JPH02107651A - 樹脂組成物および光学部品 - Google Patents
樹脂組成物および光学部品Info
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- JPH02107651A JPH02107651A JP26043188A JP26043188A JPH02107651A JP H02107651 A JPH02107651 A JP H02107651A JP 26043188 A JP26043188 A JP 26043188A JP 26043188 A JP26043188 A JP 26043188A JP H02107651 A JPH02107651 A JP H02107651A
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、光線透過率が犬きく、かつ複屈折が小さい樹
脂組成物お工びこの樹脂組成物からなる光ティスフ基板
、光学レンで、光ファイバー プリズムなどの光学部品
に関する。
脂組成物お工びこの樹脂組成物からなる光ティスフ基板
、光学レンで、光ファイバー プリズムなどの光学部品
に関する。
〈従来の技術〉
従来、光デイスク基板や光学レンズなどには、透明性に
優れること、すなわち光線透過率が大きいことや、複屈
折が小さいこと、特定の屈折率を有すこと、耐熱性、成
形性、お工び低吸湿性などに優れることが請求され、熱
可塑性プラスチックスでは、王にポリメタクリル酸メチ
ルとポリカーボネートが使用されてさた。
優れること、すなわち光線透過率が大きいことや、複屈
折が小さいこと、特定の屈折率を有すこと、耐熱性、成
形性、お工び低吸湿性などに優れることが請求され、熱
可塑性プラスチックスでは、王にポリメタクリル酸メチ
ルとポリカーボネートが使用されてさた。
一方、ポリフェニレンエーテルとポリスチレンからなる
複屈折が小さい樹脂組成物は、米国特許第4,373,
065号公報に記載されている。該公報によると、正の
光学旧異方性を有すポリフェニレンエーテルと、負の先
受的4方性を有すポリスチレンを1会することにエリ、
複屈折が生じにくい内相組成物を得ている。
複屈折が小さい樹脂組成物は、米国特許第4,373,
065号公報に記載されている。該公報によると、正の
光学旧異方性を有すポリフェニレンエーテルと、負の先
受的4方性を有すポリスチレンを1会することにエリ、
複屈折が生じにくい内相組成物を得ている。
また、同様の樹脂組成物は、特開昭62−240.90
1号公報、お工び特開昭63−86,738号公報にお
いても記述されている。
1号公報、お工び特開昭63−86,738号公報にお
いても記述されている。
ところが、これらの樹脂組成物、すなわちポリフェニレ
ンエーテルとポリスチレンカラナル樹脂組成物は、複屈
折は生じにくいけれども、薄い茶色を呈するために、光
デイスク基板や光学レンズなどの:5な優れた透明性を
要求される光学用途には、実際には使用できない欠点が
あった。
ンエーテルとポリスチレンカラナル樹脂組成物は、複屈
折は生じにくいけれども、薄い茶色を呈するために、光
デイスク基板や光学レンズなどの:5な優れた透明性を
要求される光学用途には、実際には使用できない欠点が
あった。
〈発明が解決しょうとする課題〉
上述の工うに、ポリフェニレンエーテルとボ1yスチレ
ンからなる複屈折が生じにくい樹脂組成物は、薄い茶色
を呈するために、実際に透明性を必委とする光学部品用
途には適さなかった。
ンからなる複屈折が生じにくい樹脂組成物は、薄い茶色
を呈するために、実際に透明性を必委とする光学部品用
途には適さなかった。
本発明は、以上の課題金力(イしてなされたもので、ポ
リフェニレンエーテルとスチレン系重合体、お工び特定
の化合物からなり、光線透過率が犬きく、かつ複屈折が
小さい樹脂組成物およびそれを成形した光デイスク基板
、光学レンガ、光ファイバー プリでムなどの光学部品
を提供することを目的とする。
リフェニレンエーテルとスチレン系重合体、お工び特定
の化合物からなり、光線透過率が犬きく、かつ複屈折が
小さい樹脂組成物およびそれを成形した光デイスク基板
