JP2718179B2 - ２，２，６，６‐テトラアルキル‐４‐ピペリジノンの精製方法 - Google Patents
２，２，６，６‐テトラアルキル‐４‐ピペリジノンの精製方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノ
ンの精製方法に関するものである。
ンの精製方法に関するものである。
2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノンは一般
にケトン類またはその縮合物とアンモニアとの反応によ
り製造され、高分子化合物の光安定剤や漂白剤などの製
造原料として使用されている。これらの用途に使用する
2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノンとして
は、高純度のもの、特に着色のないものが要求されてい
る。
にケトン類またはその縮合物とアンモニアとの反応によ
り製造され、高分子化合物の光安定剤や漂白剤などの製
造原料として使用されている。これらの用途に使用する
2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノンとして
は、高純度のもの、特に着色のないものが要求されてい
る。
従来、2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノン
の精製方法として蒸留精製法がある。この方法によれ
ば、純度99.5重量％程度の高純度品を取得することがで
きるが、空気に触れると着色する不純物が含まれてお
り、保存時等に経時着色するという問題点があった。
の精製方法として蒸留精製法がある。この方法によれ
ば、純度99.5重量％程度の高純度品を取得することがで
きるが、空気に触れると着色する不純物が含まれてお
り、保存時等に経時着色するという問題点があった。
また他の精製方法として、水和物の再結晶精製法があ
る。この方法は水から再結晶する、または先に水を加え
て水和物を形成し、この水和物を加熱して溶媒に溶解
後、冷却して結晶を析出させるという方法であり、この
方法では得られる2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペ
リジノンの純度は高いが、回収率が低く、経時着色を完
全には抑制できないという問題点がある。
る。この方法は水から再結晶する、または先に水を加え
て水和物を形成し、この水和物を加熱して溶媒に溶解
後、冷却して結晶を析出させるという方法であり、この
方法では得られる2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペ
リジノンの純度は高いが、回収率が低く、経時着色を完
全には抑制できないという問題点がある。
本発明の目的は、上記問題点を解決するため、簡単な
操作により、色相に優れ、経時着色の少ない2,2,6,6−
テトラアルキル−４−ピペリジノンを高回収率で得るこ
とができる2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノ
ンの精製方法を提案することにある。
操作により、色相に優れ、経時着色の少ない2,2,6,6−
テトラアルキル−４−ピペリジノンを高回収率で得るこ
とができる2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノ
ンの精製方法を提案することにある。
本発明は、一般式 （式中、Ｒはそれぞれ同一または異なる低級アルキル基
である。） で示される2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノ
ンを水素化触媒の存在下に水素で処理することを特徴と
する2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノンの精
製方法である。
である。） で示される2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノ
ンを水素化触媒の存在下に水素で処理することを特徴と
する2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノンの精
製方法である。
本発明において精製の対象となる2,2,6,6−テトラア
ルキル−４−ピペリジノンは前記一般式〔Ｉ〕で示され
る化合物である。一般式〔Ｉ〕において、Ｒで示される
低級アルキル基は炭素数１〜４のものが一般的である。
特にすべてのＲがメチル基である2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピペリジノンは高分子化合物の光安定剤や漂白
