JPS60171617A - 薄膜磁気ヘツド用セラミツク基板 - Google Patents
薄膜磁気ヘツド用セラミツク基板Info
- Publication number
- JPS60171617A JPS60171617A JP59027719A JP2771984A JPS60171617A JP S60171617 A JPS60171617 A JP S60171617A JP 59027719 A JP59027719 A JP 59027719A JP 2771984 A JP2771984 A JP 2771984A JP S60171617 A JPS60171617 A JP S60171617A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbide
- nitride
- magnetic head
- thin film
- film magnetic
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は磁気ヘッドとして開発が進められている薄膜磁
気ヘッドに基板として用いるセラミック材料に関する。
気ヘッドに基板として用いるセラミック材料に関する。
（従来技術とその問題点）
薄膜磁気ヘッドはコンピューター磁気ディスクへの実用
化が図られ、記録密度の向上要求に答えようとしている
。
化が図られ、記録密度の向上要求に答えようとしている
。
現在のところその基板材料としてフェライト、ＡＩ！２
０ｓ−ＴｉＣ系セラミックス等が検討され、特にｋ１２
０ｓ−ＴｉＣが磁気特性、機械特性をはじめ、平滑加工
性、機械加工性、組織の均−性等から最も秀れた材料と
されている。
０ｓ−ＴｉＣ系セラミックス等が検討され、特にｋ１２
０ｓ−ＴｉＣが磁気特性、機械特性をはじめ、平滑加工
性、機械加工性、組織の均−性等から最も秀れた材料と
されている。
しかしながら未だにその機械加工性と機械的特性および
組織の均一性のいずれも満足する材料は実用されておら
ず、特に加工歩留りの悪いことが問題となっている。す
なわち秀れた機械的特性と均−な組織をもったセラミッ
ク材料は加工性に劣りスライシング（ＳＩ！ｉｃｉｎｇ
）工程でのチッピングにより不良となることが多かった
のである。
組織の均一性のいずれも満足する材料は実用されておら
ず、特に加工歩留りの悪いことが問題となっている。す
なわち秀れた機械的特性と均−な組織をもったセラミッ
ク材料は加工性に劣りスライシング（ＳＩ！ｉｃｉｎｇ
）工程でのチッピングにより不良となることが多かった
のである。
（発明の構成）
本発明者らはこのような状況に鑑み秀れた機械的特性と
加工性を兼ね備えた薄膜磁気ヘッド用基板材料を提供せ
んとするものである。
加工性を兼ね備えた薄膜磁気ヘッド用基板材料を提供せ
んとするものである。
即ち本発明の薄膜磁気ヘッド用セラミック基板はジルコ
ニアを主成分とするセラミック焼結体から成ることを特
徴とするものである。特に本発明は主たる構成相が正方
晶ＺｒＯ２からなり、周期律表■λ＋Ｖａ＋■ａ族元素
の炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸化物、酸窒化物、炭
酸窒化物等を分散した構造からなるセラミックスである
。
ニアを主成分とするセラミック焼結体から成ることを特
徴とするものである。特に本発明は主たる構成相が正方
晶ＺｒＯ２からなり、周期律表■λ＋Ｖａ＋■ａ族元素
の炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸化物、酸窒化物、炭
酸窒化物等を分散した構造からなるセラミックスである
。
従来の基板材料がＡｇ０ａ主成分であるために硬度が高
くまた機械的強度が不十分なために特に加工性に問題が
あったのに比べ、本発明は適度の硬度と秀れた機械的強
度から加工性に秀れ、ヘッドへの加工時の歩留を高くす
ることが可能となった。
くまた機械的強度が不十分なために特に加工性に問題が
あったのに比べ、本発明は適度の硬度と秀れた機械的強
度から加工性に秀れ、ヘッドへの加工時の歩留を高くす
ることが可能となった。
ＺｒＯ２相は本発明セラミックの主構成相でその焼結体
