JPS60153907A - 物品から固体物質を化学的に除去する装置 - Google Patents

物品から固体物質を化学的に除去する装置

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JPS60153907A
JPS60153907A JP59154207A JP15420784A JPS60153907A JP S60153907 A JPS60153907 A JP S60153907A JP 59154207 A JP59154207 A JP 59154207A JP 15420784 A JP15420784 A JP 15420784A JP S60153907 A JPS60153907 A JP S60153907A
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processing liquid
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電子産業分野から生れたものであり、更に明確
にいえばプリント回路板、fリント回路薄膜、および同
種の粒子処理製造において確立された産業分野において
実現されたものである。
(従来の技術) 電子メッキ工業のごとき産業分野およびその関連分野に
おいては、粒子処理を行なわねばならぬような場合に、
もしもエツチングやメッキその他の処理を施してはなら
ぬ粒子部分が存在するならば、処理されてはいけないそ
れらの部分に後続の工程で除去可能な被覆物質から成る
障害物が設けられる。この代表的なものとしては、メッ
キ或はエツチング処理が行なわれる場合には、その被覆
障害物はプリント回路板或は他の粒子に対して採用され
ているところの所6Iマスタ方式である。このマスクは
、マスク処理が施こされている場所において粒子のエツ
チングやメッキ処理のごとき化学的影響を受けないよう
に処理流体、即ち通常は液体から非処理粒子部分を保獲
している。これは処理してはいけない粒子部分のみに対
し、上記マスクが一般的には選択的に施こされるからで
ある。
エツチングやメッキ処理その他の処理が完了した後、マ
スク上に溶剤を適用することによって該マスクは化学的
に処理され粒子部分上のマスクは化学的に除去される。
共形的のものとしてかかる溶剤はマスクを粒子部分から
分解分離する酸液或はアルカリ溶剤であり、屡々その間
に溶剤噴射室を通して導入されるようにされる。過去に
おいて、前述したマスクや被覆物或はその類似物を除去
する多くの化学的溶剤が化学的に製造されてマスクを溶
剤中において分解することが行なわれた。マスク物質が
溶剤内に増加してゆき遂には許容できない程に高濃度に
なる場合が起る。このような場合に溶剤は廃棄処分する
かまたは爾後の再生処理操作に俟だなければならぬ。過
去において、多くのマスクは水に溶解する形式のもので
、溶剤と共に下水管系へ廃棄されている。
増大する環境汚染問題の関心は他のマスクや被覆物に発
展してゆき、これらは高分子やこれに類似する水に可溶
でないものを含み、更にはプリント回路板などの基板物
体からマスクを除去するために使用されている溶剤中で
も溶解しないようなマスク材料も含まれている。かくし
てプリント板等の基板物体から、p リマーや種々のマ
スク全分離するために利用されている化学現象はマスク
を基板物体から迅速に除去するものであるので、上記除
去された物質はしばしばゼラチンのような粘稠度を示す
ものから、比較的化学作用を起さない薄片や薄皮のごと
き殆んど永久に分解することなくその溶剤中に残留され
る粒子塊のようなものに及ぶ物理的性質を内包している
電子工業の拡大発展に伴ない、特にプリント回路板およ
びその類似物に対し高速自動処理を可能にする粒子処理
装置の開発については、未だ曽ってみないほどに大きな
要請がめられるにいたった。このことは必然的に基板か
らエツチングやメツキレシスト或はマスクの除去処理に
よって起る薄皮や細片管理のために処理速度の高速化が
要望されることになる。
過去における大抵の濾過状態において、濾過液或はp過
ケーキは透過性を有し、これは該−過液の総蓄積物が液
体通路を綾瀬に流過する効率の良くない状態になるまで
濾過操作を継続している。
例えば米国特許第3.776,800号において、粒子
群をエツチング溶剤から除去するように利用された除去
可能なp過装置を教示する。また米国特許第4.015
.706号には処理される粒子部分からレジストや他の
マスクを除去することを教示し、そして、これは本発明
が狙っている処理作用のいくつかを述べている。ある種
のマスク或はレゾストの場合特にそれらがポリマーであ