剤の製造原料として有用である。
ルキル−４−ピペリジノンは前記一般式〔Ｉ〕で示され
る化合物である。一般式〔Ｉ〕において、Ｒで示される
低級アルキル基は炭素数１〜４のものが一般的である。
特にすべてのＲがメチル基である2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ピペリジノンは高分子化合物の光安定剤や漂白
剤の製造原料として有用である。
このような2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジ
ノンは、ケトン類またはその縮合物とアンモニアとの反
応により製造されるが、2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジノンはアセトンまたはその縮合物とアンモニア
との反応により製造される。
ノンは、ケトン類またはその縮合物とアンモニアとの反
応により製造されるが、2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジノンはアセトンまたはその縮合物とアンモニア
との反応により製造される。
本発明において精製の対象とする2,2,6,6−テトラア
ルキル−４−ピペリジノン（以下、精製原料と呼ぶ）
は、上記のような方法により製造されたものをそのまま
使用してもよいし、あらかじめ蒸留等により予備精製し
た純度95〜99重量％程度のものを使用してもよい。
ルキル−４−ピペリジノン（以下、精製原料と呼ぶ）
は、上記のような方法により製造されたものをそのまま
使用してもよいし、あらかじめ蒸留等により予備精製し
た純度95〜99重量％程度のものを使用してもよい。
本発明の精製方法は、上記のような精製原料を水素化
触媒の存在下に水素で処理して、精製原料中に含まれて
いる着色物質および／または着色原因物質を還元する。
触媒の存在下に水素で処理して、精製原料中に含まれて
いる着色物質および／または着色原因物質を還元する。
上記の精製処理は無溶媒系で、精製原料の溶融状態で
行うのが好ましいが、溶媒を用いて行ってもよい。反応
系に含まれる精製原料の割合は、１重量％以上、好まし
くは30〜99重量％とするのが適当である。
行うのが好ましいが、溶媒を用いて行ってもよい。反応
系に含まれる精製原料の割合は、１重量％以上、好まし
くは30〜99重量％とするのが適当である。
溶媒としては、例えば水；メタノール、エタノール等
のアルコール類；アセトン等のケトン類；酢酸エチル等
のエステル類；テトラヒドロフラン等のエーテル類など
があげられる。
のアルコール類；アセトン等のケトン類；酢酸エチル等
のエステル類；テトラヒドロフラン等のエーテル類など
があげられる。
本発明で使用する水素化触媒としては、Fe、Co、Ni、
Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt等のVIII族の金属、これらの金
属の化合物、またはこれらを担体に担持したものなどを
あげることができる。これらは１種単独で使用してもよ
いし、２種以上を混合して使用してもよい。担体として
は、活性炭、アルミナ、ゼオライト、グラファイト，シ
リカ、酸化マグネシウム、クレー、硫酸バリウム、炭酸
カルシウムなどがあげられる。
Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt等のVIII族の金属、これらの金
属の化合物、またはこれらを担体に担持したものなどを
あげることができる。これらは１種単独で使用してもよ
いし、２種以上を混合して使用してもよい。担体として
は、活性炭、アルミナ、ゼオライト、グラファイト，シ
リカ、酸化マグネシウム、クレー、硫酸バリウム、炭酸
カルシウムなどがあげられる。
水素化触媒の具体的なものとして、例えばラネーニッ
ケル、パラジウム−炭素、白金−炭素、パラジウム−ア
ルミナ、白金−アルミナ、ラネーコバルトなどをあげる
ことができる。
ケル、パラジウム−炭素、白金−炭素、パラジウム−ア
ルミナ、白金−アルミナ、ラネーコバルトなどをあげる
ことができる。
水素化触媒の使用量は使用する触媒の種類、精製処理
に採用する操作方式により異なるが、回分操作方式の場
合、通常触媒（担体も含む）/2,2,6,6−テトラアルキル
−４−ピペリジノンの重量比で0.005〜0.3、好ましくは
0.03〜0.1が適当である。連続固定床方式の場合、単位
時間（時間）あたりの2,2,6,6−テトラアルキル−４−
ピペリジノンの流量に対して、通常触媒/2,2,6,6−テト
ラアルキル−４−ピペリジノンの重量比で0.025〜50、
