JPS60146870A - ４−ヒドロキシインド−ルの製造法 - Google Patents
４−ヒドロキシインド−ルの製造法Info
- Publication number
- JPS60146870A JPS60146870A JP59001029A JP102984A JPS60146870A JP S60146870 A JPS60146870 A JP S60146870A JP 59001029 A JP59001029 A JP 59001029A JP 102984 A JP102984 A JP 102984A JP S60146870 A JPS60146870 A JP S60146870A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- ketone
- hydroxyindole
- formula
- oxo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は４−ヒドロキシインドールの製造法に関する。
さらに詳しくは、本発明は４−ヒトジキシインドールを
高収率かつ高品質で工業的に有利に製造する方法に関す
る。
高収率かつ高品質で工業的に有利に製造する方法に関す
る。
４−とドロキシインドールは交感神経β−遮断薬として
優れた薬効を示すピンドロールの主原料として有用な物
質である。
優れた薬効を示すピンドロールの主原料として有用な物
質である。
かかる４−ヒドロキシインドールの合成法としては、従
来より４−オキソ−４，５，６，７−ケトンヒドロイン
ドールを貴金属触媒を用いて脱水素する方法が公知であ
り、その際使用する反応溶媒として、 〔１）メシチレン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素を
用いる方法（Ｏｈｅｍ、 Ｂｅｒ、、１０１．２６０５
（１９６８）、Ｊ。
来より４−オキソ−４，５，６，７−ケトンヒドロイン
ドールを貴金属触媒を用いて脱水素する方法が公知であ
り、その際使用する反応溶媒として、 〔１）メシチレン、ｐ−シメンなどの芳香族炭化水素を
用いる方法（Ｏｈｅｍ、 Ｂｅｒ、、１０１．２６０５
（１９６８）、Ｊ。
Ｈｅｔｅｒｏｏｙｃｌｉｏ Ｏｈｅｍ、、１４．７１
（１９７７） ）、（２）ポリアルキレングリコールジ
アルキルエーテル類を用いる方法（特開昭５６−１０３
１６０号）などが知られている。
（１９７７） ）、（２）ポリアルキレングリコールジ
アルキルエーテル類を用いる方法（特開昭５６−１０３
１６０号）などが知られている。
しかしながら、成上の方法は高品質の４−ヒドロキシイ
ンドールを高収率でえるという点において種々の欠点を
有しており、工業上の実施を困難にしている。
ンドールを高収率でえるという点において種々の欠点を
有しており、工業上の実施を困難にしている。
すなわち、（１）の方法は、
（イ）収率が５７〜７７％と低い。
（口〕反応副生物が触媒活性を著しく阻害し、収率低下
の原因となると共に、触媒の再使用が不可能であり、高
価な触媒ゆえ触媒コストを大幅に増大させる。
の原因となると共に、触媒の再使用が不可能であり、高
価な触媒ゆえ触媒コストを大幅に増大させる。
（ハ）反応液中に多量の未反応原料および副生惣が残存
して単離精製を困難にすると共に、製品の品質を悪化さ
せる。
して単離精製を困難にすると共に、製品の品質を悪化さ
せる。
に）副生物、未反応原料などの不純物除去のためにシク
ロヘキサンによる再結晶をワなうが、多量の熱シクロヘ
キサンが必要であり有利な方法でない。
ロヘキサンによる再結晶をワなうが、多量の熱シクロヘ
キサンが必要であり有利な方法でない。
という反応および単離精製における各種の欠点を有して
おり、また（２）の方法は反応収率の改善のみであり、 （イ）反応溶媒のポリアルキレングリコールジアルキル
エーテル類は目的とする４−ヒトジキシインドールおよ
び副生物を非常によく溶解し、かつ水および他の溶媒と
の相互溶解度も高く、４−ヒドロキシインドールの単離
が困難である。
おり、また（２）の方法は反応収率の改善のみであり、 （イ）反応溶媒のポリアルキレングリコールジアルキル
エーテル類は目的とする４−ヒトジキシインドールおよ