るとき、ポリマーや他のマスクを形成する薄皮や細片そ
の他の存在はそれらが篩目や濾過材に付着してしまう性
質を有しているためスクリーンや濾過材を密閉し或は閉
塞してこれを使用不能にしてしまう可能性をもっている
(従来技術) 液体中の粒子分離が望まれる場合、自浄作用を有する成
る種のスクリーンや濾過器を採用することは公知である
。これは例えばスクリーンや濾過器を振動させて液体中
の粒子を除去するとか、或は逆向流技術を採用するとか
、或はまた一般に崩壊操作を行って集積した粒子塊を取
シ除くようにすることが行なわれている。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明はマスクやレジストその他の被覆物をプリント回
路板から除去し、そして化学的に効果的な除去処理を行
って溶剤の再生利用を容易にすることを含み、種々の粒
子体を処理するための粒子処理装置に関している。この
目的のために、1個またそれ以上のスクリーン濾過系か
ら成る分離装置が提供され、該装置は実質的に溶液中の
粒子はスクリーンや他の濾過器の通過作用が自由でl、
かつ同時に粒子や細片やその他のものがスクリーンやF
3i材料の自火に集積しないように洗滌操作を行ない、
次いで好ましくは後続する周期的な濾過作用を遂行せし
めうるように、前述の洗滌粒子をスクリーンや戸材上か
ら回収するようにしたものであシ、これによって粒子は
再利用不能になるわずかな溶剤部分が回収されて充分に
濾過される。
−万人部分の処理溶液は殆んど直ちに再利用に使用され
るものである。
(問題を解決するための手段) 本発明は固体物質粒子を処理液体から化学的に除去する
ための装置を提供するものである。この場合、該固体物
質は化学的な処理液体によ多処理され得る粒子であるこ
とを基本とする。その除去作用は溶液の流下通路が角度
的に配置された板状濾過体またはスクリーンを通して処
理液体の濾過行程が行なわれ、その間に捕捉粒子はその
ときスクリーンから洗い落され、好ましくは洗滌液体か
ら後続の濾過作用を受けるために集められこれはまた処
理液体として使用されるような分離技術を採用すること
である。
従って本発明の第1の目的は処理される粒子部分から固
体物質を化学的に除去するための新規な装置を提供する
ことである。
本発明の他の目的は前記粒子部分から固体物質が除去さ
れる結果として処理液体中に生ずる粒子や薄皮や細片そ
の他のものに対する分離が行なわれるような装置を提供
することである。
更に他の目的は上記目的を達成することであシ、それは
特にp過媒体を通して処理液体の流れを容易にする新規
な分離装置であり、その目的はまた濾過媒体の流入表面
が洗い落されてそれから粒子が実収されることである。
前記目的を達するために本発明の更にもう一つの目的は
前記粒子の果状操作が周期的に実施され液体の再利用に
対しその後更に、処理液体を粒子部分から分離せしめる
ような機能をもたせたことである。
更にもう一つの目的は、本装置が特にプリント回路板や
フィルムその他の類似物の処理に対し適応されているこ
とであシ、これはマスクやレジストや塗布物その他のも
のをレジスト剥離溶剤のような化学的溶液を使用し、成
る通路に沿って運ばれてくる基板体上に該溶液を噴射さ
せることによって除去するようにしたことである。
更に上記目的を達成するための発明のもう一つの目的は
残留細片の実収に対しスクリーン洗浄導管と共に1個或
はそれ以上のスクリーンが利用されることで、その後前
記細片を果状区域から排出することである。まだ他の目
的は−そう管理し易いように個々の砥粒子を濃縮せしめ
ることである。
本発明のその他の目的および効果は以下に記載する添付
図面の簡単な説明・好適な実施例に関する詳細に亘る説
明および付属する請求範囲を理解することにより、当業
者にとって容易に明らかにされる。
(実施例) さて詳細に亘シ図面を参照して説明するに当シ最初に第
1図を取シ上げる。プリント回路板、プリント回路フィ
ルム或は同様の類似物からエツチング、メッキ、或はそ
の他の化学的処理装置に対する付加物質としてマスクや
レジストやその他の類似物を除去するための除去装置は
総括して符号10で示されている。該装置10はその内
部12に上部室13と下部室14を含む1つの室11を
有する。該室11は入口側端壁15と出口側端壁16に
よって構成され、それぞれの端壁上には入口開口17と
出口開口18が形成されている(第3図参照)。側壁2
0と21は上記室の両側を形成するが、ただし装置10
の遠い側壁22上に設けられた延長しだ液溜め部が水平
の室壁23と垂直の室壁24によ9部分的に形成されて
いる。この延長した液溜め部は壁部分23の下に符号2
5で示されている。該室は底壁26と取外し可能な蓋2