好ましくは0.1〜10が適当である。
に採用する操作方式により異なるが、回分操作方式の場
合、通常触媒（担体も含む）/2,2,6,6−テトラアルキル
−４−ピペリジノンの重量比で0.005〜0.3、好ましくは
0.03〜0.1が適当である。連続固定床方式の場合、単位
時間（時間）あたりの2,2,6,6−テトラアルキル−４−
ピペリジノンの流量に対して、通常触媒/2,2,6,6−テト
ラアルキル−４−ピペリジノンの重量比で0.025〜50、
好ましくは0.1〜10が適当である。
本発明においては、水素化触媒の存在下に精製原料を
水素と接触させて、精製原料中に含まれている着色物質
および／または着色原因物質を還元する。精製原料と水
素との触媒方法は特に限定されず、任意の方法が採用で
き、例えば水素ガスまたは水素含有ガス雰囲気下に反応
液を撹拌しながら行う方法、反応液に水素ガスを吹込み
ながら行う方法、水素加圧下に撹拌しながら行う方法な
どが採用できる。
水素と接触させて、精製原料中に含まれている着色物質
および／または着色原因物質を還元する。精製原料と水
素との触媒方法は特に限定されず、任意の方法が採用で
き、例えば水素ガスまたは水素含有ガス雰囲気下に反応
液を撹拌しながら行う方法、反応液に水素ガスを吹込み
ながら行う方法、水素加圧下に撹拌しながら行う方法な
どが採用できる。
水素を吹込みながら行う場合の水素ガスの吹込み量
は、精製原料100重量部に対して１〜1000ml/分、好まし
くは５〜100ml/分が好ましい。また水素加圧下の場合の
水素圧は5kg/cm2G以下、好ましくは０〜2kg/cm2Gが好ま
しい。
は、精製原料100重量部に対して１〜1000ml/分、好まし
くは５〜100ml/分が好ましい。また水素加圧下の場合の
水素圧は5kg/cm2G以下、好ましくは０〜2kg/cm2Gが好ま
しい。
水素による処理の条件は、圧力が通常常圧ないし5kg/
cm2G、好ましくは常圧ないし2kg/cm2G、反応時間が通常
0.1〜10時間、好ましくは0.5〜３時間が適当である。ま
た反応温度は10〜100℃、好ましくは無溶媒系の場合、
精製原料が溶融する温度ないし60℃、溶媒を用いる場合
40〜60℃が適当である。
cm2G、好ましくは常圧ないし2kg/cm2G、反応時間が通常
0.1〜10時間、好ましくは0.5〜３時間が適当である。ま
た反応温度は10〜100℃、好ましくは無溶媒系の場合、
精製原料が溶融する温度ないし60℃、溶媒を用いる場合
40〜60℃が適当である。
水素による処理は、槽型、管型、塔型のいずれの反応
器でも実施でき、また回分操作方式または連続操作方式
のいずれの方式でも実施できる。
器でも実施でき、また回分操作方式または連続操作方式
のいずれの方式でも実施できる。
水素による処理終了後、反応液から遠心分離、濾過な
どの方法により触媒を分離する。また溶媒を用いた場合
は、溶媒を蒸留などの方法により除去するか、または水
和物として再結晶精製する。
どの方法により触媒を分離する。また溶媒を用いた場合
は、溶媒を蒸留などの方法により除去するか、または水
和物として再結晶精製する。
こうして得られる精製2,2,6,6−テトラアルキル−４
−ピペリジノンは、425nmの波長の光の透過率が97％以
上で色相がよく、経時着色は少なく、回収率も高い。
−ピペリジノンは、425nmの波長の光の透過率が97％以
上で色相がよく、経時着色は少なく、回収率も高い。
精製された2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジ
ノンは、高分子化合物の光安定剤や漂白剤などの製造原
料として使用される。
ノンは、高分子化合物の光安定剤や漂白剤などの製造原
料として使用される。
以上の通り、本発明によれば、簡単な操作により、色
相に優れ、経時着色の少ない2,2,6,6−テトラアルキル
−４−ピペリジノンを高回収率で得ることができる。
相に優れ、経時着色の少ない2,2,6,6−テトラアルキル
−４−ピペリジノンを高回収率で得ることができる。
以下、本発明の実施例について説明する。なおガスク
ロマトグラフィー純度（GC純度）の％は面積％を示す。
ロマトグラフィー純度（GC純度）の％は面積％を示す。
実施例１ 蒸留精製した、ガスクロマトグラフィー（GC）純度
（カラム：液相;Thermon−1000＋KOH、担体に対する液
相の重量％（５＋１）、担体;ChromosorbW（AW−DMC
S））99.3％、425nmにおける透過率（以下、T425と略
記；サンプル2.5gをメタノールに溶解し25mlに希釈して
