JPS6016245B2 - 断層撮影装置 - Google Patents

断層撮影装置

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JPS6016245B2
JPS6016245B2 JP52056043A JP5604377A JPS6016245B2 JP S6016245 B2 JPS6016245 B2 JP S6016245B2 JP 52056043 A JP52056043 A JP 52056043A JP 5604377 A JP5604377 A JP 5604377A JP S6016245 B2 JPS6016245 B2 JP S6016245B2
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JP
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mask
dimensional
convolution
image
ray
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JP52056043A
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ロナルド・ヤン・ゲルク
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OPUTEISHE IND DE ODE DERUFUTO NV
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OPUTEISHE IND DE ODE DERUFUTO NV
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/42Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis
    • A61B6/4208Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis characterised by using a particular type of detector
    • A61B6/4225Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis characterised by using a particular type of detector using image intensifiers
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06EOPTICAL COMPUTING DEVICES; COMPUTING DEVICES USING OTHER RADIATIONS WITH SIMILAR PROPERTIES
    • G06E3/00Devices not provided for in group G06E1/00, e.g. for processing analogue or hybrid data
    • G06E3/001Analogue devices in which mathematical operations are carried out with the aid of optical or electro-optical elements
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S378/00X-ray or gamma ray systems or devices
    • Y10S378/901Computer tomography program or processor

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一次元投影データから逆投影 (戊ckprojection)によって断層像を再構
成する断層撮影装置に関する。
最初に、第1図及び第2図を参照して、一次元投影デー
タから逆投影によって断層像を再構成する原理を説明す
る。
まず、第1図に示した如く、X線源21が検出装置の検
出面22を照射するようにX線ビーム2を放射する。
このX線ビーム2は一平面内に存在し、且つ相互に平行
なX線からなる。検出装置は、例えば検出面としてX線
蟹光スクリーン22を含む。X線源21とX線袋光スク
リーン22との間に被写体1がX線ビーム2によって照
射されるように配置される。
被写体1は、X線源21及びX線蟹光スクリーン22に
対して回転軸線3の回りに相対的に回転することができ
るようになっている。被写体1を透過したX線ビーム2
がX線蟹光スクリーン22を照射し、被写体1の透過度
に応じた光学像をX線蟹光スクリーン22上に生成する
