JPS63134562A - 磁気ヘツドスライダ用材料 - Google Patents
磁気ヘツドスライダ用材料Info
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- JPS63134562A JPS63134562A JP61278459A JP27845986A JPS63134562A JP S63134562 A JPS63134562 A JP S63134562A JP 61278459 A JP61278459 A JP 61278459A JP 27845986 A JP27845986 A JP 27845986A JP S63134562 A JPS63134562 A JP S63134562A
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 25
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 11
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 9
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 9
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 229910019863 Cr3 C2 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 NbzOs Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910002077 partially stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はコンピュータ用をはじめ、オーディオ用、V
T R用等の記録再生用、磁気テープ用等の磁気ヘッド
スライダ用材料に関する。
T R用等の記録再生用、磁気テープ用等の磁気ヘッド
スライダ用材料に関する。
従来から、記録再生用磁気ヘッドスライダとして、多結
晶Ni−Znフェライト、 Mn−Znフェライトや単
結晶Hn−Znフェライトあるいは高硬度パーマロイ等
が用いられてきたが、近年、再生すべき記録密度が増大
したことから、薄膜磁気ヘッド化が進められてきており
、磁気回路用として高周波域の磁気特性が優れたパーマ
ロイ、センダスト或いはアモルファスのfH!!に対応
できる耐摩耗性スライダ材料の開発が行われている。
晶Ni−Znフェライト、 Mn−Znフェライトや単
結晶Hn−Znフェライトあるいは高硬度パーマロイ等
が用いられてきたが、近年、再生すべき記録密度が増大
したことから、薄膜磁気ヘッド化が進められてきており
、磁気回路用として高周波域の磁気特性が優れたパーマ
ロイ、センダスト或いはアモルファスのfH!!に対応
できる耐摩耗性スライダ材料の開発が行われている。
この記録再生用磁気へラドスライダ用材料としては、耐
摩耗性を初め、高強度、m織の緻密性、さらには記録媒
体とのなじみ、潤滑性、金属薄膜との熱的整合性などと
共に、精密加工性、加工能率等の加工上の緒特性に優れ
ていることが要求される。
摩耗性を初め、高強度、m織の緻密性、さらには記録媒
体とのなじみ、潤滑性、金属薄膜との熱的整合性などと
共に、精密加工性、加工能率等の加工上の緒特性に優れ
ていることが要求される。
この要求特性を満足する材料としては、アルミナ系セラ
ミックスがあるとされ、特に、耐摩耗性と磁気材料との
なじみとにおいて優れた材料として、例えば特開昭55
−163665号公報にはaz2 oa−TiC系材料
が、特開昭57−198578号公報には、TiO2−
An!20B系のものが開示されている。
ミックスがあるとされ、特に、耐摩耗性と磁気材料との
なじみとにおいて優れた材料として、例えば特開昭55
−163665号公報にはaz2 oa−TiC系材料
が、特開昭57−198578号公報には、TiO2−
An!20B系のものが開示されている。
さらに、薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板として機械
加工に際してのチッピングを改善したものとして、ジル
コニアを主成分とするものが特開昭60−171617
号公報に開示されている。
加工に際してのチッピングを改善したものとして、ジル
コニアを主成分とするものが特開昭60−171617
号公報に開示されている。