10mmセルで測定）94.5％の2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジノン（以下、TAAと略記）10.0gと0.5重量％
パラジウム−炭素0.5gの混合物を50℃で水素雰囲気下に
２時間撹拌した。水素還元処理終了後、TAAを熱時濾過
して触媒を分離した。濾過したTAAのGC純度は99.6％で
あり、T425は99.0％であった。水素還元処理したTAAを
空気雰囲気下に60℃で１週間加熱して着色テストを行っ
たところ、GC純度は99.4％、T425は76.8％であった。
（カラム：液相;Thermon−1000＋KOH、担体に対する液
相の重量％（５＋１）、担体;ChromosorbW（AW−DMC
S））99.3％、425nmにおける透過率（以下、T425と略
記；サンプル2.5gをメタノールに溶解し25mlに希釈して
10mmセルで測定）94.5％の2,2,6,6−テトラメチル−４
−ピペリジノン（以下、TAAと略記）10.0gと0.5重量％
パラジウム−炭素0.5gの混合物を50℃で水素雰囲気下に
２時間撹拌した。水素還元処理終了後、TAAを熱時濾過
して触媒を分離した。濾過したTAAのGC純度は99.6％で
あり、T425は99.0％であった。水素還元処理したTAAを
空気雰囲気下に60℃で１週間加熱して着色テストを行っ
たところ、GC純度は99.4％、T425は76.8％であった。
実施例２〜６ 実施例１において0.5重量％パラジウム−炭素の代り
に第１表に示す触媒0.5gを用いた以外は実施例１と同様
にして水素還元処理および着色テストを行った。結果を
第１表に示す。
に第１表に示す触媒0.5gを用いた以外は実施例１と同様
にして水素還元処理および着色テストを行った。結果を
第１表に示す。
実施例７ GC純度99.3％、T42594.5％のTAA10g、0.5重量％パラ
ジウム−炭素0.5gおよびメタノール10gからなる混合物
を50℃で水素雰囲気下に２時間撹拌した。水素還元処理
終了後、濾過により触媒を分離し、瀘液からメタノール
を減圧下に留去した。水素還元処理後のGC純度は99.4
％、T425は98.5％、実施例１と同様にして行った着色テ
スト後のGC純度は99.1％、T425は72.1％であった。
ジウム−炭素0.5gおよびメタノール10gからなる混合物
を50℃で水素雰囲気下に２時間撹拌した。水素還元処理
終了後、濾過により触媒を分離し、瀘液からメタノール
を減圧下に留去した。水素還元処理後のGC純度は99.4
％、T425は98.5％、実施例１と同様にして行った着色テ
スト後のGC純度は99.1％、T425は72.1％であった。
実施例８〜10 実施例７においてメタノールの代りに第２表に示す溶
媒10gを用いた以外は実施例７と同様にして水素還元処
理および着色テストを行った。結果を第２表に示す。
媒10gを用いた以外は実施例７と同様にして水素還元処
理および着色テストを行った。結果を第２表に示す。
実施例11〜12 実施例１において、処理温度を第３表に示す温度に変
えた以外は実施例１と同様にして水素還元処理および着
色テストを行った。結果を第３表に示す。
えた以外は実施例１と同様にして水素還元処理および着
色テストを行った。結果を第３表に示す。
実施例13 触媒（0.5重量％パラジウム−炭素）100gを充填した
塔型反応器を50℃に保ち、塔底より溶融したTAA（GC純
度99.3％、T42594.5％）を毎時200mlの速度でフィード
し（LHSV＝１）、塔底より水素を毎時3.5の速度でフ
ィードした。
塔型反応器を50℃に保ち、塔底より溶融したTAA（GC純
度99.3％、T42594.5％）を毎時200mlの速度でフィード
し（LHSV＝１）、塔底より水素を毎時3.5の速度でフ
ィードした。
塔頂から流出するTAAのGC純度は99.5％、T425は99.5
％であり、実施例１と同様にして行った着色テスト後の
GC純度は99.2％、T425は77.6％であった。
％であり、実施例１と同様にして行った着色テスト後の
GC純度は99.2％、T425は77.6％であった。
実施例14 実施例13において、溶融したTAAの代りに40重量％TAA
水溶液を用いた以外は実施例13と同様にして水素還元処
理を行った。次に、水素還元処理液を減圧下に濃縮し、
冷却して析出したTAA1水和物を濾取した。
水溶液を用いた以外は実施例13と同様にして水素還元処
理を行った。次に、水素還元処理液を減圧下に濃縮し、
冷却して析出したTAA1水和物を濾取した。
得られたTAA1水和物のGC純度は99.97％、T425は97.5
％であ４った。着色テストを実施例１と同様にして行っ
たところ、GC純度は98.6％、T425は72.3％であった。
