JPS60174875A - メタルマスク - Google Patents
メタルマスクInfo
- Publication number
- JPS60174875A JPS60174875A JP2296084A JP2296084A JPS60174875A JP S60174875 A JPS60174875 A JP S60174875A JP 2296084 A JP2296084 A JP 2296084A JP 2296084 A JP2296084 A JP 2296084A JP S60174875 A JPS60174875 A JP S60174875A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal mask
- mask
- masks
- auxiliary
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は電子部品の高密度微細・リーンｉ成に用いられ
るメタルマスクに関する。
るメタルマスクに関する。
〈従来技術〉
従来、メタルマスクを用い真空蒸着法によシソルダバン
プが形成されている。このような電子部品の接続のため
のソルダバンプバ一般ニピッチが２００μｍ１直径１０
０μｍ程度である。
プが形成されている。このような電子部品の接続のため
のソルダバンプバ一般ニピッチが２００μｍ１直径１０
０μｍ程度である。
一方、超伝導集積回路、ＧａＡａ集積回路等のような超
高速デバイスを実現するには、超高密度実装が不可欠で
あシ、高密度微細なソルダバンプの形成が要求される。
高速デバイスを実現するには、超高密度実装が不可欠で
あシ、高密度微細なソルダバンプの形成が要求される。
この場合従来は、メタルマスクを通常化学エツチングに
よシバターン形成するため、微細なパターンを形成する
には孔のアスペクト比の制限上、メタルマスクの板厚を
薄くせざるを得なかった。このためメタルマスクの剛性
が低下し、蒸着基板との密着性が損なわれるなど、微細
ノ４ターン形成が困難となっていた。
よシバターン形成するため、微細なパターンを形成する
には孔のアスペクト比の制限上、メタルマスクの板厚を
薄くせざるを得なかった。このためメタルマスクの剛性
が低下し、蒸着基板との密着性が損なわれるなど、微細
ノ４ターン形成が困難となっていた。
このような欠点を解決するため、板厚の異なるメタルマ
スクを重ね合わせて使用する方法が考えられるが、２種
のメタルマスクを溶接等で張シ合あわせたシ、または枠
にねじ等で固定す、る方法ではメタルマスクの維持管理
上程々の問題を生ずる。
スクを重ね合わせて使用する方法が考えられるが、２種
のメタルマスクを溶接等で張シ合あわせたシ、または枠
にねじ等で固定す、る方法ではメタルマスクの維持管理
上程々の問題を生ずる。
〈発明の目的〉
本発明は上記従来の欠点を解消するメタルマスクを提供
することを目的とし、主メタルマスクと補助メタルマス
クとを一体に吸引貼着して用いることによシ主メタルマ
スクを補強し、平坦性を高めると共にメタルマスクの使
用、再生を容易にしたものである。
することを目的とし、主メタルマスクと補助メタルマス
クとを一体に吸引貼着して用いることによシ主メタルマ
スクを補強し、平坦性を高めると共にメタルマスクの使
用、再生を容易にしたものである。
〈発明の構成〉
上記目的を達成するための本発明の構成は、主メタルマ
スクと補助メタルマスクとから成シ、これら主メタルマ
スクと補助メタルマスクとを吸引し一体化して使用する
ための貫通孔が該補助メタルマスクに設けられているこ
とを特徴とする。
スクと補助メタルマスクとから成シ、これら主メタルマ
スクと補助メタルマスクとを吸引し一体化して使用する
ための貫通孔が該補助メタルマスクに設けられているこ
とを特徴とする。
更にその好適な実施態様として、上記補助メタルマスク
の表面に溝が刻設されておシ、該溝の底部に上記貫通孔
が設けられると共に核補助メタルマスクには主メタルマ
スクのパター゛シよシ大きいパターンが形成されておシ
、一方主メタルマスクの板厚は上記補助メタルマスクよ
シ薄いことを特徴とする。
の表面に溝が刻設されておシ、該溝の底部に上記貫通孔
が設けられると共に核補助メタルマスクには主メタルマ
スクのパター゛シよシ大きいパターンが形成されておシ
、一方主メタルマスクの板厚は上記補助メタルマスクよ
シ薄いことを特徴とする。
〈実施例〉
第１図（ａ） （ｂ）および第２図に本発明に係るメタ
ルマスクの一実施例を示す。図示するようにメタルマス
クは補助メタルマスク１と主メタルマスク４とから成る
。補助メタルマスク１は円板状の外形を有し本実施例で
は外径６５＋ｍｎ、板厚２５０μｍのＭｏよりなる。該
補助メタルマスク１には主メタルマスク４のパターンよ
シ大きいパターンが形成されている。更に該補助メタル
マスク１０周縁部に溝３が刻設されている。該溝３は補
助メタルマスク１の周縁部に沿って環状に形成されてお
シ、該溝３の底部に貫通孔２が穿設されている。該貫通
孔２は主メタルマスク４を吸引するためのものであり、
均等な吸引効果を得ることができるように溝全体に均等
に設けられている。
ルマスクの一実施例を示す。図示するようにメタルマス
クは補助メタルマスク１と主メタルマスク４とから成る
。補助メタルマスク１は円板状の外形を有し本実施例で
は外径６５＋ｍｎ、板厚２５０μｍのＭｏよりなる。該
補助メタルマスク１には主メタルマスク４のパターンよ
