JPS60167429A - 洗浄治具 - Google Patents
洗浄治具Info
- Publication number
- JPS60167429A JPS60167429A JP2170184A JP2170184A JPS60167429A JP S60167429 A JPS60167429 A JP S60167429A JP 2170184 A JP2170184 A JP 2170184A JP 2170184 A JP2170184 A JP 2170184A JP S60167429 A JPS60167429 A JP S60167429A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin
- jig
- substrates
- thin rectangular
- washing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、薄状円板又は薄状方形板の洗浄治具に係り、
特に薄状円板又は薄状方形板を上方よりセットし、下方
より取出すことができる開閉機構を備えた洗浄治具に関
する。
特に薄状円板又は薄状方形板を上方よりセットし、下方
より取出すことができる開閉機構を備えた洗浄治具に関
する。
半導体ウェハの如き薄状円板又は薄状方形板の洗浄治具
としては、従来第１図、第２図に示す如（１） く、合成樹脂等で一体成形したものが主流であり、この
治具では、薄状円板１又は薄状方形板２は治具３．の上
方部より治具３のガイド溝４に挿入セットし、洗浄完了
後は、治具３の上方部より取出す構成となっている。こ
の治具によれば、自動機械で使用する場合、洗浄完了後
に薄状円板１又は薄状方形板２を治具３より取出す際に
は、薄状円板】又は薄状方形板２をそれぞれ機械的にチ
ャックするか又は真空吸着等の手段によってチャックし
て治具３より取出す必要がある。この場合は、機構的に
複雑になると同時に、半導体ウェハのように、強度的に
脆弱な薄状円板１又は薄状方形板２を取扱う際には、過
大な機械力を加えることにより薄状円板１又は薄状方形
板２を破損するおそれが多いという欠点がある。又、洗
浄完了後薄状円板１又は薄状方形板２を一枚ずつ取出す
状態においてはハンドリング機構が非常に複雑になる欠
点を有している。
としては、従来第１図、第２図に示す如（１） く、合成樹脂等で一体成形したものが主流であり、この
治具では、薄状円板１又は薄状方形板２は治具３．の上
方部より治具３のガイド溝４に挿入セットし、洗浄完了
後は、治具３の上方部より取出す構成となっている。こ
の治具によれば、自動機械で使用する場合、洗浄完了後
に薄状円板１又は薄状方形板２を治具３より取出す際に
は、薄状円板】又は薄状方形板２をそれぞれ機械的にチ
ャックするか又は真空吸着等の手段によってチャックし
て治具３より取出す必要がある。この場合は、機構的に
複雑になると同時に、半導体ウェハのように、強度的に
脆弱な薄状円板１又は薄状方形板２を取扱う際には、過
大な機械力を加えることにより薄状円板１又は薄状方形
板２を破損するおそれが多いという欠点がある。又、洗
浄完了後薄状円板１又は薄状方形板２を一枚ずつ取出す
状態においてはハンドリング機構が非常に複雑になる欠
点を有している。
更に、洗浄治具３，４の溝部と薄状円板１又は薄状方形
板２の接触部分の木切れが悪い為、接触（２） 部に洗浄むらが発生し易い欠点がある。
板２の接触部分の木切れが悪い為、接触（２） 部に洗浄むらが発生し易い欠点がある。
本発明の目的は、上述の欠点を解決した薄状円板（又は
薄状方形板）の洗浄治具を提供することにある。更に、
具体的には洗浄完了後、洗浄治具の下方より薄状円板（
又は薄状方形板）を１枚ずつ又は全数同時に取出すこと
ができる洗浄治具を提供することにある。
薄状方形板）の洗浄治具を提供することにある。更に、
具体的には洗浄完了後、洗浄治具の下方より薄状円板（
又は薄状方形板）を１枚ずつ又は全数同時に取出すこと
ができる洗浄治具を提供することにある。
本発明洗浄治具の特徴とするところは、薄状円板（又は
薄状方形板）と接触する部分を棒状の材料で構成すると
共に洗浄治具下部に開閉機構を設けた点にある。
薄状方形板）と接触する部分を棒状の材料で構成すると
共に洗浄治具下部に開閉機構を設けた点にある。
本発明の一実施例を第３図及び第４図に示す。
第３図において洗浄治具は、外形を構成する枠５と、枠
５を連結するロッド６と、薄状円板（又は薄状方形板）
をセパ１ノートする仕切カバー７と、薄状円板（又は薄
状方形板）の側面をガイドするロッド８と、薄状円板（
又は薄状方形板）を洗浄（３） 治具内に保持するためのストッパー９と、ストッパ−９
を枠５に旋回可能な状態で保持するプレート１０と、薄
状円板（又は薄状方形板）の重量に打ち勝って洗浄治具
内に保持するためのウェー１へ１１とにより構成されて
いる。
５を連結するロッド６と、薄状円板（又は薄状方形板）
をセパ１ノートする仕切カバー７と、薄状円板（又は薄
状方形板）の側面をガイドするロッド８と、薄状円板（
又は薄状方形板）を洗浄（３） 治具内に保持するためのストッパー９と、ストッパ−９
を枠５に旋回可能な状態で保持するプレート１０と、薄
状円板（又は薄状方形板）の重量に打ち勝って洗浄治具
内に保持するためのウェー１へ１１とにより構成されて
いる。
ここで、第４図の如く薄状円板１ （又は薄状方形板２
）を洗浄治具の仕切カバー７の間にセットする。薄状円
板１ （又は薄状方形板２）はウェート１１によって矢
印１２方向の力を与えられているストッパー９により洗
