JPS60150765U - Ｘ線管 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案を実施するためのＸ線発生装置の参考図
を示す縦断面図、第２図は内部絞りを施した本考案の放
射線管を示す第１図の装置の一部の部分断面図、第３図
は本考案を実施するためのＸ線管の他の参考例を示す一
部断面部分図、第４図は内部絞りを施した本考案の放射
線管を示す第３図と類似の図、および第５図は本考案を
実施するＸ線管の別の実施例を示す部分縦断面図である
。 １０・・・・・・Ｘ線発生装置、１２・・・・・・ハウ
ジング、１４・・・・・・Ｘ線管、１６・・・・・・円
筒部、１８・・・・・・陽極側端部、２０・・・・・・
陰極側端部、２２・・・・・・エンベロープ、２４・・
・・・・主管部、２６・・・・・・頚部、２８・・・・
・・ロータ、３０・・・・・・支持部材、３２・・・・
・・ステータ、３４・・・・・・ケーブル・レセプタク
ル、４０・・・・・・スカート、４４・・・・・・延長
軸、４６・・曲ターゲット、４８・・・・・・ベース部
、５０・・曲リム部、５２・曲佳ランク部、５４・・・
・・・ピン状部材、６ｏ・・曲陰極、６２・・・・・・
ビーム経路、６３・・・・・・焦点、６４・・曲有効Ｘ
線ビーム、６５・・曲ウィンド域、６６・・回船ライニ
ング、６８・・・・・・ポート構造部、７ｏ・・・・・
・プレート、７２・・・・・・Ｘ線放射ウィンド、７４
，７８゜８４・・・・・・開口、７６．８０・・・・・
・コリメータ、８２・・・・・・支持台。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 （１）エンベロープと、軸心の周囲に回転するように前
   記エンベロープの一端部に回転自在に支持されエンベロ
   ープの横断方向に延在しその中心を前記軸心上にして取
   付けられたターゲットを有する陽極構造部と、前記エン
   ベロープの反対側の端部に支持されてＸ線を生じるよう
   に前記軸心の片側でターゲットの表面上の焦点に電子を
   放射するよう配置された陰極構造部とを設け、前記エン
   ベロープは前記焦点と実質的に直径方向に反対側の位置
   における側壁面にＸ線を放射するウィンド域を有し、よ
   ってＸ線ビームがエンベロープを直径方向に横切る焦点
   から前記ウィンド域に至る径路を横断し、絞り装置が前
   記ビームを選択された断面形態に整形し、そしてビーム
   の発散を抑制して実質的に平行な非発散状のビームを放
   射するために前記ビームの経路内で前記エンベロープ内
   に位置されることを特徴とするＸ線管。 （２）絞り装置が選択された断面形態に前記ビームを整
   形するため、そしてビームの発散を抑制するために前記
   ウィンド埴土に配置される実用新案登録請求の範囲（１
   ）項記載のＸ線管。　　　　−（３）　　前記絞り装置
   がＸ線に対する不透過材料のブロックであり、前記ウィ
   ンド域に対して整合された貫通孔を有する実用新案登録
   請求の範囲（２）項記載のＸ線管。 （４）前記絞り装置が不透明な物質から成り、均一な断
   面を有する管状部材であり、これを貫通する内孔は前記
   経路と整合される実用新案登録請求の範囲第（１）項記
   載のＸ線管。 （５）　　前記絞り装置が前記ターゲットと焦点上に重
   合し、前記Ｘ線ビームが前記ウィンド域に向って通過す
   るため−の貫通孔を有する実用新案登録請求の範囲（１
   １項記載のＸ線管。 （６）　　前記管状部材は前記陰極上に支持され前記ウ
   ィンド域よりも前記焦点に近い位置に配置される実用新
   案登録請求の範囲（４）項記載のＸ線管。 （７）前記管状部材は前記陰極上に支持され、前記焦点
   より前記ウィンド域に近い位置に位置される実用新案登
   録請求の範囲第（４）項記載のＸ線管。