この光学像は、一照射角度位置における一次元投射デー
タを含んでいる。次いで、被写体1をX線源21及びX
線麓光スクリーン22に対して順次回転軸線3の回りに
相対的に回転せしめ、このようにして、多数の照射角度
位置における一次元投射データ23を得る。次に、この
ようにして得られた一次元投射データを第2図に示した
如く逆投影する。
即ち、まず、各一次元投射データ23を二次元データに
引き延ばす。第2図に示された二次元データ24は、一
次元投射データ23に対して垂直に延びている多数個の
線からみるとみなすことができ、この線の値(例えば輝
度、電荷)はこれと交叉する−次元投射データ23の値
に対応している(第2図)。このようにして得られた多
数個の二次元データ24を、それぞれの照射角度を考慮
して、重ね合わせる。これによって、被写体1の断層像
25を得ることができる。しかしこの断層像25はぼけ
た断層像である。このようにして得られたぼけた断層像
25から、数学的処理、例えば次の通りのコンボリュー
ション処理によって、鮮明な断層像を得ることができる
コンボリューション処理において、ぼけた断層像25を
表わす信号が適当な2次元関数F2(x、y)とたたみ
込まれ、即ちコンボIJユーション処理されて、これに
よって鮮明な断層像を表わす信号を得ることができる。
この2次元関数F2(x、y)は次の通りに決定される
。ノx=・±叢 ノy=±舞(PSF)F2(x、y
)dxdy=6(x、y)PSFは点拡散関数であり、
上記の通りのぼけた断層像25が、本来の断層像に対し
てどのようにぼけるかによって決定できる。
6(x、y)はデイラツク関数である。
上記の通りの原理に従って、コンピュータを用いて一次
元投影データを処理して鮮明な断層像を得る断層撮影装
置が提案されている。
しかしながら、このような装置は、大掛りなものになっ
てしまい好ましくない。本発明は、上記の通りの状況下
にてなされたものであり、その目的は、上記の通りの原
理に従ってコンピュータを用いず、電子工学的装置及び
光学的装置を用いて鮮明な断層像を再構成することがで
きる断層撮影装置を提供することである。
次に、第3図乃至第5図を参照して、本発明の2つの具
体例を説明する。尚、各図面の対応する部分は同じ参照
番号を付してある。まず、第1の具体例を、第3図A及
び第4図を参照して説明する。
第3図Aは、第1の具体例に従う断層撮影装置のデータ
処理過程を示す。
P(の)は、多数の照射角度位置における一次元投射デ
ータを得る過程を示す。
のは照射角度である。Sbは、一次元投射データを引き
延ばした二次元データを得る過程を示す。
S(の)は、このこ次元データを多数その照射角度を考
慮して重ね合わせる過程、即ちぼけた断層像を得る過程
を示す。
C2は、ぼけた断層像を表わす信号を2次元コンボリュ
ーション処理する過程を示す。
Wは、コンボリューション処理によって得られた信号に
基づき、鮮明な断層像を表示する過程を示す。
第4図に上記の通りの処理を行なう第1の具体例に従う
断層撮影装置を示す。
<P(の)> この断層撮影装置は、X線源26と、検出装置であるX
線テレビ装置4とを備えている。
X線源26は、X線テレビ装置4の検出面を照射するよ
うにX線ビーム2を放射する。このX線ビームは実質的
に一平面内に存在し(即ち、第4図の紙面に垂直な方向
にてわずかな厚しか有さない)且つ相互に平行なX線か
らなる。X線テレビ装置4は、例えば、検出面としてX
線蟹光スクリーン22と、このX線蟹光スクリ−ン22
に生成された光学像を電気信号に変換するテレビ装置と
を含む。X線源26とX線テレビ装置4との間に、被写
体1がX線ビーム2によって照射されるように配置され
る。
更に、被写体1をX線源26及びX線テレビ装置4に対
して、回転軸線3の回りに相対的に回転せしめる回転装
置(図示せず)が設けられている。被写体1を透過した
X線ビーム2がX線テレビ装置4によって検出され、処
理されて、一次元投影データを含む電気信号が生成され
る。
この−次元投影データは、一照射角度における被断体1
の断面のX線吸収度に従っている。この電気信号が対数
化増幅器Lによって対数化される。
これは、X線テレビ装置4の出力電気信号が、X線透過
軌跡に沿った被写体1で生じた透過度の積の値に対応す
るが、断層像を再構成するためには、上記透過度の和の
値に対応する電気信号を得る必要があることによる。<
Sb、S(の)> 対数化増幅器Lの出力電気信号は、走査コンバータ6に
加えられる。
走査コンバータは、電子光学的手段によって、一次元投
射データが引き延ばされた二次元データに従った像をタ
ーゲット5上に生成する。
例えば、偏向コイル7が設定されたヨークを、一次元投
影データのそれぞれの照射角度に従って適切な角度位置
に位置付けて、多数の二次元データがターゲット5上に
電荷として重ね合わされる。
上記の通りの角度位置への位置付けは、像の誤差、特に