び副生物を非常によく溶解し、かつ水および他の溶媒と
の相互溶解度も高く、４−ヒドロキシインドールの単離
が困難である。
（ロ）未反応原料の残存率が６〜１２％と高く、このこ
とも高品質な４−とトリキシインドールの単離を困難に
している。
とも高品質な４−とトリキシインドールの単離を困難に
している。
（ハ）ポリアルキレングリコールジアルキルエーテル類
は高価な溶媒であり、経済性を悪くする。
は高価な溶媒であり、経済性を悪くする。
という欠点を有している。
本発明者らは前記のごとき欠点を克服し、４−ヒトジキ
シインドールを工業的に有利に製造する方法に関して、
反応のみならず単離精製法についても鋭意研究を重ねた
結果、反応溶媒として＋）ン類を用いることによって高
反応収率でかつ工業的に実施容易な単離精製法により高
品Ｗの４−ヒトジキシインドールかえられることを見出
し、本発明を完成するにいたった。
シインドールを工業的に有利に製造する方法に関して、
反応のみならず単離精製法についても鋭意研究を重ねた
結果、反応溶媒として＋）ン類を用いることによって高
反応収率でかつ工業的に実施容易な単離精製法により高
品Ｗの４−ヒトジキシインドールかえられることを見出
し、本発明を完成するにいたった。
すなわち、本発明は下記の反応式に示すごとく、式（す
の４−オキソ−４，５，６，７−チトラヒド！インドー
ルを貴金属触媒を用いて脱水素するに際し、式： ％式％ ′（式中 Ｒ１およびＲ２は同じかまたは異なりアルキ
ル基またはアリール基を示す）で示されるケトン類を反
応溶媒として用いることを特徴とする式（ｎ）で示され
る４−ヒトジキシインドールの製造法に関する。
の４−オキソ−４，５，６，７−チトラヒド！インドー
ルを貴金属触媒を用いて脱水素するに際し、式： ％式％ ′（式中 Ｒ１およびＲ２は同じかまたは異なりアルキ
ル基またはアリール基を示す）で示されるケトン類を反
応溶媒として用いることを特徴とする式（ｎ）で示され
る４−ヒトジキシインドールの製造法に関する。
０ ０１（
さらに、前記ケトン類を反応溶媒として用いることによ
り、反応液（４−ヒトジキシインドール合成反応液、以
下同様）からの４−ヒトジキシインドールの単離精製法
も前記公知の方法に比し、操作が簡便で工業的に有利な
方法となっている。
り、反応液（４−ヒトジキシインドール合成反応液、以
下同様）からの４−ヒトジキシインドールの単離精製法
も前記公知の方法に比し、操作が簡便で工業的に有利な
方法となっている。
すなわち、本発明における４−ヒトジキシインドールの
単離精製においてはつぎに示す操作が可能である。
単離精製においてはつぎに示す操作が可能である。
（＆）反応液を濃縮し、４−とトリキシインドールを溶
解しにくい溶媒中に添加し、４−ヒトジキシインドール
を結晶化して単離し、ついで再結晶により精製する。
解しにくい溶媒中に添加し、４−ヒトジキシインドール
を結晶化して単離し、ついで再結晶により精製する。
（ｂ） 反Ｒ５液を濃縮し、４−ヒドロキシインドール
を溶解しにくい溶媒と水との混合溶媒中に添加し、４−
ヒドロキシインドールを水層へ転溶せしめ、水着をその
ままもしくは活性炭処理後、濃縮晶析して単離する。
を溶解しにくい溶媒と水との混合溶媒中に添加し、４−
ヒドロキシインドールを水層へ転溶せしめ、水着をその
ままもしくは活性炭処理後、濃縮晶析して単離する。
（ｏ）反応液を水を加えつつ濃縮し、反応溶媒を留去後
、残留する水層をそのままもしくは活性炭処理後、濃縮
晶析して４−とドロキシインドールを単離する。
、残留する水層をそのままもしくは活性炭処理後、濃縮
晶析して４−とドロキシインドールを単離する。
前記のごとき単離精製操作はいずれも工業的に実施容易
であり、高品質の４−ヒドロキシインドールを取得しつ
る。
であり、高品質の４−ヒドロキシインドールを取得しつ
る。
本発明に用いる反応溶媒のケトン類としてはたとえば、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘ
プタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトンなどの
脂肪族ケトンおよびアセトフェノン、ジフェニルケトン