に占める割合は５５体積パーセント〜９６体積パーセン
トであることを必要とする。それは５５体積パーセント
以下ではＺｒＯ２量が少なく、その秀足し、また焼結体
電気伝導度が小さく、静電気の帯電がおこるため必要な
特性が得られぬ。
に占める割合は５５体積パーセント〜９６体積パーセン
トであることを必要とする。それは５５体積パーセント
以下ではＺｒＯ２量が少なく、その秀足し、また焼結体
電気伝導度が小さく、静電気の帯電がおこるため必要な
特性が得られぬ。
分散相である周期律表■ａ４ａ、■ａ族元素の炭化物、
窒化物、炭窒化物、炭酸化物、酸窒化物、炭酸窒化物は
残余の部分を構成するが、これらの単体、２種以上の混
合物または固溶体のいずれであっても同様の効果を得る
。
窒化物、炭窒化物、炭酸化物、酸窒化物、炭酸窒化物は
残余の部分を構成するが、これらの単体、２種以上の混
合物または固溶体のいずれであっても同様の効果を得る
。
また工程中に混入する不純物は６体積パーセント以下で
あればおおむね良好な特性を維持し得ることが判明して
いる。
あればおおむね良好な特性を維持し得ることが判明して
いる。
ざらにＺｒＯ２相は周期律表■ａ族の酸化物またはＣａ
ＯＭｇＯから選ばれた１種または２種以上を固溶し７０
重量パーセント以上が正方晶または立方晶とする必要が
ある。すなわち単斜晶が増加すると焼結後冷却途中にマ
イクロクランクが発生し機械的強度が著しく低下するた
めである。特に正方晶が７０重量パーセント以上で望ま
しい特性を得た。
ＯＭｇＯから選ばれた１種または２種以上を固溶し７０
重量パーセント以上が正方晶または立方晶とする必要が
ある。すなわち単斜晶が増加すると焼結後冷却途中にマ
イクロクランクが発生し機械的強度が著しく低下するた
めである。特に正方晶が７０重量パーセント以上で望ま
しい特性を得た。
以下実施例をあげて説明する。
実施例１
ＺｒＯｚ −３モ／ｌ／ Ｙ２Ｏ５％成の共沈粉末を１
５００℃×１時間Ｘ３００Ｋｇ／ｃａの条件でホットプ
レスし理論密度比１００係で平均粒径０．５μから成る
ジルコニア焼結体を得た。
５００℃×１時間Ｘ３００Ｋｇ／ｃａの条件でホットプ
レスし理論密度比１００係で平均粒径０．５μから成る
ジルコニア焼結体を得た。
得られた焼結体と市販のＡＡ’ ｚｏｓ −Ｔ ｉＣ焼
結体をウェハーに加工し、さらにダイヤモンド砥石を用
いてスライシングを行なった。その結果ポリシング後の
ウェハー表面の欠陥きしてはジルコニア焼結体にボイド
が少なく、平滑性に秀れていることが判明した。さらに
スライシングによるエッヂのチッピングもジルコニア焼
結体１に比してＡＡ’ ２０３−ＴｉＣ焼結体は１ｏ程
度と多く、歩留りが劣ることが判明した。
結体をウェハーに加工し、さらにダイヤモンド砥石を用
いてスライシングを行なった。その結果ポリシング後の
ウェハー表面の欠陥きしてはジルコニア焼結体にボイド
が少なく、平滑性に秀れていることが判明した。さらに
スライシングによるエッヂのチッピングもジルコニア焼
結体１に比してＡＡ’ ２０３−ＴｉＣ焼結体は１ｏ程
度と多く、歩留りが劣ることが判明した。
またジルコニア焼結体ウェハーに磁気ヘッド回路をえか
きスライシング後フライングディスクヘッドに組み立て
、ジルコニア焼結体が薄膜磁気ヘッド基板として秀れた
特性を示すことを確認した。
きスライシング後フライングディスクヘッドに組み立て
、ジルコニア焼結体が薄膜磁気ヘッド基板として秀れた
特性を示すことを確認した。
実施例２
第１表に示す組成のＺｒＯ２粉末と分散相成分粉末を、
Ａｌ２Ｏ５ボールを用いたＡＡ’２０Ｍポットに水とと
も装入し、７２ Ｈ湿式にて粉砕混合した。
Ａｌ２Ｏ５ボールを用いたＡＡ’２０Ｍポットに水とと
も装入し、７２ Ｈ湿式にて粉砕混合した。
得られたスラリーを乾燥後真空ポットプレスによって１
６００℃Ｘ ３００ Ｋ９／ｃｎｆの条件で２時間焼成
した。得られた焼結体から試片を切り出して抗折力、電
気伝導度、硬度、ラップ面の平滑性、ダイヤモンド砥石
によ与るＳｔ！ｉｃｉｎｇ時のチッピング量の４価を行
ない、市販Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ基板との比較を行なった
。得られた評価を第１表に併記するが本発明基板が特に
加工性に秀れることがわかる。
