された式Ｒ１−Ｎ−のイミノ基を表ず〕の化合物
を相互に反応させることができる。この反応は常法で、
例えば前記の酸性又は塩基性縮合剤の存在で、必要に応
じて不活性溶剤又は希釈剤の存在で、加熱しながら、例
えば約４０〜２００°Ｃ１好ましくは約６０〜１４０℃
の温度範囲で加熱しながら、及び／又は不活性ガス、例
えば窒素ガス下に行う。
中間に生成する一般式（１’）又は（ＩＩ）の中間体を
経て進行する一般式（Ｉ）の化合物の直接合成の好まし
い実施態様は、弱酸性条件下に、例えば有機カルボン酸
、例えば酢酸、アンモニウム鉱酸塩、例えば酢酸中の塩
化ピリジニウム、又は酸性緩行ｊ剤系、例えば酢酸塩緩
衝液又は燐酸塩緩衝液の存在で一般式（ｎ）の化合物を
一般式（ＸＶ）の化合物（Ｙｓ’＋Ｙｓ’−オキソ基）
とを反応させ、例えばエタノール中で約１０〜５０°Ｃ
で一般式（Ｘｌｌｌ）及び（ＸＩＶ）の化合物を縮合さ
せ、次いで約８０〜１６０°Ｃで、例えば沸騰キシレン
中で閉環させることであり、同様に一般式（ＩＶ）のア
ミトラシンを一般式（ＩＸ）の酸無水物（Ｙ’−ハロゲ
ン、低級アルカノイルオキシ基又はＲ２ＣＯＯ−１Ｙ５
＋Ｙ６−オキソ基又はチオ基）と反応させ、引き続き塩
基、例えば水酸化す１〜リウム又は水酸化カリウムで処
理することである。
経て進行する一般式（Ｉ）の化合物の直接合成の好まし
い実施態様は、弱酸性条件下に、例えば有機カルボン酸
、例えば酢酸、アンモニウム鉱酸塩、例えば酢酸中の塩
化ピリジニウム、又は酸性緩行ｊ剤系、例えば酢酸塩緩
衝液又は燐酸塩緩衝液の存在で一般式（ｎ）の化合物を
一般式（ＸＶ）の化合物（Ｙｓ’＋Ｙｓ’−オキソ基）
とを反応させ、例えばエタノール中で約１０〜５０°Ｃ
で一般式（Ｘｌｌｌ）及び（ＸＩＶ）の化合物を縮合さ
せ、次いで約８０〜１６０°Ｃで、例えば沸騰キシレン
中で閉環させることであり、同様に一般式（ＩＶ）のア
ミトラシンを一般式（ＩＸ）の酸無水物（Ｙ’−ハロゲ
ン、低級アルカノイルオキシ基又はＲ２ＣＯＯ−１Ｙ５
＋Ｙ６−オキソ基又はチオ基）と反応させ、引き続き塩
基、例えば水酸化す１〜リウム又は水酸化カリウムで処
理することである。
一般式（■）：
Ｒ＋ ＮＨＮＨ２（■）
の化合物と一般式（ＸＩ）：
Ｙ−Ｃ（Ｙ５）（Ｙｅ） Ｒ３（ＸＩ）の化合物及び次
いで一般式（ＸＶＩ）：Ｒ２ＣＮ （ＸＶＩ） のニトリルとの反応は、同様に、一般式（ＩＩ）及び（
Ｉ）の中間体を経て進行する。他の方法により、一般式
（Ｘ■）： Ｒ＋ −Ｎ （ＮＨ２） Ｃ（Ｒ２） ＝ＮＨ（Ｘ■） のアミトラシンを温度を高めて、例えば約１００〜２３
０°Ｃ１例えば約１９０〜２１０°Ｃで溶融して、又は
高沸点有ｔａ溶剤、例えば沸騰キシレン又はジメチルホ
ルムアミド中で一般式（ＸＶ）の化合物と縮合させるこ
とができる。この場合にも、中間に一般式（ＩＩ）の中
間生成物が生成するので、これを次ぎに本発明により反
応させてＨＹを脱離させる。
いで一般式（ＸＶＩ）：Ｒ２ＣＮ （ＸＶＩ） のニトリルとの反応は、同様に、一般式（ＩＩ）及び（
Ｉ）の中間体を経て進行する。他の方法により、一般式
（Ｘ■）： Ｒ＋ −Ｎ （ＮＨ２） Ｃ（Ｒ２） ＝ＮＨ（Ｘ■） のアミトラシンを温度を高めて、例えば約１００〜２３
０°Ｃ１例えば約１９０〜２１０°Ｃで溶融して、又は
高沸点有ｔａ溶剤、例えば沸騰キシレン又はジメチルホ
ルムアミド中で一般式（ＸＶ）の化合物と縮合させるこ
とができる。この場合にも、中間に一般式（ＩＩ）の中
間生成物が生成するので、これを次ぎに本発明により反
応させてＨＹを脱離させる。
一般式（Ｉ）の新規化合物は、更に、一般式（Ｘ■）：
〔式中Ｒ３１は基Ｒ３に変わりうる基を表す〕の化合物
中のＲ３１を所望の基Ｒ３に変え、必要に応じて前記の
後続反応の一つ以上を実施することによって製造するこ
とができる。
中のＲ３１を所望の基Ｒ３に変え、必要に応じて前記の
後続反応の一つ以上を実施することによって製造するこ
とができる。
基Ｒ３に変わりうる基Ｒ３＋は、例えば、場合によりイ
」加的カルボキシ基で置換された基Ｒ３、特に１，１−
ジカルボキシ低級アルキル基又は１−カルボキシ−２−
オキソ−低級アルキル基又は弐Ｃ（＝０）−０Ｒ３のＷ
である。これらの基を基Ｒ３に変える反応は二酸化炭素
の脱離によって行われる。
」加的カルボキシ基で置換された基Ｒ３、特に１，１−
ジカルボキシ低級アルキル基又は１−カルボキシ−２−
オキソ−低級アルキル基又は弐Ｃ（＝０）−０Ｒ３のＷ
である。これらの基を基Ｒ３に変える反応は二酸化炭素
の脱離によって行われる。
二酸化炭素の脱離は、常法で、例えば、好ましくは溶剤
又は希釈剤中で、必要に応じて例えば約５０〜約２５０
°Ｃに加熱しながら、酸の作用によって、例えばプロト
ン酸、例えば鉱酸、例えば塩化水素酸又は硫酸で処理す
ることによって行われる。Ｒヨ＋＋か１−カルボキシ−
２−オキソ−低級アルキル基を表す一般式（ＩＸＬ）の
化合物を酸の水溶液、例えば同量部の約１５％の塩酸及
び酢酸と共に約６０〜１００℃に加熱することによって
Ｒヨが２−オキソ低級アルキル基を表す一般式（Ｉ）の
化合物に変えることができる。
又は希釈剤中で、必要に応じて例えば約５０〜約２５０
°Ｃに加熱しながら、酸の作用によって、例えばプロト
ン酸、例えば鉱酸、例えば塩化水素酸又は硫酸で処理す
ることによって行われる。Ｒヨ＋＋か１−カルボキシ−
２−オキソ−低級アルキル基を表す一般式（ＩＸＬ）の
化合物を酸の水溶液、例えば同量部の約１５％の塩酸及
び酢酸と共に約６０〜１００℃に加熱することによって
Ｒヨが２−オキソ低級アルキル基を表す一般式（Ｉ）の
化合物に変えることができる。
Ｒ３１が式−Ｃ（＝Ｏ）−０−Ｒ３の基を表す一般式（
Ｘ■）の化合物をテトラヒドロフラン中で鉱酸、例えば
塩化水素と共に加熱することによって二酸化炭素を脱離
しながら一般式（１）の対応する化合物に変えることが
できる。
Ｘ■）の化合物をテトラヒドロフラン中で鉱酸、例えば
塩化水素と共に加熱することによって二酸化炭素を脱離
しながら一般式（１）の対応する化合物に変えることが
できる。
基Ｒ３に変わりうる基Ｒ３１は、更に、例えば基Ｒ３に
還元されうる基、例えば場合によりエステル、無水物又
は塩の形で存在するカルボキシ基及びα−フェニル低級
アルカノールでエーテル化された１又は２個のヒドロキ
シ基又はハロゲン化低級アルカン酸若しくは炭酸又はそ
の半エステル若しくは半アミドでエステル化された１個
又は２個のヒドロキシ基を有する基Ｒ３’である。
還元されうる基、例えば場合によりエステル、無水物又
は塩の形で存在するカルボキシ基及びα−フェニル低級
アルカノールでエーテル化された１又は２個のヒドロキ
シ基又はハロゲン化低級アルカン酸若しくは炭酸又はそ
の半エステル若しくは半アミドでエステル化された１個
又は２個のヒドロキシ基を有する基Ｒ３’である。
エステル形で存在するカルボキシ基は、例えば脂肪族、
脂環式、芳香脂肪族又は芳香族アルコールでエステル化
されたカルボキシ基、例えば低級アルコキシカルボニル
基、例えばメ１〜キシカルボニル若しくはエトキシ力ル
ポニル基、場合によりフェニル部分が置換されているヘ
ンゾイルオキシメトキシカルボニル基、２−ハロゲン低
級アルコキシカルボニル基、例えば２，２，２４リクロ
ロー若しくは２−ヨードエトキシカルボニル基、３〜８
員、特に５〜７員のシクロアルコキシカルボニル基、例
えばシクロペンチルオキシカルボニル基若しくはシクロ
へキシルオキシカルボニル基、場合により置換されたフ
ェニル低級アルコキシカルボニル基、特にα−フェニル
低級アルコキシカルボニル基、例えばベンジルオキシカ
ルボニル基又は場合により置換されたフェニルオキシカ
ルボニル基である。
脂環式、芳香脂肪族又は芳香族アルコールでエステル化
されたカルボキシ基、例えば低級アルコキシカルボニル
基、例えばメ１〜キシカルボニル若しくはエトキシ力ル
ポニル基、場合によりフェニル部分が置換されているヘ
ンゾイルオキシメトキシカルボニル基、２−ハロゲン低
級アルコキシカルボニル基、例えば２，２，２４リクロ
ロー若しくは２−ヨードエトキシカルボニル基、３〜８
員、特に５〜７員のシクロアルコキシカルボニル基、例
えばシクロペンチルオキシカルボニル基若しくはシクロ
へキシルオキシカルボニル基、場合により置換されたフ
ェニル低級アルコキシカルボニル基、特にα−フェニル
低級アルコキシカルボニル基、例えばベンジルオキシカ
ルボニル基又は場合により置換されたフェニルオキシカ
ルボニル基である。
無水物形で存在するカルボキシ基は、例えばハロゲン水
素酸と無水物を形成したカルボキシ基、特にクロロカル
ボニル基である。
素酸と無水物を形成したカルボキシ基、特にクロロカル
ボニル基である。
塩の形で存在するカルボキシ基は、特にアルカリ金属塩
、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩の形で、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩又はアンモニウム塩として
存在する。
、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩の形で、例え
ばナトリウム塩、カリウム塩又はアンモニウム塩として
存在する。
α−フェニル低級アルカノールでエーテル化されている
か又はハロゲン化低級アルカン酸又は炭酸又はその半エ
ステル若しくは半アミドでエステル化されたヒドロキシ
基を１（（ｌｉＩ又は２個有する脂肪族炭化水素基は、
置換基として、特にハロゲン低級アルカノイルオキシ基
、低級アルコキシカルボニルオキシ基、場合により置換
されたベンジルカルボニルオキシ基、ジ低級アルキルカ
ルバモイルオキシ基又はカルボニルジオキシ八を有し、
例えば場合により置換された七ノー若しくはジヘンシル
オキシ低級アルキル基、モノ−若しくはジ（ハロゲン低
級アルカノイルオキシ）低級アルキル基、カルボニルジ
オキシ低級アルキル基、七ノー若しくはジー（低級アル
コキシカルボニルオキシ）低級アルキル基又は場合によ
り置換されたベンジルオキシカルボニルオキシ低級アル
キル基を表す。
か又はハロゲン化低級アルカン酸又は炭酸又はその半エ
ステル若しくは半アミドでエステル化されたヒドロキシ
基を１（（ｌｉＩ又は２個有する脂肪族炭化水素基は、
置換基として、特にハロゲン低級アルカノイルオキシ基
、低級アルコキシカルボニルオキシ基、場合により置換
されたベンジルカルボニルオキシ基、ジ低級アルキルカ
ルバモイルオキシ基又はカルボニルジオキシ八を有し、
例えば場合により置換された七ノー若しくはジヘンシル
オキシ低級アルキル基、モノ−若しくはジ（ハロゲン低
級アルカノイルオキシ）低級アルキル基、カルボニルジ
オキシ低級アルキル基、七ノー若しくはジー（低級アル
コキシカルボニルオキシ）低級アルキル基又は場合によ
り置換されたベンジルオキシカルボニルオキシ低級アル
キル基を表す。
前記種類の、場合により置換されたフェニル基を有する
基のフェニル置換基としては、例えば低級アルキル基、
低級アルコキシ基、ハロゲン及び／又はニトロ基が該当
する。
基のフェニル置換基としては、例えば低級アルキル基、
低級アルコキシ基、ハロゲン及び／又はニトロ基が該当
する。
無水物形で存在するカルボキシ基の（ヒドロキシメチル
基への）還元並びにα−フェニル低級アルコキシ基又は
α−フェニル低級アルコキシカルボニル基の還元性脱離
には、例えば、水素添加触媒、例えば活性炭付きパラジ
ウムの存在での水素が該当する。
基への）還元並びにα−フェニル低級アルコキシ基又は
α−フェニル低級アルコキシカルボニル基の還元性脱離
には、例えば、水素添加触媒、例えば活性炭付きパラジ
ウムの存在での水素が該当する。
場合によりエステル、無水物又は塩の形で存在するカル
ボキシ基は、更に、水素移動剤との反応によりヒドロキ
シメチル基に還元するか、又はアルキル移動剤との反応
によりα−オキソ低級アルキル基又はα−分枝α−ヒド
ロキシ低級アルキル基に還元することができる。
ボキシ基は、更に、水素移動剤との反応によりヒドロキ
シメチル基に還元するか、又はアルキル移動剤との反応
によりα−オキソ低級アルキル基又はα−分枝α−ヒド
ロキシ低級アルキル基に還元することができる。
水素移動剤としては、例えば軽金属ヒドリド又はジ軽金
属ヒドリド、例えばアルミニウムヒドリド、リチウムア
ルミニウムヒドリド、硼水素化リチウム、硼水素化（ト
リエチル）リチウム、クロロカルボニル基の還元には更
に硼水素化ナトリウムが該当する。適当なアルキル移動
剤は、例えば金属誘導体、特に低級アルカンのアルカリ
金属又はアルカリ土類金属誘導体、例えば低級アルキル
の誘導体、特にメチルリチウム、又は低級アルキルマグ
ネシウムハロゲニドである。クロロカルボニル基をα−
オキソ低級アルキル基に還元するには、更に低級アルキ
ル亜鉛−及び−カド′ミウムハロゲニドが特に適当であ
り、これらは好ましくは対応する低級アルキルマグネシ
ウムハロゲニド及びハロゲン化亜鉛又はハロゲン化カド
ミウムからその場で製造することができる。前記の水素
移動剤又はアルキル移動剤との反応は、常法で、例えば
脂肪族又は脂環式エーテル、例えばジエチルエーテル、
ｔｅｒｔ−ブチルオキシメタン、テトラヒドロフラン又
はジオキサン中で、必要に応じて冷却又は加熱下に、好
ましくは不活性ガス下に行うことができる。
属ヒドリド、例えばアルミニウムヒドリド、リチウムア
ルミニウムヒドリド、硼水素化リチウム、硼水素化（ト
リエチル）リチウム、クロロカルボニル基の還元には更
に硼水素化ナトリウムが該当する。適当なアルキル移動
剤は、例えば金属誘導体、特に低級アルカンのアルカリ
金属又はアルカリ土類金属誘導体、例えば低級アルキル
の誘導体、特にメチルリチウム、又は低級アルキルマグ
ネシウムハロゲニドである。クロロカルボニル基をα−
オキソ低級アルキル基に還元するには、更に低級アルキ
ル亜鉛−及び−カド′ミウムハロゲニドが特に適当であ
り、これらは好ましくは対応する低級アルキルマグネシ
ウムハロゲニド及びハロゲン化亜鉛又はハロゲン化カド
ミウムからその場で製造することができる。前記の水素
移動剤又はアルキル移動剤との反応は、常法で、例えば
脂肪族又は脂環式エーテル、例えばジエチルエーテル、
ｔｅｒｔ−ブチルオキシメタン、テトラヒドロフラン又
はジオキサン中で、必要に応じて冷却又は加熱下に、好
ましくは不活性ガス下に行うことができる。
２−ハロゲン−低級アルコキシカルボニルオキシ基、例
えば２，２．２−）リクロロー若しくは２−ヨード−エ
トキシカルボニルオキシ基、ヘンジイルメトキシ力ルポ
ニルオキシ基又は４−二１〜ロペンジルオキシカルボニ
ルオキシ基は、例えば適当な化学的還元剤、例えば適当
なカルボン酸、例えば酢酸水溶液の存在で亜鉛で処理す
ることにってＷＡＩｉ！ｌｔさせることができる。アロ
イルメトキシカルボニルオキシ基は、親核性の、好まし
くは塩形成性試薬、例えばナトリウムチオフェノキシト
で処理することによって脱離させることもでき、４−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシ基はアルカリ金属
、例えばナトリウムの亜二チオン酸塩で処理することに
よって脱離させることもできる。
えば２，２．２−）リクロロー若しくは２−ヨード−エ
トキシカルボニルオキシ基、ヘンジイルメトキシ力ルポ
ニルオキシ基又は４−二１〜ロペンジルオキシカルボニ
ルオキシ基は、例えば適当な化学的還元剤、例えば適当
なカルボン酸、例えば酢酸水溶液の存在で亜鉛で処理す
ることにってＷＡＩｉ！ｌｔさせることができる。アロ
イルメトキシカルボニルオキシ基は、親核性の、好まし
くは塩形成性試薬、例えばナトリウムチオフェノキシト
で処理することによって脱離させることもでき、４−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシ基はアルカリ金属
、例えばナトリウムの亜二チオン酸塩で処理することに
よって脱離させることもできる。
別の基Ｒ３’は、例えば１又は２個のハロゲン原子、２
価の官能基で変性されたオキソ基、例えばイミノ基、初
めに定義したエステル化及びアミド化カルボキシ基、シ
アノ基とは異なる官能基で変性されたカルボキシ基、例
えばイミノエーテル基、場合により、アミド化カルボキ
シ基について記載したように置換されたアミジノ基、ハ
ロゲンカルボニル基又は場合により置換されたフェノキ
シカルボニル基、例えばフェノキシカルボニル基、ｐ−
ニトロフェノキシカルボニル基又は２．４−ジニトロフ
ェノキシカルボニル基、又はハロゲン若しくは場合によ
り置換されたフェニル基で置換されたアルカンカルボン
酸又は炭酸半エステルから誘導された少な（とも１（ｆ
ｌｉｔのアシルオキシ基、少なくとも１個のシリルオキ
シ基又は１，２−フェニレンジオキシ基、２個のゲミナ
ル位に結合したフェニルオキシ基又はビシナル位に結合
したモソ−若しくはジフェニル低級アルキリデンジオキ
シ基又はモノ−若しくはジフェニル低級アルキリデンジ
チオ基を有する、基Ｒ３に加溶媒分解されうる基である
。
価の官能基で変性されたオキソ基、例えばイミノ基、初
めに定義したエステル化及びアミド化カルボキシ基、シ
アノ基とは異なる官能基で変性されたカルボキシ基、例
えばイミノエーテル基、場合により、アミド化カルボキ
シ基について記載したように置換されたアミジノ基、ハ
ロゲンカルボニル基又は場合により置換されたフェノキ
シカルボニル基、例えばフェノキシカルボニル基、ｐ−
ニトロフェノキシカルボニル基又は２．４−ジニトロフ
ェノキシカルボニル基、又はハロゲン若しくは場合によ
り置換されたフェニル基で置換されたアルカンカルボン
酸又は炭酸半エステルから誘導された少な（とも１（ｆ
ｌｉｔのアシルオキシ基、少なくとも１個のシリルオキ
シ基又は１，２−フェニレンジオキシ基、２個のゲミナ
ル位に結合したフェニルオキシ基又はビシナル位に結合
したモソ−若しくはジフェニル低級アルキリデンジオキ
シ基又はモノ−若しくはジフェニル低級アルキリデンジ
チオ基を有する、基Ｒ３に加溶媒分解されうる基である
。
脱離可能のアシルオキシ基は、例えば／Ｓロゲン低級ア
ルカノイルオキシ基、例えば２−ハロゲンアセトキシ基
、低級アルキル基の１−位が分枝しているか又は１−位
若しくは２−位が適切に置換された低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、特にｔｅｒ を−低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、１個又は２個のフェニル基を有するア
リールメトキシカルボニルオキシ基（フェニル基は好ま
しくは場合により低級アルキル基、特にｔｅｒ を−低
級アルキル基、例えばｔｅｒ ｔ−ブチル基、低級アル
コキシ基、例えばメトキシ基、ヒドロキシ基、］＼ロゲ
ン、例えば塩素及び／又はニトロ基で１（１１ｉ１以上
置換されたフェニル基である）、例えば場合により置換
されたヘンシルオキシカルボニルオキシ基又は置換され
たジフェニルメトキシカルボニルオキシ基、ヘンゾイル
メトキシ力ルポニルオキシ基（ヘンジイル基は好ましく