7によって形成される。
第3図に示すコンベア装置28が利用されるが、これは
米国特許第4.015,706号および同第4.046
,248号に開示された装置に類似した搬送桿と車輪に
よる形式のものであシ、好ましくはこれらの特許明細1
.に記載した搬送駆動技術と同じ態様で駆動されてもよ
いから、それに関する記載はここではそれを参照するも
のとする。更にまた除去装置10は前述した2つの米国
特許に記載された態様で類似の連結構造、整合配列、お
よび駆動結合技術を使用して統合されたモジュール寸法
方式によシその端部に次に隣接するモジュール構造体を
結合せしめるように組立て得るものであるから、ここに
はこれと同じようなものを重複して説明されていない。
兎に角前記コンベア装置28は第3図に示す矢視の方向
にプリント回路板或は他の基板体を搬送するように設け
られている。
上部および下部噴射頭31.32はそれぞれ装置の横方
向に延在する複数個の噴射管33f:有し、該噴射管は
噴射ノズル34に処理液体を送シ込むものである。この
噴射ノズル34は符号35に示すように化学的処理液体
をその間を通過する被処理物品Aに向って噴射するよう
に配置式れておシ、これによってレジスト或は他の被覆
物質はその物品Aから化学的に溶解されてこれを物品A
上から洗い落し、該溶液を一対の濾過スクリーン36゜
37に向って下方へ流下せしめる。との濾過スクリーン
36.37は被処理物品Aから除去された粒子群を分離
するための分離機能の一部を構成する。上記スクリーン
36と37は第1図に示すように垂直線に対し適切な鏡
角度好ましくは60度の傾斜角度に取付けられ、同図の
点線矢印38の方向に向って処理液体の大部分の量を落
下するようにしている。勿論上記スクリーンの網目は所
定の粒子ザイズに従かいその除去作業が効果的に行ない
うるよう選択される。上記スクリーン36および37に
は適当な取付具が設けられていて好゛ましい方向位置に
保持され、図示のごとくこれらのスクリーンが各側にお
いて互に1個の樋4oに向って収斂しV字形状をとるよ
うに形成されている。
第4図に示すように、1対の洗滌噴射頭が導出管39お
よび適当な相互連結導管43を介して化学的除去を効果
的に達成するところの同一の処理液体に対し形成される
。噴射ノズル頭41と42はそれぞれスクリーン36と
37に沿い或は横切って噴射できるように方向付けられ
、被処理粒子部分から除去された細片や表皮やその他の
粒子を洗滌するようにしておシ、斯る噴射作用は樋40
に向けて粒子を排出せしめるのに効果がある。導出管3
9の如き溶液の帰遺導管系は樋40内における溶液の蓄
積全防止するから重要であシ、さもないと溶液の蓄積が
1通40内において増大し引いてはスクリーンに波及し
、スクリーンが粒子によって目詰シを生ずる。樋40は
スクリーン36と37の下部取付具46及び47によっ
て形成される。
該スクリーン36および37は同様に上部取付具48及
び50を有する。かくしてスクリーン36および37か
ら洗い流された細片が樋40内に集成さることが理解で
きよう。この+A40はほぼ装置の長さに亘って第3図
に示す対向した端壁15と16の間に延在しているが、
しかしこの洗滌液(処理液)は第3図中の樋40の最左
端から外部に向って自由に排出され、液体111)め5
1に入り更に第1図の印部53の方向に向い送出導管系
52へ送出され、遠心ボンデ54に向う。該遠心ボンデ
54は一般に連続的に常時運転されておシ、従って該ポ
ンf54に導入された処理液は導管55を通シ第1図に
図示された矢印56の方向へ導管39を経て噴射頭41
および42に還流するように吐出される。導管58中の
弁57は電磁ソレノイド60によシ作動され、処理液の
流れは液体溜め51に向けられ次いで回連した遠心ポン
プ54を通過する期間中に上記弁は閉鎖状態に♂かれ、
このため液体の流れは作動中において導管58の流れは
この弁57で遮断され、処理液は第1図に示す専管56
を通って帰還せしめられる。
上記したように粒子や細片やその類似物は前取って定め
た時間だけ或は以前に設定した状態が起るまで樋40内
に蓄積される。この自前の設定状態とは樋40内の液体
放出が開始する作動状態となる液体のレベル上昇である
。しかし好ましくは適当な時間設定装置Tによって制御
するようにす゛ るとか或は一定の規定秒数によって定
めるとかのように所望の時間だけ通過するようにしても
よい。
いかなる場合でも、自前に設定した制御因子によシ、樋
40内の液体放出作用は第3図の矢印64の方向に処理
液体の波動伝達作用によって効果的に行なわれるもので
あシ、これは推力発生装置により、第3図の矢印65の
方向にその右端から左端に向って樋40内に蓄積された