浄治具内に保持される。
）を洗浄治具の仕切カバー７の間にセットする。薄状円
板１ （又は薄状方形板２）はウェート１１によって矢
印１２方向の力を与えられているストッパー９により洗
浄治具内に保持される。
この状態で洗浄処理（例えば浸漬式又はシャワ一式等）
を行う。第５図において、洗浄の完了した薄状円板１
（又は薄状方形板２）は、図中点線で示した開閉用ノツ
チ１３を矢印１４方向に移動することにより、ノツチ１
３の凸部がウェー１へ１１を矢印１５方向に旋回させ、
これに伴いストッパー９も矢印１５方向に回り、順次下
方に自重で落下する。この時、図示しないコンベア等を
洗浄治具の下方に設置しておけば、コンベア−ヒに薄状
円板１ （又は薄状方形板２）を一枚ずつ取出すこと（
４） ができる。又ノツチ２３の凸部を薄状円板１ （又は薄
状方形板２）の洗浄治具内のセットピッチに合わせて複
数個（薄状円板１又は薄状方形板２の数と同数）設けれ
ば洗浄治具より薄状円板１ （又は薄状方形板２）を同
時に下方に取出すことが可能である。
を行う。第５図において、洗浄の完了した薄状円板１
（又は薄状方形板２）は、図中点線で示した開閉用ノツ
チ１３を矢印１４方向に移動することにより、ノツチ１
３の凸部がウェー１へ１１を矢印１５方向に旋回させ、
これに伴いストッパー９も矢印１５方向に回り、順次下
方に自重で落下する。この時、図示しないコンベア等を
洗浄治具の下方に設置しておけば、コンベア−ヒに薄状
円板１ （又は薄状方形板２）を一枚ずつ取出すこと（
４） ができる。又ノツチ２３の凸部を薄状円板１ （又は薄
状方形板２）の洗浄治具内のセットピッチに合わせて複
数個（薄状円板１又は薄状方形板２の数と同数）設けれ
ば洗浄治具より薄状円板１ （又は薄状方形板２）を同
時に下方に取出すことが可能である。
本発明によれば、洗浄治具と洗浄物との接触面積を少な
くすることにより洗浄効果を向上させることができると
共に、自動ハンドリングを行う装置に適用する揚器、洗
浄治具の上部より洗浄物をセットし、洗浄治具の下部よ
り洗浄物を一枚ずつもしくはセラＩ−された全数を同時
に取出すことが可能となり、洗浄物を取出す機構を大巾
に簡略化することができた。
くすることにより洗浄効果を向上させることができると
共に、自動ハンドリングを行う装置に適用する揚器、洗
浄治具の上部より洗浄物をセットし、洗浄治具の下部よ
り洗浄物を一枚ずつもしくはセラＩ−された全数を同時
に取出すことが可能となり、洗浄物を取出す機構を大巾
に簡略化することができた。
第１図は従来の洗浄治具の外観図、第２図は第１図の断
面図、第３図は本発明による洗浄治具の外観図、第４図
は第３図の断面図、第５図は本発明による洗浄治具の下
部開閉機構の説明図である。 （５） １・・薄状円板、２・・薄状方形板５・・・枠、６・・
・ロッド、７・・仕切カバー、８・・・バー、９・・・
ストッパー、１０・・・プレート、１１・・・ウエート
、１３・・・ノツチ。 代理人 弁理士 高欄明夫 （６） 翳１霞 ａ 箔２閃 恰３０ 焔ｌ＋霞 う５ Ａｃ （２＞ 第１頁の続き
面図、第３図は本発明による洗浄治具の外観図、第４図
は第３図の断面図、第５図は本発明による洗浄治具の下
部開閉機構の説明図である。 （５） １・・薄状円板、２・・薄状方形板５・・・枠、６・・
・ロッド、７・・仕切カバー、８・・・バー、９・・・
ストッパー、１０・・・プレート、１１・・・ウエート
、１３・・・ノツチ。 代理人 弁理士 高欄明夫 （６） 翳１霞 ａ 箔２閃 恰３０ 焔ｌ＋霞 う５ Ａｃ （２＞ 第１頁の続き
Claims (1)
- ■、全全体して枠体からなり、薄状円板又は薄状方形板
の周縁側方を接触する棒状部材と、薄状円板又は薄状方
形板の周縁下方がウェー１へによる回転モーメントによ
り薄状円板又は薄状円板を支えるストッパと、ス）〜ツ
バをウェー１へによる回転モーメントとは逆方向に回転
させ薄状円板又は薄状方形板を下方に落下させるノツチ
を具備することを特徴とする洗浄治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2170184A JPS60167429A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 洗浄治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2170184A JPS60167429A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 洗浄治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60167429A true JPS60167429A (ja) | 1985-08-30 |
Family
ID=12062361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2170184A Pending JPS60167429A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 洗浄治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60167429A (ja) |
-
1984
- 1984-02-10 JP JP2170184A patent/JPS60167429A/ja active Pending
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