などの芳香族ケトンがあげられ、なかでもジイソブチル
ケトンが反応成績がよく、経済性、安全性の面でも優れ
ており、好ましい。
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘ
プタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトンなどの
脂肪族ケトンおよびアセトフェノン、ジフェニルケトン
などの芳香族ケトンがあげられ、なかでもジイソブチル
ケトンが反応成績がよく、経済性、安全性の面でも優れ
ており、好ましい。
本発明に用いる貴金属触媒としては、たとえばパラジウ
ム、白金、ルテニウム、ロジウムの粉末もしくはかかる
粉末を担体に担持したものがあげられ、とくにパラジウ
ムを活性炭に相持したものが好適である。触媒の使用量
はとくに限定されるものではないが、反応速度および単
位触媒当りの活性を考慮すると、原料の４−オキソ−４
，５，６，７−ケトンヒドロインドールに対し２〜２０
重ｔ％が好ましい。触媒の反応系への添加は反応開始時
に全量添加する方法または反応の経時で適量づつ添加し
ていく方法により行なわれる。また、一度反応に使用し
た触媒は反応溶媒の種類によっては再使用しえないもの
があり、高価な触媒ゆえコストの増大を招くが、本発明
のケトン類を用いれば活性低下の原因となる不純物の吸
着が少なく、反応液から分離した触媒はそのままもしく
は少量の溶媒で洗浄すれば充分再使用可能であり、触媒
コストが大幅に低減されつる。
ム、白金、ルテニウム、ロジウムの粉末もしくはかかる
粉末を担体に担持したものがあげられ、とくにパラジウ
ムを活性炭に相持したものが好適である。触媒の使用量
はとくに限定されるものではないが、反応速度および単
位触媒当りの活性を考慮すると、原料の４−オキソ−４
，５，６，７−ケトンヒドロインドールに対し２〜２０
重ｔ％が好ましい。触媒の反応系への添加は反応開始時
に全量添加する方法または反応の経時で適量づつ添加し
ていく方法により行なわれる。また、一度反応に使用し
た触媒は反応溶媒の種類によっては再使用しえないもの
があり、高価な触媒ゆえコストの増大を招くが、本発明
のケトン類を用いれば活性低下の原因となる不純物の吸
着が少なく、反応液から分離した触媒はそのままもしく
は少量の溶媒で洗浄すれば充分再使用可能であり、触媒
コストが大幅に低減されつる。
本発明における反応は、前記反応溶媒中に４−オキソ−
４，５，６，７−テトテヒドシインドールと触媒を入れ
、加熱攪拌することにより行なわれる。反応温度は１０
０〜２００°ｃＪの範囲が好ましく、反応速共を上げ、
かつ副反応を抑制するには１４０〜１８０°Ｃの範囲が
好ましい。用いる４−オキソ−４，５１６，７−ケトン
ヒドロインドールの反応溶媒に対する濃度は、反応収率
および生産性を考慮すると５〜１０ ｖ／ｖ％が好まし
い。また、反応中反応容器内をチッ素、アルゴンなどの
不活性ガスＷｆｉ気にすることにより副反応が抑制され
、好ましい結果かえられる。
４，５，６，７−テトテヒドシインドールと触媒を入れ
、加熱攪拌することにより行なわれる。反応温度は１０
０〜２００°ｃＪの範囲が好ましく、反応速共を上げ、
かつ副反応を抑制するには１４０〜１８０°Ｃの範囲が
好ましい。用いる４−オキソ−４，５１６，７−ケトン
ヒドロインドールの反応溶媒に対する濃度は、反応収率
および生産性を考慮すると５〜１０ ｖ／ｖ％が好まし
い。また、反応中反応容器内をチッ素、アルゴンなどの
不活性ガスＷｆｉ気にすることにより副反応が抑制され
、好ましい結果かえられる。
とくにジイソブチルケトンを反応溶媒として用いたばあ
いには、目的とする４−ヒト四キシインＦ−ルが９０％
以上の高収率でえられ、かつ未反応の４−オキソ−４，
５，６，７−ケトンヒドロインドールの残存率が２％以
下に低減しつるという優れた結果かえられる。
いには、目的とする４−ヒト四キシインＦ−ルが９０％
以上の高収率でえられ、かつ未反応の４−オキソ−４，
５，６，７−ケトンヒドロインドールの残存率が２％以
下に低減しつるという優れた結果かえられる。
反応液からの４−ヒドロキシインドールの単離精製は前
記（ａ）〜（０）の３種の方法により行なう。
記（ａ）〜（０）の３種の方法により行なう。
