JPS60191405A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60191405A JPS60191405A JP4400284A JP4400284A JPS60191405A JP S60191405 A JPS60191405 A JP S60191405A JP 4400284 A JP4400284 A JP 4400284A JP 4400284 A JP4400284 A JP 4400284A JP S60191405 A JPS60191405 A JP S60191405A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gap
- magnetic
- adhered
- track width
- gap formation
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドの創造方法に係り１％にあらかじめ
高透磁率基板にトラック幅規制溝を設けてお込て磁気へ
、ドな製造するときに量産効率を高めるのに好適な製造
方法に関するものである。
高透磁率基板にトラック幅規制溝を設けてお込て磁気へ
、ドな製造するときに量産効率を高めるのに好適な製造
方法に関するものである。
まず、従来の磁気ヘッドの製造方法を第１図。
第２図を用いて説明する。従来は、第１図に示すように
、ギャップ形成の際に、高透磁率基板１ａ。
、ギャップ形成の際に、高透磁率基板１ａ。
１ｂのギャップ面にギャップ長規制のための非磁性薄膜
２ａ、２ｂ、５ｂを被着し、基板１ｂのバックコア部に
は、接着用の非磁性薄膜４ｂを被着させてギャップ形成
を行ってｂた。そのため、前部コア部にマスクをする必
ｇがあシ、また。前部コア部にお−ては、狭トラツク化
をはかるため。
２ａ、２ｂ、５ｂを被着し、基板１ｂのバックコア部に
は、接着用の非磁性薄膜４ｂを被着させてギャップ形成
を行ってｂた。そのため、前部コア部にマスクをする必
ｇがあシ、また。前部コア部にお−ては、狭トラツク化
をはかるため。
それぞれ凹部５ａ、 ５ａ’、５ｂ、 、５ｂ’が設け
てあシ、この凹部５ａ、５ａ’、５ｂ、５ｂ’に起因す
る磁気テープ摺動時のごみ溜シを防止するため、ギャッ
プ形成時に、第２図に示すように、ギャップ近傍に非磁
性材片６を置すて、凹部５ａ、５ａ’。
てあシ、この凹部５ａ、５ａ’、５ｂ、５ｂ’に起因す
る磁気テープ摺動時のごみ溜シを防止するため、ギャッ
プ形成時に、第２図に示すように、ギャップ近傍に非磁
性材片６を置すて、凹部５ａ、５ａ’。
５ｂ、５ｂ’内に非磁性絶縁材を充填するようにしてお
机製造工程が複雑化して能率の悪す製造方法となって込
た。
机製造工程が複雑化して能率の悪す製造方法となって込
た。
本発明は上記に鑑みてなされたもので、その目的とする
ところは、製造工程の複雑さを低減でき。
ところは、製造工程の複雑さを低減でき。
量産性を高めることができる磁気ヘッドの製造方法を提
供することにある。
供することにある。
本発明の特徴は、それぞれトラック幅規制溝を設けた一
対の高透磁率基板の上記トラック幅規制溝内に接着用の
非磁性材を充填し、その後研磨してギャップ形成面にギ
ャップ長規制のための非磁性材を被着し、最後に上記一
対の高透磁率基板のギャップ形成面を突き合わせて上記
接着用の非磁性材の軟化点以上の温度に昇温して所定時
間保持してギャップ形成を行うようにした点にある。
対の高透磁率基板の上記トラック幅規制溝内に接着用の
非磁性材を充填し、その後研磨してギャップ形成面にギ
ャップ長規制のための非磁性材を被着し、最後に上記一
対の高透磁率基板のギャップ形成面を突き合わせて上記
接着用の非磁性材の軟化点以上の温度に昇温して所定時
間保持してギャップ形成を行うようにした点にある。
以下本発明の製造方法の一実施例を第３図〜第８図を用
−て詳細に説明する。
−て詳細に説明する。
第３図〜第７図は本発明の磁気ヘッドの製造方法の一実
施例を説明するための図である。まず。
施例を説明するための図である。まず。
第３図に示すように、一対の高透磁率フェライト基板１
のギャップ形成面にそれぞれほぼＷ型のトラック幅規制
溝５を加工し２次に、第４図に示すように、トラック幅
規制＃１５を含めて、フェライト基板１のギャップ形成
面全体に高調オロ磁束蜜度非晶質合金磁性Ｍ７を被着さ
せる。その後、第５図に示すように、トラック幅規制＋
１１５内の磁性膜７の上にガラスからなる非磁性材８を
充填１−９その後、ギャップ形成向上全体を研磨する。
のギャップ形成面にそれぞれほぼＷ型のトラック幅規制
溝５を加工し２次に、第４図に示すように、トラック幅
規制＃１５を含めて、フェライト基板１のギャップ形成
面全体に高調オロ磁束蜜度非晶質合金磁性Ｍ７を被着さ
せる。その後、第５図に示すように、トラック幅規制＋
１１５内の磁性膜７の上にガラスからなる非磁性材８を
充填１−９その後、ギャップ形成向上全体を研磨する。
そして。
第６図に示すように、ギャップ形成面全体の表面にギャ
ップ長規制のための８１０２からなる非磁性材９をスパ
ッタによ郵被着させ、その後、第７図に示すように、非