６００℃Ｘ ３００ Ｋ９／ｃｎｆの条件で２時間焼成
した。得られた焼結体から試片を切り出して抗折力、電
気伝導度、硬度、ラップ面の平滑性、ダイヤモンド砥石
によ与るＳｔ！ｉｃｉｎｇ時のチッピング量の４価を行
ない、市販Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ基板との比較を行なった
。得られた評価を第１表に併記するが本発明基板が特に
加工性に秀れることがわかる。
実施例６
第１表１に示した組成（６モルＹ２Ｏ３含有ＺｒＯ２−
２５ｖ１０硬質相）において硬質相にＴ ｉ ｏ、ｓ
Ｗ＋、５ Ｃ。
２５ｖ１０硬質相）において硬質相にＴ ｉ ｏ、ｓ
Ｗ＋、５ Ｃ。
Ｔ１Ｃｏ、ｓ Ｎｏ、ｓ 、 ＴａＣ、Ｔｉｅｏ、、
Ｎｏ、、 、 Ｔ１Ｃｏ５Ｎｏ２０ｏ３を採用し実施例
１と同様の評価を行なったところ、おおむね同様の結果
が得られ、これらの硬質相も極めて有効であることが判
明した。
Ｎｏ、、 、 Ｔ１Ｃｏ５Ｎｏ２０ｏ３を採用し実施例
１と同様の評価を行なったところ、おおむね同様の結果
が得られ、これらの硬質相も極めて有効であることが判
明した。
実施例４
実施例２にて製作した第１表１に示した焼結体を薄膜磁
気ヘッドに加工し、フライングディスクヘッドとして実
用に供したところ、従来のＡ１２ｏｓ−ＴｉＣ基板を使
用した場合と同等以上の性能が得られることがわかった
。
気ヘッドに加工し、フライングディスクヘッドとして実
用に供したところ、従来のＡ１２ｏｓ−ＴｉＣ基板を使
用した場合と同等以上の性能が得られることがわかった
。
（発明の効果）
以上の様に本発明によれば秀れた機械的特性と加工性を
兼ね備えた薄膜磁気ヘッド用セラミック基板が得られる
。
兼ね備えた薄膜磁気ヘッド用セラミック基板が得られる
。
手続補正書
昭和５９年１１月１８日
特許庁長官志賀 学 殿
１、事件の表示 気固
昭和５９ 年 特許 願第２７７１９号２・ 発明の名
称、考Ｃム入へッ／、” ＋７１ ｆ ７７７ｚ！ｊり
３、 補正をする者 事件との関係 牛旨′「出願人 ４゜代理人 需 ６欣′補正の対象 瀾 １）特許請求の範囲を別紙の通りに訂正する。
称、考Ｃム入へッ／、” ＋７１ ｆ ７７７ｚ！ｊり
３、 補正をする者 事件との関係 牛旨′「出願人 ４゜代理人 需 ６欣′補正の対象 瀾 １）特許請求の範囲を別紙の通りに訂正する。
２）明細書中箱４頁上から１６行目
「■３」を「■ａ」に訂正する。
特許請求の範囲
（１） ジルコニアを主成分とするセラミック焼結体か
ら成ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド用セラミック基
板。
ら成ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド用セラミック基
板。
（２）正方晶Ｚ ｒ０２を主たる成分とするセラミック
スから成り以下のＡ成分を４〜４５体積パーセント、Ｂ
成分を５５〜９６体積パーセント、不可避不純物３体積
パーセント以下から成るＡ成分：周期律表１ｉ１ａ４ａ
、■ａ族元素の炭化物。
スから成り以下のＡ成分を４〜４５体積パーセント、Ｂ
成分を５５〜９６体積パーセント、不可避不純物３体積
パーセント以下から成るＡ成分：周期律表１ｉ１ａ４ａ
、■ａ族元素の炭化物。
窒化物、炭窒化物、炭酸化物、酸窒
化物、炭酸窒化物の１種または２種
以」二またはこれらの固溶体
１１１
Ｂ成分：周期律表明Ａ傘族の酸化物またはＣａｂ。
ＭｇＯから選ばれた１種、または２種以上を固溶し７０
重量パーセント以」二 が正方晶およびまたは立方晶残部単 斜晶から成るＺｒＯ２ ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載手続補
正書 昭和６０年２月１４日 昭和５９ 年 ！Ｉ♂゛許 願第０２７７１９号２、発
明の名称渾ｑ＊；ｂ五人へツ（−”＋？１セ之ミアミ７
１反３ 補正をする者 事件との関係 ｑ蹟ｉ出褒人 ４、代理人 並びに １凹１１ｊｊ ７＆補正の内容 １）明細書中箱２頁上から４行目〜１１行目「（技術分
野） 本発明は・・・・・・・・答えようとしている。」を次
の通りに訂正する。
