JPS6014410B2 - 磁気記録媒体の製法 - Google Patents
磁気記録媒体の製法Info
- Publication number
- JPS6014410B2 JPS6014410B2 JP10650979A JP10650979A JPS6014410B2 JP S6014410 B2 JPS6014410 B2 JP S6014410B2 JP 10650979 A JP10650979 A JP 10650979A JP 10650979 A JP10650979 A JP 10650979A JP S6014410 B2 JPS6014410 B2 JP S6014410B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- magnetic
- mask
- manufacturing
- evaporation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空蒸着法による磁気記録媒体の製法に関する
。
。
従来より磁気記録媒体としては非磁性支持体上にｙ−Ｆ
ｅ２０３、Ｃｏをドープしたｙ −Ｆｅ２０３、Ｆｅ３
０４、ＣｏをドープしたＦｅ３０４、ｙ −Ｆｅ２０３
とＦｅ３０４のベルトラィド化合物、Ｃｏをドーブした
ベルトラィド化合物、Ｃの２等の酸化物磁性粉末あるい
はＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等を主成分とする強磁性合金粉末等
の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ス
チレンーブタジェン共重合体、ェポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂等の有機／ｔィンダ−中に分散せしめ塗布、乾
燥させた塗布型のものが広く使用されてきている。
ｅ２０３、Ｃｏをドープしたｙ −Ｆｅ２０３、Ｆｅ３
０４、ＣｏをドープしたＦｅ３０４、ｙ −Ｆｅ２０３
とＦｅ３０４のベルトラィド化合物、Ｃｏをドーブした
ベルトラィド化合物、Ｃの２等の酸化物磁性粉末あるい
はＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等を主成分とする強磁性合金粉末等
の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ス
チレンーブタジェン共重合体、ェポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂等の有機／ｔィンダ−中に分散せしめ塗布、乾
燥させた塗布型のものが広く使用されてきている。
近年高密度記録への要求の高まりと共に真空蒸着、スパ
ッタリング、イオンプレーテング等のペーパーデポジシ
ョン法あるいは電気メッキ、無電解〆ッキ等のメッキ法
により形成された強磁性金属薄膜を磁気記録層とする、
バインダーを使用しないいわゆる金属薄膜型磁気記録媒
体が注目を俗びており、実用化への努力が種々行われて
いる。
ッタリング、イオンプレーテング等のペーパーデポジシ
ョン法あるいは電気メッキ、無電解〆ッキ等のメッキ法
により形成された強磁性金属薄膜を磁気記録層とする、
バインダーを使用しないいわゆる金属薄膜型磁気記録媒
体が注目を俗びており、実用化への努力が種々行われて
いる。
特に真空蒸着法は製造工程が簡単であること、膜の特性
の制御の容易であること、あるし、は排液処理等の必要
のないことの利点を有する。真空蒸着法によって磁気記
録媒体に要求される抗磁力（Ｈｅ：○ｅ）、角型比（Ｂ
ｒ／Ｂｍ）を有する強磁性体薄膜を得る方法としては、
強磁性体材料蒸発流を基板に対して斜めに入射させる斜
め蒸着法（持公階３９−２９９４４号、持公昭４１一１
９３８少号、米国特許第３乳２６３２号等）が知られて
いる。
の制御の容易であること、あるし、は排液処理等の必要
のないことの利点を有する。真空蒸着法によって磁気記
録媒体に要求される抗磁力（Ｈｅ：○ｅ）、角型比（Ｂ
ｒ／Ｂｍ）を有する強磁性体薄膜を得る方法としては、
強磁性体材料蒸発流を基板に対して斜めに入射させる斜
め蒸着法（持公階３９−２９９４４号、持公昭４１一１
９３８少号、米国特許第３乳２６３２号等）が知られて
いる。
しかしながらこの斜め蒸着法では基体に対する強磁性材
料蒸発流の入射角を設定するために遮蔽用マスクを設け
るが、蒸発流の大部分がこのマスクに付着してしまい、
実質的に磁気記録媒体用の磁性膜として利用される強磁
性材料の割合が低いという欠点を有していた。本発明の
目的は、上記の欠点を改良した真空蒸着法による磁気記
録媒体の製法を提供するものである。
料蒸発流の入射角を設定するために遮蔽用マスクを設け
るが、蒸発流の大部分がこのマスクに付着してしまい、
実質的に磁気記録媒体用の磁性膜として利用される強磁
性材料の割合が低いという欠点を有していた。本発明の
目的は、上記の欠点を改良した真空蒸着法による磁気記
録媒体の製法を提供するものである。
すなわち、本発明は真空蒸着法により磁気記録媒体を製
造する方法において、磁性材料蒸発流を遮蔽するために
設けるマスクとして蒸発磁性材料と同じ組成の材料を用
いたことを特徴とする磁気記録媒体の製法である。第１
図に、本発明による磁気記録媒体の製法の一具体例を示
す。
造する方法において、磁性材料蒸発流を遮蔽するために
設けるマスクとして蒸発磁性材料と同じ組成の材料を用
いたことを特徴とする磁気記録媒体の製法である。第１
図に、本発明による磁気記録媒体の製法の一具体例を示
す。
第１図において、１は真空容器中に配置されたクーリン
グキャンで、可操性高分子材料等のテ−フ。状基体２が
クーリングキャン１の外周に沿って移動できるようにな
っている。真空容器内にはさらに蒸発用ルッボ３等の蒸
発源が、ク−リングキャンｌの下方に配置されており、
ク−リングキヤンーへ向けて強磁性材料４を蒸発できる
ようになっている。蒸発用ルッボ３からの蒸発流５が全
てクーリングキヤンー上の基体２に到達するのでは無く
、基体１に対してある範囲の入射角の蒸発流５のみが到
達するよう遮蔽効果を有するマスク６が設けられる。本
発明においてはマスク６の材料としては蒸発用ルッボ３
にチャージされた強磁性材料４と同じ組成のものを用い
る。一般に磁気記録媒体として望ましい磁気特性を有す
る磁気薄膜を得るには入射角は例えば５００以上という
ように大きくする必要があり、その結果蒸発流のかなり
の部分をマスク６によって遮蔽しなければならず、ルッ
ボ３にチャージされた強磁性材料４の一部分のみが、基
体２上に磁性薄膜として形成するのに用いられ、かなり
の部分はマスク６に付着することになる。本発明におい
ては、マスク６の材料として磁性材料４と同一組成のも
のを使用しているために、マスク６上に強磁性材料が強
固に付着しても、マスク６そのままで蒸発用強磁性材料
としてルッボ３にチャージすることができる。従ってマ