最終的な断層像の‘まけを最小にするため、極めて正確
に行なわなければならない。このようにして重ねられた
ターゲット上の電荷によって生成された、多数の二次元
データに従った像、即ちぼけた断層像が、走査部8によ
って走査されて、電気信号に変換される。<C2> 走査コンバータ6の走査部8の出力電気信号が、陰極線
管9に加えられる。
陰極線管9は持続性のあるスクリーンを有する。走査部
8の出力電気信号に従って、スクリーン上にぼけた断層
像が描かられる。陰極線管9のビームによってスクリー
ン上に描かられる像の最初の部分と最後の部分との間に
て、時間的ずれに起因する輝度の差を補償するために、
走査部8と陰極線管9との間にのこぎり波発生器Zが接
続され、陰極線管9の入力電気信号にのこぎり波信号が
掛け合わされる。陰極線管9のスクリーンに生成された
ぼけた断層像が輝度増幅器11によって検出される。輝
度増幅器11は、検出したぼけた断層像の輝度を強化し
た像を、その出力に生成する。更に、輝度増幅器11は
偏向コイル10を備えていて、輝度を強化した像をその
出力にて全体として周期的に移動せしめる。全体として
周期的に移動せしめられる、輝度が強化された像を含む
輝度増幅器11の出力像が、レンズ15を介してビーム
スプリッタ14に送られる。
このビームスプリッタ14によって光学的に2つに分離
されて、第1及び第2のマスク12及び13上に出力像
に従った像が形成される。第1のマスク12は、2次元
コンボリューション関数の正の部分に従った光透過率分
布を有する。第2のマスクは、2次元コンボリュ−ショ
ン関数の負の部分に従った光透過率分布を有する。第1
及び第2のマスク12及び13の後方には第1の及び第
2の光増倍管16及び17がそれぞれ配置されている。
第1及び第2の光増倍管16及び17は、それぞれ第1
及び第2のマスク12及び13を透過した全ての光の強
度の合計に応じた出力電気信号を出す。第1及び第2の
光増倍管16及び17の出力電気信号は、差動増幅器1
8のプラス入力端子及びマイナス入力端子に加えられる
差動増幅器18の出力電気信号は、コンボリュート処理
された信号である。仮に、輝度増幅器11の出力スクリ
ーンに、ぼけた断層像がその中央にある場合、差動増幅
器18の出力電気信号は、鮮明な断層像の中央点の輝度
に対応する。
輝度増幅器11の出力像として、ぼけた断層像がその右
上にある場合、差動増幅器18の出力電気信号は、鮮明
な断層像の右上点の輝度に対応する。従って、輝度増幅
器11の偏向コィルー川こ適切な制御電流を流して、例
えば、輝度増幅器11の出力スクリーンにて、ぼけた像
を右上から左上へ、そして順次下方へ移動せしめ「右下
から左下へ移動せしめれば、鮮明な断層像のための電気
信号を生成することができる。<W>上記の通りの差動
増幅器18の出力電気信号に従って、鮮明な断層像がモ
ニタ−201こ生成される。
次に、第2の具体例を、第3図B及び第5図を参照して
説明する。
第3図Bは、第2の具体例に従う断層撮影装置のデータ
処理過程を示す。
P(の)は、多数の照射角度位置における一次元投射デ
ータを得る過程を示す。
のは照射角度である。C,は、この一次元投射データを
表わす信号を一次元コンボリューション処理する過程を
示す。
Sbは、コンボリューション処理された一次元投射デー
タを引き延ばした二次元データを得る過程を示す。S(
の)は、この二次元データを多数をその照射角度を考慮
して重ね合わせる過程を示す。
Wは、重ね合わせる過程によって得られた信号に基づき
、鮮明な断層像を表示する過程を示す。上記の通り、こ
の第2の具体例に従う断層撮影装置によると、一次元投
射データが、適当な一次元関数F,(x)とたたみ込ま
れる、即ち、一次大コンボリューション処理される。こ
のようにして、コンボリューション処理された一次元投
射データが、逆投影されて鮮明な断層像が生成される。
この一次元関数F,(x)は、上記した2次元関数F2
(x、y)と同様に決定できる。
第5図に、上記の通りの処理を行なう第2の具体例に従
う断層撮影装置を示す。
<P(の)〉 上記した第1の具体例に従う断層撮影装置と同様に、種
々の照射角度における一次元投影データを含む電気信号
が生成され、これが対数化される。
<C,> 対数化増幅器Lの出力電気信号が陰極線管9に加えられ
る。
対数化された対数化増幅器Lの出力電気信号に従って、
陰極線管9の出力スクリーンに一次元光学像が生成され
る。もちろん実際上、この一次元光学像は長手方向の長
さと、これと垂直な方向の比較的4・ミな厚さとを有す
る光学像である。この光学像が、輝度が強化されて、輝
度増幅器11の出力スクリーンにて、偏向コイル10に
よって、その長手方向に移動せしめられる。全体として
長手方向に移動せしめられる、一次元光学像に応じた輝
度が強化された像を含む輝度増幅器11の出力像が、レ
ンズ15を介してビームスプリツタ14に送られる。こ