シ大きいパターンが形成されている。更に該補助メタル
マスク１０周縁部に溝３が刻設されている。該溝３は補
助メタルマスク１の周縁部に沿って環状に形成されてお
シ、該溝３の底部に貫通孔２が穿設されている。該貫通
孔２は主メタルマスク４を吸引するためのものであり、
均等な吸引効果を得ることができるように溝全体に均等
に設けられている。
尚本実施例では幅２ｍｍ、深さ１２０μｍの溝３が設け
られておシ、又、貫通孔２は左右対称に４ケ所設けられ
ている。該補助メタルマスク１は第２図に示すように主
メタルマスク４と一体に吸着して用いられる。主メタル
マスク４は外径６５ ｔｒｒｍ−、板厚２５μｍの円板
状をなしており、Ｍｏによシ形成されている。該主メタ
ルマスク４には所定の微細パターンが形成されている。
られておシ、又、貫通孔２は左右対称に４ケ所設けられ
ている。該補助メタルマスク１は第２図に示すように主
メタルマスク４と一体に吸着して用いられる。主メタル
マスク４は外径６５ ｔｒｒｍ−、板厚２５μｍの円板
状をなしており、Ｍｏによシ形成されている。該主メタ
ルマスク４には所定の微細パターンが形成されている。
これら主メタルマスク４と補助メタルマスク１とは第２
図に示す保持装置によシ一体に吸引保持される。
図に示す保持装置によシ一体に吸引保持される。
第２図において、５は直径２イ／テのＳ１ウエハよ構成
る蒸着基板、６は蒸着基板５を保持するメタルマスクホ
ルダ１１の受台、７はメタルマスクホルダ１１の押え枠
、８は吸引用の溝であり、押え枠７の内面に刻設されて
いる。９は吸引孔であシ、押え枠７０側部を貫通して穿
設されておυ、溝８と外部とに連通している。主メタル
マスク４と補助メタルマスク１とは上記ホルダ１１に装
着され、吸引孔９及び溝８を通して、外部の真空ポンプ
によシ真空吸引され、一体と″なって押え枠７に固着さ
れる。この真空吸引によシ、主メタルマスク４、補助メ
タルマスク１を一体に押え枠７に固着する操作は、ノタ
ーニングされた蒸着基板５と主メタルマスク４゛の位置
合わせ６際に行なわれるものであシ、位置合わせが完了
すると真空吸引を停止し、主メタルマスク４と補助メタ
ルマスク１を蒸着基板５上に静置させ、押え枠７に螺合
するねじ１０を締付ける。これによシ主メタルマスク４
、補助メタルマスク１、蒸着基板５は一体に受台６に圧
着される。蒸着基板上に所足の物質を蒸着する際は、メ
タルマスクホルダ１１ごと蒸着装置に取シつける。蒸着
が終了すると、メタルマスクホルダ１１の締めつけねじ
１０を緩めることにより、主メタルマスク４、補助メタ
ルマスク１及び蒸着基板は直ちに分離できる。
る蒸着基板、６は蒸着基板５を保持するメタルマスクホ
ルダ１１の受台、７はメタルマスクホルダ１１の押え枠
、８は吸引用の溝であり、押え枠７の内面に刻設されて
いる。９は吸引孔であシ、押え枠７０側部を貫通して穿
設されておυ、溝８と外部とに連通している。主メタル
マスク４と補助メタルマスク１とは上記ホルダ１１に装
着され、吸引孔９及び溝８を通して、外部の真空ポンプ
によシ真空吸引され、一体と″なって押え枠７に固着さ
れる。この真空吸引によシ、主メタルマスク４、補助メ
タルマスク１を一体に押え枠７に固着する操作は、ノタ
ーニングされた蒸着基板５と主メタルマスク４゛の位置
合わせ６際に行なわれるものであシ、位置合わせが完了
すると真空吸引を停止し、主メタルマスク４と補助メタ
ルマスク１を蒸着基板５上に静置させ、押え枠７に螺合
するねじ１０を締付ける。これによシ主メタルマスク４
、補助メタルマスク１、蒸着基板５は一体に受台６に圧
着される。蒸着基板上に所足の物質を蒸着する際は、メ
タルマスクホルダ１１ごと蒸着装置に取シつける。蒸着
が終了すると、メタルマスクホルダ１１の締めつけねじ
１０を緩めることにより、主メタルマスク４、補助メタ
ルマスク１及び蒸着基板は直ちに分離できる。
本発明のメタルマスクは上述のように位置合わせの際の
み一体化されメタルマスクの保管時は分離されるため、
補助メタルマスク１と主メタルマスク４の組合わせを迅
速かつ簡単に行えるので、メタルマスクの維持管理が容
易となシ、しかも補助メタルマスクの共通化を図ること
によシメタルマスク製作費の低減に有効である。
み一体化されメタルマスクの保管時は分離されるため、
補助メタルマスク１と主メタルマスク４の組合わせを迅
速かつ簡単に行えるので、メタルマスクの維持管理が容
易となシ、しかも補助メタルマスクの共通化を図ること
によシメタルマスク製作費の低減に有効である。
また、主メタルマスクと補助メタルマスクの共通位置に
ガイドピン用の孔を開け、ガイド治具により主メタルマ
スクと補助メタルマスクの組立を迅速に行えるようにす
れば、主メタルマスクと補助メタルマスクを使用の都度
組み合わせる煩わしさも解決できる。
ガイドピン用の孔を開け、ガイド治具により主メタルマ
スクと補助メタルマスクの組立を迅速に行えるようにす
れば、主メタルマスクと補助メタルマスクを使用の都度
組み合わせる煩わしさも解決できる。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明のメタルマスクは使用時の
み真空吸引によシ一体化するものであるから、メタルマ
スクの保管場所の節約、使用後に蒸着物質を除去し再生
する際の容易さ、補助メタルマスクの共通化による種類
、枚数の低減によるメタルマスク製作費の削減等実用上
大きな利点がある。
み真空吸引によシ一体化するものであるから、メタルマ
スクの保管場所の節約、使用後に蒸着物質を除去し再生
