JPS60142946A - 非対称スクアライン化合物 - Google Patents
非対称スクアライン化合物Info
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- JPS60142946A JPS60142946A JP59251482A JP25148284A JPS60142946A JP S60142946 A JPS60142946 A JP S60142946A JP 59251482 A JP59251482 A JP 59251482A JP 25148284 A JP25148284 A JP 25148284A JP S60142946 A JPS60142946 A JP S60142946A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- squaraine
- group
- imaging member
- carbon atoms
- Prior art date
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- Pending
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0609—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen
- G03G5/0611—Squaric acid
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0618—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen and nitrogen
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般的に云えば、スクアライン(squar
aine )化合物に関し、更に詳しく云えば、スクア
ライン化合物、該スクアライン化合物の製造方法、該ス
クアライン化合物を利用した物品およびスクアライン化
合物を利用した物品の使用方法に関する。
aine )化合物に関し、更に詳しく云えば、スクア
ライン化合物、該スクアライン化合物の製造方法、該ス
クアライン化合物を利用した物品およびスクアライン化
合物を利用した物品の使用方法に関する。
スクアライン化合物は有用な化合物であって、感光装置
に利用することによって、その装置の感光能力を可視光
のみならず赤外線にまで拡大することができる。従って
、このような感光装置は、例えば従来の電子写真複写機
のみならず、レーザープリンターにも使用することがで
きる。これらの感光装置は、光発生層と正孔輸送層との
間、あるいは光発生層と支持基体との間で、光発生層中
にスクアライン化合物からなる光導電材料を含む単層ま
たは多孔部材から構成することができる。
に利用することによって、その装置の感光能力を可視光
のみならず赤外線にまで拡大することができる。従って
、このような感光装置は、例えば従来の電子写真複写機
のみならず、レーザープリンターにも使用することがで
きる。これらの感光装置は、光発生層と正孔輸送層との
間、あるいは光発生層と支持基体との間で、光発生層中
にスクアライン化合物からなる光導電材料を含む単層ま
たは多孔部材から構成することができる。
スクアライン化合物の調製は、ジアルキルスクアレート
をアニリン化合物と反応させることにより行うことがで
きる。しかして、例えば、コ、り・イー・ロウの名で先
行して出願された継続中の米国特許出願第 号明細書で
は、ジア ルキルスクアレートとN、N−ジアルキルアニリンとを
、酸触−媒の存在下に約80°C−160℃の温度で反
応させている。脂肪族アルコール、例えばメタノール、
エタノール、プロパツール、ブタノール、特に水で飽和
した1−ブタノール、アミルアルコールの如き溶剤が、
スクアラインと酸の溶液を形成する目的で選択されてい
る。