スク６に付着した強磁性材料を無駄なく再使用でき、そ
の実用上の利点は極めて大きい。本発明に用いられ得る
強磁性材料としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強
磁性金属、あるいはＦｅ一Ｃ〇、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃ。
グキャンで、可操性高分子材料等のテ−フ。状基体２が
クーリングキャン１の外周に沿って移動できるようにな
っている。真空容器内にはさらに蒸発用ルッボ３等の蒸
発源が、ク−リングキャンｌの下方に配置されており、
ク−リングキヤンーへ向けて強磁性材料４を蒸発できる
ようになっている。蒸発用ルッボ３からの蒸発流５が全
てクーリングキヤンー上の基体２に到達するのでは無く
、基体１に対してある範囲の入射角の蒸発流５のみが到
達するよう遮蔽効果を有するマスク６が設けられる。本
発明においてはマスク６の材料としては蒸発用ルッボ３
にチャージされた強磁性材料４と同じ組成のものを用い
る。一般に磁気記録媒体として望ましい磁気特性を有す
る磁気薄膜を得るには入射角は例えば５００以上という
ように大きくする必要があり、その結果蒸発流のかなり
の部分をマスク６によって遮蔽しなければならず、ルッ
ボ３にチャージされた強磁性材料４の一部分のみが、基
体２上に磁性薄膜として形成するのに用いられ、かなり
の部分はマスク６に付着することになる。本発明におい
ては、マスク６の材料として磁性材料４と同一組成のも
のを使用しているために、マスク６上に強磁性材料が強
固に付着しても、マスク６そのままで蒸発用強磁性材料
としてルッボ３にチャージすることができる。従ってマ
スク６に付着した強磁性材料を無駄なく再使用でき、そ
の実用上の利点は極めて大きい。本発明に用いられ得る
強磁性材料としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強
磁性金属、あるいはＦｅ一Ｃ〇、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃ。
−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃ。−Ｎｉ、Ｆｅ一Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｓｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｗの
ような磁性合金が用いられる。テープ状基体としては厚
味が約３仏の〜２秋肌のポリエチレンテレフタレート、
ポリィミド、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレー
ト、三酢酸セルローズ、ポリカーボネート等の高分子フ
ィルムあるいは非磁性ステンレス鋼のような金属帯が用
いられ得る。蒸発源加熱方法としては抵抗加熱法、高周
波加熱法、電子ビーム加熱法、レーザービーム加熱法等
いずれの方法も用いられる。さらに遮蔽マスク全体を蒸
発磁性材料と同じ組成の材料としても良いし、遮蔽マス
ク芯部材を蒸発磁性材料と同じ組成の箔材料で包んだも
のをマスクとして使用し、箔材料をマスク芯部材から分
離して蒸発源磁性材料として用いるようにしても良い。
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｓｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｗの
ような磁性合金が用いられる。テープ状基体としては厚
味が約３仏の〜２秋肌のポリエチレンテレフタレート、
ポリィミド、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレー
ト、三酢酸セルローズ、ポリカーボネート等の高分子フ
ィルムあるいは非磁性ステンレス鋼のような金属帯が用
いられ得る。蒸発源加熱方法としては抵抗加熱法、高周
波加熱法、電子ビーム加熱法、レーザービーム加熱法等
いずれの方法も用いられる。さらに遮蔽マスク全体を蒸
発磁性材料と同じ組成の材料としても良いし、遮蔽マス
ク芯部材を蒸発磁性材料と同じ組成の箔材料で包んだも
のをマスクとして使用し、箔材料をマスク芯部材から分
離して蒸発源磁性材料として用いるようにしても良い。
第１図は、本発明による磁気記録媒体の製法の一具体例
を示す略図であり、１はクーリングキャン、３は蒸発源
ルッボ、６はマスクを示す。
を示す略図であり、１はクーリングキャン、３は蒸発源
ルッボ、６はマスクを示す。
Claims (1)
- １ 真空蒸着法により磁気記録媒体を製造する方法にお
いて、磁性材料蒸発流を遮蔽するマスクとして蒸発磁性
材料と同じ組成の材料を用いたことを特徴とする磁気記
録媒体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10650979A JPS6014410B2 (ja) | 1979-08-21 | 1979-08-21 | 磁気記録媒体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10650979A JPS6014410B2 (ja) | 1979-08-21 | 1979-08-21 | 磁気記録媒体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5629845A JPS5629845A (en) | 1981-03-25 |
| JPS6014410B2 true JPS6014410B2 (ja) | 1985-04-13 |
Family
ID=14435389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10650979A Expired JPS6014410B2 (ja) | 1979-08-21 | 1979-08-21 | 磁気記録媒体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6014410B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59172165A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-28 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 |
-
1979
- 1979-08-21 JP JP10650979A patent/JPS6014410B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5629845A (en) | 1981-03-25 |
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