JP4260993B2 - X線管 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明はX線管に関する。
【0002】
【従来の技術】
陽極が回転する構造のX線管たとえば回転陽極型X線管は、回転状態にある陽極ターゲットに対して電子ビームを衝突させ、陽極ターゲットからX線を発生させる電子管で、医療用診断装置などに多く使用されている。
【0003】
ここで、従来のX線管について、回転陽極型X線管を例にとり、その円盤状回転陽極および陰極構体の各部分を抜き出して示した図4の断面図を参照して説明する。符号41は円盤状回転陽極で、円盤状回転陽極41は回転体などの回転機構に連結され、回転する構造になっている。円盤状回転陽極41の周辺は傾斜し、その傾斜面42に、X線を発生する陽極ターゲット43が環状に設けられている。陽極ターゲット43と対向して陰極構体44が配置され、陰極構体44は板状支持体45に固定されている。陰極構体44は、集束体46などから構成され、その一部に集束溝47が形成されている。集束溝47内には、電子ビームを発生するフィラメント(図示せず)が配置されている。
【0004】
上記した構成において、円盤状回転陽極41を回転させ、陽極ターゲット43を回転させる。この状態で、陰極構体44のフィラメントから放出された電子ビームeを陽極ターゲット43に衝突させ、陽極ターゲット43からX線を発生させる。発生したX線は矢印Y方向に進み、外部に取り出される。
【0005】
次に、電子ビームを放出する陰極構体44について図5を参照して説明する。図5は、図4の矢印Aで示したように、集束溝47を垂直方向から見た図で、符号51は、たとえば、陽極ターゲット43と対向する集束体45表面における集束溝47の開口部分を示している。集束溝47は1つの方向、たとえば図の左右方向に長く形成され、その長手方向において幅が一様なほぼ長方形状をしている。そして、集束溝47内にフィラメント52が配置されている。このとき、フィラメント52の長手方向と集束溝47の長手方向とが一致するように配置される。同時に、集束溝47の長手方向の中心位置mと、フィラメント52の長手方向の中心位置nとが一致するように配置されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従来の回転陽極型X線管は、陽極ターゲット43が円盤状回転陽極41の傾斜面42に形成されていることもあり、陽極ターゲット43と集束溝47とは必ずしも平行になっていない。このため、集束溝47と陽極ターゲット43間の距離が、集束溝47の長手方向の位置によって相違する。したがって、図4の矢印Bで示すように陽極タ一ゲット43を垂直方向から見ると、図6(a)で示すように、電子ビームの焦点61の形状は、放射口側すなわち陽極ターゲット43から発生したX線が進む線分b−bの側で幅が狭くなり、これと反対の反放射口側すなわち線分a−aの側で幅が広くなり、焦点61の幅が一様にならない。線mは焦点61の中心線を示している。また、焦点61上における電子ビーム密度は、図(b)に示すように放射口側bが大きく、反放射口側aが小さくなる。
【0007】
この場合、図6(a)の反放射口側に近い線分a−a、および、放射口側に近い線分b−bにおける焦点の幅、および、電子ビーム密度を図で示すと、図の(c)および(d)のようになる。図(c)、(d)の縦軸は焦点の幅、横軸は電子ビーム密度を示している。
【0008】
電子ビーム密度に大小があると、電子ビーム密度が大きい陽極ターゲット部分が溶け易くなり、回転陽極型X線管への熱入力は放射口側における焦点の電子ビーム密度で制限される。
【0009】
この発明は、上記した欠点を解決するもので、陽極ターゲット上に形成される電子ビームの焦点の幅が一様な回転陽極型X線管を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
この発明は、1つの方向に長い集束溝が形成された集束体およびこの集束体の前記集束溝内にその長手方向を前記集束溝の長手方向に一致させて配置したフィラメントを有する陰極構体と、前記フィラメントが放出する電子ビームの衝突によってX線を発生する陽極ターゲットが設けられた陽極とを具備したX線管において、前記集束溝の長手方向の中心位置が前記フィラメントの長手方向の中心位置よりも前記X線が進む放射口側にずれていることを特徴としている。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について、回転陽極型X線管を例にとり、その円盤状回転陽極および陰極構体の部分を抜き出して示した図1の断面図を参照して説明する。
【0012】
符号11は円盤状回転陽極で、円盤状回転陽極11は回転体などの回転機構(図示せず)に連結され、回転する構造になっている。円盤状回転陽極11の周辺は傾斜し、その傾斜面12に、X線を発生する陽極ターゲット13が環状に設けられている。陽極ターゲット13と対向して陰極構体14が配置され、陰極構体14は円板状支持体15に固定されている。陰極構体14は、集束体16などから構成され、その一部に集束溝17が形成され、集束溝17内に電子ビームを発生するフィラメント(図示せず)が配置されている。
【0013】
上記した構成において、円盤状回転陽極11を回転させ、陽極ターゲット13を回転させる。この状態で、陰極構体14のフィラメントから放出された電子ビームeを陽極ターゲット13に衝突させ、陽極ターゲット13からX線を発生させる。発生したX線は矢印Y方向に進み、外部に取り出される。
【0014】