はハロゲン、例えば臭素で置換されている）である。こ
のような基は、例えば２−クロロ−，２−ブロモ−１２
−ヨード−１２゜２．２−トリフルオロ−若しくは２，
２．２”）リクロロアセトキシ基、ｔｅｒ ｔ−ブチル
オキシカルボニルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ基、フェナシルオキシカルボニルオキ
シ基、２−ハロゲン低級アルコキシカルボニルオキシ基
、例えば２． ２． ２−トリクロロエトキシカルボニ
ルオキシ基、２−ブロモエトキシカルボニルオキシ基又
は２−ヨードエトキシカルボニルオキシ基、又は２−ト
リ低級アルキルシリルエトキシカルボニルオキシ基、例
えば２−トリメチルシリルエトキシカルボニルオキシ基
又は２−（ジ−ｎ−ブチル−メチル−シリル）エトキシ
カルボニルオキシ基、更に２−トリフェニルシリルエト
キシカルボニルオキシ基である。
ルカノイルオキシ基、例えば２−ハロゲンアセトキシ基
、低級アルキル基の１−位が分枝しているか又は１−位
若しくは２−位が適切に置換された低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、特にｔｅｒ を−低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、１個又は２個のフェニル基を有するア
リールメトキシカルボニルオキシ基（フェニル基は好ま
しくは場合により低級アルキル基、特にｔｅｒ を−低
級アルキル基、例えばｔｅｒ ｔ−ブチル基、低級アル
コキシ基、例えばメトキシ基、ヒドロキシ基、］＼ロゲ
ン、例えば塩素及び／又はニトロ基で１（１１ｉ１以上
置換されたフェニル基である）、例えば場合により置換
されたヘンシルオキシカルボニルオキシ基又は置換され
たジフェニルメトキシカルボニルオキシ基、ヘンゾイル
メトキシ力ルポニルオキシ基（ヘンジイル基は好ましく
はハロゲン、例えば臭素で置換されている）である。こ
のような基は、例えば２−クロロ−，２−ブロモ−１２
−ヨード−１２゜２．２−トリフルオロ−若しくは２，
２．２”）リクロロアセトキシ基、ｔｅｒ ｔ−ブチル
オキシカルボニルオキシ基、４−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ基、フェナシルオキシカルボニルオキ
シ基、２−ハロゲン低級アルコキシカルボニルオキシ基
、例えば２． ２． ２−トリクロロエトキシカルボニ
ルオキシ基、２−ブロモエトキシカルボニルオキシ基又
は２−ヨードエトキシカルボニルオキシ基、又は２−ト
リ低級アルキルシリルエトキシカルボニルオキシ基、例
えば２−トリメチルシリルエトキシカルボニルオキシ基
又は２−（ジ−ｎ−ブチル−メチル−シリル）エトキシ
カルボニルオキシ基、更に２−トリフェニルシリルエト
キシカルボニルオキシ基である。
シリルオキシ基は、特に、珪素が好ましくは低級アルキ
ル基、特にメチル基、更に低級アルコキシ基、例えばメ
トキシ基、及び／又はハロゲン、例えば塩素を置換基と
して含む有機シリルオキシ基である。対応するシリルオ
キシ基は、殊に１〜り低級アルキルシリルオキシ基、特
にトリメチルシリルオキシ基、更にジメチル−ｔｅｒｔ
−ブチル−シリルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキ
ルハロゲン−シリルオキシ基、例えばメトキシ−メチル
−クロロ−シリルオキシ基、又はシ低級アルキル−ハロ
ゲンシリルオキシ基、例えばジメチル−クロロ−シリル
オキシ基である。
ル基、特にメチル基、更に低級アルコキシ基、例えばメ
トキシ基、及び／又はハロゲン、例えば塩素を置換基と
して含む有機シリルオキシ基である。対応するシリルオ
キシ基は、殊に１〜り低級アルキルシリルオキシ基、特
にトリメチルシリルオキシ基、更にジメチル−ｔｅｒｔ
−ブチル−シリルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキ
ルハロゲン−シリルオキシ基、例えばメトキシ−メチル
−クロロ−シリルオキシ基、又はシ低級アルキル−ハロ
ゲンシリルオキシ基、例えばジメチル−クロロ−シリル
オキシ基である。
少なくとも１個の前記のアシルオキシ基、少なくとも１
個のシリルオキシ基、１．２−フェニレンジオキシ基、
２個のゲミナル位に結合したフェニルオキシ基又はビシ
ナル位に結合したモノ−若しくはジフェニル低級アルキ
リデンジオキシ基又は七ノー若しくはジフェニル低級ア
ルキリデンジチオ基を有する基Ｒ３′を、加溶媒分解に
よりヒドロキシ基を有する基Ｒ３、例えばモノ−若しく
はジヒドロキシ低級アルキル基に、ハロゲン原子を有す
るｇＲ３’を更にエーテル化若しくは有機エステル化ヒ
ドロキシ基又はエーテル化メルカプト基で置換された脂
肪族基Ｒ３、例えば低級アルコキシ低級アルキル基、低
級アルカノイルオキシ低級アルキル基又は低級アルキル
チオ低級アルキル基に、２個のハロゲン原子若しくは官
能基で変性されたオキソ基を有する基Ｒ３１を加溶媒分
解によりオキソ基を有するか或いはエーテル化若しくは
有機エステル化ヒドロキシ基で置換された基Ｒ３、例え
ばオキソ低級アルキル基、ジ低級アルコキシ低級アルキ
ル基又は低級アルキレンジオキシ低級アルキル基に、官
能基で変性されたカルボキシ基を有する基Ｒ３′を加溶
媒分解により、場合によりエステル化若しくはアミド化
されたカルボキシ基Ｒ３、例えばカルボキシ低級アルキ
ル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又は場
合により脂肪族Ｎ−置換力ルハモイル低級アルキル基に
変えることができる。
個のシリルオキシ基、１．２−フェニレンジオキシ基、
２個のゲミナル位に結合したフェニルオキシ基又はビシ
ナル位に結合したモノ−若しくはジフェニル低級アルキ
リデンジオキシ基又は七ノー若しくはジフェニル低級ア
ルキリデンジチオ基を有する基Ｒ３′を、加溶媒分解に
よりヒドロキシ基を有する基Ｒ３、例えばモノ−若しく
はジヒドロキシ低級アルキル基に、ハロゲン原子を有す
るｇＲ３’を更にエーテル化若しくは有機エステル化ヒ
ドロキシ基又はエーテル化メルカプト基で置換された脂
肪族基Ｒ３、例えば低級アルコキシ低級アルキル基、低
級アルカノイルオキシ低級アルキル基又は低級アルキル
チオ低級アルキル基に、２個のハロゲン原子若しくは官
能基で変性されたオキソ基を有する基Ｒ３１を加溶媒分
解によりオキソ基を有するか或いはエーテル化若しくは
有機エステル化ヒドロキシ基で置換された基Ｒ３、例え
ばオキソ低級アルキル基、ジ低級アルコキシ低級アルキ
ル基又は低級アルキレンジオキシ低級アルキル基に、官
能基で変性されたカルボキシ基を有する基Ｒ３′を加溶
媒分解により、場合によりエステル化若しくはアミド化
されたカルボキシ基Ｒ３、例えばカルボキシ低級アルキ
ル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基又は場
合により脂肪族Ｎ−置換力ルハモイル低級アルキル基に
変えることができる。
基Ｒ３に加溶媒分解しうる基Ｒ３＋の加溶媒分解は、例
えば加水分解く水での処理）、アルコーリシス（アルコ
ールでの処理）、メルカプトリシス（メルカプタンとの
反応）、有機カルボン酸又はその塩との反応又はアンモ
ノリシス又はアミツリシス（アンモニア又は有機アミン
での処理）によって行われる。
えば加水分解く水での処理）、アルコーリシス（アルコ
ールでの処理）、メルカプトリシス（メルカプタンとの
反応）、有機カルボン酸又はその塩との反応又はアンモ
ノリシス又はアミツリシス（アンモニア又は有機アミン
での処理）によって行われる。
加水分解によって、例えば少なくとも１個の前記アシル
オキシ基、少なくとも１個のシリルオキシ基、■、２−
フェニレンジオキシ基、２個のケミナル位に結合したフ
ェニルオキシ基又はヒシナル位に結合したモノ−若しく
はジフェニル低級アルキリテンジオキシ基又はモノ−若
しくはジフェニル低級アルキリデンジチオ基を有する基
Ｒ３°′をヒドロキシ基で置換された脂肪族基Ｒ３、例
えばモノ−若しくはジヒドロキシ低級アルキル基に、２
個のハロゲン原子又は２ （ｉ［ｊの官能基で変性され
たオキソ基を有する基Ｒ−３−１をオキソ基を有する脂
肪族基Ｒ３、例えばオキソ低級アルキル基に、官能基で
変性されたカルボキシ低級アルキルチオゴをカルボキシ
低級アルキル基に、またイミノエーテル基又は場合によ
り脂肪族Ｎ−置換アミジン基を有する官能基で変性され
たカルボキシ低級アルキル基Ｒ：］”′をエステル化又
はアミド化されたカルボキシ低級アルキル基Ｒ３に変え
ることができる。
オキシ基、少なくとも１個のシリルオキシ基、■、２−
フェニレンジオキシ基、２個のケミナル位に結合したフ
ェニルオキシ基又はヒシナル位に結合したモノ−若しく
はジフェニル低級アルキリテンジオキシ基又はモノ−若
しくはジフェニル低級アルキリデンジチオ基を有する基
Ｒ３°′をヒドロキシ基で置換された脂肪族基Ｒ３、例
えばモノ−若しくはジヒドロキシ低級アルキル基に、２
個のハロゲン原子又は２ （ｉ［ｊの官能基で変性され
たオキソ基を有する基Ｒ−３−１をオキソ基を有する脂
肪族基Ｒ３、例えばオキソ低級アルキル基に、官能基で
変性されたカルボキシ低級アルキルチオゴをカルボキシ
低級アルキル基に、またイミノエーテル基又は場合によ
り脂肪族Ｎ−置換アミジン基を有する官能基で変性され
たカルボキシ低級アルキル基Ｒ：］”′をエステル化又
はアミド化されたカルボキシ低級アルキル基Ｒ３に変え
ることができる。
加水分解は、審決で、必要に応じて加水分解試薬及び／
又は不活性溶剤の存在で、冷却又は加熱下及び／又は不
活性ガス下に実施する。加水分解試薬は、例えば酸性又
はアルカリ性試薬である。
又は不活性溶剤の存在で、冷却又は加熱下及び／又は不
活性ガス下に実施する。加水分解試薬は、例えば酸性又
はアルカリ性試薬である。
酸性試薬は、例えば鉱酸、ハロゲン水素酸、例えば塩化
水素酸、臭化水素酸又は沃化水素酸、又は硫黄若しくは
燐の酸素酸又はその酸性塩、例えば硫酸、硫酸水素カリ
ウム又は燐酸、又は有機カルボン酸又はスルボン酸、例
えば低級アルカン酸、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸又
はクロロ酢酸、又はｐ−）ルエンスルホン酸である。塩
基性試薬は、例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属
の水酸化物又は炭酸塩、例えばカリウム、ナトリウム若
しくはカルシウムの水酸化物、又はカリウム若しくはナ
トリウムの炭酸塩である。不活性溶剤は、例えば極性の
、水と混和しうる溶剤、例えばアルコール、例えばメタ
ノール若しくはエタノール、低級アルキレンエーテル、
例えばジオキサン、ジ低級アルキルケ１−ン、例えばア
セトン、第三級アミド、例えばジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチルピロリドン、又はヘキサメチル燐酸トリアミ
ド、又はジ低級アルキルスルポキシド、例えばジメチル
スルホキシドである。
水素酸、臭化水素酸又は沃化水素酸、又は硫黄若しくは
燐の酸素酸又はその酸性塩、例えば硫酸、硫酸水素カリ
ウム又は燐酸、又は有機カルボン酸又はスルボン酸、例
えば低級アルカン酸、例えば酢酸、トリフルオロ酢酸又
はクロロ酢酸、又はｐ−）ルエンスルホン酸である。塩
基性試薬は、例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属
の水酸化物又は炭酸塩、例えばカリウム、ナトリウム若
しくはカルシウムの水酸化物、又はカリウム若しくはナ
トリウムの炭酸塩である。不活性溶剤は、例えば極性の
、水と混和しうる溶剤、例えばアルコール、例えばメタ
ノール若しくはエタノール、低級アルキレンエーテル、
例えばジオキサン、ジ低級アルキルケ１−ン、例えばア
セトン、第三級アミド、例えばジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチルピロリドン、又はヘキサメチル燐酸トリアミ
ド、又はジ低級アルキルスルポキシド、例えばジメチル
スルホキシドである。
アルコーリシスによって、例えば１個若しくは２個のハ
ロゲン原子又は２価の官能ハで変性しうるオキソ基を有
する脂肪族基Ｒ３１をエーテル化ヒドロキシ基で置換さ
れた脂肪族炭化水素基Ｒ３、例えばモノ−若しくはジ低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルキレンジオキシ
低級アルキル基に変えるか、又はハロゲンカルボニル基
を有する脂肪族基Ｒ３１をエステル化カルボキシ基、例
えば低級アルコキシカルボニル基を有する基Ｒ３に変え
、基Ｒ３＋中で有機カルボン酸でエステル化されたヒド
ロキシ基をエステル交換によって遊離させることができ
る。アルコーリシスは、常法で、例えば塩基性試薬の存
在で、エステル交換の際には酸性試薬の存在で、必要に
応じて冷却又は加熱下に及び／又は不活性ガス、例えば
窒素ガス下に行う。酸性試薬又は塩基性試薬としては、
例えば前記のものが該当し、塩基性試薬としては、更に
金属アルコキシド、例えばアルカリ金属又はアルカリ土
類金属の低級アルコキシド、例えばすトリウムメトキシ
ドが該当する。
ロゲン原子又は２価の官能ハで変性しうるオキソ基を有
する脂肪族基Ｒ３１をエーテル化ヒドロキシ基で置換さ
れた脂肪族炭化水素基Ｒ３、例えばモノ−若しくはジ低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルキレンジオキシ
低級アルキル基に変えるか、又はハロゲンカルボニル基
を有する脂肪族基Ｒ３１をエステル化カルボキシ基、例
えば低級アルコキシカルボニル基を有する基Ｒ３に変え
、基Ｒ３＋中で有機カルボン酸でエステル化されたヒド
ロキシ基をエステル交換によって遊離させることができ
る。アルコーリシスは、常法で、例えば塩基性試薬の存
在で、エステル交換の際には酸性試薬の存在で、必要に
応じて冷却又は加熱下に及び／又は不活性ガス、例えば
窒素ガス下に行う。酸性試薬又は塩基性試薬としては、
例えば前記のものが該当し、塩基性試薬としては、更に
金属アルコキシド、例えばアルカリ金属又はアルカリ土
類金属の低級アルコキシド、例えばすトリウムメトキシ
ドが該当する。
メルカプトリシスによって、例えは１個若しくは２個の
ハロゲン原子又は２価の官能基で変性しうるオキソ基を
有する脂肪族基Ｒ３１をエーテル化メルカプト基で置換
された脂肪族炭化水素基Ｒ３、例えば低級アルキルチオ
低級アルキル基又はヒドロキシ低級アルキルチオ低級ア
ルキル基に変えることができる。メルカプトリシスは、
常法で、例えば塩基性縮合剤の存在で行うか、又はメル
カプタン成分を塩の形で、例えばアルカリ金属塩として
使用することによって行う。
ハロゲン原子又は２価の官能基で変性しうるオキソ基を
有する脂肪族基Ｒ３１をエーテル化メルカプト基で置換
された脂肪族炭化水素基Ｒ３、例えば低級アルキルチオ
低級アルキル基又はヒドロキシ低級アルキルチオ低級ア
ルキル基に変えることができる。メルカプトリシスは、
常法で、例えば塩基性縮合剤の存在で行うか、又はメル
カプタン成分を塩の形で、例えばアルカリ金属塩として
使用することによって行う。
１ ｆ［ｌｉｌ若しくは２個のハロゲン原子を有する脂
肪族基Ｒ３１は、カルボン酸の塩、例えば低級アルカン
酸アルカリ金属塩との反応によって有機エステル化ヒド
ロキシ基を有する基Ｒ３、例えば七）−若しくはジ低級
アルカノイルオキシ低級アルキル基に変えることもでき
る。
肪族基Ｒ３１は、カルボン酸の塩、例えば低級アルカン
酸アルカリ金属塩との反応によって有機エステル化ヒド
ロキシ基を有する基Ｒ３、例えば七）−若しくはジ低級
アルカノイルオキシ低級アルキル基に変えることもでき
る。
アンモノリシス又はアミツリシスによって、例えばハロ
ゲンカルボニル基を有する脂肪族基Ｒ３１を、好ましく
は塩基性縮合剤の存在で、アミド化カルボキシ基で置換
された脂肪族基、例えば場合により脂肪族Ｎ−置換され
たカルバモイル低級アルキル基に変えることができる。
ゲンカルボニル基を有する脂肪族基Ｒ３１を、好ましく
は塩基性縮合剤の存在で、アミド化カルボキシ基で置換
された脂肪族基、例えば場合により脂肪族Ｎ−置換され
たカルバモイル低級アルキル基に変えることができる。
しかし、前記のアシルオキシ基からアミツリシスによっ
てヒドロキシ基を遊離させることもできる。
てヒドロキシ基を遊離させることもできる。
しかし、ハロゲン低級アルキル基は、シアン化水素酸又
はアルカリ金属シアン化物との反応によってシアノ低級
アルキル基に変えることもできる。
はアルカリ金属シアン化物との反応によってシアノ低級
アルキル基に変えることもできる。
２−置換シリルエトキシ力ルボニル基を、好ましくはア
ルカリ金属弗化物、例えば弗化カリウムで処理すること
によって脱離させることができる。
ルカリ金属弗化物、例えば弗化カリウムで処理すること
によって脱離させることができる。
更に、Ｒ３′は、場合により塩の形で、例えばアルカリ
金属塩として存在するメルカプト基を表すこともでき、
反応性エステル、例えばハロゲン水素酸エステル、例え
ば塩化水素酸エステル、臭化水素酸エステル又は沃化水
素酸エステル、又はスルポン酸エステル、例えばｐ−ト
ルエンスルホン酸エステル、場合により１個又は２ｆＩ
ｌｉＩの遊離、エステル化若しくはエーテル化ヒドロキ
シ基、１個又は２個のエーテル化メルカプト基又はオキ
シド化されたエーテル化メルカプト基で置換された脂肪
族アルコールと反応させることによって、場合により対
応して置換された、チア基で遮断された脂肪族基Ｒ３に
変えることが−できる。
金属塩として存在するメルカプト基を表すこともでき、
反応性エステル、例えばハロゲン水素酸エステル、例え
ば塩化水素酸エステル、臭化水素酸エステル又は沃化水
素酸エステル、又はスルポン酸エステル、例えばｐ−ト
ルエンスルホン酸エステル、場合により１個又は２ｆＩ
ｌｉＩの遊離、エステル化若しくはエーテル化ヒドロキ
シ基、１個又は２個のエーテル化メルカプト基又はオキ
シド化されたエーテル化メルカプト基で置換された脂肪
族アルコールと反応させることによって、場合により対
応して置換された、チア基で遮断された脂肪族基Ｒ３に
変えることが−できる。
出発原料は、自体公知の方法で、例えば、一般式（ＸＩ
Ｘ） ： ３ □ １ ＩＹ２ 〔式中Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４ば一般式（ＩＩ）の下
に挙げた定義を有する〕の化合物からＨＹを脱離さ一已
ることによって製造することができる。
Ｘ） ： ３ □ １ ＩＹ２ 〔式中Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３及びＹ４ば一般式（ＩＩ）の下
に挙げた定義を有する〕の化合物からＨＹを脱離さ一已
ることによって製造することができる。
Ｒ３′が場合によりエステル、無水物又は塩の形で存在