細片を液体溜め51に向って推進し次いで導¥g52を
経てIンデ54に送出する。導管63を通る突発的流れ
を制御する調時装置Tの作動開始と殆んど同時に、調時
装置Tはまた導管68から導管63を通る流れを起す弁
67の制御電磁ソレノイド66に通電して作動するか、
または電導線70を経て電磁ソレノイド60を始動し、
弁57を開くように作動することができる。それによっ
て4A40から放出されたばかりの細片を含む処理液体
の排出作用は導管系55中のT形結合継手72を通過し
たとき、導管58を経て第1図に示す矢印71の方向に
流れてゆくが、これはその細片および処理液体を樋40
から導管74を経て濾過器73に引き渡すためには最小
抵抗をもつ最短通路を取るものである。
導管63からの処理液体の推進はまたタイマーTによっ
て設定時間の最終時期に調時され、この調時点において
タイマーTは電磁ソレノイド66によシ弁67の閉鎖作
用を効果的に行ない殆どこれと同時に電磁ソレノイド6
0が弁57を閉鎖する。
これらのすべては樋40から排出された固体物質や処理
液体をボンデ54を通過せしめるようにタイマーTに予
め設定された充分な時間が経過した後に起るものである
。その後ボンデ54からの排出液体は導管56を経て噴
射管頭41および42に戻される。ボンf54は適宜フ
レーム76に設けた任意のモータ75によって運転され
る。
スクリーン36.37を流下する処理液体は室14の下
部に集められ、室14の下方部分に延在した液体溜め部
25に設けた主ポンプ(図示せず)に導びかれる。これ
は第1図の矢印78の方向に主吐出管77を上昇して上
部および下部の噴射管ヘッダ31と32にそれぞれ給液
する主吐出導管80と81に処理液体を再循環させるた
めである。
また導管80および81は適切な流れ制御器82と83
をそれぞれ備え、これらは一般に手動操作形調節弁乃至
はその類似形式の調節手段を有している。
第5図において、前記樋40に向って処理液体に、大容
量の推進力を伝達する導管63には更に好ましくは導・
α63と導管92の連結点に部分真空を発生させること
によシ、反発泡剤供給容器91から反発泡剤を供給する
ようにしていることに留意されたい。これは反発泡剤供
給容器91から液状の反発泡剤94f、吸引するため一
方向弁或は逆止弁93(これは第5図に示す弁の左方向
に向う液体の流れを阻止する)を通す真空によって引か
れる。反発泡剤は容器91から導管95を上昇し流欧計
96を通り導管97を経て逆止弁93に通ずるが、これ
は部分真空作用或はペンチーリ効果によシ行なわれ、樋
40から放出するための推進体として役立つ処理液体と
共に前記反発泡剤を樋40内に送り込むために行なわれ
る。これはポンプが細片や粒子等を処理している間にボ
ンデ54の上流に気泡の発生を阻止し、これによシポン
デのキャビテーション発生を阻止することができる。
本発明に係る処理液体から除去粒子の分離を効果的に実
施するための装置はまた逆向き噴射を随時に行う特性を
もたせたことである。この特徴は上記スクリーン36の
背面或は下側に処理液体を送り込むことにある。これは
スクリーンに振動を起すような態様で行なわれ、またそ
のスクリーンに上方向きの液体を送り込む態様でもおる
。これによって粒子や細片その他のものがスクリーンの
上方表面から樋40の方へ下方に向ってその洗滌作用を
効果的にするものである。
前記逆向流を生ずる態様は導管100を通して主再循環
系78から第1図と第4図に示す室の内部に向って流入
口101に供給され、そこで可撓管102は処理液体を
送出ヘッダ103および104に送シ込む。該送出ヘッ
ダ103および104はそれぞれ適当な技術手段によシ
樋40の下部に符号105と106の所に担持して取付
けられ、更に回転可能な噴射器107が設けられる。
噴射器107は各構造が実質的に同一のものであるから
、その一つだけを詳細に述べれば充分である。各噴射器
107は流体流入導管108上に取付けられ、該導管1
08は適宜のヘッダ103或は104から処理液体を受
けこれを回転頭110に送シ込む。この回転頭110は
その中を流れる処理IK体の反動圧力作用によって回転
可能に駆動され、該部に担持された噴射ノズル111お
よび112並びにヘッド110を回転する。このとき処
理液体は動的な円弧を描いてノズル111および112
から噴射され、スクリーン36および37のほぼ全下側
表面に向って全部で8個のノズルから効果的に噴射され
、スクリーン36および37における粒子の逆向並洗滌
作用を有効に行うことができる。
第1図を参照するに、濾過器73には樋40の滞溜物を
濾過して清浄化した処理液体の通路をなす処理液体排出
導管115を設けていることに気がつくだろう。このp
過器73内部では濾過作用が起シそしてここで濾過され