をアニリン化合物と反応させることにより行うことがで
きる。しかして、例えば、コ、り・イー・ロウの名で先
行して出願された継続中の米国特許出願第 号明細書で
は、ジア ルキルスクアレートとN、N−ジアルキルアニリンとを
、酸触−媒の存在下に約80°C−160℃の温度で反
応させている。脂肪族アルコール、例えばメタノール、
エタノール、プロパツール、ブタノール、特に水で飽和
した1−ブタノール、アミルアルコールの如き溶剤が、
スクアラインと酸の溶液を形成する目的で選択されてい
る。
と反応させている。例えば、ジョンF、ヤヌス(Joh
nF、 Yanus)の名で先行出願した、[スクアラ
イン化合物の製造方法」という名称の継続中の米国特許
出願第 号明細書では、スク アリック酸、約り30℃〜約210℃の沸点を有する長
鎖第1級アルコールおよび第3級の芳香族アミンを減圧
下で、上記第1級アルコールと上記第3級アミンの沸点
下で加熱してスクアライン化合物を形成している。
nF、 Yanus)の名で先行出願した、[スクアラ
イン化合物の製造方法」という名称の継続中の米国特許
出願第 号明細書では、スク アリック酸、約り30℃〜約210℃の沸点を有する長
鎖第1級アルコールおよび第3級の芳香族アミンを減圧
下で、上記第1級アルコールと上記第3級アミンの沸点
下で加熱してスクアライン化合物を形成している。
ある種のスクアライン化合物、例えばスクアリック酸の
アミン誘導体を含有する光導電性像形成部材は公知であ
る。また、例えば、米国特許第4.123,270号、
同第4.353,971号、同第3.838,095号
および同第3.824,099号明細書に開示されてい
るように、光発生層と輸送層とを有する層型の感光装置
も公知である。米国特許第4,123.270号明細書
に開示された例の光発生層は、2.4−ビス−(2−メ
チル−4−ジメチルアミノ−フェニル)−1,3−シク
ロブタジェンージイリウムー1,3−ジオレート、2,
4−ビス−(2−ヒドロキシ−4−ジメチルアミノフェ
ニル)−1゜3−シクロブタジエンージイリウム−1,
3−ジオレートおよび2.4−ビス−(p−ジメチルア
ミノフェニル)−1,3−シクロブタジェンージイリウ
ム−1,3−ジオレートを含有している。
アミン誘導体を含有する光導電性像形成部材は公知であ
る。また、例えば、米国特許第4.123,270号、
同第4.353,971号、同第3.838,095号
および同第3.824,099号明細書に開示されてい
るように、光発生層と輸送層とを有する層型の感光装置
も公知である。米国特許第4,123.270号明細書
に開示された例の光発生層は、2.4−ビス−(2−メ
チル−4−ジメチルアミノ−フェニル)−1,3−シク
ロブタジェンージイリウムー1,3−ジオレート、2,
4−ビス−(2−ヒドロキシ−4−ジメチルアミノフェ
ニル)−1゜3−シクロブタジエンージイリウム−1,
3−ジオレートおよび2.4−ビス−(p−ジメチルア
ミノフェニル)−1,3−シクロブタジェンージイリウ
ム−1,3−ジオレートを含有している。
米国特許第4,123,270号、同第4.353,9
71号、同第3.838,095号および同第3.82
4,099号明細書に記載のスクアリック酸のアミン誘
導体はすべて対称形であるが、締金環上に水#基を有す
るスクアリック酸の特別な非対称で、縮合環の非アミン
誘導体は、米国特許第4.353.’971号および同
第3.824,099号明細書に記載されている。
71号、同第3.838,095号および同第3.82
4,099号明細書に記載のスクアリック酸のアミン誘
導体はすべて対称形であるが、締金環上に水#基を有す
るスクアリック酸の特別な非対称で、縮合環の非アミン
誘導体は、米国特許第4.353.’971号および同
第3.824,099号明細書に記載されている。
ロウトフィ (Loutfy)等の「を機粒子分散体の
光導電性:スクアリン染料J (ホトブラフインク・サ
イエンス・アンド・エンジニャリング、 Vo127、