、光学レンガ、光ファイバー プリでムなどの光学部品
を提供することを目的とする。
〈課Mを解決するための手段〉
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討を
重ねた結果、篤くべきことに、ポリフェニレンエーテル
とスチレン系重合体からなる樹脂組成の系に特定の化合
物を特定虜添加させることに工って得らnる樹脂組成物
とこの樹脂組成物を成形してなる光学部品が、光線透過
率が大きく、かつ複屈折が小さいことを見い出し、本発
明に到達した。
重ねた結果、篤くべきことに、ポリフェニレンエーテル
とスチレン系重合体からなる樹脂組成の系に特定の化合
物を特定虜添加させることに工って得らnる樹脂組成物
とこの樹脂組成物を成形してなる光学部品が、光線透過
率が大きく、かつ複屈折が小さいことを見い出し、本発
明に到達した。
丁なわち、第一の発明は、ポリフェニレンエーテルとス
チレン系重合体からなる樹脂組成とポリフェニレンエー
テル100乗せ部に対し、下記−紋穴で表される化合物
0.01〜10重被部と全仔効成分とする樹脂組成物で
ある。
チレン系重合体からなる樹脂組成とポリフェニレンエー
テル100乗せ部に対し、下記−紋穴で表される化合物
0.01〜10重被部と全仔効成分とする樹脂組成物で
ある。
(式中、Rは、−H、または−CH3を表す)第二の発
明は、ポリフェニレンニーテルトスチレン系重合体から
なる使脂組成とポリフェニレンエーテル100重騎部に
対し、下記−紋穴で表される化合?!7[]、01〜1
0重縫部とを有効成分とする位(脂組成物からなる光学
部品である。
明は、ポリフェニレンニーテルトスチレン系重合体から
なる使脂組成とポリフェニレンエーテル100重騎部に
対し、下記−紋穴で表される化合?!7[]、01〜1
0重縫部とを有効成分とする位(脂組成物からなる光学
部品である。
(式中、Rば、−H,捷たは−CH3を表す)本発明の
樹脂組成物および光学部品に使用されるポリフェニレン
エーテルは、フェノールa s を体を酸化カップリン
グ反応にエリ重合して得られる重合体であり、特公昭’
l 7−36,518号公報、特公昭6 D −46,
129号公報などに記述され之方法により容易に得るこ
とができる。具体的なポリフェニレンエーテルとしては
、プリ(2、6−ジメチル−1,4−フェニレン)エー
テル、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フエニ
レン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−デaピル−1
゜4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−
−F”ロム−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2
,6−ジデaピル−1,4−)ユニレン)エーテル、ポ
リ(2−エチル−6−−y’ロビル−1゜4−フェニレ
ン)エーテル、ポリ(2,3,6−ドリメチルー1.4
−)ユニレン)エーテルなどが挙げられる。特に、ボ’
J (2、6−シメチルー1.4−)ユニレン)エーテ
ルが好ましい。ポリフェニレンエーテルの平均分子tに
ついては、クロロホルム、25℃での極限粘度が0.6
〜0.6の範囲が好ましい。
樹脂組成物および光学部品に使用されるポリフェニレン
エーテルは、フェノールa s を体を酸化カップリン
グ反応にエリ重合して得られる重合体であり、特公昭’
l 7−36,518号公報、特公昭6 D −46,
129号公報などに記述され之方法により容易に得るこ
とができる。具体的なポリフェニレンエーテルとしては
、プリ(2、6−ジメチル−1,4−フェニレン)エー
テル、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フエニ
レン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−デaピル−1
