JPH02311457A

JPH02311457A - ２，２，６，６‐テトラアルキル‐４‐ピペリジノンの精製方法

Info

Publication number: JPH02311457A
Application number: JP13384689A
Authority: JP
Inventors: Noriyuki Hirowatari; 廣渡　紀之; Yoshito Kurano; 義人蔵野; Yoshiro Furuya; 古屋　吉朗
Original assignee: Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Current assignee: Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date: 1989-05-26
Filing date: 1989-05-26
Publication date: 1990-12-27
Anticipated expiration: 2013-02-25
Also published as: JP2718179B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は２，２，６．６−テトラアルキル−４−ピペリ
ジノンのｍｍ方法に関するものである。

〔従来の技術〕

２．２，６．６−テトラアルキル−４−ピペリジノンは
一般にケトン類またはその縮合物とアンモニアとの反応
により製造され、高分子化合物の光安定剤や漂白剤など
の製造原料として使用されている。これらの用途に使用
する２、２，６．６−テトラアルキル−４−ピペリジノ
ンとしては、高純度のもの、特に着色のないものが要求
されている。

従来、２，２，６．６−テトラアルキル−４−ピペリジ
ノンの精製方法として蒸留精製法がある。この方法によ
れば、純度９９．５重量％程度の高純度品を取得するこ
とができるが、空気に触れると着色する不純物が含まれ
ており、保存時等に経時着色するという問題点があった
。

また他のＭ製方法として、水和物の再結晶精製法がある
。この方法は水から再結晶する、または先に水を加えて
水和物を形成し、この水和物を加熱して溶媒に溶解後、
冷却して結晶を析出させるという方法であり、この方法
では得られる２、２，６゜６−テトラアルキル−４−ピ
ペリジノンの純度は高いが１回収率が低く、経時着色を
完全には抑制できないという問題点がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の目的は、上記問題点を解決するため、簡単な操
作により、色相に優れ、経時着色の少ない２，２，６．
６−テトラアルキル−４−ピペリジノンを高回収率で得
ることができる２、２，６．６−テトラアルキル−４−
ピペリジノンの精製方法を提案することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、一般式（式中、Ｒはそれぞれ同一または異なる低級アルキル基
である。）で示される２、２，６．６−テトラアルキル−４−ピペ
リジノンを水素化触媒の存在下に水素で処理することを
特徴とする２、２，６．６−テトラアルキル−４−ピペ
リジノンの精製方法である。

本発明において精製の対象となる２、２，６．６−テト
ラアルキル−４−ピペリジノンは前記一般式（１）で示
される化合物である。一般式（１）において、Ｒで示さ
れる低級アルキル基は炭素数１〜４のものが一般的であ
る。特にすべてのＲがメチル基である２、２，６．６−
テトラメチル−４−ピペリジノンは高分子化合物の光安
定剤や漂白剤の製造原料として有用である。

このような２，２，６．６−テトラアルキル−４−ピペ
リジノンは、ケトン類またはその縮合物とアンモニアと
の反応により製造されるが、２，２，６．６−テトラメ
チル−４−ピペリジノンはアセトンまたはその縮合物と
アンモニアとの反応により製造される。

本発明において精製の対象とする２、２，６．６−テト
ラアルキル−４−ピペリジノン（以下、精製原料と呼ぶ
）は、上記のような方法により製造されたものをそのま
ま使用してもよいし、あらかじめ蒸留等により予備精製
した純度９５〜９９重量％程度のものを使用してもよい
。

本発明の精製方法は、上記のような精製原料を水素化触
媒の存在下に水素で処理して、精製原料中に含まれてい
る着色物質および／または着色原因物質を還元する。

上記の精製処理は無溶媒系で、精製原料の溶融状態で行
うのが好ましいが、溶媒を用いて行ってもよい。反応系
に含まれる精製原料の割合は、１重量％以上、好ましく
は３０〜９９重景％とするのが適当である。

溶媒としては、例えば水；メタノール、エタノール等の
アルコール類；アセトン等のケトン類；酢酸エチル等の
エステル類；テトラヒドロフラン等のエーテル類などが
あげられる。

一本発明で使用する水素化触媒としては、Ｆｅ、　Ｃｏ
、Ｎｉ、　Ｒｕ、　Ｒｈ、　Ｐｄ、　Ｏｓ、　Ｉｒ、　
Ｐｔ等の■族の金属、これらの金属の化合物、またはこ
れらを担体に担持したものなどをあげることができる。

これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を混合
して使用してもよい、担体としては、活性炭、アルミナ
、ゼオライト、グラファイト、シリカ、酸化マグネシウ
ム、クレー、硫酸バリウム、炭酸カルシウムなどがあげ
られる。

水素化触媒の具体的なものとして、例えばラネーニッケ
ル、パラジウム−炭素、白金−炭素、パラジウム−アル
ミナ、出合−アルミナ、ラネーコバルトなどをあげるこ
とができる。

水素化触媒の使用量は使用する触媒の種類、精製処理に
採用する操作方式により異なるが１回分操作方式の場合
２通常触媒（担体も含む）／２，２，６゜６−テトラア
ルキル−４−ピペリジノンの重量比で０．００５〜０．
３、好ましくは０．０３〜０．１が適当テアル。

連続固定床方式の場合、単位時間（時間）あたりの２．
２，６．６−テトラアルキル−４−ピペリジノンの流量
に対して、通常触媒／２，２，６．６−テトラアルキル
−４−ピペリジノンの重量比で０．０２５〜５０、好ま
しくは０．１〜１０が適当である６本発明においては、水素化触媒の存在下に精製原料を水
素と接触させて、精製原料中に含まれている着色物質お
よび／または着色原因物質を還元する。精製原料と水素
との接触方法は特に限定されず、任意の方法が採用でき
、例えば水素ガスまたは水素含有ガス雰囲気下に反応液
を撹拌しながら行う方法、反応液に水素ガスを吹込みな
がら行う方法、水素加圧下に撹拌しながら行う方法など
が採用できる。

水素を吹込みながら行う場合の水素ガスの吹込み量は、
精製原料１００重量部に対して１〜１０１００Ｏ／分、
好ましくは５〜１００ｍＱ／分が好ましい。また水素加
圧下の場合の水素圧は５　ｋｇ／ｃＪＧ以下、好ましく
はＯ〜２　ｋｇ／ｃＪＧが好ましい。

水素による処理の条件は、圧力が通常常圧ないし５ｋｇ
／ＪＧ、好ましくは常圧ないし２ｋｇ／ｃｄＧ、反応時
間が通常０．１−１０時間、好ましくは０．５〜３時間
が適当である。また反応温度は１０−１００℃、好まし
くは無溶媒系の場合、精製原料が溶融する温度ないし６
０℃、溶媒を用いる場合４０〜６０℃が適当である。

水素による処理は、種型、管型、基型のいずれの反応器
でも実施でき、また回分操作方式または連続操作方式の
いずれの方式でも実施できる。

水素による処理終了後１反応液から遠心分離。

濾過などの方法により触媒を分離する。また溶媒を用い
た場合は、溶媒を蒸留などの方法により除去するか、ま
たは水和物として再結晶精製する。

こうして得られる精製２，２，６．６−テトラアルキル
−４−ピペリジノンは、４２５ｎｍの波長の光の透過率
が９７％以上で色相がよく、経時着色は少なく、回収率
も高い。・精製された２、２，６．６−テトラアルキル−４−ピペ
リジノンは、高分子化合物の光安定剤や漂白剤などの製
造原料として使用される。

〔発明の効果〕

以上の通り、本発明によれば、簡単な操作により、色相
に優れ、経時着色の少ない２，２，６．６−テトラアル
キル−４−ピペリジノンを高回収率で得ることができる
。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について説明する。なおガスクロ
マトグラフィー純度（ＧＣ純度）の％は面積％を示す。

実施例１蒸留精製した、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）純度（
カラム：液相；　Ｔｈｅｒｍｏｎ−１０００＋　ＫＯＨ
１担体に対する液相の重量％（５＋１）、担体；　Ｃｈ
ｒｏｍｏｓｏｒｂＷ（ＡリーＤＭＣ３））　９９．３％
、４２５ｎｍにおける透過率（以下。

Ｔ４２５と略記；サンプル２．５ｇをメタノールに溶解
し２５ｍｕに希釈して１０ｍ１１１セルで測定）９４．
５％の２．２，６．６−テトラメチル−４−ピペリジノ
ン（以下、　ＴＡＡと略記）１０．０ｇと０．５重量％
パラジウム−炭素０．５ｇの混合物を５０℃で水素雰囲
気下に２時間撹拌した。水素還元処理終了後、　　ＴＡ
Ａを熱時濾過して触媒を分離した。濾過したＴＡＡのＧ
Ｃ純度は９９．６％であり、Ｔ４２゜は９９．０％であ
った。水素還元処理したＴＡＡを空気雰囲気下に６０℃
で１週間加熱して着色テストを行ったところ、　ＧＣ純
度は９９．４％、Ｔ４２．は７６．８％であった。