するカルボキシ基を表す一般式（Ｘ■）の化合物は、更
に、アミノマロン酸ジエステルを常法で一般式（ＸＸ）
： Ｒ２Ｃ（＝Ｏ） ＣＩ （ＸＸ） の化合物によってＮ−アシル化し、反応生成物を一般式
（■）： Ｒ＋ ＮＨ２（■） のジアゾ化アミンとα−カップリングさせ、得られたア
ゾ化合物を塩基処理、例えばす１〜リウムメトキシドの
作用によって、エステル化カルボキシ基の脱離下に閉環
させることによって製造することもできる。得られたエ
ステルから加水分解により遊離酸又はその塩を製造し、
これから塩化チオニルによって酸塩化物を製造すること
ができる。
するカルボキシ基を表す一般式（Ｘ■）の化合物は、更
に、アミノマロン酸ジエステルを常法で一般式（ＸＸ）
： Ｒ２Ｃ（＝Ｏ） ＣＩ （ＸＸ） の化合物によってＮ−アシル化し、反応生成物を一般式
（■）： Ｒ＋ ＮＨ２（■） のジアゾ化アミンとα−カップリングさせ、得られたア
ゾ化合物を塩基処理、例えばす１〜リウムメトキシドの
作用によって、エステル化カルボキシ基の脱離下に閉環
させることによって製造することもできる。得られたエ
ステルから加水分解により遊離酸又はその塩を製造し、
これから塩化チオニルによって酸塩化物を製造すること
ができる。
更に、一般式（１）の化合物は、一般式（ＩＩ）３
１
Ｉ Ｙ２
〔式中Ｙｌ及びＹ２は水素を表し、Ｙ３及びＹ４は付加
的結合又は水素を表すか又はＹ、及びＹ２ば付加的結合
を表し、Ｙ３及びＹ４は水素を表す〕の化合物を脱水素
することによって製造することもできる。
的結合又は水素を表すか又はＹ、及びＹ２ば付加的結合
を表し、Ｙ３及びＹ４は水素を表す〕の化合物を脱水素
することによって製造することもできる。
脱水素は、審決で脱水素作用をする酸化剤で処理するこ
とによって、好ましくは溶剤又は希釈剤中で必要に応じ
て冷却又は加熱下に、例えば約０〜２００°Ｃで行う。
とによって、好ましくは溶剤又は希釈剤中で必要に応じ
て冷却又は加熱下に、例えば約０〜２００°Ｃで行う。
適当な酸化剤は、例えば必要に応じて銀、マンガン、鉄
又はコバルト触媒の存在で、酸素、例えば空中酸素、退
化合物、例えば過酸化水素、金属過酸化物、例えば過酸
化二・ノケル、過炭酸及びその塩又は有機過酸、例えば
ｍ−クロロ過安息香酸、モノ過フタル酸又は過酢酸、又
はその塩、酸化性酸素酸又はその塩又は無水物、例えば
亜ハロゲン酸及びその塩、例えば次亜塩素酸ナトリウム
、ハロゲン酸及びその塩、例えば沃素酸、過沃素酸、沃
素酸カリウム、過沃素酸ナトリウム又は塩素酸カリウム
、硝酸又は亜硝酸及びその塩及び無水物、例えば硝酸カ
リウム、亜硝酸ナトリウム、酸化窒素、三酸化二窒素又
は二酸化窒素、又は酸化性重金属化合物、クロム（Ｖｌ
）化合物、クロム（ＩＶ）化合物、マンガン（１ｖ）化
合物、マンガン（■）化合物、銀（ｎ）化合物、銅（ｎ
）化合物、水銀（ＩＩ）化合物、バナジウム（Ｖ）化合
物又はビスマス（ＩＩ）化合物、例えば重クロム酸ナト
リウム、重クロム酸カリウム、三酸化クロム、二酸化マ
ンガン、過マンガン酸カリウム、酸化銀（■）、酸化銅
（■）、酸化水銀又は酸化ビスマスである。不活性溶剤
は、例えばその都度使用する酸化剤に対して不活性な溶
剤、例えば水、ケトン、例えばアセトン、カルボン酸、
例えば酢酸、ハロゲン化炭化水素、芳香族、芳香脂肪族
又はヘテロ脂肪族炭化水素、例えば四塩化炭素又は芳香
族物質又はへテロ芳香族物質、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン又はピリジン、又はその混合物である。
又はコバルト触媒の存在で、酸素、例えば空中酸素、退
化合物、例えば過酸化水素、金属過酸化物、例えば過酸
化二・ノケル、過炭酸及びその塩又は有機過酸、例えば
ｍ−クロロ過安息香酸、モノ過フタル酸又は過酢酸、又
はその塩、酸化性酸素酸又はその塩又は無水物、例えば
亜ハロゲン酸及びその塩、例えば次亜塩素酸ナトリウム
、ハロゲン酸及びその塩、例えば沃素酸、過沃素酸、沃
素酸カリウム、過沃素酸ナトリウム又は塩素酸カリウム
、硝酸又は亜硝酸及びその塩及び無水物、例えば硝酸カ
リウム、亜硝酸ナトリウム、酸化窒素、三酸化二窒素又
は二酸化窒素、又は酸化性重金属化合物、クロム（Ｖｌ
）化合物、クロム（ＩＶ）化合物、マンガン（１ｖ）化
合物、マンガン（■）化合物、銀（ｎ）化合物、銅（ｎ
）化合物、水銀（ＩＩ）化合物、バナジウム（Ｖ）化合
物又はビスマス（ＩＩ）化合物、例えば重クロム酸ナト
リウム、重クロム酸カリウム、三酸化クロム、二酸化マ
ンガン、過マンガン酸カリウム、酸化銀（■）、酸化銅
（■）、酸化水銀又は酸化ビスマスである。不活性溶剤
は、例えばその都度使用する酸化剤に対して不活性な溶
剤、例えば水、ケトン、例えばアセトン、カルボン酸、
例えば酢酸、ハロゲン化炭化水素、芳香族、芳香脂肪族
又はヘテロ脂肪族炭化水素、例えば四塩化炭素又は芳香
族物質又はへテロ芳香族物質、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン又はピリジン、又はその混合物である。
一般式（Ｉｔ）の前記出発原料は、好ましくはその場で
、酸化条件下、例えば空気下に、又は塩化鉄（Ｉ（［）
の存在で、好ましくはキシレン中で、約り００℃〜ａ＋
＋騰温度で一般式（■）；Ｒ＋ −ＮＨ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ３
） ＮＨ２（■）の化合物を一般式（ＸＸＩ）： Ｒ２ＣＨ＝Ｏ（ＸＸＩ） の化合物と縮合させることによって製造され、前記の一
般式（ＩＶ）の化合物は、例えば一般式（■）Ｒ１〜Ｎ
Ｈ２（■） のアミンの存在で５−Ｒ３−テトラゾールの分解によっ
て又は一般式（■）： Ｒ＋ Ｎ−ＨＮＨ２（■） の化合物及び一般式（■）： Ｙ−Ｃ（＝ＮＨ）−Ｒ３（Ｖ） （式中Ｙ＝エーテル化ヒドロキシ基）の化合物の縮合に
よって得られる。
、酸化条件下、例えば空気下に、又は塩化鉄（Ｉ（［）
の存在で、好ましくはキシレン中で、約り００℃〜ａ＋
＋騰温度で一般式（■）；Ｒ＋ −ＮＨ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ３
） ＮＨ２（■）の化合物を一般式（ＸＸＩ）： Ｒ２ＣＨ＝Ｏ（ＸＸＩ） の化合物と縮合させることによって製造され、前記の一
般式（ＩＶ）の化合物は、例えば一般式（■）Ｒ１〜Ｎ
Ｈ２（■） のアミンの存在で５−Ｒ３−テトラゾールの分解によっ
て又は一般式（■）： Ｒ＋ Ｎ−ＨＮＨ２（■） の化合物及び一般式（■）： Ｙ−Ｃ（＝ＮＨ）−Ｒ３（Ｖ） （式中Ｙ＝エーテル化ヒドロキシ基）の化合物の縮合に
よって得られる。
本発明方法により又は上記以外の他の方法により得られ
る一般式（１）の化合物を、必要に応じて自体公知の方
法で一般式（１）の他の化合物に変えることができる。
る一般式（１）の化合物を、必要に応じて自体公知の方
法で一般式（１）の他の化合物に変えることができる。
本発明方法により得られる異性体混合物を、必要に応じ
て純粋な異性体に分離し、本発明方法により得られた化
合物を必要に応じ一般式（１）の他の化合物に変え、及
び／又は本発明方法により得られた′ｆｆ：ｆｆ：物化
合物変えるか、又は本発明方法により得られた塩を遊離
化合物に変えることができる。
て純粋な異性体に分離し、本発明方法により得られた化
合物を必要に応じ一般式（１）の他の化合物に変え、及
び／又は本発明方法により得られた′ｆｆ：ｆｆ：物化
合物変えるか、又は本発明方法により得られた塩を遊離
化合物に変えることができる。
例えば、場合によりエーテル化又はエステル化されたヒ
ドロキシ基を相互に変換することができる。
ドロキシ基を相互に変換することができる。
例えば、基Ｒ３、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１個がヒド
ロキシ基を有する場合、これを密性でエーテル化するこ
とができる。Ｒ３の成分としてのヒドロキシ基を低級ア
ルキル化剤、例えば低級アルカノール、例えばメタノー
ルを用いて、酸、例えば鉱酸、例えば硫酸又は脱水剤、
例えばジシクロへキシルカルボジイミドの存在で対応す
る低級アルコキシ基に変えることができ、また基Ｒ２又
はＲ２のヒドロキシ基を例えば塩基、例えばアルカリ金
属の水酸化物又は炭酸塩、例えば水酸化ナトリウム又は
炭酸カリウムの存在でジ低級アルキル硫酸又はジアゾ低
級アルカンを用いて対応する低級アルコキシ基に変える
ことができる。逆に、置換基としてのエーテル基、例え
ば低級アルコキシ基を、例えば酸、例えばルイス酸、例
えば三臭化硼素又は鉱酸、例えば沃化水素で処理するこ
とによって、Ｒ１又はＲ２から脱離することができる。
ロキシ基を有する場合、これを密性でエーテル化するこ
とができる。Ｒ３の成分としてのヒドロキシ基を低級ア
ルキル化剤、例えば低級アルカノール、例えばメタノー
ルを用いて、酸、例えば鉱酸、例えば硫酸又は脱水剤、
例えばジシクロへキシルカルボジイミドの存在で対応す
る低級アルコキシ基に変えることができ、また基Ｒ２又
はＲ２のヒドロキシ基を例えば塩基、例えばアルカリ金
属の水酸化物又は炭酸塩、例えば水酸化ナトリウム又は
炭酸カリウムの存在でジ低級アルキル硫酸又はジアゾ低
級アルカンを用いて対応する低級アルコキシ基に変える
ことができる。逆に、置換基としてのエーテル基、例え
ば低級アルコキシ基を、例えば酸、例えばルイス酸、例
えば三臭化硼素又は鉱酸、例えば沃化水素で処理するこ
とによって、Ｒ１又はＲ２から脱離することができる。
更に、例えば対応する低級アルカンカルボン酸、例えば
酢酸又はその反応性誘導体、例えば対称無水物又はハロ
ゲン水素酸との無水物と、必要に応じて無水物から出発
して、縮合剤、例えば塩基性縮合剤、例えばアルカリ金
属の水酸化物又は炭酸塩又は第三級窒素塩基、例えばト
リ低級アルキルアミン又はピリジンの存在で反応させる
ことによって、また、酸から出発する場合には、例えば
酸、例えばプロトン酸、例えば塩化水素酸、硫酸、燐酸
又はスルポン酸又はルイス酸、例えば三弗化硼素−エー
テラートの存在で反応させることによっ一ζヒドロキシ
基をエステル化することができ、例えば低級アルカノイ
ルオキシ基に変えることができる。
酢酸又はその反応性誘導体、例えば対称無水物又はハロ
ゲン水素酸との無水物と、必要に応じて無水物から出発
して、縮合剤、例えば塩基性縮合剤、例えばアルカリ金
属の水酸化物又は炭酸塩又は第三級窒素塩基、例えばト
リ低級アルキルアミン又はピリジンの存在で反応させる
ことによって、また、酸から出発する場合には、例えば
酸、例えばプロトン酸、例えば塩化水素酸、硫酸、燐酸
又はスルポン酸又はルイス酸、例えば三弗化硼素−エー
テラートの存在で反応させることによっ一ζヒドロキシ
基をエステル化することができ、例えば低級アルカノイ
ルオキシ基に変えることができる。
更に、Ｒ３の成分としての遊離カルボキシル基を常法で
、例えばジアゾ低級アルカン又は１・り低級アルキルオ
キソニウム塩、トリ低級アルキルカルボキシニウム塩又
はジ低級アルキルカルボニウム塩、例えばヘキサクロロ
アンチモン酸塩又はヘキサフルオロポスフェートで処理
するか、又は殊に対応するアルコール又はその反応性誘
導体、例えばカルボン酸エステル、亜燐酸エステル、亜
硫酸エステル又は炭酸エステル、例えば低級アルカンカ
ルボン酸、トリ低級アルキルホスファイト、ジ低級アル
キルスルファイト又はピロカーボネート、又は鉱酸エス
テル又はスルホン酸エステル、例えば塩化水素酸若しく
は臭化水素酸又は硫酸、ベンゼンスルポン酸、トルエン
スルホン酸又はメタンスルポン酸のエステル、対応する
アルコール又はこれから誘導されたオレフィンと反応さ
せることによってエステル化して、エステル化カルボキ
シル基にすることができる。
、例えばジアゾ低級アルカン又は１・り低級アルキルオ
キソニウム塩、トリ低級アルキルカルボキシニウム塩又
はジ低級アルキルカルボニウム塩、例えばヘキサクロロ
アンチモン酸塩又はヘキサフルオロポスフェートで処理
するか、又は殊に対応するアルコール又はその反応性誘
導体、例えばカルボン酸エステル、亜燐酸エステル、亜
硫酸エステル又は炭酸エステル、例えば低級アルカンカ
ルボン酸、トリ低級アルキルホスファイト、ジ低級アル
キルスルファイト又はピロカーボネート、又は鉱酸エス
テル又はスルホン酸エステル、例えば塩化水素酸若しく
は臭化水素酸又は硫酸、ベンゼンスルポン酸、トルエン
スルホン酸又はメタンスルポン酸のエステル、対応する
アルコール又はこれから誘導されたオレフィンと反応さ
せることによってエステル化して、エステル化カルボキ
シル基にすることができる。
対応するアルコールとの反応自体は、不活性溶剤、特に
使用したアルコールの過剰中で、酸性触媒、例えばプロ
トン酸、例えば塩化水素酸若しくは臭化水素酸、硫酸、
燐酸、硼酸、ベンゼンスルポン酸及び／又はトルエンス
ルホン酸、又はルイス酸、例えば三弗化硼素−エーテラ
ートの存在で及び必要に応じて脱水剤の存在及び／又は
反応水を暴虐、例えば共沸暴虐により除去しながら及び
／又は温度を高めて行うのが好ましい。
使用したアルコールの過剰中で、酸性触媒、例えばプロ
トン酸、例えば塩化水素酸若しくは臭化水素酸、硫酸、
燐酸、硼酸、ベンゼンスルポン酸及び／又はトルエンス
ルホン酸、又はルイス酸、例えば三弗化硼素−エーテラ
ートの存在で及び必要に応じて脱水剤の存在及び／又は
反応水を暴虐、例えば共沸暴虐により除去しながら及び
／又は温度を高めて行うのが好ましい。
対応するアルコールの反応性誘導体との反応を、常法で
カルボン酸エステル、亜燐酸エステル、亜硫酸エステル
又は炭酸エステルから出発して、不活性溶剤、例えば芳
香族炭化水素、例えばヘンゼン若しくはトルエン、又は
使用したアルコール誘導体若しくは相応するアルコール
の過剰中で、酸性触媒、例えば前記の触媒の存在で実施
することができる。鉱酸エステル又はスルホン酸エステ
ルから出発して、エステル化すべき酸を塩、例えばすｌ
・リウム塩若しくはカリウム塩の形で使用するのが好ま
しく、必要に応じて塩基性縮合剤、例えば無機塩基、例
えばナトリウム、カリウム又はカルシウムの水酸化物又
は炭酸塩、又は第三級有機窒素塩基、例えばトリエチル
アミン若しくはピリジンの存在で、及び／又は不活性溶
剤、例えば前記の第三級窒素塩基又は極性溶剤、例えば
ジメチルホルムアミド中で、及び／又は温度を高めて操
作する。
カルボン酸エステル、亜燐酸エステル、亜硫酸エステル
又は炭酸エステルから出発して、不活性溶剤、例えば芳
香族炭化水素、例えばヘンゼン若しくはトルエン、又は
使用したアルコール誘導体若しくは相応するアルコール
の過剰中で、酸性触媒、例えば前記の触媒の存在で実施
することができる。鉱酸エステル又はスルホン酸エステ
ルから出発して、エステル化すべき酸を塩、例えばすｌ
・リウム塩若しくはカリウム塩の形で使用するのが好ま
しく、必要に応じて塩基性縮合剤、例えば無機塩基、例
えばナトリウム、カリウム又はカルシウムの水酸化物又
は炭酸塩、又は第三級有機窒素塩基、例えばトリエチル
アミン若しくはピリジンの存在で、及び／又は不活性溶
剤、例えば前記の第三級窒素塩基又は極性溶剤、例えば
ジメチルホルムアミド中で、及び／又は温度を高めて操
作する。
シアノ基を常法でカルバモイル基又はカルボキシ基に加
水分解するか、又はイミノエーテル基又はアミジン基を
中間に形成させて、これをその後単離することな（加水
分解してエステル化又はアミド化カルボキシ基にし、こ
れをアルコール又はアンモニア又は第−級若しくは第二
級アミンと反応させることができる。
水分解するか、又はイミノエーテル基又はアミジン基を
中間に形成させて、これをその後単離することな（加水
分解してエステル化又はアミド化カルボキシ基にし、こ
れをアルコール又はアンモニア又は第−級若しくは第二
級アミンと反応させることができる。
更に、遊離カルボキシル基をアンモニア又は少なくとも
１個の水素原子を有するアミンと常法で、中間に生成す
るアンモニウム塩をヘンゼン又はトルエンと共沸暴虐す
るか又は乾式加熱することによって脱水しながら反応さ
せることによってアミド化カルボキシル基に変えること
ができる。
１個の水素原子を有するアミンと常法で、中間に生成す
るアンモニウム塩をヘンゼン又はトルエンと共沸暴虐す
るか又は乾式加熱することによって脱水しながら反応さ
せることによってアミド化カルボキシル基に変えること
ができる。
しかし、遊離カルボキシル基をエステル化又はアミド化
カルボキシル基に変換する前記の反応を、Ｒ３がカルボ
キシ基を含む一般式（１）の化合物をまず常法で反応性
誘導体に変える、例えば燐又は硫黄のハロゲン化物、例
えば三塩化燐、三臭化燐、五塩化燐又は塩化チオニルを
用いて酸ハロゲニドに変えるか又は対応するアルコール
又はアミンと反応させることによって反応性エステル、
即ち電子吸引性構造を有するエステル、例えばフェノー
ル、チオフェノール、ｐ−ニトロフェノール又はシアノ
メチルアルコールとのエステル、又はアミド、例えばイ
ミダゾール又は３，５−ジメチルピラゾールから誘導さ
れたアミドに変え、得られた反応性誘導体を次に常法で
、例えばエステル交換又はエステル化カルボキシ基及び
アミド化カルボキシ基の相互変化のため以下に記載する
方法で、対応するアルコール、アンモニア又は対応する
少なくとも１個の水素原子を有するアミンと反応させて
所望の基にすることもできる。
カルボキシル基に変換する前記の反応を、Ｒ３がカルボ
キシ基を含む一般式（１）の化合物をまず常法で反応性
誘導体に変える、例えば燐又は硫黄のハロゲン化物、例
えば三塩化燐、三臭化燐、五塩化燐又は塩化チオニルを
用いて酸ハロゲニドに変えるか又は対応するアルコール
又はアミンと反応させることによって反応性エステル、
即ち電子吸引性構造を有するエステル、例えばフェノー
ル、チオフェノール、ｐ−ニトロフェノール又はシアノ
メチルアルコールとのエステル、又はアミド、例えばイ
ミダゾール又は３，５−ジメチルピラゾールから誘導さ
れたアミドに変え、得られた反応性誘導体を次に常法で
、例えばエステル交換又はエステル化カルボキシ基及び
アミド化カルボキシ基の相互変化のため以下に記載する
方法で、対応するアルコール、アンモニア又は対応する
少なくとも１個の水素原子を有するアミンと反応させて
所望の基にすることもできる。
エステル化カルボキシル基及び同様にトリハロゲンメチ
ル基は常法で、例えば触媒、例えば塩基性又は酸性試薬
、例えば強塩基、例えば水酸化ナトリウム若しくは水酸
化カリウム、又は鉱酸、例えば塩酸、硫酸若しくは燐酸
の存在で加水分解することによって遊離カルボキシル基
に変えることができ、更にエステル化カルボキシ基を例
えばアンモニア又は対応する少な−くとも１個の水素原
子を有するアミンと反応させることによってアミド化カ
ルボキシル基に変えることができる。
ル基は常法で、例えば触媒、例えば塩基性又は酸性試薬
、例えば強塩基、例えば水酸化ナトリウム若しくは水酸
化カリウム、又は鉱酸、例えば塩酸、硫酸若しくは燐酸
の存在で加水分解することによって遊離カルボキシル基
に変えることができ、更にエステル化カルボキシ基を例
えばアンモニア又は対応する少な−くとも１個の水素原
