JPS60154181A - 帯状金属板の介在物検出装置 - Google Patents

帯状金属板の介在物検出装置

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Publication number
JPS60154181A
JPS60154181A JP59010302A JP1030284A JPS60154181A JP S60154181 A JPS60154181 A JP S60154181A JP 59010302 A JP59010302 A JP 59010302A JP 1030284 A JP1030284 A JP 1030284A JP S60154181 A JPS60154181 A JP S60154181A
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JP
Japan
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charge
plate
inclusion
transmitted
ray
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Pending
Application number
JP59010302A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuji Naito
修治 内藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Geophysics And Detection Of Objects (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は帯状金属板の介在物検出装置に係わり、詳しく
はオンラインで帯状金属板の微小な介在物を検出する装
置に関する。
例えば、炭酸飲料缶、ジュース缶、ビール缶などの飲料
缶に供される缶用鋼板は、介在物がその加工性や飲料缶
として内容物との反応性に悪い影響を及ぼすので、該缶
用鋼板の製造ラインあるいは検査ラインなどで介在物の
検出を行なう必要がある。寸だ、最近の飲料缶等の自動
販売機の普及により、缶用鋼板需要家からの、介在物の
低減に対する要望が強い。
前記缶用鋼板のみならず他の表面処理用鋼板、冷延鋼板
についても、介在物は耐食性やプレス加工性に有害であ
るので、介在物の検出は必要である。
(従来技術) 従来の鋼板の欠陥検出装置としては、例えば特開昭55
−7660号に示されるような超音波探傷装置、特開昭
51−63885号のような磁粉探傷装置などがある。
超音波探傷装置は内部欠陥を検出することができるが、
その程度は比較的大きな欠陥の検出であって、検出精度
の向上を図るために例えば探触子等の改良をしたとして
も、微小な介在物を検出することは困難である。磁粉探
傷装置は微小介在物の検出ができるが、磁粉使用しなけ
ればならず、検出に幾分時間を要する等の問題がある。
この他にX線疵検出装置があり、これはX線の透過によ
り内部欠陥を検出するのである。しかし、X線d、散乱
現象があるために検出像において、欠陥とノイズとの識
別が難しいことがあり、これまでの装置では検出精度に
問題があった。
(発明の目的)及び(発明の構成・作用)本発明はかか
る実情に鑑みてなされたものであり、オンラインで帯状
金属板例えば缶用鋼板、他の表面処理用鋼板、冷延鋼板
などの介在物を精度よく検出することを目的とする。そ
の要旨は、被検板をはさんで設けられた微小焦点X線発
生器と、被検板中の介在物の透過X線像を電荷に変換せ
しめるX線電荷変換素子を被検板の中方向と長さ方向の
2次元に配置した像変換器と、前記X線電荷変換素子で
変換された電荷を蓄積するとともに被検板の通板速度と
透過X線像の拡大率で定寸る転送速度で蓄積された電荷
を被検板の走行に対応して転送し加算する電荷蓄積・転
送装置と、被検板の通板速度と像変換器の透過X線像の
拡大率から転送速度を電荷蓄積・転送装置に出力する電
荷加算制御装置と、電荷蓄積・転送装置で加算された電
荷と別途設定された介在物の検出レベル信号と比較する
比較器とからなる帯状金属板の介在物検出装置にある。
(実施例) 次に、本発明を図面を参照し1実施例にもとづき詳細に
説明する。
図面において、1は被検板でA方向に走行される。2は
微小焦点X線発生器であり、被検板1にX線を発信する
。3は像変換器で、被検板1をはさんで微小焦点X線発
生器2と対向して設けられている。該像変換器3は、被
検板1を透過したX線を電荷に変換せしめるX線電荷変
換素子4が2次元に配設されたものである。この2次元
の配設とは、被検板1の中方向と長さ方向へ配設された
ことを言う。
5は電荷蓄積・転送装置で、X線電荷変換素子4で変換
された電荷を蓄積する機能をもっており、前記X線電荷
変換素子4のそれぞれと対応した蓄積素子6から構成さ