た処理液体は次いで導管115を経て矢印116の方向
に室14の入口101に向って送り返される。そのとき
導管100に通じる流体の流れは濾過された流体を室1
4内へ押し戻すように導管115内に部分真空或はベン
チュリ効果が起っていることに留意すべきである。更に
また本発明に係る逆向波特性が利用されないような場合
即ち噴射頭107が導管102を通して液体が導入され
ないとき、処理液体は導管100を通して開口101か
ら室に向って連続的に導びかれ導管115t−通して濾
過器73のp過液棒金帰還するようにベンチュリ効果を
生じさせるか、または別途の方法として液体譜めに向っ
て直接排出するように開口101を設計変えすることも
できる。
一般に濾過器73には除去可能なp過材籠(図示されな
い)が設けられ、これは細片がほぼ濃密なケーキ状に固
形化するまで細片が次第に蓄積されその時点で手操作で
除去する必要がある。斯くして作業者の経験に頼って例
えば毎日のように周期的に検視可能であシ、濾過材籠は
交換されるか或は単に再開用のためにp過材を抜き出し
てもよい。p過器73を構成しないために、濾過作用が
全く行なわれずに液体の蓄積が進行して濾過器73内に
細片が増大してゆくような場合には、適切な液面感応型
液面制御器120が作動し電導線121を通じて符号6
6における弁67の電磁ソレノイド作動を停止するよう
に働らく。この場合に4′ft63を通る処理液体の伝
達作用により起る+A40内の成体放出作用は無効にぜ
れるが、これはE過器73の成体放出が効果的になるま
でボンデ54から導管74を通ってp過器73に流入す
る処理液体に能う付加的細片1粒子その他の類似物の吐
出作用を阻止することによって達成される。
前記した本発明によれば、特許請求の範囲に記載された
範囲内において種々の変形例が形を変えて実施しうろこ
とに留意しなければならぬ。例えばスクリーン36.3
7に対し水平面と30度の傾斜角度を与えることが液体
の通過に充分効果があることが見出されているから、そ
の他の種々な傾斜角度もまた合理性ある良好なものとし
て実施され得ることは明らかである。更にスクリーン3
6.37はその取付は方において効果的に利用された分
離型p週休とし採用されているけれども、技術的にはス
クリーン形式ではない他の濾過装置もまた採用可能なこ
とは明らかである。更にまた本発明装置について種々述
べた他の具体的事項や操作方法についても請求範囲記載
の精神と範囲内において変形可能であることは明らかで
ある。
本発明は従来の実施形態のもつ欠点であった被覆作用を
防止しかつその結果化ずるFx4スクリーンの目詰り作
用の防止を意図している。本発明は特に除去すべきマス
クや被覆物が7戸材表面に付着して乾き易い性質をもつ
ポリマーによって形成されている場合に有用であシ、史
に本発明は処理室内にスクリーンを設けるものとして説
明されている。該スクリーン設備は大量の液体流量例え
ば1分間当多40ガロンの溶液がスクリーンを洗滌して
細片の集積作用が起らないようにされるものであシ、か
つその流れはまたスクリーン面が乾燥しきらないように
保持するためのものであって、さもないとポリマーは例
えば同じポリマーで使用される戸材媒体に付着してしま
うからである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係わるレジスト分離装置の端部正面図
であり、該図は本装置の物品の流れる方向からみて描か
れ、多くの溶液処理導管が図示されている。 第2図は本発明装置の部分的水平断面図で大体において
第1図のII−II腺に沿っておシ、本発明の変化に富
む分離特性が−そう明確に図示され、第3図は大体にお
いて第1図の■−■線に沿って描かれた本発明装置の部
分的垂直断面図であシ、第4図は略第2図のIV−IV
線に沿って描かれた本発明に係る部分的垂直断面図であ
シ、ここにはスクリーン洗滌作用と逆向流洗滌特性が−
そう明i瞭に図解され、 第5図は第2図の略v−v線に沿って描いた本発明装置
の部分的垂直正面図である。 10・・・本発明装置、11・・・処理室、25・・・
処理液溜め、28・・・物品搬送装置、A・・・物品、
31゜32・・・噴射頭、34・・・噴射ノズル、36
.37・・・スクリーン、40・・・樋、51・・・処
理液溜め、54・・・遠心ポンプ、57・・・弁、T・
・・調時装置、63・・・導管、67・・・弁、73・
・・濾過器装置、67・・・弁、60.66・・・電磁
ソレノイド、73・・・濾過器、75・・・モータ、7
7・・・主吐出導管系、82.83・・・流れ制御器、
91・・・反発泡剤供給容器、93・・・逆止弁、94
・・・反発泡剤、107・・・回転噴射装置、111.