のビームスプリッタ14によって光学的に2つに分離さ
れて、第1及び第2のマスク12及び13上に出力像に
従った像が形成される。第1のマスク12は、一次允コ
ンボリューション関数の正の部分に従った光透過率分布
を有する。第2のマスクは、一次元コンボリューション
関数の負の部分に従った光透過率分布を有する。第1及
び第2のマスク12及び13の後方には第1の及び第2
の光増倍管16及び17がそれぞれ配置されている。
第1及び第2の光増倍管16及び17は、それぞれ第1
及び第2のマスク12及び13を透過した全ての光の強
度の合計に応じた出力電気信号を出す。第1及び第2の
光増倍管16及び17の出力電気信号は、差動増幅器1
8のプラス入力端子及びマイナス入力端子に加えられる
差動増幅器18の出力電気信号は、コンボリュート処理
された−次元投影データに従った信号である。<Sb、
S(の)> 上記の通りコンボリュ−ト処理された一次元投射デー外
こ従った信号である差動増幅器18の電気信号が、走査
コンバータ19に加えられる。
走査コンバータ19において、コンボリュート処理され
た一次元投射データが引き延ばされ、これによって生じ
た二次元データが照射角度を考慮して、ターゲットにて
電荷で重ね合わされる。しかる後に、ターゲットを走査
することにより、鮮明な断層像を表わす電気信号が得ら
れる。前記した如く、二次元データは一次元投射データ
に従った多数の線からなるとみなすことができ、この線
の各々の値はその長さ方向で変化しない。
即ち、一次元役射デ−夕の一点が二次元データとしてタ
ーゲット上に一線として描かれる。このため、必要なら
ば、走査コンバータの夕−ゲット上の二次元像の一本の
線を生成するのに必要な時間、走査コンバータ19の入
力信号を一定の値に保持するための保持回路日を、差動
増幅器18と走査コンバータ19の間に配置することが
できる。他方、第1の具体例の如く、コンボリューショ
ン処理された一次元投射データの電気信号に基づき、走
査コンバータ19自体が引き延ばされた二次元データを
生成するようにも構成できる。<W>走査コンバータ1
9の出力電気信号に従って、鮮明な像がモニター20‘
こ生成される。
陰極線管のスクリーン上に一次元投射データを描く操作
はコンボリューション処理と実質上同時に行われるので
、断層像の形成は迅速に行なわれる。
このため検討すべき被写体の1回の回転の間に多数の重
ね合わされた断面の断層像を形成することができる。こ
の場合には、1つの断層像を形成するために1つの走査
コンバータを必要こする。更に、必要とする任意の数の
モニタ−を使用し、あるいはただ1つのモニターを使用
して必要な時にそれを必要な走査コンバータに接続する
ことができる。また、コンボリユーション処理された一
次元データを記憶するために、保持回路日と走査コンバ
ータ19との間に言己億装置21、例えばビデオレコー
ダを接続することも可能である。その場合には、形成さ
れる断層像ごとに適切な時間間隔で記憶装置から必要な
デ−夕を読み出して、逆投影によって走査コンバータの
ターゲット上に変換することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は、断層像を再構成する原理の説明図
。 第3図は、本発明の第1及び第2の具体例に従う断層撮
影装置のデータ処理過程を示す図。第4図は、本発明の
第1の具体例に従う断層撮影装置の簡略図。第5図は、
本発明の第2の具体例に従う断層撮影装置の簡略図。1
・・・・・・被写体、2・・・・・・X線ビーム、4・
・・・・・X線テレビジョン装置、6・・・・・・走査
コンバータ、7・・・・・・偏向コイル、9・・・・・
・陰極線管、11・・・・・・輝度増幅器、12及び1
3・・・・・・マスク、14・・・・・・ビームスプリ
ッタ、16及び17・・・・・・光増倍管、18・・・
・・・差動増幅器、20・・・・・・モニター、26・
・・・・・X線源。FIG.l FIG.2 FIG.3 FIG.4 FIG.5

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 被写体にX線を照射するX線源、 X線が照射された被写体の断面のX線吸収に従つた一
    次元撮影データを検出するX線テレビ装置4、 被写体
    を該X線源及び該X線テレビ装置4に対して相対的に回
    転せしめる回転装置、 該X線テレビ装置に接続され、
    一次元投影データを逆投影する偏向コイル7及びターゲ
    ツト5を備えた走査コンバータ6、 該走査コンバータ
    6に接続され、上記逆投影することによつて形成された
    二次元データに従つた光学像を生成する持続性スクリー
    ンを備えた陰極線管9、 該陰極線管9に接続され、該
    持続性スクリーンに生成された光学像を受け取り、該光
    学像に応じた像を出力にて全体として移動せしめるため