％であ４った。着色テストを実施例１と同様にして行っ
たところ、GC純度は98.6％、T425は72.3％であった。
実施例15 実施例１において、TAAの代りにGC純度99.2％、T4259
8.4％の2,2,6−トリメチル−６−エチル−４−ピペリジ
ノンを用いた以外は実施例１と同様にして水素還元処理
および着色テストを行った。水素還元処理後のGC純度は
99.0％、T425は99.5％、着色テスト後のGC純度は98.6
％、T425は70.3％であった。
8.4％の2,2,6−トリメチル−６−エチル−４−ピペリジ
ノンを用いた以外は実施例１と同様にして水素還元処理
および着色テストを行った。水素還元処理後のGC純度は
99.0％、T425は99.5％、着色テスト後のGC純度は98.6
％、T425は70.3％であった。
比較例１ 水素還元処理しないGC純度99.3％、T42594.5％のTAA
の着色テストを実施例１と同様にして行ったところ、GC
純度は99.2％、T425は18.7％であった。
の着色テストを実施例１と同様にして行ったところ、GC
純度は99.2％、T425は18.7％であった。
比較例２ 蒸留精製したGC純度98.0％、T42593.8％のTAA50.0gを
1.4倍量の水から再結晶してTAA1水和物29.0gを回収し
た。再結晶後のGC純度99.98％、T42599.2％のTAA1水和
物の着色テストを実施例１と同様にして行ったところ、
GC純度は97.7％、T425は73.5％であった。
1.4倍量の水から再結晶してTAA1水和物29.0gを回収し
た。再結晶後のGC純度99.98％、T42599.2％のTAA1水和
物の着色テストを実施例１と同様にして行ったところ、
GC純度は97.7％、T425は73.5％であった。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （式中、Ｒはそれぞれ同一または異なる低級アルキル基
である。） で示される2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノ
ンを水素化触媒の存在下に水素で処理することを特徴と
する2,2,6,6−テトラアルキル−４−ピペリジノンの精
製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13384689A JP2718179B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | ２，２，６，６‐テトラアルキル‐４‐ピペリジノンの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13384689A JP2718179B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | ２，２，６，６‐テトラアルキル‐４‐ピペリジノンの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02311457A JPH02311457A (ja) | 1990-12-27 |
| JP2718179B2 true JP2718179B2 (ja) | 1998-02-25 |
Family
ID=15114403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13384689A Expired - Fee Related JP2718179B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | ２，２，６，６‐テトラアルキル‐４‐ピペリジノンの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2718179B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19743433C1 (de) * | 1997-10-01 | 1999-04-22 | Basf Ag | Verfahren zur Reinigung von 4-Amino-piperidinen |
-
1989
- 1989-05-26 JP JP13384689A patent/JP2718179B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02311457A (ja) | 1990-12-27 |
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