112・・・噴射ノズル。 以下余白 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、化学的処理液によυ処理される物品から固体物質を
    化学的に除去する装置であって、該装置は1個の処理室
    を具備し、該処理室の上方部に物品支持手段を設けて1
    物品を支持できるようにし、かつ処理液の噴射により物
    品から固体物質を除去するために前記処理室に処理液を
    導入する手段を設けて支持された前記物品に向けて処理
    液を噴射可能にされ、更に処理液中から固体物質を分離
    するために 処理室内に分離手段が設けられ、かつ前記
    の処理液導入系へ処理液を還流させるため該処理液を収
    集する処理液実収手段が前記処理室内に設けられている
    ものであって、これらの各構成要素は、 (、) 前記分離子&における分離濾過装置は垂直方向
    に対し、処理液の貫流通過作用を許容するに光分な鋭角
    度をなして配置されると共に固体物質についてはスクリ
    ーンを透過せしめることなく該スクリーンに沿って滞溜
    区域に向けて洗い落されるように構成され、 (b) 前記分離手段における濾過体洗滌装置は、固体
    物質を滞溜区域に向けて洗い落すように前記濾過体を横
    切って処理液を導入するように構成され、 (c) 前記分離手段における処理液放出装置は、前記
    滞溜区域から処理液と固体物質を放出するために設けら
    れている、 上記(、)(b)(e)の要件を含んでいる化学的処理
    液によ多処理される物品から固体物質を化学的に除去す
    る装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記処
    理液放出装置に第2の濾過装置が連結されて前記放出処
    理液を受け入れ該処理液中から固体物質を濾過せしめる
    ようにした物品から固体粒子を化学的に除去する装置。 3、特許請求の範囲第2項記載の装置において、S前記
    処理液放出装置から濾過された処理液を処理室側へ還流
    するようにした装置を具備する物品から固体物質を化学
    的に除去する装置。 4、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記処
    理液滞溜区域は固体物質と処理液を受け入れるための樋
    によって構成され、該樋に排出導管が連結されると共に
    樋に向って流入する処理液を受け入れる手段が設けられ
    ると共にそれを処理室の上部に両循環によシ帰還せしめ
    る手段を具備し、捷た前記放出装置は樋を通して処理液
    の流れを周期的に引き渡してa積された固体物質を放出
    する処理液推進手段を具備する物品から固体物質を化学
    的に除去する装置。 5、特許請求の範囲第2項記載の装置において、前記処
    理液滞溜区域は固体物質と処理液を受け入れるだめの樋
    によって構成され、該樋には排出導管が連結されると共
    にそれを処理室の上部に両循環によシ帰還せしめるため
    の手段を具備し、また前記放出装置には樋から処理液の
    流れを周期的に発射して蓄積した固体物質を除去するよ
    うにした処理液推進装置が形成され、更にこの処理液放
    出装置は弁装置を含む排出導管によって前記樋に連結さ
    れると共に前記弁装置並び推進装置に作動可能に結合さ
    れた手段を具備しこれによって該推進装置の始動時に殆
    んど同時的に排出導管系と処理室間の正常な流動状態か
    ら該排出導管系と第2のp過装置間に生ずる別の流量状
    態へと弁装置の作動設定が切替えられ、これによって蓄
    積された固体物質が前記第2濾過装置側へ伝達されるよ
    うにした物品から固体物質を化学的に除去する装置。 6、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記濾
    過装置の下部に当る処理室内に処理液通向流装置が配置
    されると共に該逆向並装置を処理液源に連結するだめの
    手段が設けられ、更に該逆向並装置に固体物質の洗滌作
    用を容易にするため、傾斜したp過部材の下側に向って
    処理散体を投射する処理液投射装置を設けている物品か
    ら固体物質を化学的に除去する装置。 7、特許請求の範囲第5項記載の装置において、前記濾
    過装置の下部に当る処理室内に処理液通向流装置が配置
    されると共に該逆向並装置を処理液源に連結するための
    手段が設けられ、更に該逆向並装置に固体物質の洗滌作
    用を容易にするため傾斜濾過部材の下側に向って処理液
    体を投射する処理液投射装置を設けている、物品から固
    体物質を化学的に除去する装置。 8、%許請求の範囲第5項記載の装置において、前記処
    理液にほぼ連続的に反発泡剤を加入する装置を具備して
    いる物品から固体物質を化学的に除去する装置。 9、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記物
    品支持手段は処理室の上方端において一般には水平通路
    に沿って一方の細長い入口開口から他方の細長い出口開
    口に向って延在する処理室内を通して物品を搬送する搬
    送装置からなシ、かつ処理液噴射装置は前記搬送通路の
    上方および下方の噴射ノズルを含み、更に上記処理液実
    収手段は処理室底部に形成したタンクと処理液を噴射ノ
    ズルに送シ込むため前記タンクに付属せしめたポンプ装