しかしながら、このジルコニアを主成分とする材料は、
部分安定化したZrO2を主成分とするものであるため
、熱的な面での安定性に欠け、基板への膜付けの際の数
100℃までの加熱や冷却に起因して単斜晶が増加し、
強度の劣化や体積変化に伴い基板の反りが生じるという
問題があり、満足すべきものではない。
部分安定化したZrO2を主成分とするものであるため
、熱的な面での安定性に欠け、基板への膜付けの際の数
100℃までの加熱や冷却に起因して単斜晶が増加し、
強度の劣化や体積変化に伴い基板の反りが生じるという
問題があり、満足すべきものではない。
いずれにしても、現在各種提案されている薄膜磁気ヘッ
ド用セラミックスとしては、上記の要求特性を全体とし
て満足するものはない。
ド用セラミックスとしては、上記の要求特性を全体とし
て満足するものはない。
本発明において解決すべき!II題は、薄膜磁気ヘッド
スライダ用材料としてセラミックスを用いた場合には1
.前記要求特性の中、解決すべき課題はその加工性にあ
るとして、高強度、高靭性で摺動性がよく、機械加工性
が比較的良いジルコニアを選定し、その特性の改善によ
って磁気へラドスライダ用材料を得ようとするものであ
る。
スライダ用材料としてセラミックスを用いた場合には1
.前記要求特性の中、解決すべき課題はその加工性にあ
るとして、高強度、高靭性で摺動性がよく、機械加工性
が比較的良いジルコニアを選定し、その特性の改善によ
って磁気へラドスライダ用材料を得ようとするものであ
る。
本発明は、ジルコニア系セラミックスにおいて、特にZ
rO2−(酸化物−炭化物)系材料が磁気へ7ドスライ
ダ用材料として満足すべき特性を有する点に着目して完
成したもので、正方晶結晶構造を有するZrO255〜
9G容量%と、残部が酸化物と炭化物とからなり、その
酸化物と炭化物の容量比が、酸化物バ酸化物+炭化物)
・O,OS〜0.20であZrO2を実質的に正方晶構
造とするためには、ZrO2にY20B 、MgO,C
ab、CeO2等の安定化剤の少なくとも1種を含有せ
しめることが必要である。
rO2−(酸化物−炭化物)系材料が磁気へ7ドスライ
ダ用材料として満足すべき特性を有する点に着目して完
成したもので、正方晶結晶構造を有するZrO255〜
9G容量%と、残部が酸化物と炭化物とからなり、その
酸化物と炭化物の容量比が、酸化物バ酸化物+炭化物)
・O,OS〜0.20であZrO2を実質的に正方晶構
造とするためには、ZrO2にY20B 、MgO,C
ab、CeO2等の安定化剤の少なくとも1種を含有せ
しめることが必要である。
これらの安定化剤はZrO2に対してY2O3の場合に
は1.0〜6.0重量%、MgOでは2.0〜4.3重
量%、CaOでは2.8〜5.8重量%、さらにCeO
2の場合には8.2〜13.4重量%含有させる必要が
ある。
は1.0〜6.0重量%、MgOでは2.0〜4.3重
量%、CaOでは2.8〜5.8重量%、さらにCeO
2の場合には8.2〜13.4重量%含有させる必要が
ある。
正方晶のZrO2が存在すると、外部応力によって正方
晶から単斜晶の結晶構造への変態が起る結果、いわゆる
応力誘起変態機構によって機械的特性、特に強度や靭性
が向上する作用がある。
晶から単斜晶の結晶構造への変態が起る結果、いわゆる
応力誘起変態機構によって機械的特性、特に強度や靭性
が向上する作用がある。
また、正方晶ZrO2は一般に粒成長を起こし易いが、
炭化物やZrO2以外の酸化物と複合化させることによ
り、複合化による結晶粒の微細化の効果が大きく、平均
結晶粒1.5μ−以下となってチッピングが少なくなり
、耐摩耗性、材料の緻密さが改善されるばかりでなく、
前述の熱劣化の問題も大幅に改善される。
炭化物やZrO2以外の酸化物と複合化させることによ
り、複合化による結晶粒の微細化の効果が大きく、平均
結晶粒1.5μ−以下となってチッピングが少なくなり
、耐摩耗性、材料の緻密さが改善されるばかりでなく、
前述の熱劣化の問題も大幅に改善される。
本発明においては、安定化剤を含むZrO2が55容量
%未満では強度や靭性が不足で、これまで多用されてき
たAl10g TiC系材料と比べてスライジング工
程でのチッピングや潤滑性が改善されない、また90容
量%を超えると基板への膜付けの際の数100℃までの
加熱や冷却に起因してZrO2の単斜晶が増加し、強度
の劣化や基板の反りが生じるという問題が発生する。従
って、安定化剤を含むZrO2の量は55〜9G容量%
とする必要がある。
%未満では強度や靭性が不足で、これまで多用されてき
たAl10g TiC系材料と比べてスライジング工