（＆）の方法における反応液の濃縮率は、単離収率を上
げるために濃縮液中の反応溶媒の量を４−とドロキシイ
ンドールの１帽１倍以下にするのが好ましい。単離に用
いる溶媒としては、４−ヒドロキシインドールの溶解度
が低くかつ反応溶媒との相互溶解度が高いものが適当で
あり、たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素、塩化メチレン、１．２−ジクロル
エタンなどの塩素化炭化水素などがあげられる。濃縮し
た反応液をかかる単離用溶媒中へ攪拌下に添加すること
によって沈殿として単離される４−ヒドロキシインドー
ルは単離用溶媒に不溶性の不純物を含有するが、該不純
物は大部分水不溶性であるため水から再結晶することに
より容易に高品質の４−？ヒドロキシインドールかえら
れる。
げるために濃縮液中の反応溶媒の量を４−とドロキシイ
ンドールの１帽１倍以下にするのが好ましい。単離に用
いる溶媒としては、４−ヒドロキシインドールの溶解度
が低くかつ反応溶媒との相互溶解度が高いものが適当で
あり、たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素、塩化メチレン、１．２−ジクロル
エタンなどの塩素化炭化水素などがあげられる。濃縮し
た反応液をかかる単離用溶媒中へ攪拌下に添加すること
によって沈殿として単離される４−ヒドロキシインドー
ルは単離用溶媒に不溶性の不純物を含有するが、該不純
物は大部分水不溶性であるため水から再結晶することに
より容易に高品質の４−？ヒドロキシインドールかえら
れる。
（ｂ）の方法では、４−とドロキシインドールはほとん
ど選択的に水層に転溶され、一方大部分の不純物は有機
層および水層の両方に不溶のまま残存するため容易に除
去される。水の使用量としては、水層中の４−ヒドロキ
シインドール濃度が２〜４ｗ／Ｖ％になる量が適当であ
る。不溶性不純物を除去し、分液してえられた水層をそ
のま声もしくは活性炭などにより精製し、濃縮晶析する
ことにより高品質の４−ヒドロキシインドールかえられ
る。
ど選択的に水層に転溶され、一方大部分の不純物は有機
層および水層の両方に不溶のまま残存するため容易に除
去される。水の使用量としては、水層中の４−ヒドロキ
シインドール濃度が２〜４ｗ／Ｖ％になる量が適当であ
る。不溶性不純物を除去し、分液してえられた水層をそ
のま声もしくは活性炭などにより精製し、濃縮晶析する
ことにより高品質の４−ヒドロキシインドールかえられ
る。
＋０３の方法は、反応だ媒のケトン類が水と共沸しやす
いことを利用して反応液の濃縮時に水を添加して反応溶
媒を留去し、４−ヒドロキシインドールの水溶液をえる
方法である。用いる水の置は残留水中の４−ヒドロキシ
インドールの濃度が２〜４ｗ／ｖ％になξ様にするのが
好ましい。
いことを利用して反応液の濃縮時に水を添加して反応溶
媒を留去し、４−ヒドロキシインドールの水溶液をえる
方法である。用いる水の置は残留水中の４−ヒドロキシ
インドールの濃度が２〜４ｗ／ｖ％になξ様にするのが
好ましい。
残留水中の不溶性不純物を除去し、そのままもしくは活
性炭などにより精製し、濃縮晶析することにより高品質
の４−ヒドロキシインドールかえられる。
性炭などにより精製し、濃縮晶析することにより高品質
の４−ヒドロキシインドールかえられる。
成上の単離精製法はいずれも濃縮、固液分離、液々分離
、再結晶などの工業的に容易に実施可能な単位操作より
成り、かつ反応溶媒としてケトン類を用いることによる
反応での高成績とあいまって、純度９８％以上の高品質
の４−ヒドロキシインドールを収率よく取得しつると共
に製造コストを従来法に比して大幅に低減することが可
能になった。
、再結晶などの工業的に容易に実施可能な単位操作より
成り、かつ反応溶媒としてケトン類を用いることによる
反応での高成績とあいまって、純度９８％以上の高品質
の４−ヒドロキシインドールを収率よく取得しつると共
に製造コストを従来法に比して大幅に低減することが可
能になった。
つぎに実施例をあげて本発明の方法をさらに詳しく説明
するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるもので
はない。なお、実施例中の４Ｈ工およびｏａｔはそれぞ
れ、４−とドロキシインドールおよび触媒を示す。
するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるもので
はない。なお、実施例中の４Ｈ工およびｏａｔはそれぞ
れ、４−とドロキシインドールおよび触媒を示す。
実施例１
４−オキソ−４，５，６，７−ケトンヒドロインドール
１５ｇ、５％Ｐｄ（パラジウム、以下同様）／活性炭１
．５ｇおよびジイソブチルケトン５００ｍノヲ出Ｏｎ／
ｙ ｙ Ｘ ：ｌ Ｌ 入れ、攪拌下にチッ素ガスを通
気シつつジイソブチルケトンの沸点（１６８°０）まで
加熱し、還流した。１２時間反応後、反応液から触媒を
分離し、ジイソブチルケトン約２０＋＋＋７で触ｇを洗
浄した。ｐ液と洗液を合わせてガスクロマトグラフィー
により分析した。４−とドロキシインドールの生成Ｊｆ
ｉ１３．４ノ（収率９０．４％）、原料４−オキソ−４
，５，６，７−ケトンヒドロインドールの残存量０．２
４９ （！３４存率１．６％）であった。
１５ｇ、５％Ｐｄ（パラジウム、以下同様）／活性炭１
．５ｇおよびジイソブチルケトン５００ｍノヲ出Ｏｎ／
ｙ ｙ Ｘ ：ｌ Ｌ 入れ、攪拌下にチッ素ガスを通
気シつつジイソブチルケトンの沸点（１６８°０）まで
加熱し、還流した。１２時間反応後、反応液から触媒を
分離し、ジイソブチルケトン約２０＋＋＋７で触ｇを洗
浄した。ｐ液と洗液を合わせてガスクロマトグラフィー
により分析した。４−とドロキシインドールの生成Ｊｆ
ｉ１３．４ノ（収率９０．４％）、原料４−オキソ−４
，５，６，７−ケトンヒドロインドールの残存量０．２
４９ （！３４存率１．６％）であった。
実施例２
４−オキソ−４，５，６，７−ケトラヒド田インド−／
ｌ’１５ｐ、１０％ｌ／？ｌＥ炭３ノ、ジイソブチルケ
トン３００ｍ１を用いたほかは実施例１と同様にして反
応を行なった。反応初期の反応速度は０．９７９−４Ｈ
工／ｇ −ｃａｔ−ｈｒであり、１８時間後の４−とド
ロキシインドールの生成量１５．７ｇ（収率９２．７％
）、原料４−オキソ−４，５，６，７−ケトンヒドロイ
ンドールの残存量０．０９ｇ（残存率０．６％）であっ
た。
ｌ’１５ｐ、１０％ｌ／？ｌＥ炭３ノ、ジイソブチルケ
トン３００ｍ１を用いたほかは実施例１と同様にして反
応を行なった。反応初期の反応速度は０．９７９−４Ｈ
工／ｇ −ｃａｔ−ｈｒであり、１８時間後の４−とド
ロキシインドールの生成量１５．７ｇ（収率９２．７％
）、原料４−オキソ−４，５，６，７−ケトンヒドロイ
ンドールの残存量０．０９ｇ（残存率０．６％）であっ
た。
実施例３
実施例２の反応液から分離した触媒をそのまま実施例２
と同一条件での反応に再使用した。
と同一条件での反応に再使用した。
初期反応速度は１．０２９−４Ｈ工／ｇ −ｏａｔ−ｈ
ｒであり、１８時間後の４−とドロキシインドール生成
量１．２％）であり、実施例２とほぼ同じ結果かえられ
た。
ｒであり、１８時間後の４−とドロキシインドール生成
量１．２％）であり、実施例２とほぼ同じ結果かえられ
た。
実施例４
４−オキソ−４，５，６，フーテトテヒドロインドール
５０ｇ、５％ｐａ／活性炭２．５ｇ、ジイソブチルケト
ン１０１００Ｏを用いたほかは実施例１と同様にして反
応を行なった。６時間反応後、触媒２．５９を追加し、
ざらに１２時間反応を継続した。４−ヒドロキシインド
ールの生成量４５．５ｇ（収率９２．０％）、原料の４
−オキソ−４，５，６，７−ケトラヒド四インドールの
残存量０．１４９（残存率０．９％）であった。
５０ｇ、５％ｐａ／活性炭２．５ｇ、ジイソブチルケト
ン１０１００Ｏを用いたほかは実施例１と同様にして反
応を行なった。６時間反応後、触媒２．５９を追加し、
ざらに１２時間反応を継続した。４−ヒドロキシインド
ールの生成量４５．５ｇ（収率９２．０％）、原料の４
−オキソ−４，５，６，７−ケトラヒド四インドールの
残存量０．１４９（残存率０．９％）であった。
かくしてえられた反応液の５００ｍ１（４−ヒドロキシ
インドール２Ｑ、Ｏｇ含有〕を５０ｇまで濃縮したのち
、ｎ−ヘキサン４００ｍ！中−４攪拌下に滴下した。生
じた沈殿を分離し、乾燥し、水から再結晶して４−ヒド
ロキシインドールの白色結晶１７．３ｇ（収率８６．５