    置を含み、前記濾過装置はスクリーン部材により形成さ
    れかつ前記洗滌装置はスクリーンに向って処理液を噴射
    するように配置した噴射ノズルを含んで構成された物品
    から固体物質を化学的に除去する装置。 10、特許請求の範囲第1項記載の装置において、前記
    濾過手段は水平に対し約30度の鏡角度を有する一対の
    スクリーンによって構成されている物品から固体物質を
    化学的に除去する装置011、被処理物品を搬送通路に
    沿って搬送する間に該物品上にレジスト分離溶液を噴射
    することにより除去されるポリマーレジストを一部に有
    するシリンド回路板・フィルムおよび同種の類似物品を
    処理するための装置であって、該装置は1つの処理室を
    有し、該処理室の1端に形成した開口部から他端の開口
    部に向けて前記物品を搬送するための搬送装置が処理室
    内に形成され、前記物品に向けて分離処理溶液を噴射す
    るだめの噴射ノズルが処理室内に配設され、かつ分離処
    理溶液からレジスト粒子を分離するための分離装置が設
    けられると共に分離溶液を回収してこれを前記噴射ノズ
    ルへ両循環させるためのd液集収区域が処理室内に形成
    され、更にこれらの構成要素は、(、) 前記粒子分離
    装置には少くとも1つのスクリーンがその一部に形成さ
    れ、該スクリーンは垂直面に対し適切な鋭角塵を這って
    形成されレジスト粒子を篩別しながら該溶液を通過せし
    めかつ該スクリーンを通過しないレジスト粒子をスクリ
    ーンに沿って樋に向けて洗い落すようにし、(b) 前
    記分離装置の一部には少くとも1個のスクリーン洗滌ノ
    ズルが形成され、該ノズルは一般にはスクリーンの上方
    端部に配置されたスクリーンを洗滌してし5スト粒子を
    樋に向けてスクリーン面に沿って洗い落すようにし、 (C)更に分離値−の一部には、前記樋から溶液と粒子
    を放出するための放出装置が設けられている、ポリマー
    レジストを有する物品を処理する装置0 12、特許請求の範囲第11項記載の装置において、前
    記放出装置には樋から溶液と粒子を受け入れるようにし
    た1個の濾過装置が結合されていることを特徴とするポ
    リマーレジストを有する物品を処理する装置。 13、特許請求の範囲第11項記載の装置において、前
    記樋に溶液の排出管系が連結され、樋内の、溶液を処理
    室へ帰還させると共に前記放出装置に樋から充分な溶液
    の流れを周期的に射出するための推進装置が設けられ蓄
    積した粒子を樋から、放出するようにしたポリマーレジ
    ストを有する物品を処理する装置。 14、%許請求の範囲第12項記載の装置において、前
    記誦から処理室へ溶液を帰還せしめるための送出導管系
    が樋に連結され、かつ前記放出装置には蓄積した粒子を
    放出するために樋内に対し周期的に充分な溶液の流れを
    射出するようにした推進装置が設けられ、更に該放出装
    置は樋に連結した排出管系に弁装置並びに該弁装置と推
    進装置とを協動操作可能に連結する結合機構が設けられ
    これによって前記推進装置が作動するとき、これと殆ん
    ど同時に前記弁装置の設定位置が前記排出9系と処理室
    内に生じた正常な流れ位置から該排出管系と前記濾過器
    間が導通する連通位置へ切bmえられて蓄積した粒子を
    濾過器側へ周期的に送出するように構成したポリマーレ
    ジストを有する物品を処理する装置。 15、特許請求の範囲第14項記載の装置において、前
    記濾過器から処理室側へ濾過された溶液を帰還せしめる
    帰還配管系を含んでいることを特徴とするポリマーレジ
    ストを有する物品を処理する装置。 16、特許請求の範囲第11項記載の装置において、前
    記処理室内には該処理室内に配置したp退部材の下部に
    溶液の帰還流路装置が配置され、該流路装置にはこれ’
    ri液源に連結する手段が設けられ、更に前記帰還流路
    装置は少くとも1個の回転可能な溶液噴射ノズルを前記
    p過スクリーンの下部に設けてスクリーン面を上方に向
    けて貫通する溶液を噴射しスクリーン面の粒子の洗滌作
    用を行なうようにしたポリマーレジストを有する物品を
    処理する装置。 17、細片2粒子或はその他の物質を化学的溶液から分
    離する装置であり、該装置において、前記溶液は1つの
    処理量内において粒子部分から前記物質を除去すること
    によシ物品を処理するために該溶液は粒子部分に接触せ
    しめられ、処理室内にp過触媒手段を含む分離装置が設
    けられ、除去した物質を含む溶液を処理し少くとも一つ
    のp過表面上で上記物質をp過処理するようにし、また
    除去物質の濾過表面を滞溜区域に向けて洗い落す装、置
    並びに該滞溜区域から除去した物質を排出する装置が設
    けられている化学的溶液から固体物質を分離する装置。
JP59154207A 1984-01-13 1984-07-26 物品から固体物質を化学的に除去する装置 Pending JPS60153907A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63310685A (ja) * 1987-06-12 1988-12-19 シャープ株式会社 洗浄装置