N(11,1月/2月、1982年、5〜9頁)には、
スクアリック酸のアミン誘導体の構造式がその8頁に示
されているが、これはその論文の内容からして明らかに
ミスプリントである。
光導電性:スクアリン染料J (ホトブラフインク・サ
イエンス・アンド・エンジニャリング、 Vo127、
N(11,1月/2月、1982年、5〜9頁)には、
スクアリック酸のアミン誘導体の構造式がその8頁に示
されているが、これはその論文の内容からして明らかに
ミスプリントである。
静電的手段によって光導電性部材の像形成表面に静電潜
像を形成し、且つそれを現像することば周知である。一
般的には、上記方法では、まず最初に当該技術で感光体
と称される電子写真板の表面に静電潜像を形成する。こ
の感光体は通常は、導電性基体と1以上の光導電性絶縁
性材料の層から構成されている。望ましくない電荷の注
入を防lトするためには、上記基体と光導電層との間に
薄いバリヤ一層を挿設してもよい。
像を形成し、且つそれを現像することば周知である。一
般的には、上記方法では、まず最初に当該技術で感光体
と称される電子写真板の表面に静電潜像を形成する。こ
の感光体は通常は、導電性基体と1以上の光導電性絶縁
性材料の層から構成されている。望ましくない電荷の注
入を防lトするためには、上記基体と光導電層との間に
薄いバリヤ一層を挿設してもよい。
多数の異なる光導電性部材が公知であり、例えばガラス
状セレンの如き単一材料からなる均一な層あるいは分散
した光導電性材料を含有する複合材料からなる層状装置
が知られている。例えば複合材料からなる1種の光導電
性部材の1例は、米国特許第3.121,006号明細
書に記載されている。この特許明細書に記載された複合
光導電性部材は、電気絶縁性の有機樹脂バインダー中に
分散させた微細な粒子の光導電性無機化合物からなって
いる。通常の光導電性無機化合物は、酸化亜鉛粒子を電
気絶縁性の有機樹脂バインダー中に均一に分散させたも
のを紙バンキング材上に塗布したものからなっている。
状セレンの如き単一材料からなる均一な層あるいは分散
した光導電性材料を含有する複合材料からなる層状装置
が知られている。例えば複合材料からなる1種の光導電
性部材の1例は、米国特許第3.121,006号明細
書に記載されている。この特許明細書に記載された複合
光導電性部材は、電気絶縁性の有機樹脂バインダー中に
分散させた微細な粒子の光導電性無機化合物からなって
いる。通常の光導電性無機化合物は、酸化亜鉛粒子を電
気絶縁性の有機樹脂バインダー中に均一に分散させたも
のを紙バンキング材上に塗布したものからなっている。
この特許明細書に記載されたバインダー材料は、光導電
性粒子により発生した注入電荷粒子をいずれか有意の距
離をも輸送し得ない材料である。従って、この光導電性
粒子は、層全体を通して粒子同士で実質的に連続的に接
触して、繰返し操作に必要な重病の消散ができるもので
なければならない。光導電性粒子を均一に分散させるに
は、比較的高い容積濃度、通常は約50容量%の光導電
体材料を必要とし、それで光導電体粒子を十分に粒子接
触さセて急速な放電が可能となる。光導電性粒子を高濃
度にすると、樹脂バインダーの物理的連続性に悪影響し
、その機械的性質が有意に低下することになる。上記の
特許明細書には、特定のバインダー材料、例えばポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等
が記載されている。
性粒子により発生した注入電荷粒子をいずれか有意の距
離をも輸送し得ない材料である。従って、この光導電性
粒子は、層全体を通して粒子同士で実質的に連続的に接
触して、繰返し操作に必要な重病の消散ができるもので
なければならない。光導電性粒子を均一に分散させるに
は、比較的高い容積濃度、通常は約50容量%の光導電
体材料を必要とし、それで光導電体粒子を十分に粒子接
触さセて急速な放電が可能となる。光導電性粒子を高濃
度にすると、樹脂バインダーの物理的連続性に悪影響し
