JPS6018911A - 磁気バブル素子の製造方法 - Google Patents
磁気バブル素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS6018911A JPS6018911A JP58127224A JP12722483A JPS6018911A JP S6018911 A JPS6018911 A JP S6018911A JP 58127224 A JP58127224 A JP 58127224A JP 12722483 A JP12722483 A JP 12722483A JP S6018911 A JPS6018911 A JP S6018911A
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- JP
- Japan
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- patterns
- magnetic
- ion implantation
- mask
- pattern
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/32—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film
- H01F41/34—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film in patterns, e.g. by lithography
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気バブル素子の製造方法に関する。
バブルメモリ素子の高密度化に伴ない、近年ではイオン
注入技術を使った新しい磁気バブルの駆動方式が注目さ
れている。これは、第１図に代表されるような連接した
ディスク状のパターン（コンテイギユアスディスクパタ
ーンと、呼ばれる）をマスクとして、磁気パズルを保持
し得る磁性膜にイオン注入を行ない、バブル駆動層を形
成するものである。この駆動層は、適当なバイアスと回
転磁界のもとで、連接ディスクパターンの外周にそって
、磁気バブルを転送させることができる。
注入技術を使った新しい磁気バブルの駆動方式が注目さ
れている。これは、第１図に代表されるような連接した
ディスク状のパターン（コンテイギユアスディスクパタ
ーンと、呼ばれる）をマスクとして、磁気パズルを保持
し得る磁性膜にイオン注入を行ない、バブル駆動層を形
成するものである。この駆動層は、適当なバイアスと回
転磁界のもとで、連接ディスクパターンの外周にそって
、磁気バブルを転送させることができる。
第２図は、従来性われているイオン注入による転送パタ
ーン形成プロセスの一例を示したものである。（ａ）
（ＹＳｍＬｕＢｉＯａ ）３（ＦｅＧｅ ）５０．□
に代表されるような磁気バブルを保持し得る磁性ガーネ
ット膜１上にクロム／金などの金属マスクパターン２を
イオンビームエツチング法によりエツチングしレジスト
剥離を行なう。続いて全面にイオン注入３を行なう。（
ｂ）一部の金属マスクパターン４を、絶縁層を介して積
層される導体パターンとの位置合わせのために残し、他
の金属パターンをすべて除去する。これ以後の製造工程
は、本発明と、直接関連がないので省略する。
ーン形成プロセスの一例を示したものである。（ａ）
（ＹＳｍＬｕＢｉＯａ ）３（ＦｅＧｅ ）５０．□
に代表されるような磁気バブルを保持し得る磁性ガーネ
ット膜１上にクロム／金などの金属マスクパターン２を
イオンビームエツチング法によりエツチングしレジスト
剥離を行なう。続いて全面にイオン注入３を行なう。（
ｂ）一部の金属マスクパターン４を、絶縁層を介して積
層される導体パターンとの位置合わせのために残し、他
の金属パターンをすべて除去する。これ以後の製造工程
は、本発明と、直接関連がないので省略する。
このような方法によってバブル駆動層を形成する場合、
従来、イオン注入後の金属パターンが化学エツチングで
は除去し釦くいという問題を有していた。
従来、イオン注入後の金属パターンが化学エツチングで
は除去し釦くいという問題を有していた。
本発明の目的は、このような欠点を克服した新規な磁気
バブル素子の製造方法を提供することにある。本発明は
、磁性層化イオン注入により面内磁化層を形成し、磁気
バブルの転送パターンと成すコンテイギユアスディスク
磁気バブル素子の製造方法忙おいて、金属パターンをマ
スクとして前記磁性層にイオン注入をした後、酸素プラ
ズマ処理をすることを特徴とする磁気バブル素子の製造
方法である。
バブル素子の製造方法を提供することにある。本発明は
、磁性層化イオン注入により面内磁化層を形成し、磁気
バブルの転送パターンと成すコンテイギユアスディスク
磁気バブル素子の製造方法忙おいて、金属パターンをマ
スクとして前記磁性層にイオン注入をした後、酸素プラ
ズマ処理をすることを特徴とする磁気バブル素子の製造
方法である。
次に本発明の実施例を用いて一層詳細忙説明する。
実施例
（Ｙ８ｍＬｕＢｉＯａ）、（ＧｅＦｅ）、０．２ガーネ
ツト上に厚さ５０００Ａのクロム／金を蒸着する。レジ
ストパターンをマスクとしてクロム／金をイオンミリン
グすること虻より、連接したディスク状のパターンを形
成する。酸素プラズマ処理をすることにより、あるいは
剥離液を用いることによりレジストを剥離する。続いて
全面化イオン注入を行ないバブル鹿動層を形成する。円
筒形のプラズマエツチング装置に流量１５５ Ｃｏ／分
の酸素を導入し、チェンバー圧力Ｉ Ｔ ｏ ｒ ｒ
ｓ高周波電力２ｏｏｗｆ）争件で１５分間プラズマエツ
チングする。このとき、試料が７ニールされないよう、
低高周波電力でエツチングすることが重要である。ここ
では、試料が１５０℃以下となる条件でエツチングした