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−F”ロム−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2
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リ(2−エチル−6−−y’ロビル−1゜4−フェニレ
ン)エーテル、ポリ(2,3,6−ドリメチルー1.4
−)ユニレン)エーテルなどが挙げられる。特に、ボ’
J (2、6−シメチルー1.4−)ユニレン)エーテ
ルが好ましい。ポリフェニレンエーテルの平均分子tに
ついては、クロロホルム、25℃での極限粘度が0.6
〜0.6の範囲が好ましい。
本発明のポリスチレン系重合体は、スチレンの単独重合
体およびスチレンと共重合可能な少倉の単量体との共重
合体を歓味するものであり、公知の塊状重合、懸濁重合
、および乳化重合によって容易に合成できる。ここで、
スチレンと共重合可11す単量体としては、α−メチル
スチレン、クロロスチレンなどのスチレン系単量体、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸n−プロピル、メタク
リル酸シクロヘキシルなどのメタクリル酸エステル、ア
クリミニトリル、メタクリロニトリルなどの不飽和ニト
リル、無水マレイン酸、無水シトラコン酸およびN−フ
ェニルマレイミ+y、N−メチルマレイミド、N−メチ
ルフェニルマレイミy、N−シクロヘキシルマレイミド
などのN置換マレイミド、また無水マレイン酸を共重合
したのちイミド化したものなどが挙げられる。好ましく
は、スチレンの単独重合体、または上記の共重合可能々
単量体と0幅より多く5俤以下含むスチレン共重合体で
ある。なお、このスチレン系重合体の重量平均分子量は
、70,000〜40.000の範囲が好適である。重
量平均分子量が、70,000よりも小さいと、機械的
特性が不十分で、一方、400,000を超えると、成
形性が劣り好ましくない。
体およびスチレンと共重合可能な少倉の単量体との共重
合体を歓味するものであり、公知の塊状重合、懸濁重合
、および乳化重合によって容易に合成できる。ここで、
スチレンと共重合可11す単量体としては、α−メチル
スチレン、クロロスチレンなどのスチレン系単量体、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸n−プロピル、メタク
リル酸シクロヘキシルなどのメタクリル酸エステル、ア
クリミニトリル、メタクリロニトリルなどの不飽和ニト
リル、無水マレイン酸、無水シトラコン酸およびN−フ
ェニルマレイミ+y、N−メチルマレイミド、N−メチ
ルフェニルマレイミy、N−シクロヘキシルマレイミド
などのN置換マレイミド、また無水マレイン酸を共重合
したのちイミド化したものなどが挙げられる。好ましく
は、スチレンの単独重合体、または上記の共重合可能々
単量体と0幅より多く5俤以下含むスチレン共重合体で
ある。なお、このスチレン系重合体の重量平均分子量は
、70,000〜40.000の範囲が好適である。重
量平均分子量が、70,000よりも小さいと、機械的
特性が不十分で、一方、400,000を超えると、成
形性が劣り好ましくない。
これらのポリフェニレンエーテルとスチレン系重合体か
らなる樹脂組成は、ポリフェニレンエーテルが1〜60
重縫チ、スチレン系重合体が99〜40重f%であるこ
とが好ましい。ポリフェニレンエーテルが60重偕%を
越えると、複屈折が生じやすくなり、かつ光線透過率が
低減し好ましくない。また、スチレン系重合体が99重
址壬を越えても、複屈折が生じやすくなり好ましくない
。
らなる樹脂組成は、ポリフェニレンエーテルが1〜60
重縫チ、スチレン系重合体が99〜40重f%であるこ
とが好ましい。ポリフェニレンエーテルが60重偕%を
越えると、複屈折が生じやすくなり、かつ光線透過率が
低減し好ましくない。また、スチレン系重合体が99重
址壬を越えても、複屈折が生じやすくなり好ましくない
。
実際には、これらの組成は目的に応じて決定できる。例
えば、透明性を少し犠牲にしても、より、耐熱性が9求
される用途には、一般にプラス転移温度がスチレン系重