、その機械的性質が有意に低下することになる。上記の
特許明細書には、特定のバインダー材料、例えばポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等
が記載されている。
公知の通り、無機または有機材料からなる光導電性材料
は、不連続な隣接する層によってその電荷キャリヤー発
生機能および電荷キャリヤー輸送機能が達成されている
。更に、電気絶縁性ポリマー材料からなる被覆層を有す
る層状の感光体材料も従来技術に開示されている。しか
しながら、ゼログラフィー技術は発展し続けており、且
つ性能を改良し且つより高品質の像を得るために静電写
真像形成装置にはより厳しい要求が為されている。
は、不連続な隣接する層によってその電荷キャリヤー発
生機能および電荷キャリヤー輸送機能が達成されている
。更に、電気絶縁性ポリマー材料からなる被覆層を有す
る層状の感光体材料も従来技術に開示されている。しか
しながら、ゼログラフィー技術は発展し続けており、且
つ性能を改良し且つより高品質の像を得るために静電写
真像形成装置にはより厳しい要求が為されている。
またζある種のレーザープリンター用には可視光および
/または赤外線に感光する層状感光装置も要望されてい
る。
/または赤外線に感光する層状感光装置も要望されてい
る。
発住層と輸送層が分離したものを含む他の層状の感光装
置は例えば、米国特許第4,265,990号明細書に
開示されている。正孔注入層、これを被覆する正孔輸送
層、輸送層を被覆する光発生層および絶縁性有機樹脂か
らなる最外層がら構成されている被覆型の感光材料は、
例えば米国特許第4.251,612号明細書に記載さ
れている。
置は例えば、米国特許第4,265,990号明細書に
開示されている。正孔注入層、これを被覆する正孔輸送
層、輸送層を被覆する光発生層および絶縁性有機樹脂か
らなる最外層がら構成されている被覆型の感光材料は、
例えば米国特許第4.251,612号明細書に記載さ
れている。
この特許明細書に記載された光発生層は、例えば三方晶
系セレン、フタロシアニンおよびある種のジアミンを包
含する輸送層を有する。本発明においては米国特許第4
. 265.990号および同第4.251,612号
明細書の開示がすべて、本明細書の参照文献として包含
される。
系セレン、フタロシアニンおよびある種のジアミンを包
含する輸送層を有する。本発明においては米国特許第4
. 265.990号および同第4.251,612号
明細書の開示がすべて、本明細書の参照文献として包含
される。
ベルギー特許第763,540号明細書にも、少なくと
も2個の電気的に作動する層を有する電子写真部材が記
載されており、その第1の層は、電荷キャリヤーを光発
生させ且つ該キャリヤーを連続した活性層に注入するこ
とができ゛る光導電層から構成されている。そして上記
の連続した活性層は、意図したスペクトル領域では実質
的に非吸収性であるが、光導電層から光発生した正孔を
注入でき且つこれらの正孔を活性層中を輸送できるとい
う点で活性である有機の輸送材料を含有している。更に
、米国特許第3.041.116号明細書には基体上の
ガラス状セレンの上に被覆した透明なプラスチック材料
を有する光導電性材料が記載されている。
も2個の電気的に作動する層を有する電子写真部材が記
載されており、その第1の層は、電荷キャリヤーを光発
生させ且つ該キャリヤーを連続した活性層に注入するこ
とができ゛る光導電層から構成されている。そして上記
の連続した活性層は、意図したスペクトル領域では実質
的に非吸収性であるが、光導電層から光発生した正孔を
注入でき且つこれらの正孔を活性層中を輸送できるとい
う点で活性である有機の輸送材料を含有している。更に
、米国特許第3.041.116号明細書には基体上の
ガラス状セレンの上に被覆した透明なプラスチック材料
を有する光導電性材料が記載されている。
上述の公知のスクアライン化合物を含有する感光装置は
その意図した用途には適しているが、依然として新規な