。次に一部の金属パターンを７オトレジストで覆い、ヨ
ード・ヨードカリ系のエッチャントで金を、硝酸セリウ
ム禾のエッチャントでクロムを除去する。
ツト上に厚さ５０００Ａのクロム／金を蒸着する。レジ
ストパターンをマスクとしてクロム／金をイオンミリン
グすること虻より、連接したディスク状のパターンを形
成する。酸素プラズマ処理をすることにより、あるいは
剥離液を用いることによりレジストを剥離する。続いて
全面化イオン注入を行ないバブル鹿動層を形成する。円
筒形のプラズマエツチング装置に流量１５５ Ｃｏ／分
の酸素を導入し、チェンバー圧力Ｉ Ｔ ｏ ｒ ｒ
ｓ高周波電力２ｏｏｗｆ）争件で１５分間プラズマエツ
チングする。このとき、試料が７ニールされないよう、
低高周波電力でエツチングすることが重要である。ここ
では、試料が１５０℃以下となる条件でエツチングした
。次に一部の金属パターンを７オトレジストで覆い、ヨ
ード・ヨードカリ系のエッチャントで金を、硝酸セリウ
ム禾のエッチャントでクロムを除去する。
残った一部の金属パターンは次工程の目合わせパターン
として使う。尚イオン注入後の酸素プラズマエツチング
は、一部の金属パターンをフォトレジストで覆った後に
行っても良い。
として使う。尚イオン注入後の酸素プラズマエツチング
は、一部の金属パターンをフォトレジストで覆った後に
行っても良い。
以上述べたように本発明によれば、イオン注入のマスク
材として用いた金属パターンを良好忙除去することがで
きる。尚酸素プラズマ処理が有効なことから、′１オン
注入工程では、金属パターンの表面に有機系の被膜が形
成されると推定される。
材として用いた金属パターンを良好忙除去することがで
きる。尚酸素プラズマ処理が有効なことから、′１オン
注入工程では、金属パターンの表面に有機系の被膜が形
成されると推定される。
即ち、イオン注入装置の真空排気系統忙使われる拡散ポ
ンプオイル等が試料表面に微量吸着し、イオンビーム照
射により重合膜が形成されるものと思われる。
ンプオイル等が試料表面に微量吸着し、イオンビーム照
射により重合膜が形成されるものと思われる。
第１図は、コンティギーアスディスク状のバブル転送パ
ターンを示す図、第２図（ａ）、 （ｂ）はイオン注入
による転送パターン形成プロセスを示す図。 ｌは磁気バブルを保持し得る磁性ガーネット膜、２は金
属マスクパターン、３は注入されるイオン、４は目合わ
せのための金屑パターン、５はイオン注入層、６はフォ
トレジストパターンである。 オ １ 図 ７１−２ 図 （（−
ターンを示す図、第２図（ａ）、 （ｂ）はイオン注入
による転送パターン形成プロセスを示す図。 ｌは磁気バブルを保持し得る磁性ガーネット膜、２は金
属マスクパターン、３は注入されるイオン、４は目合わ
せのための金屑パターン、５はイオン注入層、６はフォ
トレジストパターンである。 オ １ 図 ７１−２ 図 （（−
Claims (1)
- 磁性層にイオン注入により面内磁化層を形成し、磁気バ
ブルの転送パターンと成すコンテイギユアスディスク磁
気バブル素子の製造方法において、金属パターンをマス
クとして前記磁性層にイオン注入をした後、酸素プラズ
マ処理をする工程を有することを特徴とする磁気バブル
素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58127224A JPS6018911A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 磁気バブル素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58127224A JPS6018911A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 磁気バブル素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6018911A true JPS6018911A (ja) | 1985-01-31 |
Family
ID=14954797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58127224A Pending JPS6018911A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 磁気バブル素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6018911A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07232975A (ja) * | 1994-02-22 | 1995-09-05 | Mitsubishi Materials Corp | 建材の製造方法 |
| US5547710A (en) * | 1992-03-11 | 1996-08-20 | Zeneca Limited | Aqueous coating compositions |
-
1983
- 1983-07-13 JP JP58127224A patent/JPS6018911A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5547710A (en) * | 1992-03-11 | 1996-08-20 | Zeneca Limited | Aqueous coating compositions |
| JPH07232975A (ja) * | 1994-02-22 | 1995-09-05 | Mitsubishi Materials Corp | 建材の製造方法 |
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