する際の容易さ、補助メタルマスクの共通化による種類
、枚数の低減によるメタルマスク製作費の削減等実用上
大きな利点がある。
第１図（ａ）は本発明に係る補助メタルマスクの平面図
、第１図伽）はその断面図、第２図は本発明に係るメタ
ルマスクの組立状態を示す断面図である。 図面中、 １は補助メタルマスク、 ２は貫通孔、 ３は溝、 ４は主メタルマスク、 ５は蒸着基板、 ６はメタルマスクホルダの受台、 ７はメタルマスクホルダの押え枠、 ８は押え枠内面の溝、 ９は押え枠内部の吸引孔、 １０は押え枠の締付けねじ、 １１はメタルマスクホルダである。 特許出願人 日本電（＆電話公社
、第１図伽）はその断面図、第２図は本発明に係るメタ
ルマスクの組立状態を示す断面図である。 図面中、 １は補助メタルマスク、 ２は貫通孔、 ３は溝、 ４は主メタルマスク、 ５は蒸着基板、 ６はメタルマスクホルダの受台、 ７はメタルマスクホルダの押え枠、 ８は押え枠内面の溝、 ９は押え枠内部の吸引孔、 １０は押え枠の締付けねじ、 １１はメタルマスクホルダである。 特許出願人 日本電（＆電話公社
Claims (2)
- （１） 主メタルマスクと補助メタルマスクとから１ｒ
、シ、これら主メタルマスクと補助メタルマスクとを吸
引し一体化して使用するための貫通孔が該補助メタルマ
スクに設けられていることを特徴とするメタルマスク。 - （２）上記補助メタルマスクの表面に溝が刻設されてお
シ、該溝の一部に上記貫通孔が設けられると共に該補助
メタルマスクには主メタルマスクのパターンより大きい
／ぐターンが形成されており、一方主メタルマスクの板
厚は上記補助メタルマスクよシ薄いことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載のメタルマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2296084A JPS60174875A (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | メタルマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2296084A JPS60174875A (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | メタルマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60174875A true JPS60174875A (ja) | 1985-09-09 |
Family
ID=12097160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2296084A Pending JPS60174875A (ja) | 1984-02-13 | 1984-02-13 | メタルマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60174875A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015209574A (ja) * | 2014-04-28 | 2015-11-24 | トヨタ自動車株式会社 | 表面に膜を有する部材を製造する方法 |
| WO2016088632A1 (ja) * | 2014-12-03 | 2016-06-09 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、蒸着装置、蒸着マスクの製造方法、および蒸着方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5414344A (en) * | 1977-07-05 | 1979-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Fixing method for substrate to cacuum deposition electrode attaching jig |
-
1984
- 1984-02-13 JP JP2296084A patent/JPS60174875A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5414344A (en) * | 1977-07-05 | 1979-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Fixing method for substrate to cacuum deposition electrode attaching jig |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015209574A (ja) * | 2014-04-28 | 2015-11-24 | トヨタ自動車株式会社 | 表面に膜を有する部材を製造する方法 |
| WO2016088632A1 (ja) * | 2014-12-03 | 2016-06-09 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、蒸着装置、蒸着マスクの製造方法、および蒸着方法 |
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