次に、電子ビームを放出する陰極構体14について図2を参照して説明する。図2は、図1において矢印Aで示すように、陰極構体14の集束溝17の部分を垂直方向に見た図で、符号21は、集束溝17の開口で、たとえば陽極ターゲット13と対向する集束体16表面における集束溝17の開口部分を示し、集束溝16内にフィラメント22が配置されている。この場合、フィラメント22の長手方向と集束溝17の長手方向とが一致するように配置される。これらの長手方向は、X線が進む矢印Y方向(図1)とほぼ一致している。そして、集束溝17の長手方向の中心位置pが、フィラメント22の長手方向の中心位置qよりも、放射口側すなわち陽極ターゲット13から発生したX線が進む側にずらして配置されている。
【0015】
集束溝17は1つの方向たとえばX線が進む図の左右方向に長く形成され、その4隅部分は、集束溝17を垂直方向から見て曲面R1〜R4に形成されている。集束溝17の長手方向に沿う幅W、すなわち長手方向に直交する方向の幅は、4隅に形成された曲面R1〜R4の一部を除き、放射口側すなわち陽極ターゲット13から発生したX線が進む側で広く形成され、その反対側の反放射口側に向って徐々に狭くなっている。また、集束溝17の長手方向に位置する内壁、たとえば放射口側に位置する曲面R1と反放射口側に位置する曲面R2とを結ぶ集束溝17の内壁17a、および、放射口側に位置する曲面R4と反放射口側に位置する曲面R3とを結ぶ集束溝17の内壁17bはそれぞれ、フィラメント22の中心線Xに対して対称で、かつ、中心線Xに対して同じ傾斜に形成され、同時に、集束溝17の幅は直線的に徐々に狭くなっている。
【0016】
上記した構成によれば、集束溝17の形成方向、たとえば集束体16表面における集束溝17の開口で形成される平面の向きと、集束溝17の開口直下に位置する陽極ターゲット13の円盤状回転陽極11のその径方向における向きとが平行に形成されていない場合でも、図1の矢印B方向、すなわち陽極タ一ゲット13上に形成される電子ビームの焦点を垂直方向からみると、図3(a)の符号31で示すように長手方向でほぼ一様の幅となる。線mは焦点31の中心線を示している。また、焦点31上における電子ビームの密度も、図(b)に示すように全体にわたりほぼ一様となる。
【0017】
この場合、図3(a)の反放射口側に近い線分a−a、および、放射口側に近い線分b−bにおける焦点31の幅、および、電子ビーム密度をそれぞれ図で示すと、図の(c)、(d)のようになり、どちらも全体にわたりほぼ一様になる。なお、図(c)、(d)の縦軸は焦点の幅、横軸は電子ビーム密度を示している。
【0018】
上記の実施形態では、集束溝の長手方向の中心位置をフィラメントの長手方向の中心位置よりもX線が進む放射口側にずらし、同時に、集束溝の幅を、放射口側の方を反放射口側よりも大きくしている。しかし、集束溝の長手方向の中心位置をフィラメントの長手方向の中心位置よりもX線が進む放射口側にずらす構成、あるいは、集束溝の幅を、放射口側の方を反放射口側よりも大きくする構成によっても電子ビーム焦点の幅を均一化できる。なお、両方の構成を組み合わせれば、電子ビーム焦点の幅および電子ビーム密度をより均一化できる。
【0019】
上記したように、本発明によれば、陽極ターゲット上に形成される電子ビーム焦点の形状が均整の取れたほぼ長方形となる。このため、被写体を撮影した際のボケの程度が一定となり、画質が向上する。また、電子ビーム密度も、反放射口側から放射口側までほぼ均一化する。そのため、電子ビーム密度が不均一の場合に、電子ビーム密度の高い領域で決定されていたX線管への熱入力の制約がなくなり、X線管に対する熱入力を向上できる。
【0020】
なお、上記の実施形態では、回転陽極型X線管の例で説明しているが、この発明は固定陽極型X線管についても適用できる。
【0021】
【発明の効果】
この発明のよれば、陽極ターゲット上に形成される焦点の幅が一様な回転陽極型X線管が実現される。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施形態を説明するための断面図である。
【図2】この発明に係る集束溝とフィラメントの配置関係を説明するための正面図である。
【図3】この発明に係る電子ビーム焦点の形成状態を説明するための図である。
【図4】従来例を説明するための断面図である。
【図5】従来例に係る集束溝とフィラメントの配置関係を説明するための正面図である。
【図6】従来例に係る電子ビーム焦点の形成状態を説明するための図である。
【符号の説明】
11…円盤状回転陽極
12…円盤状回転陽極の傾斜面
13…陽極タ一ゲット
14…陰極構体
15…陰極構体の支持体
16…集束体
17…集束溝
21…集束溝の開口
22…フィラメント
p…集束溝の長手方向の中心位置
q…フィラメントの長手方向の中心位置
Claims (2)
- 1つの方向に長い集束溝が形成された集束体およびこの集束体の前記集束溝内にその長手方向を前記集束溝の長手方向に一致させて配置したフィラメントを有する陰極構体と、前記フィラメントが放出する電子ビームの衝突によってX線を発生する陽極ターゲットが設けられた陽極とを具備したX線管において、前記集束溝の長手方向の中心位置が前記フィラメントの長手方向の中心位置よりも前記X線が進む放射口側にずれていることを特徴とするX線管。
- 集束溝の長手方向と直交する方向における集束溝の幅が、放射口側の方がこれと反対側の反放射口側よりも大きく形成されている請求項1記載のX線管。
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-
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- 1999-08-31 JP JP24524399A patent/JP4260993B2/ja not_active Expired - Lifetime
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