スクアライン化合物の開発、スクアライン化合物の改良
された製造方法およびそれらの新規なスクアライン化合
物を利用した改良された装置が引続き要望されている。
その意図した用途には適しているが、依然として新規な
スクアライン化合物の開発、スクアライン化合物の改良
された製造方法およびそれらの新規なスクアライン化合
物を利用した改良された装置が引続き要望されている。
従って本発明の目的は、スクアライン化合物の改良され
た製造方法を提供することである。
た製造方法を提供することである。
本発明の別の目的は、高い感光性、すぐれた暗減衰性お
よび高い電荷アクセプタンスを有するスクアライン化合
物の改良された製造方法を提供することである。
よび高い電荷アクセプタンスを有するスクアライン化合
物の改良された製造方法を提供することである。
本発明の更に別の目的は、ある種のスクアライン化合物
をより簡単に、更に速く、更に経済的にその上より高収
率で調製する方法を提供することである。
をより簡単に、更に速く、更に経済的にその上より高収
率で調製する方法を提供することである。
本発明の更に別の目的は、ある種のスクアライン化合物
を容易に大規模に製造できる改良された方法を提供する
ことである。
を容易に大規模に製造できる改良された方法を提供する
ことである。
本発明の更に別の目的は、新規なスクアライン化合物を
含有する改良された感光性像形成部材を提供することで
ある。
含有する改良された感光性像形成部材を提供することで
ある。
本発明の更に別の目的は、低い暗減衰と高い感度を示す
改良された感光装置を提供することである。
改良された感光装置を提供することである。
本発明の更に別の目的は、新規なスクアライン感光性顔
料からなる光導電層と正孔輸送層からなる改良された感
光装置を提供することである。
料からなる光導電層と正孔輸送層からなる改良された感
光装置を提供することである。
本発明の更に別の目的は、新規なスクアライン感光性顔
料からなる光導電層と電荷輸送層から構成された改良感
光装置を利用する像形成方法およびプリント方法を提供
することである。
料からなる光導電層と電荷輸送層から構成された改良感
光装置を利用する像形成方法およびプリント方法を提供
することである。
上記の本発明の目的および本発明の他の目的は、次の通
りに非対称スクアライン化合物を合成することにより達
成された。すなわち、本発明のスクアライン化合物は、
スクアリック酸、約り30℃〜約 210℃の沸点を有
する第1級アルコール、式 を有する第1の第3級アミンおよび式 p+ を有する第2の第3級アミン(但し、上記式中のR+
、Rt 、RsおよびR6は、1〜4個の炭素原子を有
するアルキル基、フェニル基および式を存する基からな
る群からそれぞれ無関係に選ばれ、且つR3、R4、R
1およびR8は、トI、C113、CIIzCIli
、CF、l、 F 、 CI 、 BrおよびC0OH
からなる群からそれぞれ無関係に選ばれるが、R7とR
8とがR3とR4と同し相対的位置で芳香環上に位置す
る場合は、R1とR4の少なくとも一方はR7およびR
6とは異なるものであり、R7は、H,1〜4個の炭素
原子を存するアルキル基、F。
りに非対称スクアライン化合物を合成することにより達
成された。すなわち、本発明のスクアライン化合物は、
スクアリック酸、約り30℃〜約 210℃の沸点を有
する第1級アルコール、式 を有する第1の第3級アミンおよび式 p+ を有する第2の第3級アミン(但し、上記式中のR+
、Rt 、RsおよびR6は、1〜4個の炭素原子を有
するアルキル基、フェニル基および式を存する基からな
る群からそれぞれ無関係に選ばれ、且つR3、R4、R
1およびR8は、トI、C113、CIIzCIli
、CF、l、 F 、 CI 、 BrおよびC0OH
からなる群からそれぞれ無関係に選ばれるが、R7とR
8とがR3とR4と同し相対的位置で芳香環上に位置す
る場合は、R1とR4の少なくとも一方はR7およびR
6とは異なるものであり、R7は、H,1〜4個の炭素