％）をえた。さらに高速液体クロマトグラフィーにより
分析した純度９８．７％、融点９９〜１００°Ｃ（文献
値９７〜１０Ｑ’Ｏ）であった。
インドール２Ｑ、Ｏｇ含有〕を５０ｇまで濃縮したのち
、ｎ−ヘキサン４００ｍ！中−４攪拌下に滴下した。生
じた沈殿を分離し、乾燥し、水から再結晶して４−ヒド
ロキシインドールの白色結晶１７．３ｇ（収率８６．５
％）をえた。さらに高速液体クロマトグラフィーにより
分析した純度９８．７％、融点９９〜１００°Ｃ（文献
値９７〜１０Ｑ’Ｏ）であった。
実施例５
実施例４でえられた反応液５００ｍ！（４−ヒドロキシ
インドール２０．０２含有）に活性炭３．［）りを入れ
、水１８００ｍｊを徐々に加えつつ減圧濃縮した。
インドール２０．０２含有）に活性炭３．［）りを入れ
、水１８００ｍｊを徐々に加えつつ減圧濃縮した。
ジイン１チルケトンがほとんど留夫された時点で濃縮を
やめ、残留液約８００ｍｊをえた。残留水層中の活性炭
をｐ側抜、濃縮晶析して４−ヒトジキシインドールの白
色結晶ｊ６．２ｇ（収率８１．０％）をえた。高速液体
りｐマドグラフィーにより分析した純度９８．５％、融
点９９〜１００°０であった。
やめ、残留液約８００ｍｊをえた。残留水層中の活性炭
をｐ側抜、濃縮晶析して４−ヒトジキシインドールの白
色結晶ｊ６．２ｇ（収率８１．０％）をえた。高速液体
りｐマドグラフィーにより分析した純度９８．５％、融
点９９〜１００°０であった。
実施例６
４−オキソ−４，５１６，７−ケトンヒドロインドール
１５９．５％Ｐａ／活性炭０．５ｇおよびジイソブチル
ケトンを用いたほかは実施例１と同様にして反応を行な
った。反応開始後２時間毎に５％ｐａ／活性炭０．２９
を計５回添加し、ざらに８時間反応を継続した。４−ヒ
ドロキシインドールの生成蓋１ｓ、８ｇ （収率９６．
２％）、原料の４−オキソ−４゜５．６．７−ケトンヒ
ドロインドールの残存！１０．２０ｇ（残存率１．６％
）であった。
１５９．５％Ｐａ／活性炭０．５ｇおよびジイソブチル
ケトンを用いたほかは実施例１と同様にして反応を行な
った。反応開始後２時間毎に５％ｐａ／活性炭０．２９
を計５回添加し、ざらに８時間反応を継続した。４−ヒ
ドロキシインドールの生成蓋１ｓ、８ｇ （収率９６．
２％）、原料の４−オキソ−４゜５．６．７−ケトンヒ
ドロインドールの残存！１０．２０ｇ（残存率１．６％
）であった。
かくしてえられた反応液５００ｍ１（４−ヒドソキシイ
ンドール１１．９９含有）を濃縮□し、ｎ−ヘキサン２
００ｍ１１水４００ｍ／および活性炭１．８ｇの混合液
中に攪拌上滴下した。活性炭をＦ別し、分液してえられ
た水層を活性炭で処理したのち濃縮晶析し、４−ヒトジ
キシインドールの白色結晶９．７５ｇ（収率８０．７％
）をえた。高速液体クロマトグラフィーにより分析した
純度９８．５％、融点９９〜１００°Ｃであった。
ンドール１１．９９含有）を濃縮□し、ｎ−ヘキサン２
００ｍ１１水４００ｍ／および活性炭１．８ｇの混合液
中に攪拌上滴下した。活性炭をＦ別し、分液してえられ
た水層を活性炭で処理したのち濃縮晶析し、４−ヒトジ
キシインドールの白色結晶９．７５ｇ（収率８０．７％
）をえた。高速液体クロマトグラフィーにより分析した
純度９８．５％、融点９９〜１００°Ｃであった。
実施例７〜９
ジイソブチルケトン３００ｍｊ！に対し、用いる４−オ
キソ−４，５，６，７−ケトラヒド四インドールの仕込
量をそれぞれ１８９．２４９および６０ｐとし、５％ｐ
ａ／活性炭を反応初期に４−オキソ−４，５，６゜７−
ケトンヒドロインドールに対して１０重量％ 。
キソ−４，５，６，７−ケトラヒド四インドールの仕込
量をそれぞれ１８９．２４９および６０ｐとし、５％ｐ
ａ／活性炭を反応初期に４−オキソ−４，５，６゜７−
ケトンヒドロインドールに対して１０重量％ 。
になるように添加し、反応開始後６時間にさらに５重量
％追加する実施例４と同様の方法で合計１８時間反応を
行なった。結果を第１表に示す。
％追加する実施例４と同様の方法で合計１８時間反応を
行なった。結果を第１表に示す。
第 １ 表
実施例１０〜１３
４−オキソ−４，５，ＩＳ、７−ケトンヒドロインドー
ル１５ｇ、１０％ｐａ／活性炭３２および第２表に示す
