JPS60191446A - 光デイスク材料 - Google Patents

光デイスク材料

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JPS60191446A
JPS60191446A JP59046184A JP4618484A JPS60191446A JP S60191446 A JPS60191446 A JP S60191446A JP 59046184 A JP59046184 A JP 59046184A JP 4618484 A JP4618484 A JP 4618484A JP S60191446 A JPS60191446 A JP S60191446A
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Akira Omori
晃 大森
Kazuo Ishiwari
和夫 石割
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Daikin Industries Ltd
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Daikin Industries Ltd
Daikin Kogyo Co Ltd
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    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
    • G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
    • G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/22—Esters containing halogen
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、吸水寸法変化の小さい光デイスク材料に関す
る。
従来、光デイスク材料としてポリカーボネート樹脂やア
クリル樹脂等がよく利用されている。
ポリカーボネート樹脂は、吸水寸法変化が小さくこの点
では優れた材料であるが、傷がつきやすくまた成形後に
複屈折が生じやすいという問題を有している。アクリル
樹脂は、傷がつきにくく成形後の複屈折も生じにくいも
のであるが、水分を吸収しやすく、水分を吸収すると大
きな寸法変化が生じてしまうという問題を有している。
本発明の目的は、吸水性が低く、吸水寸法変化の小さい
アクリル系重合体からなる光デイスク材料を提供するこ
とである。
かかる本発明の要旨は、一般式： （式中、Ｘはフッ素または低級アルキル基、Ｒ１ハ炭素
数２〜１０のフルオロアルキル基を示す。）で表わされ
る構造単位を四重量１以上含有する重合体からなる光デ
イスク材料に存する。
上記構造単位（ａ）は、光デイスク材料の吸水性および
吸水寸法変化を低下させる上で重合体に２０重量％以上
含有されることが必要である。　“上記構造単位（ａ）
は、該重合体に２０重ｔ％以上含有されるのであるが、
通常この他に含有してもよい構造単位としては、一般式
： （式中、Ｒ２は低級アルキル基、Ｘは前記と同じ。）で
表わされる構造単位がある。
上記構造単位（−）および（ｂ）を含有する重合体は、
通常一般式： （式中、ＸおよびＲ１は前記と同じ。）一般式： （式中、ＸおよびＲ２は前記と同じ。）等で表わされる
単量体を重合することによシ調製することができる。
上記単量体のほか、光ティスフ材料の物性を損なわない
範囲で他のエチレン性不飽和単量体を共重合させてもよ
い。
前記各単量体は、通常溶液、懸濁、乳化、塊状重合等で
重合きれる。
重合温度は、上記いずれの重合方法でも通常０〜１５０
°Ｃ１反応圧力もいずれの重合方法でも０．５〜５　ｋ
ｇ　／　ｃｄ　Ｇである。
重合媒体は、懸濁重合では水、１，１．２−１１クロロ
−１，２，２−トリフルオロエタンま７’ｃｆｄｌ、２
−ヅ゛クロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン
あるいはこれらの混合媒体、溶液重合ではメチルエチル
ケトン、酢酸エテル、酢酸ブチル等である。
重合開始剤は、乳化重合では過硫酸アンモニウム等の酸
化剤、亜硫酸ソーダ等の還元剤および硫酸鉄（ｎ）等の
遷移金属の塩類からなるレドックス開始剤、懸濁および
溶液重合ではアゾ系化合物や有機過酸化物、例えばアゾ