重量パーセント以」二 が正方晶およびまたは立方晶残部単 斜晶から成るＺｒＯ２ ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載手続補
正書 昭和６０年２月１４日 昭和５９ 年 ！Ｉ♂゛許 願第０２７７１９号２、発
明の名称渾ｑ＊；ｂ五人へツ（−”＋？１セ之ミアミ７
１反３ 補正をする者 事件との関係 ｑ蹟ｉ出褒人 ４、代理人 並びに １凹１１ｊｊ ７＆補正の内容 １）明細書中箱２頁上から４行目〜１１行目「（技術分
野） 本発明は・・・・・・・・答えようとしている。」を次
の通りに訂正する。
「（技術分野）
磁気記録の分野において、記録密度の向上に対する要求
が大きく、従来からの延長ではその要求に応えられなく
なっており、そのため記録密度向上への新しい方式とし
て磁気ヘッドの薄膜化か進められている。
が大きく、従来からの延長ではその要求に応えられなく
なっており、そのため記録密度向上への新しい方式とし
て磁気ヘッドの薄膜化か進められている。
本発明は薄膜磁気ヘッドに用いる基板に関するものであ
る。
る。
（従来技術とその問題点）
従来より磁気記録の記録、読み取り用の磁気ヘッドとし
てフェライト材の微細加工 ２を施したバルクヘッドが
使用されてきた。
てフェライト材の微細加工 ２を施したバルクヘッドが
使用されてきた。
それに対し近年の記録密度向上に対する要求には微細機
械加工およびフェライトの透磁率の点で限度に達してお
り、薄膜ヘッドか開発されている。すてに大型コンピュ
ーター用磁気ディスクヘッドとして実用されているが、
特に基板材料の問題から歩留がなど）のウェハー表面を
十分にポリシュし、面粗さ５０八〇、平坦度１μの素材
とする。
械加工およびフェライトの透磁率の点で限度に達してお
り、薄膜ヘッドか開発されている。すてに大型コンピュ
ーター用磁気ディスクヘッドとして実用されているが、
特に基板材料の問題から歩留がなど）のウェハー表面を
十分にポリシュし、面粗さ５０八〇、平坦度１μの素材
とする。
さらにポリシュ面に絶縁性を得るためＡｌｊＱ０６又は
５ｉ０２を数μの厚みて被覆する。絶縁膜上にスパッタ
法等で所定の磁気回路を形成し単一のヘッドを切り出す
。以上の工程によって製造される。そのため回路形成技
術、絶縁膜形成技術に加え、寸法精度、表面平滑性等加
工性に秀れた基板材料か重要となっている。」 ）明細書中箱５頁上から２行目と６行目の間に次の文句
を挿入する。
５ｉ０２を数μの厚みて被覆する。絶縁膜上にスパッタ
法等で所定の磁気回路を形成し単一のヘッドを切り出す
。以上の工程によって製造される。そのため回路形成技
術、絶縁膜形成技術に加え、寸法精度、表面平滑性等加
工性に秀れた基板材料か重要となっている。」 ）明細書中箱５頁上から２行目と６行目の間に次の文句
を挿入する。
「薄膜磁気ヘッドは例えば以下の様にして得ることがで
きる。上記したセラミック組成物をホットプレス焼結し
て得た焼結体をウェハーに加工し、次にダイヤモンドグ
ラインダーでつ工バーの表面を研磨し、その表面にＡＩ
！２０３または５ｉ０２を蒸着によりコーティングする
。さらにダイヤモンドグラインダーでスライスし、絶縁
性のフィルム」二に磁気ヘッドの回路をスパッタリング
法により形成しスライスし、集積してマグネットヘッド
を作りあける。本発明によって得たジルコニアを含有す
るセラミック組成物はス３）明細書中第５頁上から５行
目 「粉末を１５００℃」を次の通りに訂正する。
きる。上記したセラミック組成物をホットプレス焼結し
て得た焼結体をウェハーに加工し、次にダイヤモンドグ
ラインダーでつ工バーの表面を研磨し、その表面にＡＩ
！２０３または５ｉ０２を蒸着によりコーティングする
。さらにダイヤモンドグラインダーでスライスし、絶縁
性のフィルム」二に磁気ヘッドの回路をスパッタリング
法により形成しスライスし、集積してマグネットヘッド
を作りあける。本発明によって得たジルコニアを含有す
るセラミック組成物はス３）明細書中第５頁上から５行
目 「粉末を１５００℃」を次の通りに訂正する。
「粉末で平均粒径０．１μｍ（顕微鏡による）の粉末に
２１重量パーセント（２５体積％）のＴｉＣ粉末を添加
し、１５００℃」 ４）明細書中第５頁上から１０行目 「ウェハーに加工し、さらに」を次の通りに訂正する。
２１重量パーセント（２５体積％）のＴｉＣ粉末を添加