子を有するアミンと反応させることによってアミド化カ
ルボキシル基に変えることができる。
更に、エステルカルボキシ基を常法で、例えば触媒、例
えば強塩基、例えば水酸化ナトリウム若しくは水酸化カ
リウム、又は強酸、例えば鉱酸、例えば塩酸、硫酸若し
くは燐酸、又は有機スルホン酸、例えばｐ−トルエンス
ルホン酸又はルイス酸、例えば三弗化硼素−エーテラー
トの存在で対応するアルコール自体又はその金属塩、例
えばす１−リウム塩若しくはカリウム塩と反応させるこ
とによって他のエステル化カルボキシ基にエステル交換
することができる。
えば強塩基、例えば水酸化ナトリウム若しくは水酸化カ
リウム、又は強酸、例えば鉱酸、例えば塩酸、硫酸若し
くは燐酸、又は有機スルホン酸、例えばｐ−トルエンス
ルホン酸又はルイス酸、例えば三弗化硼素−エーテラー
トの存在で対応するアルコール自体又はその金属塩、例
えばす１−リウム塩若しくはカリウム塩と反応させるこ
とによって他のエステル化カルボキシ基にエステル交換
することができる。
アミド化カルボキシ基を常法で、例えば触媒、例えば強
塩基、例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸
化物又は炭酸塩、例えばナトリウム又はカリウムの水酸
化物若しくは炭酸塩、又は強酸、例えば鉱酸、例えば塩
酸、硫酸若しくは燐酸の存在で加水分解することによっ
て遊離カルボキシ基に変えることができ、非置換カルバ
モイル茫を更に例えばカルボジイミド又は五酸化焼又は
ポリ燐酸又は硫酸を用いて脱水することによってシアノ
基に変えることができる。
塩基、例えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸
化物又は炭酸塩、例えばナトリウム又はカリウムの水酸
化物若しくは炭酸塩、又は強酸、例えば鉱酸、例えば塩
酸、硫酸若しくは燐酸の存在で加水分解することによっ
て遊離カルボキシ基に変えることができ、非置換カルバ
モイル茫を更に例えばカルボジイミド又は五酸化焼又は
ポリ燐酸又は硫酸を用いて脱水することによってシアノ
基に変えることができる。
更に、場合によりエステル、無水物又は塩の形で存在す
る式−Ｃｎ Ｈ２ｎ ＣＯＯＨのカルボキシ低級アルキ
ル基をω−位にオキソ基又はヒドロキシ基を有する式−
ＣＴｌ ＋ＩＨ２ｒＬ＋１” ０のオキソ低級アルキル
基又は式−ｃＴＬ十１）（２ｎ＋２−ＯＨのヒドロキシ
低級アルキル基に還元することができる。
る式−Ｃｎ Ｈ２ｎ ＣＯＯＨのカルボキシ低級アルキ
ル基をω−位にオキソ基又はヒドロキシ基を有する式−
ＣＴｌ ＋ＩＨ２ｒＬ＋１” ０のオキソ低級アルキル
基又は式−ｃＴＬ十１）（２ｎ＋２−ＯＨのヒドロキシ
低級アルキル基に還元することができる。
還元は、常法で、好ましくはエーテル、例えばジ低級ア
ルキルエーテル又は低級アルキレンエーテル、例えばジ
エチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブトキシメタン又はテトラ
ヒドロフラン中で、例えば、α−位のＣ−原子上に陰イ
オン形で水素を運ぶ水素移動剤、例えば軽金属水素化物
又はジ軽金属水素化物、例えば水素化硼素−エーテラー
ト又は好ましくはリチウムアルミニウムヒドリドと反応
させることによって行うか、又は好ましくはアルコール
溶液中で硼水素化ナトリウム又は硼水素化シアノナトリ
ウムを用いて行う。０価の金属又は原子状水素を移動さ
せる還元剤も同様に使用しうる。
ルキルエーテル又は低級アルキレンエーテル、例えばジ
エチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブトキシメタン又はテトラ
ヒドロフラン中で、例えば、α−位のＣ−原子上に陰イ
オン形で水素を運ぶ水素移動剤、例えば軽金属水素化物
又はジ軽金属水素化物、例えば水素化硼素−エーテラー
ト又は好ましくはリチウムアルミニウムヒドリドと反応
させることによって行うか、又は好ましくはアルコール
溶液中で硼水素化ナトリウム又は硼水素化シアノナトリ
ウムを用いて行う。０価の金属又は原子状水素を移動さ
せる還元剤も同様に使用しうる。
例えば、微細な金属、例えば亜鉛粉末の作用によって行
われる金属性還元の際に、例えば卑金属に対する酸の作
用、例えば亜鉛に対する酢酸の作用、鉄及び塩酸の作用
又はナトリウムアマルガムに対する水の作用によって作
られる発生期の水素を用いる還元の際と同様に、上記の
原理が当てはまる。
われる金属性還元の際に、例えば卑金属に対する酸の作
用、例えば亜鉛に対する酢酸の作用、鉄及び塩酸の作用
又はナトリウムアマルガムに対する水の作用によって作
られる発生期の水素を用いる還元の際と同様に、上記の
原理が当てはまる。
前記の還元剤によって、Ｒ３がヒドロキシ低級アルキル
基を表す一般式（１）の化合物を得るのが好ましい。こ
の場合、カルボキシ基の塩の形は、例えば塩基の塩、例
えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩の形である
が、アンモニア又は有機アミンとのアンモニウム塩の形
であってもよい。
基を表す一般式（１）の化合物を得るのが好ましい。こ
の場合、カルボキシ基の塩の形は、例えば塩基の塩、例
えばアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩の形である
が、アンモニア又は有機アミンとのアンモニウム塩の形
であってもよい。
無水物の形は、例えばハロゲン水素酸との混成無水物の
形であるが、有機カルボン酸、例えば低級アルカン酸と
の混成無水物であってもよい。エステルの形は、例えば
低級アルキルエステルの形であるが、他の有機エステル
の形、例えば場合により置換されたフェニルエステルの
形であってもよい。更に別のエステルの形としては、ラ
クトン形、例えばγ−ラクトン形が該当し、ω−位及び
（ω−２）−位より低い位置におけるその存在からは２
個のヒドロキシ基を有するｌＲ３が形成される。
形であるが、有機カルボン酸、例えば低級アルカン酸と
の混成無水物であってもよい。エステルの形は、例えば
低級アルキルエステルの形であるが、他の有機エステル
の形、例えば場合により置換されたフェニルエステルの
形であってもよい。更に別のエステルの形としては、ラ
クトン形、例えばγ−ラクトン形が該当し、ω−位及び
（ω−２）−位より低い位置におけるその存在からは２
個のヒドロキシ基を有するｌＲ３が形成される。
しかし、選択的還元剤を使用して、還元をオキソ段階で
止めることもできる。そのような還元剤は、場合により
塩の形で存在するカルボキシ基の還元には、例えばモノ
−若しくはジ低級アルキル硼水素化物、例えば硼水素化
１− （２，３−ジメチル−ブチル）であり、無水物形
の還元には、例えばパラジウムの存在での水素又は第三
級芳香族窒素塩基、例えばキノリンの存在でシアン化水
素酸であり、エステル形の還元には、例えば電子陰性基
で置換されたアルミニウムヒドリド又はアルカリ金属ア
ルミニウムヒドリド、例えばＮ−メチルピペラジノ−ア
ルミニウムヒドリド又はナトリウム−ビス−（２−メト
キシエトキシ）−アルミニウムヒドリド及びジブチルア
ルミニウムヒドリドである。
止めることもできる。そのような還元剤は、場合により
塩の形で存在するカルボキシ基の還元には、例えばモノ
−若しくはジ低級アルキル硼水素化物、例えば硼水素化
１− （２，３−ジメチル−ブチル）であり、無水物形
の還元には、例えばパラジウムの存在での水素又は第三
級芳香族窒素塩基、例えばキノリンの存在でシアン化水
素酸であり、エステル形の還元には、例えば電子陰性基
で置換されたアルミニウムヒドリド又はアルカリ金属ア
ルミニウムヒドリド、例えばＮ−メチルピペラジノ−ア
ルミニウムヒドリド又はナトリウム−ビス−（２−メト
キシエトキシ）−アルミニウムヒドリド及びジブチルア
ルミニウムヒドリドである。
場合により塩、無水物又はエステルの形で存在するカル
ボキシ基をオキソ基又はヒドロキシ基に還元する還元剤
としては、更に、α−位のＣ−原子に低級アルキル基を
陰イオンの形で運ぶアルキル移動剤、例えば式Ｒｏ Ｉ
Ｉ （ＸＸＶＩ）の脂肪族炭化水素と金属との化合物、
例えば式Ｒ８−Ｍ１、Ｒｏ Ｍ １１−１１ａ１又は（
ＲＯ）２Ｍ” Ｃ式中Ｍ’は元素の周期律表の１Ａ族の
金属原子を表し、Ｍ”は２Ａ及び２Ｂ族の金属原子を表
し、Ｍ’は好ましくはナトリウム又はリチウムを表し、
Ｍ”は好ましくはマグネシウム又はカドミウムを表す〕
の化合物が該当する。塩、無水物又はニスデルの形で存
在するカルボキシ基を第三級ヒドロキシ基に変える還元
剤を用いる還元は、審決で、例えば不活性溶剤、例えば
ジ低級アルギルエーテル又は低級アルキレンエーテル中
、例えばジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン中で
、必要に応じて冷却又は加熱下に、及び／又は不活性ガ
ス、例えば窒素ガス下に行う。この場合にも、場合によ
り塩、無水物又はエステルの形で存在するカルボキシ化
合物の還元を必要に応じて、緩和な還元剤、例えばカド
ミウム化合物又はハロゲンカドミウム化合物又はハロゲ
ン化カドミウムの存在でハロゲンマグネシウム化合物を
使用するか又は低温、例えば−２５°Ｃ以下で操作する
ことによって、オキソ体の段階で止めることができる。
ボキシ基をオキソ基又はヒドロキシ基に還元する還元剤
としては、更に、α−位のＣ−原子に低級アルキル基を
陰イオンの形で運ぶアルキル移動剤、例えば式Ｒｏ Ｉ
Ｉ （ＸＸＶＩ）の脂肪族炭化水素と金属との化合物、
例えば式Ｒ８−Ｍ１、Ｒｏ Ｍ １１−１１ａ１又は（
ＲＯ）２Ｍ” Ｃ式中Ｍ’は元素の周期律表の１Ａ族の
金属原子を表し、Ｍ”は２Ａ及び２Ｂ族の金属原子を表
し、Ｍ’は好ましくはナトリウム又はリチウムを表し、
Ｍ”は好ましくはマグネシウム又はカドミウムを表す〕
の化合物が該当する。塩、無水物又はニスデルの形で存
在するカルボキシ基を第三級ヒドロキシ基に変える還元
剤を用いる還元は、審決で、例えば不活性溶剤、例えば
ジ低級アルギルエーテル又は低級アルキレンエーテル中
、例えばジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン中で
、必要に応じて冷却又は加熱下に、及び／又は不活性ガ
ス、例えば窒素ガス下に行う。この場合にも、場合によ
り塩、無水物又はエステルの形で存在するカルボキシ化
合物の還元を必要に応じて、緩和な還元剤、例えばカド
ミウム化合物又はハロゲンカドミウム化合物又はハロゲ
ン化カドミウムの存在でハロゲンマグネシウム化合物を
使用するか又は低温、例えば−２５°Ｃ以下で操作する
ことによって、オキソ体の段階で止めることができる。
逆に、一般式（１）の化合物において、弐Ｃｎ＋＋Ｈｚ
ｎ＋２０Ｈの基Ｒ３を式 ’ ｎ ＋Ｉ Ｈ２ｎ＋１ ＝ Ｏの基Ｒ３に酸化し、
式Ｃｎ Ｈ２ｎ ＣＨ２ＯＨ又は−ＣｎＨｚｎ ＣＨ＝
０の基Ｒ３を式−Ｃｎ Ｈ２ｎ ＣＯＯＨのＲ３に酸化
することができる。
ｎ＋２０Ｈの基Ｒ３を式 ’ ｎ ＋Ｉ Ｈ２ｎ＋１ ＝ Ｏの基Ｒ３に酸化し、
式Ｃｎ Ｈ２ｎ ＣＨ２ＯＨ又は−ＣｎＨｚｎ ＣＨ＝
０の基Ｒ３を式−Ｃｎ Ｈ２ｎ ＣＯＯＨのＲ３に酸化
することができる。
式−Ｃｎ＋ｚＨ２ｎ＋２−ＯＨの基を酸化して式−Ｃ，
、ｌＨ組＋ｌ＝ｏの基にする反応は、第−級及び二級ア
ルコールをアルデヒド又はケ１−ンに酸化するため常用
の酸化剤、例えば非酸化性金属化合物、例えばピリジン
中の塩化クロミル、２，５−ジメチルピラゾール中の三
酸化クロム、ニトロソニラムチ１〜ラフルオロボレート
又は塩素の錯体又はメタンスルホン酸無水物及びジメチ
ルスルホキシドで処理することによって行われ、更に、
殊にアルミニウムアルコキシド、例えばアルミニウムプ
ロポキシドの存在で脂肪族又は脂環式ケトン、例えばオ
キソ低級アルカン、例えばアセトン、又はシクロアルカ
ノン、例えばシクロヘキサノンで処理することによって
行う。
、ｌＨ組＋ｌ＝ｏの基にする反応は、第−級及び二級ア
ルコールをアルデヒド又はケ１−ンに酸化するため常用
の酸化剤、例えば非酸化性金属化合物、例えばピリジン
中の塩化クロミル、２，５−ジメチルピラゾール中の三
酸化クロム、ニトロソニラムチ１〜ラフルオロボレート
又は塩素の錯体又はメタンスルホン酸無水物及びジメチ
ルスルホキシドで処理することによって行われ、更に、
殊にアルミニウムアルコキシド、例えばアルミニウムプ
ロポキシドの存在で脂肪族又は脂環式ケトン、例えばオ
キソ低級アルカン、例えばアセトン、又はシクロアルカ
ノン、例えばシクロヘキサノンで処理することによって
行う。
式−Ｃｎ Ｈ２ｎ−ＣＨ２０Ｈ又は−Ｃｎ Ｈ２ｎ Ｃ
Ｈ−〇の基を酸化して式−ＣｎＨｚｎ Ｃ０ＯＨの基に
する反応は、例えばアルコール及びアルデヒドの酸化に
常用の酸化剤、例えば酸化性重金属化合物、例えばマン
ガン（ＩＶ）化合物及びマンガン（■）化合物、クロム
（Ｖｌ）化合物、鉛（ｒＶ）化合物又はビスマス（Ｉｌ
ｌ）化合物、特に、過マンガン酸カリウム、三酸化クロ
ム又はクロム酸又はアルカリ金属クロム酸塩で処理する
ことによって行う。更に、ペルオキシ硫酸、例えばクロ
酸が適当であり、アルコール中で酸化を実施する際に始
めに生成する酸のエステル化によって対応するエステル
が得られる。
Ｈ−〇の基を酸化して式−ＣｎＨｚｎ Ｃ０ＯＨの基に
する反応は、例えばアルコール及びアルデヒドの酸化に
常用の酸化剤、例えば酸化性重金属化合物、例えばマン
ガン（ＩＶ）化合物及びマンガン（■）化合物、クロム
（Ｖｌ）化合物、鉛（ｒＶ）化合物又はビスマス（Ｉｌ
ｌ）化合物、特に、過マンガン酸カリウム、三酸化クロ
ム又はクロム酸又はアルカリ金属クロム酸塩で処理する
ことによって行う。更に、ペルオキシ硫酸、例えばクロ
酸が適当であり、アルコール中で酸化を実施する際に始
めに生成する酸のエステル化によって対応するエステル
が得られる。
更に、非芳香族性二重結合を有する対応する一般式（１
）の化合物中の二重結合を酸化アシルオキシ化すること
によって、Ｒ３がビシナルＣ−原子にエステル化された
ヒドロキシ基、例えば低級アルカノイルオキシ基を有す
る一般式（１）の化合物を製造することができる。酸化
アシルオキシ化は、例えば有機カルボン酸の重金属塩、
例えば四節酸鉛、又はハロゲンの存在で有機カルボン酸
の銀塩、例えば沃素若しくは臭素の存在で酢酸銀で処理
することによって行う。
）の化合物中の二重結合を酸化アシルオキシ化すること
によって、Ｒ３がビシナルＣ−原子にエステル化された
ヒドロキシ基、例えば低級アルカノイルオキシ基を有す
る一般式（１）の化合物を製造することができる。酸化
アシルオキシ化は、例えば有機カルボン酸の重金属塩、
例えば四節酸鉛、又はハロゲンの存在で有機カルボン酸
の銀塩、例えば沃素若しくは臭素の存在で酢酸銀で処理
することによって行う。
更に、Ｒ３が場合によりエステル化若しくはアミド化さ
れたカルボキシ基又はシアノ基及びこの基に対してα−
位に少なくとも１個の水素を有する一般式（１）の化合
物を、第三級アンモニウム塩基、例えばテトラブチルア
ンモニウムヒドロキシド又は金属塩基、例えばアルカリ
金属若しくはアルカリ土類金属の水素化物又はアミド、
例えば水素化ナトリウム又はアミド化ナトリウムと反応
させてα−位で脱プロトン化し、次いで低級アルカノー
ルの反応性エステル、例えば低級アルキルハロゲニド、
低級アルキルスルボネート、例えばｐ−トルエンスルホ
ネート、又はジ低級アルキル硫酸を用いてα−モノ−若
しくは場合によりα。
れたカルボキシ基又はシアノ基及びこの基に対してα−
位に少なくとも１個の水素を有する一般式（１）の化合
物を、第三級アンモニウム塩基、例えばテトラブチルア
ンモニウムヒドロキシド又は金属塩基、例えばアルカリ
金属若しくはアルカリ土類金属の水素化物又はアミド、
例えば水素化ナトリウム又はアミド化ナトリウムと反応
させてα−位で脱プロトン化し、次いで低級アルカノー
ルの反応性エステル、例えば低級アルキルハロゲニド、
低級アルキルスルボネート、例えばｐ−トルエンスルホ
ネート、又はジ低級アルキル硫酸を用いてα−モノ−若
しくは場合によりα。
α−ジ低級アルキル化することができる。
更に、基Ｒ＋及び／又はＲ２中に場合によりイ」加的Ｃ
−置換基を導入することができる。例えば鉄の存在で塩
素又は臭素と反応さ−ｌるか、又はＮ−クロロサクシン
イミドを用いて常法でハロゲン化することができる。ま
た、常法で、例えば三塩化アルミニウムの存在でアルキ
ルハロゲニド、アルカノール又はアルケンと反応させる
ことによってアルキル化することができる。更に、常法
で、例えば硝酸／硫酸を用いてニトロ化し、ニトロ基を
例えば塩化錫（ＩＩ）でアミノ基に還元し、これを亜硝
酸ナトリウム及びテトラフルオロ硼酸を用いて弗素に変
え、塩酸、亜硝酸ナトリウム及び塩化（臭化）銅（Ｉ）
を用いて塩素（臭素）で置換するか又は亜硝酸ナトリウ
ム及び沃化カリウムを用いて沃素で置換するか又は亜硝
酸ナトリウム及び低級アルキルメルカプクンを用いて低
級アルキルチオ基に変えるか、又は亜硝酸ナトリウムを
用いてヒドロキシ基に変えることができる。
−置換基を導入することができる。例えば鉄の存在で塩
素又は臭素と反応さ−ｌるか、又はＮ−クロロサクシン
イミドを用いて常法でハロゲン化することができる。ま
た、常法で、例えば三塩化アルミニウムの存在でアルキ
ルハロゲニド、アルカノール又はアルケンと反応させる
ことによってアルキル化することができる。更に、常法
で、例えば硝酸／硫酸を用いてニトロ化し、ニトロ基を
例えば塩化錫（ＩＩ）でアミノ基に還元し、これを亜硝
酸ナトリウム及びテトラフルオロ硼酸を用いて弗素に変
え、塩酸、亜硝酸ナトリウム及び塩化（臭化）銅（Ｉ）
を用いて塩素（臭素）で置換するか又は亜硝酸ナトリウ
ム及び沃化カリウムを用いて沃素で置換するか又は亜硝
酸ナトリウム及び低級アルキルメルカプクンを用いて低
級アルキルチオ基に変えるか、又は亜硝酸ナトリウムを
用いてヒドロキシ基に変えることができる。
また、例えば、発生期の水素（例えば卑金属をプロトン
供与体で処理することによって製造される、例えば亜鉛
を塩酸又は酢酸で処理するか、又はアマルガム化したア
ルミニウム又はナトリウムアマルガムを水で処理するか
又はナトリウムをアルコール、例えばメタノールで処理
することによって製造される）を作用させることによっ
て、オキソ基を有する基Ｒ３中のオキソ基をヒドロキシ
基に還元するか、又は還元により水素で置換することが
できる。オキソ基を水素で還元により置換する反応は、
高沸点アルコール、例えばエチレングリコール、ジエチ
レングリコール又はジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル中で金属塩基、例えばナトリウム若しくはカリウ
ムの水酸化物又はアルカリ金属アルコキシド、例えばナ
トリウムメトキシドの存在で、好ましくは温度を高めて
、例えば約１５０〜２５０°Ｃでヒドラジンと反応させ
ることによって行うこともできる。更に、オキソ基を常
法で、例えば軽金属水素化物、例えばボラン−テトラヒ