合体よりも高いポリフェニレンエーテルが多い樹脂組成
、すなわち、ポリフェニレンエーテルが40〜60ii
tiポリスチレンが60〜40重fat壬の範囲が好適
である。一方、透明性を少しも犠牲にできないレンズな
どの場合ハ、ポリフェニレンエーテルが1〜40ffi
ii%、スチレン系重合体が99〜60重寸チの範囲が
好ましい。また、この樹脂組成物は、車軸または二軸の
押出成形機、オーブンロール、あるいはバンバリーミキ
サ−などによる溶@混合法や、1化メチレンなどの共通
溶媒に溶解させたのちに、溶媒を乾慄させる方法、ある
いはポリフェニレンエーテルの存在下で、スチレンおよ
びスチレンと共重合可能な少債の単量体をラジカル重合
させる方法など、いずれの公知の方法によっても製造す
ることができる。
えば、透明性を少し犠牲にしても、より、耐熱性が9求
される用途には、一般にプラス転移温度がスチレン系重
合体よりも高いポリフェニレンエーテルが多い樹脂組成
、すなわち、ポリフェニレンエーテルが40〜60ii
tiポリスチレンが60〜40重fat壬の範囲が好適
である。一方、透明性を少しも犠牲にできないレンズな
どの場合ハ、ポリフェニレンエーテルが1〜40ffi
ii%、スチレン系重合体が99〜60重寸チの範囲が
好ましい。また、この樹脂組成物は、車軸または二軸の
押出成形機、オーブンロール、あるいはバンバリーミキ
サ−などによる溶@混合法や、1化メチレンなどの共通
溶媒に溶解させたのちに、溶媒を乾慄させる方法、ある
いはポリフェニレンエーテルの存在下で、スチレンおよ
びスチレンと共重合可能な少債の単量体をラジカル重合
させる方法など、いずれの公知の方法によっても製造す
ることができる。
本発明で用いる化合物とは、下記−紋穴で表される化合
物である。
物である。
(式中、Rは、−Hlまたは−CH3を表す)具体的に
は、α−ヒドロキシベ゛ンゾルフェニルケトン(ペン・
ゲインともいつ)、α−ヒドロキシメチルベンジルトル
オイル、α−ヒドロキシメチルベンツルフェニルケトン
などで、これらは、相当する芳香族アルデヒドのベンデ
イン縮今によって容易に合成できる。なかでも、α−ヒ
ドロキシベンシルフェニルケトン、α−ヒドロキシメチ
ルベンジルトルオイルが好!しい。
は、α−ヒドロキシベ゛ンゾルフェニルケトン(ペン・
ゲインともいつ)、α−ヒドロキシメチルベンジルトル
オイル、α−ヒドロキシメチルベンツルフェニルケトン
などで、これらは、相当する芳香族アルデヒドのベンデ
イン縮今によって容易に合成できる。なかでも、α−ヒ
ドロキシベンシルフェニルケトン、α−ヒドロキシメチ
ルベンジルトルオイルが好!しい。
該化合物は、ポリフェニレンエーテルとスチレン系重合
体からなる樹脂組成のポリフェニレンエーテル100重
置部に対し、0.01〜10重量部含葺することを必須
とする。0.01 v置部よりも少ないと、光線透過率
が小さく、透明性が劣る。
体からなる樹脂組成のポリフェニレンエーテル100重
置部に対し、0.01〜10重量部含葺することを必須
とする。0.01 v置部よりも少ないと、光線透過率
が小さく、透明性が劣る。
また、10重瞳部を峠えても、透明性の改良効果が現れ
に〈<、さらに耐相組成から表面にブリードするなどの
弊害が生じるために好ましくない。
に〈<、さらに耐相組成から表面にブリードするなどの
弊害が生じるために好ましくない。
好ましくは、0.5〜7重攬部、さらに好ましくは、1
〜5重量部の範囲である。この化合物は、上述のポリフ
ェニレンエーテルとスチレン系重合体の混合i脂?製造
する際に添加し混合すれば区い。
〜5重量部の範囲である。この化合物は、上述のポリフ
ェニレンエーテルとスチレン系重合体の混合i脂?製造
する際に添加し混合すれば区い。
なお、本発明の樹脂組成物および光学部品V’(ば、ト
リフチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ト
リクレジルホスファイトなどの弘リン酸エステル類や、
ヒンダードフェノール類、ヒンダドアミン類やエポキシ
樹脂類などの酸化防止剤や安定剤を少t ’bfs加し
ても差し支えない。
リフチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ト
リクレジルホスファイトなどの弘リン酸エステル類や、
ヒンダードフェノール類、ヒンダドアミン類やエポキシ
樹脂類などの酸化防止剤や安定剤を少t ’bfs加し
ても差し支えない。
〈実施例〉
次に、具体的に実施例などを挙げて本発明をさらに詳細
に説明でるが、本発明は、これらによって限定されるも
のではない。なお、以下で%は、重f壬を表わすものと
する。
に説明でるが、本発明は、これらによって限定されるも
のではない。なお、以下で%は、重f壬を表わすものと
する。
実施例1
特公昭47−36.518号公報実施例2、ぢ9に記載
された方法に従って、塩化マンがン、エタノールアミン
を触媒として2,6−キシレノールを重合し、極限粘度
が0.52のボ!J (2、6−ジメチル−1,4−)
ユニレン)エーテルヲ得タボリフエニレンエーテル40
%とスチレン系重合体(電気化学工業(株)製デンカス
チロールHRM2)60%、おヨヒα−ヒドキシペンシ
ルフェニルケトン(和光紬薬(i)1重量部(ポリフェ
ニレンエーテル100重被部に対して)を、単軸押出機
にて溶融混合しペレット化した。
された方法に従って、塩化マンがン、エタノールアミン
を触媒として2,6−キシレノールを重合し、極限粘度
が0.52のボ!J (2、6−ジメチル−1,4−)
ユニレン)エーテルヲ得タボリフエニレンエーテル40
%とスチレン系重合体(電気化学工業(株)製デンカス
チロールHRM2)60%、おヨヒα−ヒドキシペンシ
ルフェニルケトン(和光紬薬(i)1重量部(ポリフェ
ニレンエーテル100重被部に対して)を、単軸押出機
にて溶融混合しペレット化した。
このベレットを、東芝機械(株)製精密射出成形機Is
−5Q EPD (型締力5 Q ton )により
、長さ1.2mx、直径130H,の光デイスク基板(
スパイラルプリグループ付き。グループ形状は、ピッチ
1.6amS幅0.7μ出、深さ0.07 ttm )
を成形し、半径50mmの位置での光線透過率(波長8
30 nm )と複屈折(溝尻光学(株)製、自動エリ
プソメータによる光路差)を測定した。結果を表tct
とめた。
−5Q EPD (型締力5 Q ton )により
、長さ1.2mx、直径130H,の光デイスク基板(
スパイラルプリグループ付き。グループ形状は、ピッチ
1.6amS幅0.7μ出、深さ0.07 ttm )
を成形し、半径50mmの位置での光線透過率(波長8
30 nm )と複屈折(溝尻光学(株)製、自動エリ
プソメータによる光路差)を測定した。結果を表tct
とめた。
実施例2〜6
実施例1.!:PI−のポリフェニレンエーテル、スチ
レン系重合体、およびα−ヒドロキシベンジルフェニル
ケトンを用い、表に示す配合で溶融混合してペレット化
し、光デイスク基板を得て実施例1と同一の項目を評価
した。
レン系重合体、およびα−ヒドロキシベンジルフェニル
ケトンを用い、表に示す配合で溶融混合してペレット化
し、光デイスク基板を得て実施例1と同一の項目を評価
した。
比較例1〜2
実施例ト同一のポリフェニレンエーテルとスチレン系重
合体音用い、表に示す配合系にて同上の評価を実施した
。
合体音用い、表に示す配合系にて同上の評価を実施した
。
表によれば、本発明の実施例1〜6の藺脂組成物からな
る光デイスク基板は、光線透過率が大きく透明性に優れ
、複屈折が小さい。比較例1.2は、従来の布脂組底物
で、光線透過率が小さ匹。
る光デイスク基板は、光線透過率が大きく透明性に優れ
、複屈折が小さい。比較例1.2は、従来の布脂組底物
で、光線透過率が小さ匹。
比(illlJ3i、α−ヒドロキシベンシルフェニル
ケトンを12重量部配合した場合で、光線透過率は大き
いけれども、成形品の表面にα−ヒドロキシベンジルフ
ェニルケトンがデリートした。
ケトンを12重量部配合した場合で、光線透過率は大き
いけれども、成形品の表面にα−ヒドロキシベンジルフ
ェニルケトンがデリートした。
実施例1〜6、および比改例1,2(比較例3は、製膜
できなかった)で得た光デイスク基板に、特開昭60−
79,543号公報、実施例1に記載の方法で厚さ0.