原子を存するアルキル基、F。
CI 、 Br 、 C0OH、CNおよびCF、から
なる群から選ばれる。)からなる混合物を形成し、該混
合物を減圧下で上記第1級アルコール、第1の第3級ア
ミンおよび第2の第3級アミンの沸点下で加熱して非対
称スクアライン化合物を合成して得られる。
なる群から選ばれる。)からなる混合物を形成し、該混
合物を減圧下で上記第1級アルコール、第1の第3級ア
ミンおよび第2の第3級アミンの沸点下で加熱して非対
称スクアライン化合物を合成して得られる。
またこの方法で合成した新規な非対称スクアライン化合
物、支持基体および上記の新規な非対称スクアライン化
合物からなる光導電性層から構成された静電写真像形成
部材および支持基体と上記の新規な非対称スクアライン
化合物からなる光導電層から構成された静電写真像形成
部材Gこより像を形成する方法も本発明の範囲に包含さ
れる。
物、支持基体および上記の新規な非対称スクアライン化
合物からなる光導電性層から構成された静電写真像形成
部材および支持基体と上記の新規な非対称スクアライン
化合物からなる光導電層から構成された静電写真像形成
部材Gこより像を形成する方法も本発明の範囲に包含さ
れる。
本発明の非対称スクアラインは下記式で表わされる構造
を有している。
を有している。
上記式中のR+ 、R2、Rs 、R4、Rs、R1,
、Rq 、RsおよびR9は前記定義の通りである。本
発明の範囲に包含され且つ上記式で表わされる特定の新
規なスクアライン化合物の例としては、2−(4−ジメ
チルアミノフェニル)−4−(2−メチル−4−ジメチ
ルアミノフェニル)−1,3−シクロブタジエンジイリ
ウム−1,3−ジオレート、2−(4−ジメチルアミノ
フェニル)−4−(2−フルオロ−4−ジメチルアミノ
フェニル)−1,3−シクロブタジエンジイリウム−1
,3−ジオレート、2−(2−メチル−4−ジメチルア
ミノフェニル)−,1−(2−フルオロ−4−ジメチル
アミノフェニル)−1,3−シクロブタジエンジイリウ
ム−1,3−ジオレート、2−(2−フルオロ−ジメチ
ルアミノフェニル)−4−(3−フルオロ−4−ジメチ
ルアミノフェニル)−1,3−シクロブタジエンジイリ
ウム−1,3−ジオレート、2−(2−メチル−4−ジ
メチルアミノフェニル)−4−(2−クロロ−4−ジメ
チルアミノフェニル)−1,3−シクロブタジエンジイ
リウム−1,3−ジオレート、2−(2−フルオロ−4
−ジメチルアミノフェニル)−4−(2−クロロ−4−
ジメチルアミノフェニル)−1,3−シクロブタジエン
ジイリウム−1゜3〜ジオレート等を包含する。
、Rq 、RsおよびR9は前記定義の通りである。本
発明の範囲に包含され且つ上記式で表わされる特定の新
規なスクアライン化合物の例としては、2−(4−ジメ
チルアミノフェニル)−4−(2−メチル−4−ジメチ
ルアミノフェニル)−1,3−シクロブタジエンジイリ
ウム−1,3−ジオレート、2−(4−ジメチルアミノ
フェニル)−4−(2−フルオロ−4−ジメチルアミノ
フェニル)−1,3−シクロブタジエンジイリウム−1
,3−ジオレート、2−(2−メチル−4−ジメチルア
ミノフェニル)−,1−(2−フルオロ−4−ジメチル
アミノフェニル)−1,3−シクロブタジエンジイリウ
ム−1,3−ジオレート、2−(2−フルオロ−ジメチ
ルアミノフェニル)−4−(3−フルオロ−4−ジメチ
ルアミノフェニル)−1,3−シクロブタジエンジイリ
ウム−1,3−ジオレート、2−(2−メチル−4−ジ
メチルアミノフェニル)−4−(2−クロロ−4−ジメ
チルアミノフェニル)−1,3−シクロブタジエンジイ
リウム−1,3−ジオレート、2−(2−フルオロ−4
−ジメチルアミノフェニル)−4−(2−クロロ−4−
ジメチルアミノフェニル)−1,3−シクロブタジエン
ジイリウム−1゜3〜ジオレート等を包含する。
第3級アミン反応物は、広範囲の適当な材料から選択す
ることができ、典型的な第3級アミンとしては、トリフ
ェニルアミン、N、N’−ジフェニル−N、N’−ビス