れている。
該電荷蓄積・転送装置5は前記の如く電荷を蓄積すると
ともに、被検板1の通板速度と、微小焦点X線発生器2
と被検板1の間隔と、被検板1と像変換器3の間隔によ
り定寸る透過X線像の拡大率で定する転送速度にて蓄積
された電荷を、被検板1の走行に対応して転送し加算す
る。この電荷の移動加算により静止長時間露光した場合
と同等の良質の信号が得られ、被検板1中の微小な介在
物でも精度より検出される。
7は電荷加算制御装置であり、被検板1の移送ローラ8
の回転をノぐルス発生器9で/シルレス信号とし、該電
荷加算制御装置7に被検板1の通板速度信号として人力
される。被検板1の通板速度信号を得る手段は前記の、
<ルス発生器9に限らず、例えば空間スペクトルを用い
た速度測定手段等公知のものを採用してよい。
また該電荷加算制御装置7には、前記透過X線像の拡大
率10が入力され、該拡大率10と被検板10通板速度
信号から、前記X線電荷変換素子4に蓄積された電荷の
転送速度指令信号を、前記電荷蓄積・転送装置5に出力
する。
11は比較器で、電荷蓄積・転送装置5で加算された電
荷と別途設定された介在物検出レベル信号と比較し、そ
の大小から介在物が検出される。
本発明の構成は以」二のようになされており、次にその
作用について述べる。
被検板1は移送ローラ8によゆ矢印の入方向に走行され
るが、該走行中の被検板1に微小焦点X線発生器2から
X線が投射される。X線は被検板1を透過して像変換器
3の方へ行くのであるが、い捷例えば被検板1の中に介
在物が存在していると、透過X線の強度は正常箇所と比
べると一般に弱くなる。この透過されたX線は像変換器
3を構成するX線電荷変換素子4で電荷に変換され、次
いで電荷蓄積・転送装置5に蓄積される。
介在物を透過したX線の変換された電荷は、第2図の曲
線13で示される箇所14のように高くなっている。1
5は時間軸、16は蓄電素子の順番を示し、後の蓄電素
子はどSN比がよくなる。
ところでX線は散乱現象、吸収現象があるので、被検板
lを透過したX線にはどうしても1−ボケ」がある。こ
のため被検板1中の介在物とくに微小介在物を精度よく
検出することは、これまで殆どなされていなかった。
(発明の効果) 本発明では被検板1の通板速度に対応してかつ、透過X
線像の拡大率をも加味して、電荷蓄積・転送装置5では
電荷を蓄積するとともに、被検板1の走行に対応して、
電荷を加算するので散乱現象、吸収現象による1ボケ」
の影響は除かれる。該電イFi■蓄積・転送装置5から
の加算された電荷は比較器11にて介在物検出物レベル
信号12と比較され、これにより微小な介在物でも精度
よく検出されるの−である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の1実施例を示す図。 第2図は1実施例における作用を説明するための図。 1・・被検板、2・・微小焦点X線発生器、3・・像変
換器、4・・X線電荷変換素子、5・・電荷蓄積・転送
装置、6・・蓄積素子、7・・電荷加算制御装置、8・
・移送ローラ、9・・パルス発生器、10・・拡大率、
11・・比較器。 特許出願人 代理人 弁理士 矢葺知之 (罐か1名)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被検板をはさんで設けられた微小焦点X線発生器と被検
    板中の介在物の透過X線像を電荷に変換するX線電荷変
    換素子を2次元に配設した像変換器と、X線電荷変換素
    子からの変換された電荷を蓄積するとともに被検板の走
    行に対応して転送し加算する電荷蓄積・転送装置と、被
    検板の通板速度と像変換器の透過X線像の拡大率から転
    送速度を電荷蓄積・転送装置に出力する電荷加算制御装
    置と、電荷蓄積・転送装置で加算された電荷と別途設定
    された介在物検出レベル信号と比較する比較器と、から
    なる帯状金属板の介在物検出装置。
JP59010302A 1984-01-25 1984-01-25 帯状金属板の介在物検出装置 Pending JPS60154181A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013170924A (ja) * 2012-02-21 2013-09-02 Hitachi High-Tech Science Corp 透過x線分析装置
JP2014160040A (ja) * 2013-02-20 2014-09-04 Toshiba Corp X線透過装置およびx線検査装置

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CN103499592A (zh) * 2012-02-21 2014-01-08 精工电子纳米科技有限公司 透射x射线分析装置
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