1μmのテルビウム/鉄のアモルファス光磁気媒体金製
模し、記録再生時のC’/N比(ナカミチ(味)製、光
磁気ディスク評価機OMS −2000)全測定した結
果を表に追記した。
できなかった)で得た光デイスク基板に、特開昭60−
79,543号公報、実施例1に記載の方法で厚さ0.
1μmのテルビウム/鉄のアモルファス光磁気媒体金製
模し、記録再生時のC’/N比(ナカミチ(味)製、光
磁気ディスク評価機OMS −2000)全測定した結
果を表に追記した。
表によれば、本発明の光学部品の光デイスク基板から得
ら汎た光磁気ディスクは、CZN比が大きく非常に優れ
ていることがわかる。
ら汎た光磁気ディスクは、CZN比が大きく非常に優れ
ていることがわかる。
〈発明の効果〉
以上で説明したように、本発明の樹脂組成物および光学
部品は、光線透過率が大きく、かつ複屈折が小さいため
に、光デイスク基板や光学レンズなどの用途に棲めて有
用である。
部品は、光線透過率が大きく、かつ複屈折が小さいため
に、光デイスク基板や光学レンズなどの用途に棲めて有
用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)ポリフェニレンエーテルとスチレン系重合体から
なる樹脂組成とポリフェニレンエーテル100重量部に
対し、下記一般式で表される化合物0.01〜10重量
部とを有効成分とする樹脂組成物O ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは、−H、または−CH_3を表す)(2)
樹脂組成が、ポリフェニレンエーテル1〜60重量%、
スチレン系重合体99〜40重量%である特許請求の範
囲第(1)項記載の樹脂組成物。 (3)化合物が、α−ヒドロキシベンジルフェニルケト
ンである特許請求の範囲第(1)項記載の樹脂組成物。 (4)前記特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項記
載の樹脂組成物からなる光学部品。 (5)光磁気ディスク基板である特許請求の範囲第(4
)項記載の光学部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26043188A JPH02107651A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 樹脂組成物および光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26043188A JPH02107651A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 樹脂組成物および光学部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02107651A true JPH02107651A (ja) | 1990-04-19 |
Family
ID=17347839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26043188A Pending JPH02107651A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 樹脂組成物および光学部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02107651A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5194476A (en) * | 1990-10-10 | 1993-03-16 | Ecp Enichem Polimeri S.R.L. | Compositions of polyphenylene oxide or mixtures of polyphenylene oxide with beta-diketones |
EP0822222A2 (en) * | 1996-07-30 | 1998-02-04 | General Electric Company | Method for decolorizing polyphenylene ether resins |
US7041780B2 (en) | 2003-08-26 | 2006-05-09 | General Electric | Methods of preparing a polymeric material composite |
US7244813B2 (en) | 2003-08-26 | 2007-07-17 | General Electric Company | Methods of purifying polymeric material |
US7256225B2 (en) | 2003-08-26 | 2007-08-14 | General Electric Company | Methods of preparing a polymeric material |
-
1988
- 1988-10-18 JP JP26043188A patent/JPH02107651A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5194476A (en) * | 1990-10-10 | 1993-03-16 | Ecp Enichem Polimeri S.R.L. | Compositions of polyphenylene oxide or mixtures of polyphenylene oxide with beta-diketones |
EP0822222A2 (en) * | 1996-07-30 | 1998-02-04 | General Electric Company | Method for decolorizing polyphenylene ether resins |
EP0822222A3 (en) * | 1996-07-30 | 1999-01-13 | General Electric Company | Method for decolorizing polyphenylene ether resins |
US7041780B2 (en) | 2003-08-26 | 2006-05-09 | General Electric | Methods of preparing a polymeric material composite |
US7244813B2 (en) | 2003-08-26 | 2007-07-17 | General Electric Company | Methods of purifying polymeric material |
US7256225B2 (en) | 2003-08-26 | 2007-08-14 | General Electric Company | Methods of preparing a polymeric material |
US7314907B2 (en) | 2003-08-26 | 2008-01-01 | General Electric Company | Purified polymeric materials and methods of purifying polymeric materials |
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