(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−
4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル−N、 N
’−ビス(4−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェ
ニル)−4゜4′−ジアミンの如きトリアリルアミン、
N−エチルカルバゾールの如きヘテロ環アミン等を包含
する。
ることができ、典型的な第3級アミンとしては、トリフ
ェニルアミン、N、N’−ジフェニル−N、N’−ビス
(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−
4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル−N、 N
’−ビス(4−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェ
ニル)−4゜4′−ジアミンの如きトリアリルアミン、
N−エチルカルバゾールの如きヘテロ環アミン等を包含
する。
第3級アニリン誘導体が好ましく、典型的な第3級アニ
リン誘導体としては、N、N−ジメチルアニリン、N、
N−ジエチルアニリン、N、N−ジプロピルアニリン、
N、N−ジブチルアニリン、N、N−ジペンチルアニリ
ン、N、N−ジエチルアニリン、3−メチル−N、N’
−ジメチルアニリン、3−フルオロ−N、N−ジメチル
アニリン、3−ヒドロキシ−N、N−ジエチルアニリン
、3−エチル−N、N−ジメチルアニリン、3−クロロ
−N、N−ジメチルアニリン、2−フルオロ−N、N−
ジメチルアニリン、2−メチル−N。
リン誘導体としては、N、N−ジメチルアニリン、N、
N−ジエチルアニリン、N、N−ジプロピルアニリン、
N、N−ジブチルアニリン、N、N−ジペンチルアニリ
ン、N、N−ジエチルアニリン、3−メチル−N、N’
−ジメチルアニリン、3−フルオロ−N、N−ジメチル
アニリン、3−ヒドロキシ−N、N−ジエチルアニリン
、3−エチル−N、N−ジメチルアニリン、3−クロロ
−N、N−ジメチルアニリン、2−フルオロ−N、N−
ジメチルアニリン、2−メチル−N。
N−ジメチルアニリン、2−トリフルオロメタン−N、
N−ジメチルアニリン、2−、、−)リフルオロメタン
−N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジメチルアミノ
−3−フルオロベンゼン、N−メチル−N−エチル−3
−フルオロアニリン、N、N−ジエチル−3−フルオロ
アニリン、N。
N−ジメチルアニリン、2−、、−)リフルオロメタン
−N、N−ジメチルアニリン、N、N−ジメチルアミノ
−3−フルオロベンゼン、N−メチル−N−エチル−3
−フルオロアニリン、N、N−ジエチル−3−フルオロ
アニリン、N。
N−ジベンジル−3−フルオロアニリン、N−メチル−
N−ベンジル−3−フルオロアニリン、N、N−ジ(4
−クロロフェニルメチル)−3−フルオロアニリン等を
包含する。
N−ベンジル−3−フルオロアニリン、N、N−ジ(4
−クロロフェニルメチル)−3−フルオロアニリン等を
包含する。
スクアリック酸反応物は、1,2−ジヒドロキシ−3,
4−シクロブチンジオールとしても知られている。
4−シクロブチンジオールとしても知られている。
スクアリック酸反応物と第3級アミン反応物の溶液を形
成するためには、約り30℃〜約210℃の沸点を有す
る第1級アルコールを使用しなければならない。この範
囲の沸点を有する典型的なアルコールとしては、ヘプタ
ツール、オクタノール、ノナノール、デカノール;2−
エチル−1−ヘキサノールの如き分岐筒1級アルコール
およびツルトロール(Soltrol ) 130R(
約175〜180℃の沸点を有するC1l〜CI3の分
岐脂肪族炭化水素の混合物でフィリイブス・ケミカルC
o。
成するためには、約り30℃〜約210℃の沸点を有す