JP4598152B1 (ja) * 2010-01-29 2010-12-15 横尾 保 有害物質洗浄装置及び有害物質洗浄方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3607848C2 (de) * 1986-03-10 1994-06-09 Kabelmetal Electro Gmbh Verfahren zum Ablösen einer festhaftenden Schicht eines Copolymers vom Ende eines Metallbandes und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
JPH0677682B2 (ja) * 1991-06-26 1994-10-05 田辺製薬株式会社 流動層造粒乾燥機の洗浄装置及び洗浄方法
FR2709192B1 (fr) * 1993-08-19 1995-10-13 Photomeca Sa Procédé et dispositif pour la séparation en continu des constituants d'un bain de gravure.
FR2768719B1 (fr) * 1997-09-25 1999-11-05 Lyonnaise Eaux Eclairage Dispositif de deshydratation de boues de stations d'epuration
IT1296402B1 (it) * 1997-10-09 1999-06-25 Allegri Geom Primo S R L Impianto di filtrazione statica dei liquidi.
US6270267B1 (en) 1997-12-22 2001-08-07 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Method of developing photosensitive resin plate and developing device
FR2913347A1 (fr) * 2006-11-27 2008-09-12 Realisation Et De Commercialis Dispositif de filtre immerge pour filtrage de l'eau.
CN108144323A (zh) * 2017-12-12 2018-06-12 无锡深南电路有限公司 一种用于pcb板阻焊烘板的烘箱废气结晶装置及方法
CN111472001B (zh) * 2020-04-30 2022-10-21 昆山绿之源智能设备制造有限公司 退锡设备

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2440134A (en) * 1943-07-20 1948-04-20 Metalwash Machinery Co Apparatus for treating articles
US3776800A (en) * 1971-12-06 1973-12-04 Chemut Corp Etching apparatus
US4025363A (en) * 1976-01-12 1977-05-24 Benito De Santis Spray equipment cleaner
US4412920A (en) * 1979-11-07 1983-11-01 Bolton Joseph A Filter with top spray
DE3019143A1 (de) * 1980-05-20 1981-11-26 Sack Bandanlagentechnik Gmbh, 5860 Iserlohn Verfahren und vorrichtung zur chemischen und elektrochemischen behandlung von walzgut in verbindung mit fluessigkeiten
US4431541A (en) * 1982-08-25 1984-02-14 Arleigh Lee Circular filter device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63310685A (ja) * 1987-06-12 1988-12-19 シャープ株式会社 洗浄装置
JPH0475794B2 (ja) * 1987-06-12 1992-12-01 Sharp Kk
JP4598152B1 (ja) * 2010-01-29 2010-12-15 横尾 保 有害物質洗浄装置及び有害物質洗浄方法
JP2011156467A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Yokoo Tamotsu 有害物質洗浄装置及び有害物質洗浄方法

Also Published As

Publication number Publication date
FR2558078B1 (fr) 1987-07-17
GB2152398A (en) 1985-08-07
IT8448774A0 (it) 1984-08-30
FR2558078A1 (fr) 1985-07-19
GB8418590D0 (en) 1984-08-22
GB2152398B (en) 1987-08-19
IT1177979B (it) 1987-09-03
IT8448774A1 (it) 1986-03-02
DE3500236A1 (de) 1985-07-18

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