各種ケトン類３００ ｍｌを用い、第２表に示す反応温
度で１８時間反応した。結果を第２表に示す。
ル１５ｇ、１０％ｐａ／活性炭３２および第２表に示す
各種ケトン類３００ ｍｌを用い、第２表に示す反応温
度で１８時間反応した。結果を第２表に示す。
＃Ｉ２表
実施例１４
４−オキソ−４，５，６，７−ケトンヒドロインドール
１５ｐ、１５％ｐａ／活性炭３ｇ、ジイソブチルケト２
３註０ 応た。４−ヒドロキシインドールの生成量１０．１９（
収率６８．４％）、原料の４−オキソ−４．ｓ，ｔＳ，
７−ケトラヒドシインドールの’ＡＡｌ１？，．４９
（ 残存率２２、７％）であった。
１５ｐ、１５％ｐａ／活性炭３ｇ、ジイソブチルケト２
３註０ 応た。４−ヒドロキシインドールの生成量１０．１９（
収率６８．４％）、原料の４−オキソ−４．ｓ，ｔＳ，
７−ケトラヒドシインドールの’ＡＡｌ１？，．４９
（ 残存率２２、７％）であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式（Ｉ）： で示される４−オキソ−４，５，６，７−チトラヒド覧
インＦ−ルを貴金属触媒を用いて脱水素反応させるに際
し、一般式： ％式％ （式中、Ｒ１およびＲ２は同じかまたは興なリアルキル
基またはアリール基を示す）で示されるケトン類を反応
溶媒として用いることを特徴とする式（■）： で示される４−ヒドロキシインドールの製造法０ ２ 反応溶媒がジイソブチルケトンである特許請求の範
囲第１項記載の方法。 ３ 貴金属触媒がパラジｂム／活性炭である特許請求の
範囲第１項記載の方法。 ４ 反応に用いた触媒を反応液より分離後、再使用する
特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59001029A JPS60146870A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | ４−ヒドロキシインド−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59001029A JPS60146870A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | ４−ヒドロキシインド−ルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60146870A true JPS60146870A (ja) | 1985-08-02 |
Family
ID=11490132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59001029A Pending JPS60146870A (ja) | 1984-01-06 | 1984-01-06 | ４−ヒドロキシインド−ルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60146870A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104693091A (zh) * | 2013-12-10 | 2015-06-10 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种4-羟基吲哚的合成方法 |
| CN105418478A (zh) * | 2014-09-15 | 2016-03-23 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种生产4-羟基吲哚的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56103160A (en) * | 1980-01-18 | 1981-08-18 | Seitetsu Kagaku Co Ltd | Production of 4-hydroxyindole |
-
1984