磁性材９を被着させた一対のフェライト基板１のギャッ
プ形成面を突き合わせて。
ップ長規制のための８１０２からなる非磁性材９をスパ
ッタによ郵被着させ、その後、第７図に示すように、非
磁性材９を被着させた一対のフェライト基板１のギャッ
プ形成面を突き合わせて。
ガラスの軟化点以上の温度に昇温し、所定の時間保時す
ることによってギャップ形成を行う。その他の製造工程
につ込ては従来と同様であシ、ここでは説明を省略する
。
ることによってギャップ形成を行う。その他の製造工程
につ込ては従来と同様であシ、ここでは説明を省略する
。
第８図は上記により製造１〜た磁気ヘッドの概略を示す
斜視図であシ、１０はギャップ、１１は高飽和磁束密度
非晶質合金磁性膜、１２はガラス。
斜視図であシ、１０はギャップ、１１は高飽和磁束密度
非晶質合金磁性膜、１２はガラス。
１３は高透磁率フェライト、１４は巻線密である。
上記した本発明の方法の実施例によれば、トラック幅規
制溝５に充填した非磁性材８は、ごみ溜りの防止用の充
填材としてだけでなく、／（ｙクコアの接着材としても
作用するから、ギャップ形成時にはギャップ長規制用の
非磁性材９のみを被着させればよく、製造工程の複雑さ
を低減でき、量産性を高めることができる。また、ギャ
ップには接着用が入っていないので、磁気チーブ摺動時
のギヤツブ崩れをなくすことができる。
制溝５に充填した非磁性材８は、ごみ溜りの防止用の充
填材としてだけでなく、／（ｙクコアの接着材としても
作用するから、ギャップ形成時にはギャップ長規制用の
非磁性材９のみを被着させればよく、製造工程の複雑さ
を低減でき、量産性を高めることができる。また、ギャ
ップには接着用が入っていないので、磁気チーブ摺動時
のギヤツブ崩れをなくすことができる。
以上説明したように１本発明によれば、製造工程の複雑
さを低減でき、量産性を高めることができるという効果
がある。
さを低減でき、量産性を高めることができるという効果
がある。
第１図、第２図は従来の磁気ヘッドにおける製造方法を
説明するための斜視図、第３図〜第７図は本発明の磁気
ヘッドの製造方法の一実施例を説明するための図、第８
図は本発明に係る方法にて創造した磁気ヘッドの概略を
示す斜視図である。 １・・・高透磁率フェライト基板、５・・・Ｗ型のトラ
ック幅規制溝、７・・・高飽和磁束密度非晶質合金磁性
膜、８・・・ガラスからなる非磁性材、９・・・ＳｉＯ
からなるギャップ長規制用の非磁性材。 代理人弁理士 高 橋 明 夫 第１１ 第２図 ｘ５図 第６固 特開昭ＧＯ−１９１４０５（３） 第８図
説明するための斜視図、第３図〜第７図は本発明の磁気
ヘッドの製造方法の一実施例を説明するための図、第８
図は本発明に係る方法にて創造した磁気ヘッドの概略を
示す斜視図である。 １・・・高透磁率フェライト基板、５・・・Ｗ型のトラ
ック幅規制溝、７・・・高飽和磁束密度非晶質合金磁性
膜、８・・・ガラスからなる非磁性材、９・・・ＳｉＯ
からなるギャップ長規制用の非磁性材。 代理人弁理士 高 橋 明 夫 第１１ 第２図 ｘ５図 第６固 特開昭ＧＯ−１９１４０５（３） 第８図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、それぞれトラック幅規制溝を設けた一対の高透磁率
基板の前記トラック幅規制溝内に接着用の非磁性材を充
填し、その後研磨してギャップ形成面にギャップ長規制
のための非磁性材を被着し。 最後に前記一対の高透磁率基板のギャップ形成面を突き
合わせて前記接着用の非磁性材の軟化点以上の温度に昇
温して所定時間保持してギャップ形成を行うことを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。 ２、前記接着用の非磁性材を充填する前に前記一対の高
透磁率基板のギャップ形成面に前記トラック幅規制溝を
含めて高飽和磁束密度非晶質合金磁性膜を被着させてお
く特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4400284A JPS60191405A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4400284A JPS60191405A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60191405A true JPS60191405A (ja) | 1985-09-28 |
Family
ID=12679494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4400284A Pending JPS60191405A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60191405A (ja) |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP4400284A patent/JPS60191405A/ja active Pending
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