ドロフラン又はジボラン、又はジ軽金属水素化物、例え
ば硼水素化ナトリウム、シアノ硼水素化ナトリウム又は
リチウムアルミニウムヒドリドと反応させるか、又はア
ルミニウムアルコキシドの存在で第二級アルコール、例
えばイソプロパツール若しくはシクロヘキサノールと反
応させることによってヒドロキシ基に還元することもで
きる。オキソ基をヒドロキシ基に還元する反応は、低級
アルキル金属化合物、例えば低級アルキルリチウム又は
低級アルキルマグネシウムハロゲニドと反応させること
によってカルボニルの炭素原子のところに炭化水素基を
同時に導入しながら行うこともできる。同様の方法で、
アルデヒドのオキソ基にケトン又はアルデヒドをアルド
ール付加させることによってヒドロキシ基に還元しなが
ら、β−位にオキソ基を有する基を導入することができ
る。更に、オキソ基をオルトカルボン酸エステル、例え
ばオルトギ酸低級アルキルエステルで処理するか、又は
脱水条件及び酸触媒下に低級アルカノール、低級アルカ
ンジオール、低級アルキルメルカプタン又は低級アルキ
ルジメルカプタンで処理することによってジ低級アルコ
キシ基、低級アルキレンジオキシ基、ジ低級アルキルチ
オ基又は低級アルキレンジチオ基に変えることができる
。
供与体で処理することによって製造される、例えば亜鉛
を塩酸又は酢酸で処理するか、又はアマルガム化したア
ルミニウム又はナトリウムアマルガムを水で処理するか
又はナトリウムをアルコール、例えばメタノールで処理
することによって製造される）を作用させることによっ
て、オキソ基を有する基Ｒ３中のオキソ基をヒドロキシ
基に還元するか、又は還元により水素で置換することが
できる。オキソ基を水素で還元により置換する反応は、
高沸点アルコール、例えばエチレングリコール、ジエチ
レングリコール又はジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル中で金属塩基、例えばナトリウム若しくはカリウ
ムの水酸化物又はアルカリ金属アルコキシド、例えばナ
トリウムメトキシドの存在で、好ましくは温度を高めて
、例えば約１５０〜２５０°Ｃでヒドラジンと反応させ
ることによって行うこともできる。更に、オキソ基を常
法で、例えば軽金属水素化物、例えばボラン−テトラヒ
ドロフラン又はジボラン、又はジ軽金属水素化物、例え
ば硼水素化ナトリウム、シアノ硼水素化ナトリウム又は
リチウムアルミニウムヒドリドと反応させるか、又はア
ルミニウムアルコキシドの存在で第二級アルコール、例
えばイソプロパツール若しくはシクロヘキサノールと反
応させることによってヒドロキシ基に還元することもで
きる。オキソ基をヒドロキシ基に還元する反応は、低級
アルキル金属化合物、例えば低級アルキルリチウム又は
低級アルキルマグネシウムハロゲニドと反応させること
によってカルボニルの炭素原子のところに炭化水素基を
同時に導入しながら行うこともできる。同様の方法で、
アルデヒドのオキソ基にケトン又はアルデヒドをアルド
ール付加させることによってヒドロキシ基に還元しなが
ら、β−位にオキソ基を有する基を導入することができ
る。更に、オキソ基をオルトカルボン酸エステル、例え
ばオルトギ酸低級アルキルエステルで処理するか、又は
脱水条件及び酸触媒下に低級アルカノール、低級アルカ
ンジオール、低級アルキルメルカプタン又は低級アルキ
ルジメルカプタンで処理することによってジ低級アルコ
キシ基、低級アルキレンジオキシ基、ジ低級アルキルチ
オ基又は低級アルキレンジチオ基に変えることができる
。
更に、ヒドロキシ基を有する基Ｒ３において、ヒドロキ
シ基を、例えば水素の作用によってオキソ基を還元置換
するため上記したようにして、還元により水素で置換す
ることができる。更に、ヒドロキシ基をハロゲン化剤、
例えば塩化チオニル若しくは三臭化燐、又はスルホン酸
クロリド、例えばアルカンスルホン酸クロリド又は場合
により置換されたヘンゼンスルホン酸クロリド、例えば
ｐ−トルエンスルホン酸クロリドと反応させることによ
ってハロゲン又はスルホニルオキシ基に変え、次いで、
これをシアン化水素酸の塩、例えばシアン化アンモニウ
ム又はアルカリ金属シアン化物と反応させることにより
シアノ基で置換するか又は非置換若しくは置換基として
シアン基、場合によりエステル化若しくはアミド化され
たカルボキシ基、１個若しくは２個の場合によりエステ
ル化若しくはエーテル化されたヒドロキシ基、１（固若
しくは２（ｆｌｉｔのエーテル化メルカプト基、オキシ
ド化されたエーテル化メルカプト基又はオキソ基を有す
る脂肪族アルコール又はメルカプタン又はその金属塩と
反応させることによって、場合により対応して置換され
た、オキサ若しくはチアで遮断された脂１ＩＪｊ族炭化
水素基の不足部分で置換することもできる。しかし、ア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属で処理することによっ
てハロゲン原子を金属性基、例えばリチウム又はハロケ
ンマグネシウム基に変え、次いで、これを反応性炭酸誘
導体、例えば二酸化炭素、ハロゲンギ酸エステル、例え
ばクロロギ酸エステル又は場合によりＮ−置換カルバモ
イルクロリドと反応させることによって場合によりエス
テル化又はアミド化カルボキシ基で置換することができ
る。更に、ヒドロキシアルキル基Ｒ３を酸で処理するこ
とにより水を脱離しながらアルケニル基に変えることが
できる。
シ基を、例えば水素の作用によってオキソ基を還元置換
するため上記したようにして、還元により水素で置換す
ることができる。更に、ヒドロキシ基をハロゲン化剤、
例えば塩化チオニル若しくは三臭化燐、又はスルホン酸
クロリド、例えばアルカンスルホン酸クロリド又は場合
により置換されたヘンゼンスルホン酸クロリド、例えば
ｐ−トルエンスルホン酸クロリドと反応させることによ
ってハロゲン又はスルホニルオキシ基に変え、次いで、
これをシアン化水素酸の塩、例えばシアン化アンモニウ
ム又はアルカリ金属シアン化物と反応させることにより
シアノ基で置換するか又は非置換若しくは置換基として
シアン基、場合によりエステル化若しくはアミド化され
たカルボキシ基、１個若しくは２個の場合によりエステ
ル化若しくはエーテル化されたヒドロキシ基、１（固若
しくは２（ｆｌｉｔのエーテル化メルカプト基、オキシ
ド化されたエーテル化メルカプト基又はオキソ基を有す
る脂肪族アルコール又はメルカプタン又はその金属塩と
反応させることによって、場合により対応して置換され
た、オキサ若しくはチアで遮断された脂１ＩＪｊ族炭化
水素基の不足部分で置換することもできる。しかし、ア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属で処理することによっ
てハロゲン原子を金属性基、例えばリチウム又はハロケ
ンマグネシウム基に変え、次いで、これを反応性炭酸誘
導体、例えば二酸化炭素、ハロゲンギ酸エステル、例え
ばクロロギ酸エステル又は場合によりＮ−置換カルバモ
イルクロリドと反応させることによって場合によりエス
テル化又はアミド化カルボキシ基で置換することができ
る。更に、ヒドロキシアルキル基Ｒ３を酸で処理するこ
とにより水を脱離しながらアルケニル基に変えることが
できる。
更に、基Ｒ３において、ゲミナル位に結合したジ低級ア
ルコキシ基、ジ低級アルキルチオ基、低級アルキレンジ
オキシ基及び低級アルキレンジチオ基をオキソ基に、好
ましくば酸触媒により加水分解するか、又はビシナル位
に結合した低級アルキリデンジオキシ基を有する低級ア
ルキル基をジヒドロキシ低級アルキル基に加水分解する
ことができる。
ルコキシ基、ジ低級アルキルチオ基、低級アルキレンジ
オキシ基及び低級アルキレンジチオ基をオキソ基に、好
ましくば酸触媒により加水分解するか、又はビシナル位
に結合した低級アルキリデンジオキシ基を有する低級ア
ルキル基をジヒドロキシ低級アルキル基に加水分解する
ことができる。
また、エステル化ヒドロキシ基、例えば低級アルカノイ
ルオキシ基又は場合により置換されたヘンヅイルオキシ
基を有する基Ｒ３を、例えば一般式（Ｘ■）の化合物の
加水分解のため上記したようにして、対応するヒドロキ
シ基を有する基に加水分解することができる。
ルオキシ基又は場合により置換されたヘンヅイルオキシ
基を有する基Ｒ３を、例えば一般式（Ｘ■）の化合物の
加水分解のため上記したようにして、対応するヒドロキ
シ基を有する基に加水分解することができる。
本発明方法により一般式（１）の化合物を含む異性体混
合物が得られる場合、これを、本発明により得られる立
体異性体混合物と同様に常法で成分に分離することがで
きる。
合物が得られる場合、これを、本発明により得られる立
体異性体混合物と同様に常法で成分に分離することがで
きる。
この種の異性体混合物、例えば立体異性体又はジアステ
レオマーの混合物を、成分の物理的性質の相違に基づい
て當用の物理的分離法、例えば結晶法、クロマトグラフ
ィー法、暴虐法又は相分記法によって成分に分離するこ
とができる。
レオマーの混合物を、成分の物理的性質の相違に基づい
て當用の物理的分離法、例えば結晶法、クロマトグラフ
ィー法、暴虐法又は相分記法によって成分に分離するこ
とができる。
エナンチオマー混合物、例えばラセミ化合物を光学活性
溶媒からの結晶、光学活性固体でのクロマトグラフィー
、微生物の作用又はジアステレオマー混合物における光
学活性補助化合物との反応、例えばジアステレオマー酸
付加塩の混合物における光学活性酸との反応、及びジア
ステレオマー酸イ」加塩の混合物の、エナンチオマーを
常法で遊離させうるジアステレオマーへの分離によって
エナンチオマーに分割することができる。
溶媒からの結晶、光学活性固体でのクロマトグラフィー
、微生物の作用又はジアステレオマー混合物における光
学活性補助化合物との反応、例えばジアステレオマー酸
付加塩の混合物における光学活性酸との反応、及びジア
ステレオマー酸イ」加塩の混合物の、エナンチオマーを
常法で遊離させうるジアステレオマーへの分離によって
エナンチオマーに分割することができる。
更、に、ｉＭられる遊離化合物を自体公知の方法で、例
えば適当な溶剤又は溶剤混合物中の遊離化合物の溶液を
前記の酸又はその溶液又はアニオン交換体と反応させる
ことによって酸イ」加塩に変えることができる。
えば適当な溶剤又は溶剤混合物中の遊離化合物の溶液を
前記の酸又はその溶液又はアニオン交換体と反応させる
ことによって酸イ」加塩に変えることができる。
得られる酸付加塩を自体公知の方法で、例えば塩基性最
終物質を酸で処理するか又は酸性最終物質を塩基、例え
ばアルカリ金属の水酸化物、金属の炭酸塩若しくは炭酸
水素塩、又はアンモニア、又は適当なアニオン交換体で
処理することにより遊離化合物に変えることができる。
終物質を酸で処理するか又は酸性最終物質を塩基、例え
ばアルカリ金属の水酸化物、金属の炭酸塩若しくは炭酸
水素塩、又はアンモニア、又は適当なアニオン交換体で
処理することにより遊離化合物に変えることができる。
ｆｌられる塩を自体公知の方法で他の塩に変えることが
でき、例えば、生成する塩が不溶性であり、その反応混
合物から析出する適当な溶剤中で塩を適当な金属塩、例
えばナトリウム塩、バリウム塩又は銀塩で処理すること
によって他の酸付加塩に変えることができる。
でき、例えば、生成する塩が不溶性であり、その反応混
合物から析出する適当な溶剤中で塩を適当な金属塩、例
えばナトリウム塩、バリウム塩又は銀塩で処理すること
によって他の酸付加塩に変えることができる。
塩を含めて本発明の化合物は水和物の形で得られること
もあり、また、結晶に使用した溶剤を含むこともある。
もあり、また、結晶に使用した溶剤を含むこともある。
遊離形の新規化合物とその塩の形との間には密接な関係
があるため、以上及び以下において、遊離化合物又はそ
の塩とは、合目的的には、場合により対応する塩又は遊
離化合物をも意味するものとする。
があるため、以上及び以下において、遊離化合物又はそ
の塩とは、合目的的には、場合により対応する塩又は遊
離化合物をも意味するものとする。
本発明は更に、任意の段階で中間生成物として得られる
化合物から出発し、不足の工程を実施するか、又は反応
条件下に出発原料を生成させるか又はその誘導体、場合
により塩の形で使用する、前記方法の実施態様に関する
。
化合物から出発し、不足の工程を実施するか、又は反応
条件下に出発原料を生成させるか又はその誘導体、場合
により塩の形で使用する、前記方法の実施態様に関する
。
本発明方法において、始めに特に有用であるとして記載
した化合物を生じる出発原料を使用するのが好ましい。
した化合物を生じる出発原料を使用するのが好ましい。
新規出発原料及びその製造法は、同様に本発明の対象で
ある。
ある。
一般式（１）の化合物又はその塩を含む本発明の医薬製
剤は、薬学的有効成分を単独で又は医薬に許容しうる賦
形剤と共に含む、温血動物に腸管内、例えば経口若しく
は直腸内投与、及び腸管外投与及び局所に適用する製剤
である。有効成分の投与量は、温血動物の種、年齢及び
個々の状態、並びに投与方法に依存する。
剤は、薬学的有効成分を単独で又は医薬に許容しうる賦
形剤と共に含む、温血動物に腸管内、例えば経口若しく
は直腸内投与、及び腸管外投与及び局所に適用する製剤
である。有効成分の投与量は、温血動物の種、年齢及び
個々の状態、並びに投与方法に依存する。
通常、体重約７５ｋｇの溢血動物に対して、経口投与で
は、約５０〜５００ ｍｇの一日当たりの投与量を同量
の数回分に分けるのが好ましい。
は、約５０〜５００ ｍｇの一日当たりの投与量を同量
の数回分に分けるのが好ましい。
新規医薬製剤は有効成分を例えば約１０％〜約８０％、
好ましくは約２０％〜約６０％含む。本発明による腸管
内又は腸管外投与用の医薬製剤は、例えば単位投与形、
例えば糖衣錠、錠剤、カプセル剤、坐剤又はアンプル剤
である。これらは、自体公知の方法、例えば常用の混合
、造粒、糖衣かけ、溶解又は凍結乾燥操作によって製造
することができる。経口投与用の医薬製剤は、有効成分
を固体賦形剤と混合し、ｆ４られた混合物を場合により
造粒し、混合物又は顆粒を必要に応じて、適当な助剤の
添加後に錠剤又は糖衣錠コアに加工することによって得
ることができる。
好ましくは約２０％〜約６０％含む。本発明による腸管
内又は腸管外投与用の医薬製剤は、例えば単位投与形、
例えば糖衣錠、錠剤、カプセル剤、坐剤又はアンプル剤
である。これらは、自体公知の方法、例えば常用の混合
、造粒、糖衣かけ、溶解又は凍結乾燥操作によって製造
することができる。経口投与用の医薬製剤は、有効成分
を固体賦形剤と混合し、ｆ４られた混合物を場合により
造粒し、混合物又は顆粒を必要に応じて、適当な助剤の
添加後に錠剤又は糖衣錠コアに加工することによって得
ることができる。
適当な賦形剤は、特に、充填剤、例えば糖類、例えば乳
糖、蔗糖、マンニット若しくはソルビット、セルロース
製剤及び／又は燐酸カルシウム、例えば燐酸三カルシウ
ム若しくは燐酸水素カルシウム、更に結合剤、例えばト
ウモロコシ澱粉、小麦＃粉、米戯粉若しくはハレイショ
澱粉を使用した澱粉糊、セラチン、トラガント、メチル
セルロース及び／又はポリビニルピロリドン、及び／又
は必要に応じて崩壊剤、例えば前記の澱粉、更にカルボ
キシメチル澱粉、架橋ポリビニルピロリドン、寒天、ア
ルギン酸若しくはその塩、例えばアルギン酸すトリウム
である。助剤は、特に流動性調節剤及び湯沢剤、例えば
珪酸、タルク、ステアリン酸若しくはその塩、例えばス
テアリン酸マグネシウム又はステアリン酸カルシウム、
及び／又はポリエチレングリコールである。糖衣錠コア
に適当な、場合により耐胃液性皮）模を施すことができ
、その際殊に、場合によりアラビアゴム、タルク、ポリ
ビニルピロリドン、ポリエチレングリコール及び／又は
二酸化チタンを含む濃厚糖溶液、又は適当な有Ｉ！溶剤
又は溶剤混合物に熔かしたラッカー溶液、又は耐胃液性
皮膜を製造するために、適当なセルロース製剤、例えば
アセチルセルロースフタレート若しくはヒドロキシプロ
ピルメチルセルロースフタレートの溶液を使用する。
糖、蔗糖、マンニット若しくはソルビット、セルロース
製剤及び／又は燐酸カルシウム、例えば燐酸三カルシウ
ム若しくは燐酸水素カルシウム、更に結合剤、例えばト
ウモロコシ澱粉、小麦＃粉、米戯粉若しくはハレイショ
澱粉を使用した澱粉糊、セラチン、トラガント、メチル
セルロース及び／又はポリビニルピロリドン、及び／又
は必要に応じて崩壊剤、例えば前記の澱粉、更にカルボ
キシメチル澱粉、架橋ポリビニルピロリドン、寒天、ア
ルギン酸若しくはその塩、例えばアルギン酸すトリウム
である。助剤は、特に流動性調節剤及び湯沢剤、例えば
珪酸、タルク、ステアリン酸若しくはその塩、例えばス
テアリン酸マグネシウム又はステアリン酸カルシウム、
及び／又はポリエチレングリコールである。糖衣錠コア
に適当な、場合により耐胃液性皮）模を施すことができ
、その際殊に、場合によりアラビアゴム、タルク、ポリ
ビニルピロリドン、ポリエチレングリコール及び／又は
二酸化チタンを含む濃厚糖溶液、又は適当な有Ｉ！溶剤
又は溶剤混合物に熔かしたラッカー溶液、又は耐胃液性
皮膜を製造するために、適当なセルロース製剤、例えば
アセチルセルロースフタレート若しくはヒドロキシプロ
ピルメチルセルロースフタレートの溶液を使用する。
例えば有効成分の異なる投与量を示すため、錠剤または
糖衣錠の皮膜に色素又は顔料を添加することができる。
糖衣錠の皮膜に色素又は顔料を添加することができる。
他の経口投与に使用しうる医薬製剤は硬質ゼラチンカプ
セル及びゼラチン及び軟化剤、例えばグリセリン若しく
はソルビットから成る軟質閉鎖カプセルである。硬質カ
プセルは有効成分を顆粒の形で、例えば充填剤、例えば
乳糖、結合剤、例えば載粉、及び／又は滑沢剤、例えば
タルク若しくはステアリン酸マグネシウム及び場合によ
り安定剤との混合物として含むことができる。軟質カプ
セルにおいては有効成分を適当な液体、例えば脂肪油、
パラフィン油又は液体ポリエチレングリコールに溶解又
は懸濁しておくのが好ましく、その際同様に安定剤を添
加してもよい。
セル及びゼラチン及び軟化剤、例えばグリセリン若しく
はソルビットから成る軟質閉鎖カプセルである。硬質カ
プセルは有効成分を顆粒の形で、例えば充填剤、例えば
乳糖、結合剤、例えば載粉、及び／又は滑沢剤、例えば
タルク若しくはステアリン酸マグネシウム及び場合によ
り安定剤との混合物として含むことができる。軟質カプ
セルにおいては有効成分を適当な液体、例えば脂肪油、
パラフィン油又は液体ポリエチレングリコールに溶解又
は懸濁しておくのが好ましく、その際同様に安定剤を添
加してもよい。
直腸に適用しうる医薬製剤としては、例えば有効成分と
平削基剤との混合物からなる平削が該当する。平削の基
剤としては、例えば天然若しくは合成トリグリセリド、
パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコール又は高級
アルコールが適当である。更に、有効成分と基剤との混
合物を含むゼラチン−直腸カプセルを使用することがで
きる。
