JPS6018920A - Ｘ線マスク - Google Patents

Ｘ線マスク

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Publication number
JPS6018920A
JPS6018920A JP58126643A JP12664383A JPS6018920A JP S6018920 A JPS6018920 A JP S6018920A JP 58126643 A JP58126643 A JP 58126643A JP 12664383 A JP12664383 A JP 12664383A JP S6018920 A JPS6018920 A JP S6018920A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
ray mask
mask
membrane
blocking function
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58126643A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Iwamatsu
誠一 岩松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp, Suwa Seikosha KK filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP58126643A priority Critical patent/JPS6018920A/ja
Publication of JPS6018920A publication Critical patent/JPS6018920A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はＸ線マスクの構造に関する。
従来、Ｘ線マスクは第１図に示す如く、フレーム１に貼
付けられたメンプラン膜２に形成されたＸ線阻止能を有
する図形状態膜３により構成されているのが通例であっ
た。
しかし、上記従来技術によると、例えば極めて細いＸ線
阻止能を有する図形状膜を形成する場合に必ずしもＸ、
Ｙの２方向や斜めの図形状膜を形成することかできない
等の不都合が生じる等の欠点があった。
本発明はかかる従来技術の欠点をなくシ、極めて細いＸ
　１３阻止能を有する図形状膜によるＸ線マスクに於て
も任意の図形が得られるＸ線マスクを提供することを目
的とする。
上記目的を達成するための本発明の基本的な構成は、Ｘ
線マスクに於て、メンプラン膜にＸ線阻止能を有する図
形状膜が形成された第１のＸ線マスクと第２のＸ線マス
クとが一対となり貼り合わせて構成されて成ることを特
徴とする。
以下、実施例により本発明を詳述する。
第２図は本発明の一実施例を示すＸ線マスクの断面図で
ある。第１のＸ線マスクのフレーム１１にはメンプラン
膜１２、その表面に形成されたＸ線阻止能を有する図形
状膜１３が形成され、第２のＸ線マスクのフレーム１４
上のメンプラン膜１５の表面にはｘ１ｍ阻止能を有する
図形状膜１６が形成され、前記第１のＸ線マスクと第２
のＸ線マスクとは貼付けられ、一体となって形成されて
成る。
本実施例では、第１のＸ線マスクと第２のＸ線マスクが
積み重ねられ、フレーム部で互に接着されているが、第
１のＸ線マスクと第２のＸ線マスクはメンプラン膜を互
に密着させてもよく、第１のＸ線マスクと第２のＸ　、
ＩＩマスクのフレームを互に相対して接着して形成して
も良い。
本発明のごとく、２枚のＸ線マスクを一対となすことに
より、極めて細いＸ線阻止能を有する図形状膜によるＸ
線マスクに於ても任意の図形が得られるＸ線マスクを提
供することができる等の効果がある。
尚、Ｘ線露光は光学露光の結像系におけるごとく、像の
焦点というものがないので、２枚の図形状態が離れて形
成されても結像系における焦点ボケの如き現象はない。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来技術によるＸ線マスクの断面図、第２図は
本発明によるＸ線マスクの一実施例を示す断面図である
。 １．１１．１４・・・・・・フレーム ２１１２．１５・・・・・・メンプラン膜３．１３．１
６・・・・・・Ｘ線阻止能を有する図形状膜 以　上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. メンプラン膜にＸ線阻止能を有する図形状膜が形成され
    た、第１のＸ線マスクと第２のＸＩＪマスクとが一対と
    なり貼り合わせて構成されて成ることを特徴とするＸ、
    １４１マスク。
JP58126643A 1983-07-12 1983-07-12 Ｘ線マスク Pending JPS6018920A (ja)

Priority Applications (1)

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JP58126643A JPS6018920A (ja) 1983-07-12 1983-07-12 Ｘ線マスク

Applications Claiming Priority (1)

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JP58126643A JPS6018920A (ja) 1983-07-12 1983-07-12 Ｘ線マスク

Publications (1)

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JPS6018920A true JPS6018920A (ja) 1985-01-31

Family

ID=14940274

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58126643A Pending JPS6018920A (ja) 1983-07-12 1983-07-12 Ｘ線マスク

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JP (1) JPS6018920A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8167727B2 (en) 2009-10-02 2012-05-01 Opra Technologies High speed gear coupler

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