程でのチッピングや潤滑性が改善されない、また90容
量%を超えると基板への膜付けの際の数100℃までの
加熱や冷却に起因してZrO2の単斜晶が増加し、強度
の劣化や基板の反りが生じるという問題が発生する。従
って、安定化剤を含むZrO2の量は55〜9G容量%
とする必要がある。
また、本発明においては酸化物はZrO2の焼結性の改
善のために配合されるもので、また、炭化物は焼結体の
耐摩耗性や切断加工性の改善のために配合される。
善のために配合されるもので、また、炭化物は焼結体の
耐摩耗性や切断加工性の改善のために配合される。
しかしながら、酸化物バ酸化物+炭化物)の容量比が、
0.05未満では酸化物による焼結性改善の効果が少な
くなり、焼結温度が高くなる。
0.05未満では酸化物による焼結性改善の効果が少な
くなり、焼結温度が高くなる。
また、その容量比が0.05〜0.20の範囲では、焼
結体に悪影響を与える炭化物成分中の遊離炭素と反応し
、更に部分安定化ジルコニアとも反応し結合剤の役目を
果たす結果、焼結性を改善する。しかしながら、その比
が0.20を超えると、炭化物と反応結合する量が必要
以上に多(なる結果、炭化物の酸素固溶量が多くなり、
強度が低下すると共に炭化物結晶粒が粗大化するため、
緻密で均一微細な組織を有する焼結体が得られ難くなる
。
結体に悪影響を与える炭化物成分中の遊離炭素と反応し
、更に部分安定化ジルコニアとも反応し結合剤の役目を
果たす結果、焼結性を改善する。しかしながら、その比
が0.20を超えると、炭化物と反応結合する量が必要
以上に多(なる結果、炭化物の酸素固溶量が多くなり、
強度が低下すると共に炭化物結晶粒が粗大化するため、
緻密で均一微細な組織を有する焼結体が得られ難くなる
。
上記本発明の磁気ヘッドスライダ用材料は以下の要領に
よって好適に製造される。
よって好適に製造される。
共沈法によって得たY2 OB 、MgO,Cab。
CeO2等の安定化剤を所定量含む部分安定化ZrO2
粉末と、TiC,NbC,TaC,Cr@ C2、Mo
2 C。
粉末と、TiC,NbC,TaC,Cr@ C2、Mo
2 C。
WCの1種又は2種以上又はこれらの固溶体粉末と、T
iO2、Nb205 、 Ta205 、 Cr2 O
B、 、 HfO2の1種又は2種以上又はこれらの固
溶体粉末とを所定量配合し、湿式混合粉砕した後、乾燥
、整粒して減量粉末を調整する。この原料粉末を黒鉛型
内に充填し、それぞれ最適焼結温度1250〜1600
℃で50〜300 kg/−の圧力を加え、それぞれ所
定時間保持焼結して相対密度99%以上のZrO2−酸
化物−炭化物系のセラミックス焼結体を得る。
iO2、Nb205 、 Ta205 、 Cr2 O
B、 、 HfO2の1種又は2種以上又はこれらの固
溶体粉末とを所定量配合し、湿式混合粉砕した後、乾燥
、整粒して減量粉末を調整する。この原料粉末を黒鉛型
内に充填し、それぞれ最適焼結温度1250〜1600
℃で50〜300 kg/−の圧力を加え、それぞれ所
定時間保持焼結して相対密度99%以上のZrO2−酸
化物−炭化物系のセラミックス焼結体を得る。
また、このZrO2−酸化物−炭化物系セラミックス焼
結体は、熱間等方圧加圧焼結法(IIIP)でも製造す
ることができる。すなわち、上記原料粉末を金型ブレス
、冷間静水圧プレス(CIP)、ドクターブレード法、
スリップキャスティング法等の各種成形方法により成形
し、この成形体を、大気中で1300〜1600℃の温
度で焼成して相対密度を94.5%以上にした後で12
00−1500℃でHIP !、た相対密度99%以上
のZrO2−酸化物−炭化物系のセラミックス焼結体は
、磁気ヘッドスライダの形状に切断して仕上げ加工して
製造する。
結体は、熱間等方圧加圧焼結法(IIIP)でも製造す
ることができる。すなわち、上記原料粉末を金型ブレス
、冷間静水圧プレス(CIP)、ドクターブレード法、
スリップキャスティング法等の各種成形方法により成形
し、この成形体を、大気中で1300〜1600℃の温
度で焼成して相対密度を94.5%以上にした後で12
00−1500℃でHIP !、た相対密度99%以上
のZrO2−酸化物−炭化物系のセラミックス焼結体は
、磁気ヘッドスライダの形状に切断して仕上げ加工して
製造する。
本発明の磁気ヘッドスライダ用材料を得るための製造方
法及び材料の特性について、実施例により具体的に説明
する。
法及び材料の特性について、実施例により具体的に説明
する。
実施例1
以下の要領で、原料粉末を調製した。
ZrO2成分: Y20B 、MgO,CeOの安定化