平削基剤との混合物からなる平削が該当する。平削の基
剤としては、例えば天然若しくは合成トリグリセリド、
パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコール又は高級
アルコールが適当である。更に、有効成分と基剤との混
合物を含むゼラチン−直腸カプセルを使用することがで
きる。
基剤としては、例えば液状トリグリセリド、ポリエチレ
ングリコール又はパラフィン炭化水素が該当する。
ングリコール又はパラフィン炭化水素が該当する。
腸管外投与には、特に水溶性有効成分、例えば水溶性塩
の水溶液、更に有効成分の懸濁液、例えば相応する油性
注射用懸濁液（適当な親油性溶剤又はビヒクル、例えば
脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂肪酸エステル、例え
ばオレイン酸エチル若しくはトリグリセリドを使用する
）又は水性注射用懸濁液（粘度上昇性物質、例えばすト
リウムカルボキシメチルセルロース、ツルピッ１〜及び
／又はデキストラン及び場合により安定剤を含む）が適
当である。
の水溶液、更に有効成分の懸濁液、例えば相応する油性
注射用懸濁液（適当な親油性溶剤又はビヒクル、例えば
脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂肪酸エステル、例え
ばオレイン酸エチル若しくはトリグリセリドを使用する
）又は水性注射用懸濁液（粘度上昇性物質、例えばすト
リウムカルボキシメチルセルロース、ツルピッ１〜及び
／又はデキストラン及び場合により安定剤を含む）が適
当である。
局所に適用しうる製剤としては、特に、クリーム、軟膏
、ペースト剤、発泡剤、チンキ剤及び液剤が該当し、こ
れらは有効成分を約０．５％〜約２０％含む。
、ペースト剤、発泡剤、チンキ剤及び液剤が該当し、こ
れらは有効成分を約０．５％〜約２０％含む。
クリームは水を５０％より多量に含む水中油型エマルジ
ョンである。油性基剤としては、特に脂肪アルコール、
例えばラウリルアルコール、セチルアルコール若しくは
ステアリルアルコール、脂肪酸、例えばパルミチン酸若
しくはステアリン酸、液体〜固体ロウ、例えばミリスチ
ン酸イソプロピル、羊毛ロウ若しくはミツロウ、及び／
又は炭化水素、例えばワセリン（Ｐｅ ｔｒｏ ｌａ
ｔｕｍ ）若しくばパラフィン油を使用する。乳化剤と
しては、著しい親水性を有する表面活性物質、例えば相
応する非イオン性乳化剤、例えばポリアルコール又はそ
のエチレンオキシド付加物の脂肪酸エステル、例えばポ
リグリセリン脂肪酸エステル又はポリオキシエチレン−
脂肪アルコールエーテル若しくは脂肪酸エステル又は相
応するイオン性乳化剤、例えば脂肪アルコールスルフニ
ー１−のアルカリ金属塩、例えばラウリル硫酸すトリウ
ム、セチル硫酸ナトリウム又はステアリル硫酸ナトリウ
ムが挙げられ、これらのアルカリ金属塩は通當脂肪アル
コール、例えばセチルアルコール又はステアリルアルコ
ールの存在で使用する。水相への添加物は、殊にクリー
ムの乾燥を減少する薬剤、例えばポリアルコール、例え
ばグリセリン、ソルビタン、プロピレングリコール及び
／又はポリエチレングリコール、更に保存剤、香料等で
ある。
ョンである。油性基剤としては、特に脂肪アルコール、
例えばラウリルアルコール、セチルアルコール若しくは
ステアリルアルコール、脂肪酸、例えばパルミチン酸若
しくはステアリン酸、液体〜固体ロウ、例えばミリスチ
ン酸イソプロピル、羊毛ロウ若しくはミツロウ、及び／
又は炭化水素、例えばワセリン（Ｐｅ ｔｒｏ ｌａ
ｔｕｍ ）若しくばパラフィン油を使用する。乳化剤と
しては、著しい親水性を有する表面活性物質、例えば相
応する非イオン性乳化剤、例えばポリアルコール又はそ
のエチレンオキシド付加物の脂肪酸エステル、例えばポ
リグリセリン脂肪酸エステル又はポリオキシエチレン−
脂肪アルコールエーテル若しくは脂肪酸エステル又は相
応するイオン性乳化剤、例えば脂肪アルコールスルフニ
ー１−のアルカリ金属塩、例えばラウリル硫酸すトリウ
ム、セチル硫酸ナトリウム又はステアリル硫酸ナトリウ
ムが挙げられ、これらのアルカリ金属塩は通當脂肪アル
コール、例えばセチルアルコール又はステアリルアルコ
ールの存在で使用する。水相への添加物は、殊にクリー
ムの乾燥を減少する薬剤、例えばポリアルコール、例え
ばグリセリン、ソルビタン、プロピレングリコール及び
／又はポリエチレングリコール、更に保存剤、香料等で
ある。
軟膏は、７０％以下、好ましくは約２０％〜約５０％の
水又は水相を含む油中水型エマルジョンである。脂肪相
としては、特に氷結合力の改善に好適なヒドロキシ化合
物、例えば脂１１ｊｊアルコール又はそのエステル、例
えばセチルアルコール又は羊毛ロウアルコール、或いは
羊毛ロウを含む炭化水素、例えばワセリン、パラフィン
油及び／又は固形パラフィンか該当する。乳化剤は相応
する親油性物質、例えばソルビクンー脂肪酸エステル（
スパン）、ソルヒタンオレエート及び／又はソルビタン
イソステアレートである。水相への添加物は、例えば水
分保有剤、例えばポリアルコール、例えばグリセリン、
プロピレングリコール、ソルビット及び／又はポリエチ
レングリコール、例えば保存剤、香料等である。
水又は水相を含む油中水型エマルジョンである。脂肪相
としては、特に氷結合力の改善に好適なヒドロキシ化合
物、例えば脂１１ｊｊアルコール又はそのエステル、例
えばセチルアルコール又は羊毛ロウアルコール、或いは
羊毛ロウを含む炭化水素、例えばワセリン、パラフィン
油及び／又は固形パラフィンか該当する。乳化剤は相応
する親油性物質、例えばソルビクンー脂肪酸エステル（
スパン）、ソルヒタンオレエート及び／又はソルビタン
イソステアレートである。水相への添加物は、例えば水
分保有剤、例えばポリアルコール、例えばグリセリン、
プロピレングリコール、ソルビット及び／又はポリエチ
レングリコール、例えば保存剤、香料等である。
脂肪軟膏は無水であり、基剤として特に炭化水素、例え
ばパラフィン、ワセリン及び／又は液体パラフィン、更
に天然又は部分合成脂肪、例えばヤシ油脂肪酸トリグリ
セリド′、又は好ましくは硬化油、例えば水素添加した
落花生油又はヒマシ油、更にグリセリンの脂肪酸部分エ
ステル、例えばグリセリンモノ−及びジステアレート、
並びに例えば軟膏に関連して挙げた水分吸収力を増強す
る脂肪アルコール、乳化剤及び／又は添加剤を含む。
ばパラフィン、ワセリン及び／又は液体パラフィン、更
に天然又は部分合成脂肪、例えばヤシ油脂肪酸トリグリ
セリド′、又は好ましくは硬化油、例えば水素添加した
落花生油又はヒマシ油、更にグリセリンの脂肪酸部分エ
ステル、例えばグリセリンモノ−及びジステアレート、
並びに例えば軟膏に関連して挙げた水分吸収力を増強す
る脂肪アルコール、乳化剤及び／又は添加剤を含む。
ペーストは、分泌物を吸収する粉末成分、例えば存在す
る水分又は分泌物を結合する金属酸化物、例えば酸化チ
タン又は酸化亜鉛、更にタルク及び／又は珪酸アルミニ
うムを含むクリーム及び軟膏である。
る水分又は分泌物を結合する金属酸化物、例えば酸化チ
タン又は酸化亜鉛、更にタルク及び／又は珪酸アルミニ
うムを含むクリーム及び軟膏である。
発泡製剤は、耐圧容器から投与され、エーロゾルの形で
存在する液体水中油型エマルジョンであり、起泡剤とし
てハロゲン化炭化水素、例えばクロロフルオロ低級アル
カン、例えばジクロロジフルオロメタン及びシクロロチ
Ｉ・ラフルオロエタンが使用される。油相としては、特
に炭化水素、例えばパラフィン油、脂肪アルコール、例
えばセチルアルコール、脂肪酸エステル、例えば、ミリ
スチン酸イソプロピル、及び／又は他のロウを使用する
。乳化剤としては、特に著しい親水性を有するもの、例
えばポリオキシエチレン−ソルビタン−脂肪酸エステル
（ツイーン）、及び著しい親油性を有するもの、例えば
ソルビタン脂肪酸エステル（スパン）の混合物を使用す
る。當用の添加物、例えば保存剤等も使用する。
存在する液体水中油型エマルジョンであり、起泡剤とし
てハロゲン化炭化水素、例えばクロロフルオロ低級アル
カン、例えばジクロロジフルオロメタン及びシクロロチ
Ｉ・ラフルオロエタンが使用される。油相としては、特
に炭化水素、例えばパラフィン油、脂肪アルコール、例
えばセチルアルコール、脂肪酸エステル、例えば、ミリ
スチン酸イソプロピル、及び／又は他のロウを使用する
。乳化剤としては、特に著しい親水性を有するもの、例
えばポリオキシエチレン−ソルビタン−脂肪酸エステル
（ツイーン）、及び著しい親油性を有するもの、例えば
ソルビタン脂肪酸エステル（スパン）の混合物を使用す
る。當用の添加物、例えば保存剤等も使用する。
チンキ剤及び液剤は、多くの場合水−エタノール性基剤
を有し、これに特に、蒸発を減少するための水分保有剤
としてポリアルコール、例えばグリセリン、グリコール
及び／又はポリエチレングリコール、及び皮膚からエタ
ノールと共に抽出される脂肪物質の代用物としての脂肪
返還物質、例えば低級ポリエチレングリコールとの脂肪
酸エステル、即ぢ、水性混合物に可溶性の親油性物質、
及び必要に応じて他の助剤及び添加剤が添加されていて
もよい。
を有し、これに特に、蒸発を減少するための水分保有剤
としてポリアルコール、例えばグリセリン、グリコール
及び／又はポリエチレングリコール、及び皮膚からエタ
ノールと共に抽出される脂肪物質の代用物としての脂肪
返還物質、例えば低級ポリエチレングリコールとの脂肪
酸エステル、即ぢ、水性混合物に可溶性の親油性物質、
及び必要に応じて他の助剤及び添加剤が添加されていて
もよい。
局所に使用しうる医薬製剤の製造は、自体公知の方法、
例えば有効成分を基剤又は必要に応じてその一部に溶解
又は１ｕ濁することによって行われる。有効成分を溶液
として投与する場合、一般に有効成分をツ（化部に２つ
の相の一方に溶解する。
例えば有効成分を基剤又は必要に応じてその一部に溶解
又は１ｕ濁することによって行われる。有効成分を溶液
として投与する場合、一般に有効成分をツ（化部に２つ
の相の一方に溶解する。
懸濁液として投与する場合、乳化後に基剤の一部と混合
し、次に残りの配合成分に添加する。
し、次に残りの配合成分に添加する。
本発明は、同様に、一般式（１）の化合物及び塩形成性
を有する該化合物の塩を、好ましくは炎症の治療、特に
リウマチ疾患の炎症性慢性疾患、特に慢性関節炎の治療
に使用する用途に関する。
を有する該化合物の塩を、好ましくは炎症の治療、特に
リウマチ疾患の炎症性慢性疾患、特に慢性関節炎の治療
に使用する用途に関する。
下記の実施例は、前記の本発明を詳述するものであるが
、本発明の範囲を決して限定するものではない。温度は
摂氏で示し、圧力はｍｂａｒで示す。
、本発明の範囲を決して限定するものではない。温度は
摂氏で示し、圧力はｍｂａｒで示す。
例１
Ｎ’ −（ｐ−メ）キ’／ ７ エール） −ｔｅｒｔ
−ブチルアミトラシン塩酸塩５．５ ｇ （０，０２１
４モル）を水２０ｍ１に溶解させ、２Ｎ苛性ソ一ダ１２
ｍ１を加える。遊離した塩基をエーテルで抽出する。抽
出液を硫酸ナトリウムで乾燥し、）戸遇し、蒸発させる
。得られた油をキシレン（異性体混合物）２０ｍ’ｌ及
び４−メトキシヘンズアルデヒド２．７５ｇと共に還流
下に２０時間加熱沸騰させる。次いで、減圧下に蒸発濃
縮し、残渣を石油エーテルから結晶させる。１．５−ビ
ス−（ｐ−メトキシフェニル） −３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−ＩＨ−１，２，４−１−リアゾールを融点１０１〜
１０２℃の無色の結晶の形で得られる。 出発原料とし
て使用したＮ” −（ｐ−メトキシフェニル） −ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミトラシン塩酸塩は下記の方法で製造す
ることができる。
−ブチルアミトラシン塩酸塩５．５ ｇ （０，０２１
４モル）を水２０ｍ１に溶解させ、２Ｎ苛性ソ一ダ１２
ｍ１を加える。遊離した塩基をエーテルで抽出する。抽
出液を硫酸ナトリウムで乾燥し、）戸遇し、蒸発させる
。得られた油をキシレン（異性体混合物）２０ｍ’ｌ及
び４−メトキシヘンズアルデヒド２．７５ｇと共に還流
下に２０時間加熱沸騰させる。次いで、減圧下に蒸発濃
縮し、残渣を石油エーテルから結晶させる。１．５−ビ
ス−（ｐ−メトキシフェニル） −３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−ＩＨ−１，２，４−１−リアゾールを融点１０１〜
１０２℃の無色の結晶の形で得られる。 出発原料とし
て使用したＮ” −（ｐ−メトキシフェニル） −ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミトラシン塩酸塩は下記の方法で製造す
ることができる。
ビバロイミド酸メチルエステル塩酸塩７．６ｇをメタノ
ール４０ｍ１に溶解させ、メタノール１００ｍ１中のｐ
−メトキシフェニルヒドラジン７．０ｇの溶液を加える
。２０°Ｃで２４時間放置した後、減圧で蒸発濃縮する
。エーテルと摩擦すると、残渣はＮ１− （ｐ−メトキ
シフェニル） −ｔｅｒｔ−ブチルアミトラシン塩酸塩
を生じ、これは１７０℃以上に加熱すると、分解する。
ール４０ｍ１に溶解させ、メタノール１００ｍ１中のｐ
−メトキシフェニルヒドラジン７．０ｇの溶液を加える
。２０°Ｃで２４時間放置した後、減圧で蒸発濃縮する
。エーテルと摩擦すると、残渣はＮ１− （ｐ−メトキ
シフェニル） −ｔｅｒｔ−ブチルアミトラシン塩酸塩
を生じ、これは１７０℃以上に加熱すると、分解する。
例２
メタノール５０ｍ１中のＮ１−フェニル−ｔｅｒ ｔ
−ブチルアミトラシン塩酸塩８．２ｇ（３６ミリモル）
の溶液にメタノール中の５．４モルナトリウムメトキシ
ド溶？ｆｉ、６．６６ｍ１を加え、析出した塩化ナトリ
ウムを１戸別し、＞Ｐ液を減圧下に蒸発濃縮する。残渣
をキシレン１００ｍ１及びピリジン−３−アルデヒド３
．４ｍｌと共に還流下に２０時間加熱沸騰させる。
−ブチルアミトラシン塩酸塩８．２ｇ（３６ミリモル）
の溶液にメタノール中の５．４モルナトリウムメトキシ
ド溶？ｆｉ、６．６６ｍ１を加え、析出した塩化ナトリ
ウムを１戸別し、＞Ｐ液を減圧下に蒸発濃縮する。残渣
をキシレン１００ｍ１及びピリジン−３−アルデヒド３
．４ｍｌと共に還流下に２０時間加熱沸騰させる。
キシレンを溜去した後、１−フェニル−５−（３−ピリ
ジル） ３−ｔｅｒむ−ブチルーＩＨ−１゜２．４−ト
リアゾールが融点１４３〜１４４℃（石油エーテルから
）の無色の結晶として得られる。
ジル） ３−ｔｅｒむ−ブチルーＩＨ−１゜２．４−ト
リアゾールが融点１４３〜１４４℃（石油エーテルから
）の無色の結晶として得られる。
出発原料として使用したＮ１−フェニル−ｔｅｒ ｔ−
ブチルアミトラシン塩酸塩は、下記の方法で得られる。
ブチルアミトラシン塩酸塩は、下記の方法で得られる。
メタノール１００ｍ１中のビハｌコイミド酸メチルエス
テル塩酸塩１２．１ ｇの溶液にフェニルヒドラジン８
．６ｇを加え、２０ ”ｃで２４時間保存する。
テル塩酸塩１２．１ ｇの溶液にフェニルヒドラジン８
．６ｇを加え、２０ ”ｃで２４時間保存する。
減圧下に蒸発濃縮した後、残渣を２−プロパツールから
結晶させる。Ｎ１−フェニル−ｔｅｒ ｔ−ブチルアミ
トラシン塩酸塩が融点２３７〜２３９℃の無色の結晶と
して得られる。
結晶させる。Ｎ１−フェニル−ｔｅｒ ｔ−ブチルアミ
トラシン塩酸塩が融点２３７〜２３９℃の無色の結晶と
して得られる。
例３
Ｎ’ −（３−ピリジル）−ｔｅｒｔ−ブチルアミトラ
シン塩酸塩１．２ ｇ （０，００５２モル）を無水メ
タノール３ｍｌに溶解させ、メタノール中のＩＮすトリ
ウムメトキシド 塩化ナトリウムを２戸別する。ｉｒ″液を減圧下に蒸発
濃縮し、キシレン（異性体混合物）２０ｍｌ及びヘンズ
アルデヒド０．６ｇを加え、次いで、還流下に２０時間
加熱沸騰させる。キシレンを溜去した後、５−フェニル
−ｌ−（３−ピリジル） ３ −ｔｅｒｔーブチル−Ｌ
Ｈ−１．２．４−１−リアゾールが融点１４６〜１４７
°Ｃ（石油エーテルから）の無色の結晶として得られる
。
シン塩酸塩１．２ ｇ （０，００５２モル）を無水メ
タノール３ｍｌに溶解させ、メタノール中のＩＮすトリ
ウムメトキシド 塩化ナトリウムを２戸別する。ｉｒ″液を減圧下に蒸発
濃縮し、キシレン（異性体混合物）２０ｍｌ及びヘンズ
アルデヒド０．６ｇを加え、次いで、還流下に２０時間
加熱沸騰させる。キシレンを溜去した後、５−フェニル
−ｌ−（３−ピリジル） ３ −ｔｅｒｔーブチル−Ｌ
Ｈ−１．２．４−１−リアゾールが融点１４６〜１４７
°Ｃ（石油エーテルから）の無色の結晶として得られる
。
出発原料として使用したＮ’ − （３−ピリジル）ｔ
ｅｒ ｔ−ブチルアミトラシン塩酸塩は、下記の方法で
得られる。
ｅｒ ｔ−ブチルアミトラシン塩酸塩は、下記の方法で
得られる。
メタノール４０ｍｌ中のビハロイミド酸メチルエステル
塩酸塩９．６ｇの溶液にメタノール５０ｍｌ中の３−ヒ
ドラジノピリジン６、９ｇの溶液を加え、２０°Ｃで２
４時間保存する。減圧下に蒸発濃縮した後、残渣を２−
プロパツールから結晶させる。
塩酸塩９．６ｇの溶液にメタノール５０ｍｌ中の３−ヒ
ドラジノピリジン６、９ｇの溶液を加え、２０°Ｃで２
４時間保存する。減圧下に蒸発濃縮した後、残渣を２−
プロパツールから結晶させる。
融点２２１〜２２２℃のＮ１−（３−ピリジル）−ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミトラシン塩酸塩が得られる。
ｒｔ−ブチルアミトラシン塩酸塩が得られる。
例４
Ｎｌ−（３−ピリジル）−ｔｅｒｔ−ブチルアミトラシ
ン塩酸塩２０．５ｇ （０．０８９７モル）をメタノー
ル１５０ｍｌに溶解させ、メタノール中の５．４モルナ
トリウムメトキシド溶液１６．６ｍｌを加え、析出した
塩化ナトリウムをコｒ別する。シ戸液を減圧下に蒸発？
ＨＩｆＬ、キシレン（異性体混合物）２００ｍｌ及びｐ
−メトキシヘンズアルデヒド１ ２． ２ ｇを加え、
次いで還流下に２０時間加熱沸騰させる。
ン塩酸塩２０．５ｇ （０．０８９７モル）をメタノー
ル１５０ｍｌに溶解させ、メタノール中の５．４モルナ
トリウムメトキシド溶液１６．６ｍｌを加え、析出した
塩化ナトリウムをコｒ別する。シ戸液を減圧下に蒸発？
ＨＩｆＬ、キシレン（異性体混合物）２００ｍｌ及びｐ
−メトキシヘンズアルデヒド１ ２． ２ ｇを加え、
次いで還流下に２０時間加熱沸騰させる。
キシレンを溜去した後、５−（ｐ−メトキシフェニル）
−１−（３−ピリジル） − ３ −ｔｅｒｔ−ブチル
−ＩＨ−１．２．４−１−リアゾールカ蟻１；点１１５
〜１１６°Ｃ（石油エーテルから）の無色の結晶として
得られる。
−１−（３−ピリジル） − ３ −ｔｅｒｔ−ブチル
−ＩＨ−１．２．４−１−リアゾールカ蟻１；点１１５
〜１１６°Ｃ（石油エーテルから）の無色の結晶として
得られる。
例５
１、５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−ＬＨ−１．２