ビスイソブチロニトリル、インブチリルパーオキシド、
オクタノイルパーオキシド等が使用でれる。
乳化重合における乳化剤としては、パーフルオロカルボ
ン酸、ω−ハイドロパーフルオロカルホン酸等のアンモ
ニウム塩、ナトリウム塩等が例示できる。
本発明に係る光デイスク材料は、これ自身で光ディスク
を製作することができるほか、従来の光ディスクに被覆
して用いることもできる。
次に実施例および比較例を示す。
実施例　１〜７および比較例１ 後記の第１表に示す単量体合計１００重量部、アゾビス
インブチロニトリル１重量部および酢酸エチル５００重
量部を２１の四つロフラスコに入れ、得られた溶液を攪
拌しながら６０°Ｃに５時間保ち、単量体を重置きせた
。反応混合物を石油エーテル中へ滴下し、生成した重合
体の沈殿物を２０ＭＭＨｇの減圧下８０°Ｃで１６時間
乾燥させた。その後、乾燥重合体を２２０”Ｃに加熱し
、２０に９／ｃＩＡの圧力をかけて、長さ７０朋、幅１
０ｆｌ、厚さ３鮪の板状に加工した。この板上物質を２
３°Ｃに保った水中に冴時間浸漬し、その吸水率および
吸水寸法変化率を測定した（ＡＳＴＭ　Ｄ　５７０の方
法）。結果を第１表に示す。
実施例　８ 実施例１と同様の手順で重合および重合体の乾５− 燥を行ない、得られた乾燥重合体を酢酸エチルに溶解さ
せ、３重量％の溶液を調製した。この溶液に厚さＩ　Ｉ
Ｉのポリメチルメタクリレート板を浸漬し、該重合体を
この上に被覆した。乾燥後との試料についても上記と同
様の手順で吸水率および吸水寸法変化率の測定を行なっ
た。結果を第１表に示す。なお、上記被覆厚みは、試料
を切断し顕微鏡で測定したところ、１０〜１２μｍであ
った。
第１表中のメルトインデックス（Ｍｌ）、ガラス転移点
（Ｔｇ　）、屈折率および光線透過率は、次に示す方法
で測定した。
Ｍｌ・・・重合体を内径９．５ｆｆのシリンダ（高滓製
作所製　高化式フロテスター）に装填し２３０°Ｃに５
分間保った後、７ｋｇのピストン荷重で内径２，１ｍ、
長さ８ｎのオリフィスを通過して押し用されてきた重合
体の重量を測定しグラム数で示しだ値である。
Ｔｇ・・・重合体を示差走査熱量計で２０’Ｃ／分の加
熱速度で加熱し、重合体が吸熱し始め６− る温度（°Ｃ）を測定した値である。
屈折率・−・アツベ屈折計を使用し、２５゛Ｃで測定し
た値である。
光線透過率・・・ＡＳＴＭ　Ｄ　１００３の方法により
測定した値である。
第１表中、単量体を示すＣＸＦ５Ｆ、３ＦＭ、４ＦＭ、
５ＦＭおよびＭＭＡは、それぞれＦ ＝８− 手続補正書（方式） ％式％ １、事件の表示　昭和５９年特許願第４６１８４号２、
発明の名称　光デイスク材料 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　大阪市北区梅田１丁目１２番３９号新阪急ビル５
、補正の対象　願書および明細書 ６、補正の内容 願書および明細書の浄書（内容に変更なし）以上 　１−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （式中、Ｘはフッ素まだは低級アルキル基、Ｒ１は炭’
    Ｘ数２〜１０のフルオロアルキル基を示す。） で表わされる構造単位を２０重量％以上含消゛する重合
    体からなる光デイスク材料。
JP59046184A 1984-03-09 1984-03-09 光デイスク材料 Granted JPS60191446A (ja)

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JP59046184A JPS60191446A (ja) 1984-03-09 1984-03-09 光デイスク材料
DE8585102488T DE3573483D1 (en) 1984-03-09 1985-03-06 Use of a polymer for optical disks
EP85102488A EP0158113B1 (en) 1984-03-09 1985-03-06 Use of a polymer for optical disks
US06/708,822 US4569871A (en) 1984-03-09 1985-03-06 Material for optical disks

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JPH0434214B2 JPH0434214B2 (ja) 1992-06-05

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