剤を第1表の割合で含む部分安定化ZrO2粉末 第 1 表 平均粒子径 しI以下 純度 99.9%以上(安定化剤を含めた純度)酸
化’eJ (TiO2,Nbz Os 、 Ta205
、 Cr20a 。
剤を第1表の割合で含む部分安定化ZrO2粉末 第 1 表 平均粒子径 しI以下 純度 99.9%以上(安定化剤を含めた純度)酸
化’eJ (TiO2,Nbz Os 、 Ta205
、 Cr20a 。
Hf02)
平均粒子径:0.5μm
純度F99.9%
炭化物(TiC,NbC,Cr3 C2、ZrC,Mo
2 C。
2 C。
WC)
平均粒子径:
Tic:1μ−、NbC:o、s μ−純度: 99
.7%以上 上記の各種出発原料を第2表示す割合に湿式粉砕混合し
た後、メタノールを溶媒としてジルコニアボールを使用
し24時間湿式混合粉砕した後、乾燥、整粒して原料粉
末を調整した。
.7%以上 上記の各種出発原料を第2表示す割合に湿式粉砕混合し
た後、メタノールを溶媒としてジルコニアボールを使用
し24時間湿式混合粉砕した後、乾燥、整粒して原料粉
末を調整した。
この原料粉末を50×50Il/+111高さ60+a
/mの黒鉛型内に充填して、それぞれ最適の焼結温度1
200〜1750℃で150〜300kg/aJの圧力
を加え、60分間保持して、ついで、圧力を除去し放冷
することにより、50X50X5.5m/mの焼結体を
得た。各種組成物の焼結体をダイヤモンド砥石で49
X 49 X 5.OLl/a+に研削して比重測定を
行った後、更にダイヤモンド砥石で切断あるいは研削し
て試験片を作成し、各種試験に供した。
/mの黒鉛型内に充填して、それぞれ最適の焼結温度1
200〜1750℃で150〜300kg/aJの圧力
を加え、60分間保持して、ついで、圧力を除去し放冷
することにより、50X50X5.5m/mの焼結体を
得た。各種組成物の焼結体をダイヤモンド砥石で49
X 49 X 5.OLl/a+に研削して比重測定を
行った後、更にダイヤモンド砥石で切断あるいは研削し
て試験片を作成し、各種試験に供した。
相対密度はアルキメデス法で測定した比重を理論密度で
除して相対密度を求めた。
除して相対密度を求めた。
切断加工性及び耐チッピング性は各試験片を治具で固定
し、これに滑車を介して10kgの重錘をつけ、レジン
ボンドダイヤモンド切断砥石を用い、重錘の荷重により
試験片を50m/m長さに切断する試験を行った。この
切断に要する時間を測定して加工性を評価した。
し、これに滑車を介して10kgの重錘をつけ、レジン
ボンドダイヤモンド切断砥石を用い、重錘の荷重により
試験片を50m/m長さに切断する試験を行った。この
切断に要する時間を測定して加工性を評価した。
また、切断加工時に稜に生じるチッピングの有無、大き
さを顕微鏡で観察して耐チッピング性を評価した。
さを顕微鏡で観察して耐チッピング性を評価した。
なお、加工性は試料Na8 (Y20S部分安定化Zr
O2)の切断所要時間を基準時間とし、基準時間を各試
料隘毎の切断所要時間で除し100倍した数値を切断加
工性として示す。
O2)の切断所要時間を基準時間とし、基準時間を各試
料隘毎の切断所要時間で除し100倍した数値を切断加
工性として示す。
精密加工性は、ディスクヘッドスライダのトラック幅に
合わせて加工する際に、エツジ部に発生する微小欠けの
度合により、使用上好ましくないものをC印、欠は発生
がほとんどなく使用上問題ないものをB印、特に優れて
いるものをA印で示す。
合わせて加工する際に、エツジ部に発生する微小欠けの
度合により、使用上好ましくないものをC印、欠は発生
がほとんどなく使用上問題ないものをB印、特に優れて
いるものをA印で示す。
また、ヘッドとテープ(又はディスク)の適合性につい
ての評価は、それぞれの試料をヘッドに加工し、テープ
走行試験を行い再生出力減衰量(dB)を測定し評価し
た。テープはrFe2O3塗布型媒体(媒体厚み10μ
請)を用い、定常摩耗状態においてテープをシューシャ
イン走行させ、103回のンユーシャイン走行テストで
の評価が従来品と同程度のものをC印(−2dB以下)
、優れているものをB印(−2clB〜−1dll)で
、さらに非常に優れているものをA印(−1dB〜0)
で示した。
ての評価は、それぞれの試料をヘッドに加工し、テープ
走行試験を行い再生出力減衰量(dB)を測定し評価し
た。テープはrFe2O3塗布型媒体(媒体厚み10μ
請)を用い、定常摩耗状態においてテープをシューシャ
イン走行させ、103回のンユーシャイン走行テストで