し、１５００℃」 ４）明細書中第５頁上から１０行目 「ウェハーに加工し、さらに」を次の通りに訂正する。
「ウェハーとした。ポリッシュし面粗さ１００Ａ０を得
、さらにＡＪ２０５を１０μ蒸着し、さらに」５）明細
書中第５頁上から１７行目 「判明した。」を次の通りに訂正する。
、さらにＡＪ２０５を１０μ蒸着し、さらに」５）明細
書中第５頁上から１７行目 「判明した。」を次の通りに訂正する。
「判明した。なおスライシングによるチッピングの評価
は、スライシング面に発生した１０μｍ以上のチッピン
グの存在密度の相対値とした。」 ６）明細書中第６真上から２行目 「確認した。」を次の通りに訂正する。
は、スライシング面に発生した１０μｍ以上のチッピン
グの存在密度の相対値とした。」 ６）明細書中第６真上から２行目 「確認した。」を次の通りに訂正する。
「確認した。第１図（ａ）、（ｂｌにスライシング後の
チッピング状況を２８倍の顕微鏡写真で示し、図（ａｌ
が本発明で得た材料の場合、図（ｂｌがＡｌ２Ｏ３−Ｔ
ｉＣ焼結体の場合である。」 ７）明細書中第７頁の第１表を次の通りに訂正する。
チッピング状況を２８倍の顕微鏡写真で示し、図（ａｌ
が本発明で得た材料の場合、図（ｂｌがＡｌ２Ｏ３−Ｔ
ｉＣ焼結体の場合である。」 ７）明細書中第７頁の第１表を次の通りに訂正する。
皓
季、
堰
米
米
ダ
８）明細書中第８頁上から２行目と６行目の間に下記の
文句を挿入する。
文句を挿入する。
「 第 ２ 表
・」
９）明細書中第８頁上から１２行目の次の行以上に次の
文句を追加する。
文句を追加する。
「４、図面の簡単な説明
第１図（ａｌ、（ｂｌは本発明で得た材料とＡ１２０ｂ
−ＴｉＣ焼結体のチッピング発生状況を示す２８倍の顕
微鏡写真である。（図（ａ）が前者、図（“ｒｌ″（後
者０場合１あ６・） 」１０）図面に第１図（す、（ｂ
）を別紙の通りに追加する。
−ＴｉＣ焼結体のチッピング発生状況を示す２８倍の顕
微鏡写真である。（図（ａ）が前者、図（“ｒｌ″（後
者０場合１あ６・） 」１０）図面に第１図（す、（ｂ
）を別紙の通りに追加する。
Claims (2)
- （１） ジルコニアを主成分とするセラミック焼結体か
ら成ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド用セラミック基
板。 - （２）正方晶ＺｒＯ２を主たる成分とするセラミックス
から成り以下のＡ成分を４〜４５体積パーセント、Ｂ成
分を５５〜９６体積パーセント、不可避不純物３体積パ
ーセント以下から成るＡ成分：周期律表■”＋ｖλ＋’
／１ａ族元素の炭化物。 窒化物、炭窒化物、炭酸化物、酸窒 化物、炭酸窒化物の１種または２種 以上またはこれらの固溶体 Ｂ成分二周期律表■ａ族の酸化物またはＣａＯ。 ＭｇＯから選ばれた１種または２種以 上を固溶し７０重量パーセント以上 が正方晶およびまたは立方晶残部単 斜晶から成るＺｒＯ２ ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の薄膜
磁気ヘッド用セラミック基板。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59027719A JPS60171617A (ja) | 1984-02-15 | 1984-02-15 | 薄膜磁気ヘツド用セラミツク基板 |
| CA000473747A CA1235145A (en) | 1984-02-15 | 1985-02-07 | Thin film magnetic heads |
| US06/699,396 US4660114A (en) | 1984-02-15 | 1985-02-07 | Thin film magnetic heads and substrates therefore |
| DE8585300942T DE3584299D1 (en) | 1984-02-15 | 1985-02-13 | Duennfilmmagnetkoepfe. |