．４−トリアゾール−３−カルホン酸メチルエステル１
５． ２ ｇをテトラヒドロフラン４５０ｍｌとメタ
ノール４５０ｍｌとの混合物に溶解さ一已る。
．４−トリアゾール−３−カルホン酸メチルエステル１
５． ２ ｇをテトラヒドロフラン４５０ｍｌとメタ
ノール４５０ｍｌとの混合物に溶解さ一已る。
攪拌下に１０分間、硼水素化ナトリウム８．５ｇを少し
ずつ加える。２時間後に、反応混合物に水５００ｍｌを
加え、減圧下に有機溶液を除去する。
ずつ加える。２時間後に、反応混合物に水５００ｍｌを
加え、減圧下に有機溶液を除去する。
残留する水溶液から分離する油を酢酸エステルに取る。
酢酸エステル溶液を硫酸リートリウム上で乾燥し、濾過
し、蒸発濃縮する。残渣は、イソプロパツールから融点
１０８〜１０９℃の１，５−ビス（ｐ−メトキシフェニ
ル’）−１８−１，’ ２．４−トリアゾール−３−メ
タノールを生じる。
し、蒸発濃縮する。残渣は、イソプロパツールから融点
１０８〜１０９℃の１，５−ビス（ｐ−メトキシフェニ
ル’）−１８−１，’ ２．４−トリアゾール−３−メ
タノールを生じる。
出発原料は、例えば下記のようにして製造することがで
きる。
きる。
アミノマロン酸ジメチルエステル塩酸塩７０．３ｇを塩
化メチレン７００ｍｌ中の４−メトキシヘンジイルクロ
リド６ ５． ４ ｇと共に攪拌及び還流下に４８時間
加熱する。次いで、冷却し、不溶性物質を）戸別し、ｉ
Ｐ液を水及び炭酸水素カリウム溶液で洗浄する。を機相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、１ｒ″過し、蒸発濃縮さ
せる。残渣は、イソプロパツールから融点１１４〜１１
５°Ｃのｐ−メトキシヘンシイルアミノマロン酸ジメチ
ルエステルを生じる。
化メチレン７００ｍｌ中の４−メトキシヘンジイルクロ
リド６ ５． ４ ｇと共に攪拌及び還流下に４８時間
加熱する。次いで、冷却し、不溶性物質を）戸別し、ｉ
Ｐ液を水及び炭酸水素カリウム溶液で洗浄する。を機相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、１ｒ″過し、蒸発濃縮さ
せる。残渣は、イソプロパツールから融点１１４〜１１
５°Ｃのｐ−メトキシヘンシイルアミノマロン酸ジメチ
ルエステルを生じる。
ｐ−メ１−キシアニリン２．０ｇを氷酢酸１６ｍｌ及び
濃塩酸４ｍｌの混合物に溶解さーｕ１０℃に冷却し、亜
硝酸すトリウムの５モル水溶液を加える。反応混合物を
一１０°Ｃに冷却し、アセトン４０ｍ１中のｐ−メ１〜
キシヘンシイルアミノマロン酸ジメチルエステル３．８
ｇの溶液を滴加する。次いで水２３ｍ１中の炭酸カリウ
ム２２．８ ｇの溶液を滴加し、０〜５°Ｃで更に半時
間攪拌する。その後、反応混合物に酢酸エステルを加え
る。有機相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、−過し、蒸発ａ縮させる。残渣はイソプロパツ
ールから融点１３９℃（分解）のｐ−メトキシベンゾイ
ルアミノ−ｐ−メトキシフェニルアゾ−マロン酸ジメチ
ルコニステル ｐ−メトキシヘンシイルアミノ−ｐ−メトキシフェニル
アゾ−マロン酸ジメチルエステル０．４２ｇをメタノー
ル９ｍｌ中に懸濁し、メタノール中のＩＮナトリウムメ
トキシド溶液０．１’５ｍｌを加え、２０℃で３ｇ４間
攪１′１コする。その後、得られた溶液を０℃に冷却し
、結晶させる。結晶を吸引）ｒ遇し、イソプロパツール
で洗浄し、乾燥する。こうして得られた１，５−ビス（
ｐ−メトキシフェニル）−ＩＨ−１．２．４−１−リア
ゾール−３−カルホン酸メチルエステルは１７４〜１７
６℃で融解する。
濃塩酸４ｍｌの混合物に溶解さーｕ１０℃に冷却し、亜
硝酸すトリウムの５モル水溶液を加える。反応混合物を
一１０°Ｃに冷却し、アセトン４０ｍ１中のｐ−メ１〜
キシヘンシイルアミノマロン酸ジメチルエステル３．８
ｇの溶液を滴加する。次いで水２３ｍ１中の炭酸カリウ
ム２２．８ ｇの溶液を滴加し、０〜５°Ｃで更に半時
間攪拌する。その後、反応混合物に酢酸エステルを加え
る。有機相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、−過し、蒸発ａ縮させる。残渣はイソプロパツ
ールから融点１３９℃（分解）のｐ−メトキシベンゾイ
ルアミノ−ｐ−メトキシフェニルアゾ−マロン酸ジメチ
ルコニステル ｐ−メトキシヘンシイルアミノ−ｐ−メトキシフェニル
アゾ−マロン酸ジメチルエステル０．４２ｇをメタノー
ル９ｍｌ中に懸濁し、メタノール中のＩＮナトリウムメ
トキシド溶液０．１’５ｍｌを加え、２０℃で３ｇ４間
攪１′１コする。その後、得られた溶液を０℃に冷却し
、結晶させる。結晶を吸引）ｒ遇し、イソプロパツール
で洗浄し、乾燥する。こうして得られた１，５−ビス（
ｐ−メトキシフェニル）−ＩＨ−１．２．４−１−リア
ゾール−３−カルホン酸メチルエステルは１７４〜１７
６℃で融解する。
例６
■，５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−３−クロロメ
チル−ＩＨ−１．２．４−）リアゾール７、１ ｇ （
０．０ ２ １ ６モル）をメタノール中のＩＮナトリ
ウムメトキシド溶液８０ｍｌ中のエチルメルカプタン４
．６ｇの溶液と共に還流下に２０時間加熱する。反応溶
液を減圧下に蒸発濃縮し、残渣を水とエーテルとの間で
分配させる。エーテル相を食塩水で洗浄し、硫酸ナトＩ
Ｊウム上で乾燥し、蒸発濃縮する。残渣は石油エーテル
から融点８９〜９０℃の３−エチルチオメチル−１．５
−ビス（ｐ−メトキシフェニル） −１８−１．２．４
−トリアゾールを生じる。
チル−ＩＨ−１．２．４−）リアゾール７、１ ｇ （
０．０ ２ １ ６モル）をメタノール中のＩＮナトリ
ウムメトキシド溶液８０ｍｌ中のエチルメルカプタン４
．６ｇの溶液と共に還流下に２０時間加熱する。反応溶
液を減圧下に蒸発濃縮し、残渣を水とエーテルとの間で
分配させる。エーテル相を食塩水で洗浄し、硫酸ナトＩ
Ｊウム上で乾燥し、蒸発濃縮する。残渣は石油エーテル
から融点８９〜９０℃の３−エチルチオメチル−１．５
−ビス（ｐ−メトキシフェニル） −１８−１．２．４
−トリアゾールを生じる。
出発原料として使用した１，５−ビス（ｐ−メトキシフ
ェニル）−３−クロロメチル−Ｌ Ｈ − １ 。
ェニル）−３−クロロメチル−Ｌ Ｈ − １ 。
２、４−トリアゾールは、下記のようにして製造するこ
とができる。
とができる。
■，５−ビス（ｐ−メトキシフェニル） − １ Ｈ−
１．２．４−トリアゾール−３−メタノール６、０ｇを
クロロホルム２０ｍｌ中に溶解させ、１０〜１５゛Ｃで
クロロホルム１０ｍｌ中の塩化チオニル６、０ｍｌの溶
液に滴加する。２０℃で３時間保存した後、揮発性成分
を３０〜４０℃の浴温で減圧下に溜去する。残渣は、エ
ーテルから結晶させた後、融点９０〜９１°Ｃの１，５
−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−３−クロロメチル−
ＬＨ−１．２。
１．２．４−トリアゾール−３−メタノール６、０ｇを
クロロホルム２０ｍｌ中に溶解させ、１０〜１５゛Ｃで
クロロホルム１０ｍｌ中の塩化チオニル６、０ｍｌの溶
液に滴加する。２０℃で３時間保存した後、揮発性成分
を３０〜４０℃の浴温で減圧下に溜去する。残渣は、エ
ーテルから結晶させた後、融点９０〜９１°Ｃの１，５
−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−３−クロロメチル−
ＬＨ−１．２。
４−トリアゾールを生じる。
例７
１、５−ヒス（ｐ−メトキシフェニル）−１Ｈ−１．２
．４−）リアゾール−３−メチル−Ｓ−チウロニウムク
ロリド１．０ｇをエタノール１０ｍｌ中で２Ｎ苛性ソー
ダ２．９ｍｌ及び１−ブロモ−２。
．４−）リアゾール−３−メチル−Ｓ−チウロニウムク
ロリド１．０ｇをエタノール１０ｍｌ中で２Ｎ苛性ソー
ダ２．９ｍｌ及び１−ブロモ−２。
２−ジメトキシエタン１．２７ｇと共に還流下に４時間
加熱沸騰させる。次いで、エタノールを溜去し、残渣を
水とりエチルエーテルとの間に分配させる。エーテル抽
出液を水で洗浄し、硫酸すトリウム上で乾燥し、蒸発濃
縮する。球管茄溜によって沸点１７０°ｃ／ ２ ・１
０−２ｍｂａｒの１−（Ｌ５−ビス（ｐ−メトキシフ
ェニル）−１Ｈ−１２、４−１−リアゾール−３−イル
メチルチオ〕−２、２−ジメトキシエタンが無色の油と
して得られる。
加熱沸騰させる。次いで、エタノールを溜去し、残渣を
水とりエチルエーテルとの間に分配させる。エーテル抽
出液を水で洗浄し、硫酸すトリウム上で乾燥し、蒸発濃
縮する。球管茄溜によって沸点１７０°ｃ／ ２ ・１
０−２ｍｂａｒの１−（Ｌ５−ビス（ｐ−メトキシフ
ェニル）−１Ｈ−１２、４−１−リアゾール−３−イル
メチルチオ〕−２、２−ジメトキシエタンが無色の油と
して得られる。
出発原料は、下記のようにして製造することができる。
１、５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−３−クロロメ
チル−ＩＨ−１．２．４−トリアゾール３、３ｇをエタ
ノール１５ｍｌ中でチオ尿素０． ８ ４ ｇと共に還
流下に２０時間加熱沸騰させる。冷却すると、１，５−
ビス（ｐ−メトキシフェニル）−一１１−１−１．２．
４−トリアゾール−３−メチル−Ｓ−チウロニウム塩酸
塩が融点２０９〜２１１℃の無色の結晶として得られる
（３．８ｇ−理論量の９４％）６ 例８ 硫酸水素テトラブナルアンモニウム１ ８． ４ ｇを
２Ｎ苛性ソ一ダ６８ｍｌ中に溶解させ、ジクロロメタン
５０ｍｌ中の１．５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−
３−シアノメチル＝ＬＨ−１．２．４−トリアゾール８
．７ｇ及び沃化メチル１９．３ ｇの溶液に室温で加え
る。混合物を室温で２０時間攪拌する。次いで、ジクロ
ロメタン相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、蒸発濃縮する。残渣をエタノールから
結晶させると、融点１０３〜１０４°Ｃの２−（１，５
−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−１１，（−１，２，
４−１−リアゾール−３〕−２−メチルプロピオニトリ
ルが（ηられる。
チル−ＩＨ−１．２．４−トリアゾール３、３ｇをエタ
ノール１５ｍｌ中でチオ尿素０． ８ ４ ｇと共に還
流下に２０時間加熱沸騰させる。冷却すると、１，５−
ビス（ｐ−メトキシフェニル）−一１１−１−１．２．
４−トリアゾール−３−メチル−Ｓ−チウロニウム塩酸
塩が融点２０９〜２１１℃の無色の結晶として得られる
（３．８ｇ−理論量の９４％）６ 例８ 硫酸水素テトラブナルアンモニウム１ ８． ４ ｇを
２Ｎ苛性ソ一ダ６８ｍｌ中に溶解させ、ジクロロメタン
５０ｍｌ中の１．５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−
３−シアノメチル＝ＬＨ−１．２．４−トリアゾール８
．７ｇ及び沃化メチル１９．３ ｇの溶液に室温で加え
る。混合物を室温で２０時間攪拌する。次いで、ジクロ
ロメタン相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、蒸発濃縮する。残渣をエタノールから
結晶させると、融点１０３〜１０４°Ｃの２−（１，５
−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−１１，（−１，２，
４−１−リアゾール−３〕−２−メチルプロピオニトリ
ルが（ηられる。
例９
ジメチルスルホキシド５０ｍ１中のシアン化すトリウム
５．７ｇの水冷懸濁液に攪拌しながら１．５−ビス（ｐ
−メトキシフェニル）−３−クロロメチル−ＬＨ−１，
２，４−トリアゾール１２．７ ｇを少しずつ加える。
５．７ｇの水冷懸濁液に攪拌しながら１．５−ビス（ｐ
−メトキシフェニル）−３−クロロメチル−ＬＨ−１，
２，４−トリアゾール１２．７ ｇを少しずつ加える。
次いで、反応混合物を室温で２時間攪拌する。水３５０
ｍ１を添加した後、ジエチルエーテルで抽出する。抽出
液を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、−過し、
蒸発濃縮する。残渣をジエチルエーテルから結晶させる
。こうして得られた２−（１５−ヒス（ｐ−メトキシフ
ェニル）−１Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３〕−ア
セトニトリルは７６〜７８°Ｃで融解する。
ｍ１を添加した後、ジエチルエーテルで抽出する。抽出
液を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、−過し、
蒸発濃縮する。残渣をジエチルエーテルから結晶させる
。こうして得られた２−（１５−ヒス（ｐ−メトキシフ
ェニル）−１Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３〕−ア
セトニトリルは７６〜７８°Ｃで融解する。
例１０
マグネシウムリボン１．８５ ｇを沃化メチル１０、６
ｇ及びジエチルエーテル２０ｍ１で処理する。
ｇ及びジエチルエーテル２０ｍ１で処理する。
金属が溶１も了した後、テトラヒドロフラン２００ｍ１
中の１，５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−１Ｈ−１
，２，４−）リアゾール−３−カルボン酸メチルエステ
ル１０．２ｇの溶液を攪拌下に徐々に論加し、次いで反
応混合物を５０℃に２時間加熱する。次に、反応混合物
を０℃に冷却し、飽和塩化アンモニウム／ｇ’／（ｌ
ｌ ００ ｍｌを滴加する。２相が形成し、そのうぢ上
相を分離し、飽和塩化アンモニウム溶液で洗浄する。次
いで、テトラヒドロフラン溶液を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、減圧下に蒸発乾燥する。残渣をエーテル／ヘキサ
ンから結晶させると、融点９６〜９７℃の２−（１，５
−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−１Ｈ−１，２゜４−
トリアゾール−３〕−プロパン−２−オールが生じる。
中の１，５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−１Ｈ−１
，２，４−）リアゾール−３−カルボン酸メチルエステ
ル１０．２ｇの溶液を攪拌下に徐々に論加し、次いで反
応混合物を５０℃に２時間加熱する。次に、反応混合物
を０℃に冷却し、飽和塩化アンモニウム／ｇ’／（ｌ
ｌ ００ ｍｌを滴加する。２相が形成し、そのうぢ上
相を分離し、飽和塩化アンモニウム溶液で洗浄する。次
いで、テトラヒドロフラン溶液を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、減圧下に蒸発乾燥する。残渣をエーテル／ヘキサ
ンから結晶させると、融点９６〜９７℃の２−（１，５
−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−１Ｈ−１，２゜４−
トリアゾール−３〕−プロパン−２−オールが生じる。
例１１
Ｎフ−（ｐ−メトキシフェニル） −ｔｅｒｔ−ブチル
アミ１°ラゾン２．７５ｇ（０，０１０７モル）及びｐ
−メトキシヘンゾイルクロリド１０ｇを攪拌下に１２時
間］ ２０ ’ｃに加熱する。その後、反応混合物を過
剰の１０％炭酸すｌ−ＩＪウム熔溶液共に、すべての過
剰の酸クロリドが分解するまで、攪拌する。ジエチルエ
ーテルで数回抽出し、抽出液を硫酸す） ＩＪウム上で
乾燥し、）濾過し、ｒ液を蒸発濃縮する。融点１０１−
１０２℃の１，５−（ｐ−メトキシフェニル） −１ｅ
ｒｔ−ブチル−１１−１−１。
アミ１°ラゾン２．７５ｇ（０，０１０７モル）及びｐ
−メトキシヘンゾイルクロリド１０ｇを攪拌下に１２時
間］ ２０ ’ｃに加熱する。その後、反応混合物を過
剰の１０％炭酸すｌ−ＩＪウム熔溶液共に、すべての過
剰の酸クロリドが分解するまで、攪拌する。ジエチルエ
ーテルで数回抽出し、抽出液を硫酸す） ＩＪウム上で
乾燥し、）濾過し、ｒ液を蒸発濃縮する。融点１０１−
１０２℃の１，５−（ｐ−メトキシフェニル） −１ｅ
ｒｔ−ブチル−１１−１−１。
２．４−トリアゾールが得られる。
同様にしてＮ” −（３−ピリジル） ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミトラシン、１．２ ｇから融点１１５〜１１６℃
の５−（ｐ−メトキシフェニル）−１−（３−ピリジル
）３−１ｅｒｔ−ブチル−ＩＨ−１，２゜４−トリアゾ
ールが得られ、対応する量のベンゾイルクロリドと反応
させることによって融点１４６〜１４７°Ｃノ５ ７エ
ー）Ｉｉ −１−（３−ピリジル） −３−ｔｅｒｔ−
ブチル−ＩＨ−１，２，４−トリアゾールが得られる。
ルアミトラシン、１．２ ｇから融点１１５〜１１６℃
の５−（ｐ−メトキシフェニル）−１−（３−ピリジル
）３−１ｅｒｔ−ブチル−ＩＨ−１，２゜４−トリアゾ
ールが得られ、対応する量のベンゾイルクロリドと反応
させることによって融点１４６〜１４７°Ｃノ５ ７エ
ー）Ｉｉ −１−（３−ピリジル） −３−ｔｅｒｔ−
ブチル−ＩＨ−１，２，４−トリアゾールが得られる。
例１２
例１〜１１に記載したのと同様の方法で、更に下記の化
合物を製造することができる。
合物を製造することができる。
融点１０６〜１０７°Ｃの２− （１，５−ビス（ｐ−
メトキシフェニル）−１Ｈ−１，２，４ｉ−リアゾール
−３〕−２−メチルプロピオン酸エチルエステル、 融点１０９〜１１０°Ｃの２−（１，５−ビス（ｐ−メ
トキシフェニル） −１Ｈ−１，２，４−）リアゾール
−３〕−２−メチル−プロパン−１−オーＪし、 融点９０〜９２°Ｃの２− （１，５−ビス（ｐ−メト
キシフェニル）−１ｔｌ−１，２，４−１−リアゾール
−３−イルツー２−メチル−１−ピバロイルオキシプロ
パン。
メトキシフェニル）−１Ｈ−１，２，４ｉ−リアゾール
−３〕−２−メチルプロピオン酸エチルエステル、 融点１０９〜１１０°Ｃの２−（１，５−ビス（ｐ−メ
トキシフェニル） −１Ｈ−１，２，４−）リアゾール
−３〕−２−メチル−プロパン−１−オーＪし、 融点９０〜９２°Ｃの２− （１，５−ビス（ｐ−メト
キシフェニル）−１ｔｌ−１，２，４−１−リアゾール
−３−イルツー２−メチル−１−ピバロイルオキシプロ
パン。
例１３
有効成分、例えば５−フェニル−１−（３−ピリジル）
３−Ｌｅｒｔ−ブチル−ＩＨ−１，２，４−トリアゾ
ールを２５ｎｗ含む錠剤を下記のようにして製造するこ
とができる。
３−Ｌｅｒｔ−ブチル−ＩＨ−１，２，４−トリアゾ
ールを２５ｎｗ含む錠剤を下記のようにして製造するこ
とができる。
一爪分（錠剤１０００個当たり）：
有ジノ成分 。５．。。