の評価が従来品と同程度のものをC印(−2dB以下)
、優れているものをB印(−2clB〜−1dll)で
、さらに非常に優れているものをA印(−1dB〜0)
で示した。
第3表に試験評価結果を示す。
試料?&L1〜8は、試験評価結果でZrO2成分量の
影響をみたものである0本願発明品の試料−4〜7は、
比較例(従来品)より特に強度、精密加工性、潤滑性に
優れていることがわかる。また、ZrO2量が沙ない(
55容量%以下)では強度や靭性が不足で、これまで多
用されてきたA12 os−TiC系材料と比べてスラ
イジング工程でのチッピングや潤滑性が改善されないこ
とがわかる。
影響をみたものである0本願発明品の試料−4〜7は、
比較例(従来品)より特に強度、精密加工性、潤滑性に
優れていることがわかる。また、ZrO2量が沙ない(
55容量%以下)では強度や靭性が不足で、これまで多
用されてきたA12 os−TiC系材料と比べてスラ
イジング工程でのチッピングや潤滑性が改善されないこ
とがわかる。
試料隘9〜29は、酸化物バ酸化物+炭化物)−〇、0
5と一定とし、各種酸化物、炭化物、固溶体の実施例で
ある0本願発明(試料mlo〜12.14〜16、18
〜20,22.24,25.27〜29)はいずれも従
来品と比べ、強度、精密加工性、潤滑性に優れているこ
とがわかる。
5と一定とし、各種酸化物、炭化物、固溶体の実施例で
ある0本願発明(試料mlo〜12.14〜16、18
〜20,22.24,25.27〜29)はいずれも従
来品と比べ、強度、精密加工性、潤滑性に優れているこ
とがわかる。
試料11kL30〜34は、3重量%のY2O3で安定
化されたZrO2量を70容量%と一定とし、酸化物が
TiO2,炭化物がTicの場合で、酸化物バ酸化物+
炭化物)の比をθ〜0.3と変化させた場合の試験評価
結果である。
化されたZrO2量を70容量%と一定とし、酸化物が
TiO2,炭化物がTicの場合で、酸化物バ酸化物+
炭化物)の比をθ〜0.3と変化させた場合の試験評価
結果である。
試料11m31〜33の場合のように、酸化物バ酸化物
+炭化物)の比が本願発明の0.05〜0.20の範囲
内にあるとき相対密度、硬さも高い。
+炭化物)の比が本願発明の0.05〜0.20の範囲
内にあるとき相対密度、硬さも高い。
試料磁35〜37は、各種安定化剤の種類に対する各種
酸化物、炭化物の組合せによる実施例の試験評価結果で
ある。
酸化物、炭化物の組合せによる実施例の試験評価結果で
ある。
いずれの場合も本願発明品は、従来品に比べ晴密加工性
1強度、潤滑性に優れていることがわかる。
1強度、潤滑性に優れていることがわかる。
以上の試験結果により、本発明の磁気ヘッドスライダ用
材料は、要求される緒特性を満足してしすることがわか
る。
材料は、要求される緒特性を満足してしすることがわか
る。
(以下、この頁余白)
第2表
第3表
巾※: A120B 30TiC
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の磁気ヘッドスライダ用材
料は、磁気ヘッドスライダの耐摩耗性。
料は、磁気ヘッドスライダの耐摩耗性。
機能部材に要求される耐摩耗性をはじめ、精密加工性、
加工能率、高強度2組織の緻密性、記録の媒体とのなじ
み、潤滑性などの緒特性を満足し、特に精密加工性、強
度、潤滑性に優れた特性を有する磁気ヘッドスライダ用
材料であるので、チッピングも少なく微細な加工を行な
うことができ、薄膜磁気ヘッドスライダとして好適なも
のを得ることができるという効果を奏することができる
。
加工能率、高強度2組織の緻密性、記録の媒体とのなじ
み、潤滑性などの緒特性を満足し、特に精密加工性、強
度、潤滑性に優れた特性を有する磁気ヘッドスライダ用
材料であるので、チッピングも少なく微細な加工を行な
うことができ、薄膜磁気ヘッドスライダとして好適なも
のを得ることができるという効果を奏することができる
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、正方晶結晶構造を有するZrO_255〜90容量
%と、残部が酸化物と炭化物とからなり、その酸化物と
炭化物の容量比が、 酸化物/(酸化物+炭化物)=0.05〜0.20 であることを特徴とする磁気ヘッドスライダ用材料。 2、正方晶結晶構造を有するZrO_2がY_2O_3
、MgO、CaO、CeO_2等の安定化剤の少なくと
も1種を含有せしめてなることを特徴とする特許請求の
範囲第1項に記載の磁気ヘッドスライダ用材料。 3、酸化物がTiO_2、Nb_2O_5、Ta_2O