| EP85300942A EP0153141B1 (en) | 1984-02-15 | 1985-02-13 | Thin film magnetic heads |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59027719A JPS60171617A (ja) | 1984-02-15 | 1984-02-15 | 薄膜磁気ヘツド用セラミツク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60171617A true JPS60171617A (ja) | 1985-09-05 |
Family
ID=12228813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59027719A Pending JPS60171617A (ja) | 1984-02-15 | 1984-02-15 | 薄膜磁気ヘツド用セラミツク基板 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4660114A (ja) |
| EP (1) | EP0153141B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60171617A (ja) |
| CA (1) | CA1235145A (ja) |
| DE (1) | DE3584299D1 (ja) |
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| US4814915A (en) * | 1986-05-26 | 1989-03-21 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Magnetic head slider and material therefor |
| US5060097A (en) * | 1989-01-06 | 1991-10-22 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc file including a slider which exhibits reduced deformation during operation |
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| JPH0719459B2 (ja) * | 1987-12-03 | 1995-03-06 | 日立金属株式会社 | 浮動型磁気ヘッド |
| US5031064A (en) * | 1988-09-17 | 1991-07-09 | Tokin Corporation | Magnetic head having a slider member characterized by improved wear resistance |
| US5010429A (en) * | 1988-11-22 | 1991-04-23 | Hitachi Metals, Ltd. | Floating magnetic head having improved static friction coefficient |
| JP2586639B2 (ja) * | 1989-04-14 | 1997-03-05 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ヘッド用基板材料及びそれを用いた磁気ヘッド |
| JP2977867B2 (ja) * | 1990-06-21 | 1999-11-15 | 住友特殊金属株式会社 | 磁気ヘッドスライダ用材料 |
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| EP0153141A2 (en) | 1985-08-28 |
| EP0153141B1 (en) | 1991-10-09 |
| DE3584299D1 (en) | 1991-11-14 |
| CA1235145A (en) | 1988-04-12 |
| EP0153141A3 (en) | 1988-09-14 |
| US4660114A (en) | 1987-04-21 |
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