    の偏向コイル10を含む輝度増幅器11と、該輝度増幅
    器11の出力像を光学的に分離するためのスプリツタ1
    4と、該スプリツタ14によつて分けられた光学像の一
    方を通すように配置され、コンボリユーシヨン関数の正
    の部分に従つた光透過率分布を有する第1のマスク12
    と、該スプリツタ14によつて分けられた光学像のもう
    一方を通すように配置され、コンボリユーシヨン関数の
    負の部分に従つた光透過率分布を有する第2のマスク1
    3と、該第1のマスク12に光学的に接続された第1の
    光電子増倍管16と、該第2のマスク13に光学的に接
    続された第2の光電子増倍管17と、該第1の光電子増
    倍管16及び該第2の光電子増倍管17に接続された差
    動増幅器18とを備えたコンボリユーシヨン装置、及び
    該コンボリユーシヨン装置に接続され、該コンボリユ
    ーシヨン装置の出力信号に従つて断層像を表示する表示
    装置20を具備することを特徴とする断層撮影装置。 2 被写体にX線を照射するX線源、 X線が照射された被写体の断面のX線吸収に従つた一
    次元投影データを検出するX線テレビ装置4、 被写体
    を該X線源及び該X線テレビ装置4に対して相対的に回
    転する回転装置、 該X線テレビ装置4に接続され、該
    一次元投影データに従つた一次元光学像を生成する持続
    性スクリーンを備えた陰極線管9、 該陰極線管9に接
    続され、該持続性スクリーンに生成された光学像受け取
    り、該光学像に応じた像を出力にて全体として移動せし
    めるための偏向コイル10を含む輝度増幅器11と、該
    輝度増幅器11の出力像を光学的に分離するためのスプ
    リツタ14と、該スプリツタによつて分離された光学像
    の一方を通すように配置され、コンボリユーシヨン関数
    の正の部分に従つた光透過率分布を有する第1のマスク
    12と、該スプリツタ14によつて分けられた光学像を
    もう一方を通すように配置され、コンボリユーシヨン関
    数の負の部分に従つた光透過率分布を有する第2のマス
    ク13と、該第1のマスク12に光学的に接続された第
    1の光電子増倍管16と、該第2のマスク13に光学的
    に接続された第2の光電子増倍管17と、該第1の光電
    子増倍管16及び該第2の光電子増倍管17に接続され
    た差動増幅器18とを備えたコンボリユーシヨン装置、 該コンボリユーシヨン装置に接続され、該コンボリユ
    ーシヨン装置によつてコンボリユーシヨン処理された一
    次元投影データを逆投影する偏向コイル及びターゲツト
    を備えた走査コンバータ19、及び 該走査コンバータ
    19に接続され、該走査コンバータ19の出力信号に従
    つて断層像を表示する表示装置20を具備することを特
    徴とする断層撮影装置。
JP52056043A 1976-05-17 1977-05-17 断層撮影装置 Expired JPS6016245B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7605254 1976-05-17
NL7605254A NL7605254A (nl) 1976-05-17 1976-05-17 Beeldconstructie.

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Publication Number Publication Date
JPS52140286A JPS52140286A (en) 1977-11-22
JPS6016245B2 true JPS6016245B2 (ja) 1985-04-24

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ID=19826211

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP52056043A Expired JPS6016245B2 (ja) 1976-05-17 1977-05-17 断層撮影装置

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US (1) US4173720A (ja)
JP (1) JPS6016245B2 (ja)
CA (1) CA1109971A (ja)
CH (1) CH631264A5 (ja)
DE (1) DE2720994C2 (ja)
FR (1) FR2397682B1 (ja)
GB (1) GB1568158A (ja)
IL (1) IL52082A (ja)
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