_5、Cr_2O_3、HfO_2の1種又は2種以上
又はこれらの固溶体であり、且つ炭化物がTiC、Nb
C、TaC、Cr_3C_2、ZrC、Mo_2C、W
Cの1種又は2種以上又はこれらの固溶体であることを
特徴とする特許請求の範囲第1項または、第2項に記載
の磁気ヘッドスライダ用材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61278459A JPS63134562A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 磁気ヘツドスライダ用材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61278459A JPS63134562A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 磁気ヘツドスライダ用材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63134562A true JPS63134562A (ja) | 1988-06-07 |
JPH0510292B2 JPH0510292B2 (ja) | 1993-02-09 |
Family
ID=17597626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61278459A Granted JPS63134562A (ja) | 1986-11-21 | 1986-11-21 | 磁気ヘツドスライダ用材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63134562A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0224808A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド及び磁気記録再生装置 |
FR2664419A1 (fr) * | 1990-06-21 | 1992-01-10 | Sumitomo Spec Metals | Materiau pour piece de glissement de tete magnetique. |
US8969896B2 (en) | 2010-10-22 | 2015-03-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element, light-emitting device, and lighting device |
CN106699175A (zh) * | 2017-02-28 | 2017-05-24 | 安徽拓吉泰新型陶瓷科技有限公司 | 氧化锆陶瓷缸套材料及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60171617A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 薄膜磁気ヘツド用セラミツク基板 |
JPS61106455A (ja) * | 1984-04-12 | 1986-05-24 | 日立金属株式会社 | ジルコニアセラミツクス |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP61278459A patent/JPS63134562A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8969896B2 (en) | 2010-10-22 | 2015-03-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element, light-emitting device, and lighting device |
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CN106699175A (zh) * | 2017-02-28 | 2017-05-24 | 安徽拓吉泰新型陶瓷科技有限公司 | 氧化锆陶瓷缸套材料及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0510292B2 (ja) | 1993-02-09 |
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