実施例２〜６実施例１において０．５重量％パラジウム−炭素の代り
に第１表に示す触媒０．５ｇを用いた以外は実施例１と
同様にして水素還元処理および着色テストを行った。結
果を第１表に示す。

実施例７ＧＣ純度９９．３％、Ｔ＊ｚｓ９４．５％のＴＡＡｌｏ
ｇ、０．５重景％パラジウムー炭素０．５ｇおよびメタ
ノール１０ｇからなる混合物を５０℃で水素雰囲気下に
２時間撹拌した。水素還元処理終了後、濾過により触媒
を分離し、濾液からメタノールを減圧下に留去した。

水素還元処理後のＧＣ純度は９９．４％、Ｔ４よ、は９
８．５％、実施例１と同様にして行った着色テスト後の
ＧＣ純度は９９．１％−Ｔ４２Ｓは７２．１％であった
。

実施例８〜ｌＯ実施例７においてメタノールの代りに第２表に示す溶媒
１０ｇを用いた以外は実施例７と同様にして水素還元処
理および着色テストを行った。結果を第２表に示す。

実施例１１〜■２実施例１において、処理温度を第３表に示す温度に変え
た以外は実施例１と同様にして水素還元処理および着色
テストを行った。結果を第３表に示す。

第３表実施例１３触媒（０，５重量％パラジウムー炭素）１００ｇを充填
した基型反応器を５０℃に保ち、塔底より溶融したＴＡ
Ａ　（ＧＣ純度９９．３％、Ｔ４２，９４．５％）を毎
時２００ｍＲの速度でフィードしくＬＨ３Ｖ　＝　１　
）、塔底より水素を毎時３．５Ｑの速度でフィードした
。

塔頂から流出するＴＡＡのＧＣ純度は９９．５％、Ｔ４
□。

は９９．５％であり、実施例１と同様にして行った着色
テスト後のＧＣ純度は９９．２％、Ｔ４□、は７７．６
％であった・実施例１４実施例１３において、溶融したＴＡＡの代りに４０重量
％ＴＡＡ水溶液を用いた以外は実施例１３と同様にして
水素還元処理を行った。次に、水素還元処理液を減圧下
に濃縮し、冷却して析出したＴＡＡ　１水和物を濾取し
た。

得られたＴＡＡ　１水和物のＧＣ純度は９９．９７％、
Ｔ４□。

は９７．５％であった。着色テストを実施例１と同様に
して行ったところ、ＧＣ純度は９８．６％、Ｔ４２．は
７２．３％であった。

実施例１５実施例１において、ＴＡＡの代りにＧＣ純度９９．２％
、Ｔ４□、９８．４％の２．２．６−ドリメチルー６−
エチルー４−ピペリジノンを用いた以外は実施例１と同
様にして水素還元処理および着色テストを行った。水素
還元処理後のＧＣ純度は９９．０％、Ｔ４２．は９９．
５％、着色テスト後のＧＣ純度は９８．６％、■４２．
は７０．３％であった。

比較例１水素還元処理しないＧＣ純度９９．３％、Ｔ４□、９４
．５％のＴＡＡの着色テストを実施例１と同様にして行
ったところ、ＧＣ純度は９９．２％、Ｔ４□、は１８．
７％であった。

比較例２蒸留＃ｇ製したＧＣ純度９８．０％、　Ｔ４２，９３．
８％のＴＡＡ５０．０ｇを１．４倍量の水から再結晶し
てＴＡＡ　ｌ水和物２９．０ｇを回収した。再結晶後の
ＧＣ純度９９．９８％、Ｔ４２，９９．２％のＴＡＡ　
ｌ水和物の着色テストを実施例１と同様にして行ったと
ころ、ＧＣ純度は９７．７％、Ｔ４□５は７３．５％で
あった。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕（式中、Ｒはそれぞれ同一または異なる低級アルキル基
である。）で示される２，２，６，６−テトラアルキル−４−ピペ
リジノンを水素化触媒の存在下に水素で処理することを
特徴とする２，２，６，６−テトラアルキル−４−ピペ
リジノンの精製方法。