- 1984-01-06 JP JP59001029A patent/JPS60146870A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56103160A (en) * | 1980-01-18 | 1981-08-18 | Seitetsu Kagaku Co Ltd | Production of 4-hydroxyindole |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104693091A (zh) * | 2013-12-10 | 2015-06-10 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种4-羟基吲哚的合成方法 |
| CN105418478A (zh) * | 2014-09-15 | 2016-03-23 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种生产4-羟基吲哚的方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS60146870A (ja) | ４−ヒドロキシインド−ルの製造法 | |
| JPH11322649A (ja) | 光学活性アルコールの製造方法 | |
| JPS5821906B2 (ja) | トランス −４− アミノメチルシクロヘキサカルボンサン ノ セイゾウホウ | |
| JPH07330755A (ja) | ピペロナールの製法 | |
| US4010160A (en) | Process for the manufacture of 1,3-bis-(β-ethylhexyl)-5-amino-5-methyl-hexahydropyrimidine | |
| CA1059534A (en) | Process for preparing n', n'-disubstituted acid hydrazides | |
| JPH05331140A (ja) | ２−アザビシクロ［２．２．１ヘプト−５−エン−３−オンの製造方法 | |
| US3385894A (en) | Oxidation of activated methylene group containing compounds to the corresponding carbonyl compounds | |
| JP3152771B2 (ja) | マレイミドの製造方法 | |
| JP3950423B2 (ja) | シス−２，６−ジメチルピペラジンの製造方法 | |
| SU1105492A1 (ru) | Способ получени 1,3,5-триазаадамантана | |
| JP2718179B2 (ja) | ２，２，６，６‐テトラアルキル‐４‐ピペリジノンの精製方法 | |
| JPH0219335A (ja) | ２−メチル−６−アセチルナフタレンの精製方法 | |
| JP3207954B2 (ja) | ２−アセチルピラジンの製造法 | |
| JPH03157342A (ja) | ４，４’―イソプロピリデンジシクロヘキサノールの精製法 | |
| SU578859A3 (ru) | Способ получени -бис(1-оксибутил-2) -этилендиамина | |
| JPS6165837A (ja) | ２−メチル−６−アセチルナフタリンの分離法 | |
| JP2001354599A (ja) | ２，６−ジメチルナフタレンをそれを含む混合物から分離する方法 | |
| JPS6323827A (ja) | ２−メチル−６−エチルナフタレンの製造法 | |
| JP2688226B2 (ja) | １，３−ジチアン誘導体の製造法 | |
| JPS6287548A (ja) | ２−アセチルレゾルシンの製造法 | |
| JP4076649B2 (ja) | ２−アザビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−３−オンの製造方法 | |
| JPS63112526A (ja) | ２−メチル−６−エチルナフタレンの製造方法 | |
| JPH10204075A (ja) | フタリド類の製造方法 | |
| JP2002316952A (ja) | 光学活性２−フェノキシプロピオン酸の光学精製方法 |