乳ｔＪ！ｉ １００．７ ｇ
小麦澱粉 ７．５ｇ
ポリエチレングリコール６０００ ５．０ ｇタルク
５．０ｇ ステアリン酸マグネシウム １．８ｇ 脱イオン水 適■ Ｕ； すべての固体成分をまずメツシュ幅０，６■の篩で篩過
する。次いで、有効成分、乳糖、タルク、ステアリン酸
マグネシウム及び半量の′Ｒ粉を混合する。澱粉の残り
の半分を水４０＋ｎｌ中にで濁し、この愁濁液を水１０
０ｍ１中のポリエチレングリコールの沸騰溶液に添加し
、混合物を必要に応じて水を添加しながら、造粒する。
５．０ｇ ステアリン酸マグネシウム １．８ｇ 脱イオン水 適■ Ｕ； すべての固体成分をまずメツシュ幅０，６■の篩で篩過
する。次いで、有効成分、乳糖、タルク、ステアリン酸
マグネシウム及び半量の′Ｒ粉を混合する。澱粉の残り
の半分を水４０＋ｎｌ中にで濁し、この愁濁液を水１０
０ｍ１中のポリエチレングリコールの沸騰溶液に添加し
、混合物を必要に応じて水を添加しながら、造粒する。
顆粒を３５℃で一夜乾燥し、メツシュ幅１．２１の篩に
通し、直径約６順の両面が湾曲した錠剤に圧縮する。
通し、直径約６順の両面が湾曲した錠剤に圧縮する。
同様の方法で、例１．２及び４〜１１に挙げた一般式（
Ｉ）の化合物をその都度２５■含む錠剤を製造するごと
もでき、その際これらの化合物は塩の形で存在してもよ
い。
Ｉ）の化合物をその都度２５■含む錠剤を製造するごと
もでき、その際これらの化合物は塩の形で存在してもよ
い。
例１４
有９）Ｊ Ｉｇ 分、例えば５−フェニル−１−（３−
ピリジル） −３−ｔｅｒｔ−ブチル−ＬＨ−１，２，
４−トリアゾールを３０ ｍｇ含む咀咽錠を、例えば下
記のようにして製造することができる。
ピリジル） −３−ｔｅｒｔ−ブチル−ＬＨ−１，２，
４−トリアゾールを３０ ｍｇ含む咀咽錠を、例えば下
記のようにして製造することができる。
−成分（錠剤１０００＋ｌ！］当たり）：有効成分 ３
０．０ ’ｇ ラマンット ２６７．０ｇ 乳糖 １７９．５ｇ タルク ２０． Ｏｇ グリセリン １２．５ ｇ ステアリン酸 １０．０ｇ サッカリン １．０ｇ ５％ゼラチン／ａ７夜 適量 裂１し すべての固体成分をまずメツシュ幅０．２５ ｉｉｉの
篩で篩過する。マンニット及び乳糖を混合し、ゼラチン
溶液を添加しながら造粒し、メッシュ幅２龍の篩に通ず
。有効成分、ゼラチン及びサッカリンを注意深く混合し
、マンニット、乳糖顆粒、ステアリン酸及びタルクを添
加し、全体を完全に混合し、上側に破断溝を有する直径
約１０＋＋＋＋の両面が湾曲した錠剤に圧縮する。
０．０ ’ｇ ラマンット ２６７．０ｇ 乳糖 １７９．５ｇ タルク ２０． Ｏｇ グリセリン １２．５ ｇ ステアリン酸 １０．０ｇ サッカリン １．０ｇ ５％ゼラチン／ａ７夜 適量 裂１し すべての固体成分をまずメツシュ幅０．２５ ｉｉｉの
篩で篩過する。マンニット及び乳糖を混合し、ゼラチン
溶液を添加しながら造粒し、メッシュ幅２龍の篩に通ず
。有効成分、ゼラチン及びサッカリンを注意深く混合し
、マンニット、乳糖顆粒、ステアリン酸及びタルクを添
加し、全体を完全に混合し、上側に破断溝を有する直径
約１０＋＋＋＋の両面が湾曲した錠剤に圧縮する。
同様の方法で、例１．２及び４〜１１に挙げた一般式（
１）の化合物をその都度３０■含む錠剤を製造すること
もでき、その際これらの化合物は塩の形で存在してもよ
い。
１）の化合物をその都度３０■含む錠剤を製造すること
もでき、その際これらの化合物は塩の形で存在してもよ
い。
例１５
有効成分、例えば５−フェニル−１−（３−ピリジル）
−３−ｊｅｒｋ−ブチル−ＩＨ−１，２，４〜トリア
ゾールを１００■含む錠剤を、例えば下記のようにして
製造することができる。
−３−ｊｅｒｋ−ブチル−ＩＨ−１，２，４〜トリア
ゾールを１００■含む錠剤を、例えば下記のようにして
製造することができる。
−成豆（錠剤１ｏｏｏｒ囚当たり）：
有効成分 １００．０ｇ
乳糖 ２４８．５ ｇ
トウモロコシ′戯粉 １７．５ ｇ
ポリエチレングリコール６０００ ５． Ｏｇタルク
１５．０ｇ ステアリン酸マグネシウム ４．０ｇ 脱イオン水 適量 型造： 固体成分をまずメツシュ幅０．６鶴の篩で篩過する。次
いで、有効成分、乳糖、タルク、ステアリン酸マグネシ
ウム及び半量の澱粉を混合する。澱粉の残りの半分を水
６５１中に懸濁し、この懸濁液を水２６０ｍ１中のポリ
エチレングリコールの？Ｊｌｆ騰熔液に溶液し、混合物
を必要に応じて水を添加しながら、造粒する。顆粒を３
５℃で一夜乾燥し、メツシュ幅１． ’ｌ ａｓの篩に
通し、直径約６１１ｍの両面が湾曲した錠剤に圧縮する
。
１５．０ｇ ステアリン酸マグネシウム ４．０ｇ 脱イオン水 適量 型造： 固体成分をまずメツシュ幅０．６鶴の篩で篩過する。次
いで、有効成分、乳糖、タルク、ステアリン酸マグネシ
ウム及び半量の澱粉を混合する。澱粉の残りの半分を水
６５１中に懸濁し、この懸濁液を水２６０ｍ１中のポリ
エチレングリコールの？Ｊｌｆ騰熔液に溶液し、混合物
を必要に応じて水を添加しながら、造粒する。顆粒を３
５℃で一夜乾燥し、メツシュ幅１． ’ｌ ａｓの篩に
通し、直径約６１１ｍの両面が湾曲した錠剤に圧縮する
。
同様の方法で、例１．２及び４〜１１に挙げた一般式（
１，）の化合物をその都度１００■含む錠剤を製造する
こともでき、その際これらの化合物は塩の形で存在して
もよい。
１，）の化合物をその都度１００■含む錠剤を製造する
こともでき、その際これらの化合物は塩の形で存在して
もよい。
Claims (12)
- （１）一般式（■）： 〔式中基Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立にアリール基又は
場合によりＮ−オキシド化されたヘテロアリール基を表
し、これらは非置換であるか、又は脂肪族炭化水素基、
遊離、エーテル化若しくしまエステル化されたヒドロキ
シ基、場合によりＳ−：ｔキシド化されたエーテル化メ
ルカプト基、Ｍ離着しくは脂肪族基で置換されたアミノ
基、ニトロ基及び／又は１〜リフルオロメチル基で置換
されており、Ｒ３は少なくとも２個の炭素原子を有する
非置換脂肪族炭化水素基又は１個のシアノ基、１個の場
合によりエステル化若しくはアミド化されたカルボキシ
基、１個又は２＋ｌ１ｉｌの場合によりエステル化若し
くはエーテル化されたヒドロキシ基、１個又は２（ｆｌ
ｉｔのエーテル化メルカプト基、１個のオキシド化エー
テル化メルカプト基或いはオキソ基で置換された脂肪族
炭化水素基を表し、これらの基は場合によりチア若しく
はオキサで遮断されていてもよく、又は非置換脂環式炭
化水素基を表す〕の新ｆｆ１ｌ、２． ４−）リアザシ
クロアルカジエン誘導体及びその塩。 - （２）基Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立に非置換又は低級
アルキル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン、低級アルカノイルオキシ基、低級アルキルチオ基、
低級アルカンスルホニル基、ジ低級アルキルアミノ基及
び／又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基
又゛は非置換若しくは低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン若しくはヒドロキシ基で置換された、フリ
ル基、チェニル基、ピリジル基若しくはｌ−オキシドピ
リジル基を表し、Ｒ３が少なくとも２個の炭素原子を有
する低級アルキル栽、モノ−若しくはジヒドロキシ低級
アルキル基、七ノー若しくはジ低級アルコキシ低級アル
キル基、低級アルキレンジオキシ低級アルキル基、オキ
ソ低級アルキル基、低級アルキルチオ低級アルキル基、
カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル
低級アルキル基、Ｎ−モノ−若しくはＮ、Ｎ−ジ低級ア
ルキルカルバモイル低級アルキル基を表す特許請求の範
囲第１項記載の一般式（１）の化合物及びその塩。 - （３）基Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立に非置換又は炭素
原子数４以下の低級アルコキシ基、炭素原子数４以下の
低級アルキルチオ貼着しくは原子番号３５以下のハロゲ
ンで置換されたフェニル基、場合によりＮ−オキシド化
されたピリジル基又は非置換チェニル基を表し、Ｒ３が
二級又は三級炭素原子を介して結合する炭素原子数３〜
７の低級アルキル基、α−位にシアノ基若しくは低級ア
ルキルチオ基を有し、低級アルキル部分に４個以下の炭
素原子を有するシアノ低級アルキル基又は低級アルキル
部分にそれぞれ４個以下の炭素原子を有する低級アルキ
ルチオ低級アルキル基を表すか又は炭素原子数４以下の
ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルカノイルオキシ部
分に７個以下の炭素原子を有し、低級アルキル部分に４
個以下の炭素原子を有する低級アルカノイルオキシ低級
アルキル基、炭素原子数４以下のオキソ低級アルキル基
又は各アルキル部分又はアルキレン部分に４個以下の炭
素原子を有するジ低級アルコキシ低級アルキル基或いは
低級アルキレンジオキシ低級アルキル基を表す特許請求
の範囲第１項記載の一般式（１）の化合物及びその塩。 - （４）Ｒ＋及びＲ２が炭素原子数４以下の低級アルコキ
シ基で置換されたフェニル基を表すか又はＲ１がピリジ
ル基を表し、Ｒ２がフェニル基を表し、Ｒ３が三級炭素
原子を介して結合する炭素原子数７以下の低級アルキル
基、α−位にそれぞれカルボキシ基、シアノ基、低級ア
ルコキシカルボニル基、低級アルキルチオ基、ヒドロキ
シ低級アルキルチオ基、オキソ低級アルキルチオ基、ジ
低級アルコキシ低級アルキルチオ基又は低級アルキレン
ジオキシ低級アルキルチオ基を有する合計炭素原子数７
以下の、カルボキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキ
ル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級
アルキルチオ低級アルキル基、ω−ヒドロキシ低級アル
キルチオ低級アルキル基、ω−オキソ低級アルキルチオ
低級アルキル基、ジ低級アルコキシ低級アルキルチオ低
級アルキル基又は低級アルキレンジオキシ低級アルキル
チオ低級アルキル基又は炭素原子数７以下のヒドロキシ
低級アルキル基を表す特許請求の範囲第１項記載の一般
式（Ｉ）の化合物及びその塩。 - （５）Ｒ＋及びＲ２が炭素原子数４以下の低級アルコキ
シ基で置換されたフェニル基を表し、Ｒ３が三級炭素原
子を介して結合する炭素原子数７以下の低級アルキル基
、α−位にそれぞれシアノ基、低級アルキルチオ基若し
くはジ低級アルコキシ低級アルキルチオ基を有する、合
計炭素原子数７以下のシアノ低級アルキル基、合計炭素
原子数７以下の低級アルキルチオ低級アルキル基若しく
は合計炭素原子数７以下のジ低級アルコキシ低級アルキ
ルチオ低級アルキル基、又は炭素原子数７以下のヒドロ
キシ低級アルキル基を表す特許請求の範囲第１項記載の
一般式（１）の化合物及びその塩。 - （６）１．５−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−３−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−ＩＨ−１，２，４−１−リアゾール又
はその塩である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （７）■−フェニルー５−（３−ピリジル）−３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−ＬＨ−１，２，４−１−リアゾール又は
その塩である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （８）３−エチルチオメチル−１，５−ビス（ｐ−メト
キシフェニル）−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール又は
その塩である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （９）２−（１，５−ビス（ｐ〜メトキシフェニル）−
１Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３〕−プロパン−２
−オール又はその塩である特許請求の範囲第１項記載の
化合物。 - （１０）、ｉ （１，５−ビス（ｐ−メトキシフェニル
）−ＬＨ−１，２，４，−）リアゾール−３−イルメチ
ルチオ）−２，２−ジメトキシェターン又はその塩であ
る特許請求の範囲第１項記載のイ［合物。 - （１１）常用の医薬助剤及び／又は担体と共に特許請求
の範囲第１項〜第１０項のいずれか１項に記載の化合物
を含む医薬製剤。 - （１２）一般式（■）： 〔式中基Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立にアリール基又は
場合によりＮ−オキシド化されたヘテロアリール基を表
し、これらは非置換であるか、又は脂肪族炭化水素基、
遊離、エーテル化若しくはエステル化されたヒドロキシ
基、場合によりＳ−オキシド化されたエーテル化メルカ
プト基、遊離若しくは脂肪族基で置換されたアミノ基、
ニトロ基及び／又はトリフルオロメチル基で置換されて
おり、Ｒ３は少なくとも２個の炭素原子を有する非置換
脂肪族炭化水素基又は１個のシアノ基、１１固の場合に
よりエステル化若しくはアミド化されたカルボキシ基、
１個又は２ （１１ｉ１の場合によりエステル化若しく
はエーテル化されたヒドロキシ基、１個又は２個のエー
テル化メルカプト括、ｌｌ１ｌｌＩのオキシド化エーテ
ル化メルカプト基或いはオキソ基で置換された脂肪族炭
化水素基を表し、これらの基は、場合によりチア若しく
はオキサで遮断されていてもよく、又は非置換脂環式炭
化水素基を表す〕の新規１，２．４−１−リアザシクロ
アルカジエン誘導体及びその塩を製造するため、一般式
（）： 〔式中基Ｙ１及びＹｌの一方は脱離可能な基Ｙを表し、
他方は水素原子を表し、Ｙ３及びＹ４は一緒にイ１加的
結合を表すか、又はＹ４が脱離可能な基Ｙを表し、Ｙ３
が水素を表し、Ｙｌ及びＹｌは一緒に付加的結合を表す
〕の化合物又はその塩からイ］加的結合を導入しなから
１１Ｙを脱離させるか又は一般式（Ｘ■）： 〔式中Ｒ３１は基Ｒ３に変わりうる基を表す〕の化合物
中のＲ３′を所望の基Ｒ３に変えるか、又は一般式（Ｉ
ＩＩ） 〔式中Ｙ１及びＹｌは水素を表し、Ｙ３及びＹ４は（＝
Ｊ加的結合又は水素を表ずか又はＹｌ及びＹｌは付加的
結合を表し、Ｙ３及びＹ４は水素を表す〕の化合物を脱
水素し、必要に応じて各方法により得られた異性体混合
物を成分に分離し、一般式（１）の異性体を単離し、及
び／又は、必要に応じて各方法により得られた化合物を
一般式（１）の他の化合物に変え、及び／又は各方法に
より得られた遊離化合物を塩に変えるか、又は各方法に
より得られた塩を遊離化合物又は他の塩に変えることを
特徴とする１、２．４−トリアザシクロアルカジエン誘
導体及びその塩の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH1329/84-8 | 1984-03-16 | ||
| CH132984 | 1984-03-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60209573A true JPS60209573A (ja) | 1985-10-22 |
Family
ID=4207922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60050724A Pending JPS60209573A (ja) | 1984-03-16 | 1985-03-15 | １，２，４‐トリアザシクロアルカジエン誘導体、該誘導体を含む医薬製剤及び該誘導体の製造方法 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0162217A1 (ja) |
| JP (1) | JPS60209573A (ja) |
| AU (1) | AU4023085A (ja) |
| DD (1) | DD234005A5 (ja) |
| DK (1) | DK119585A (ja) |
| FI (1) | FI850994L (ja) |
| GR (1) | GR850650B (ja) |
| HU (1) | HUT37407A (ja) |
| IL (1) | IL74595A0 (ja) |
| NO (1) | NO851035L (ja) |
| PT (1) | PT80104B (ja) |
| ZA (1) | ZA851949B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007169290A (ja) * | 2001-11-09 | 2007-07-05 | Astellas Pharma Inc | トリアゾール誘導体 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3439450A1 (de) * | 1984-10-27 | 1986-05-07 | Boehringer Ingelheim KG, 6507 Ingelheim | 1,2,4-triazolo-carbamate und ihre saeureadditionssalze, verfahren zu ihrer herstellung und arzneimittel |
| ES2045184T3 (es) * | 1987-10-02 | 1994-01-16 | Ciba Geigy Ag | Derivados del acido 1,5-difenil-1,2,4-triazol-3-carboxilico para la proteccion de plantas de cultivo contra la accion fitotoxica de herbicidas. |
| ES2221426T3 (es) | 1998-08-20 | 2004-12-16 | Smithkline Beecham Corporation | Nuevos compuestos de triazol sustituidos. |
| GB9918180D0 (en) * | 1999-08-02 | 1999-10-06 | Smithkline Beecham Plc | Novel compositions |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1985
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