る第1級アルコールを使用しなければならない。この範
囲の沸点を有する典型的なアルコールとしては、ヘプタ
ツール、オクタノール、ノナノール、デカノール;2−
エチル−1−ヘキサノールの如き分岐筒1級アルコール
およびツルトロール(Soltrol ) 130R(
約175〜180℃の沸点を有するC1l〜CI3の分
岐脂肪族炭化水素の混合物でフィリイブス・ケミカルC
o。
より入手できる)の如きアルコール混合物を包含する。
ノナノールおよびデカノールの如き高沸点のアルコール
は、それより低沸点のアルコールと混合して、反応に使
用される第3級アミンの沸点よりも低い沸点を有するア
ルコールの存在を保証することができる。1−ヘプタツ
ールと2−エチル−1−ヘキサノールが好ましく、この
アルコールを使用することによって、スクアライン合成
反応を低い競争反応で更に容易にスケールアンプするこ
とができる。反応は、減圧下で行うので水とアルコール
の沸点の差が大である程改良された結果が達成される。
は、それより低沸点のアルコールと混合して、反応に使
用される第3級アミンの沸点よりも低い沸点を有するア
ルコールの存在を保証することができる。1−ヘプタツ
ールと2−エチル−1−ヘキサノールが好ましく、この
アルコールを使用することによって、スクアライン合成
反応を低い競争反応で更に容易にスケールアンプするこ
とができる。反応は、減圧下で行うので水とアルコール
の沸点の差が大である程改良された結果が達成される。
ブタノールからよりもヘプタツールから更に容易により
揮発性の水が分^11する。
揮発性の水が分^11する。
更に、ヘプタツール中の水の溶解度はブタノールよりも
つっと小である。またより大なヘプタツール分子はブタ
ノールよりもジエステルを形成する傾向が低いので副反
応が少ない。ヘプタツールの沸点は176℃である。反
応は、環流中に水/アルコールの除去を伴うので、アル
コールの沸点は、通常は第3級アミンの沸点よりも低く
なければならない。例えばジメチルアニリンの沸点は1
93℃である。しかしながら、アルコールの混合物を使
用する場合には、混合物中のアルコールの少なくとも一
方は、約130 ’c〜約210°Cの沸点を有し且つ
第3級アミンの沸点より低い沸点を有するべきである。
つっと小である。またより大なヘプタツール分子はブタ
ノールよりもジエステルを形成する傾向が低いので副反
応が少ない。ヘプタツールの沸点は176℃である。反
応は、環流中に水/アルコールの除去を伴うので、アル
コールの沸点は、通常は第3級アミンの沸点よりも低く
なければならない。例えばジメチルアニリンの沸点は1
93℃である。しかしながら、アルコールの混合物を使
用する場合には、混合物中のアルコールの少なくとも一
方は、約130 ’c〜約210°Cの沸点を有し且つ
第3級アミンの沸点より低い沸点を有するべきである。
約り30℃〜約210°Cの沸点を有する十分に長い鎖
の脂肪族アルコールを反応混合物中に存在させて、環流
中の所望の圧力と温度を保持するようにするべきである
。約170°C〜約185℃の沸点を有する長鎖脂肪族
アルコールが好ましく、このようなアルコールにより、
高い反応温度で、第3級アミンの沸点を超えることなく
より容易に水を追い出すことができる。第2級アルコー
ルでは収率が低く、また第3級アルコールでは全くいず
れの反応生成物も得ることができない。
の脂肪族アルコールを反応混合物中に存在させて、環流
中の所望の圧力と温度を保持するようにするべきである
。約170°C〜約185℃の沸点を有する長鎖脂肪族
アルコールが好ましく、このようなアルコールにより、
高い反応温度で、第3級アミンの沸点を超えることなく
より容易に水を追い出すことができる。第2級アルコー
ルでは収率が低く、また第3級アルコールでは全くいず
れの反応生成物も得ることができない。
メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール、
1−ブタノール、アミルアルコールの如き低沸点脂肪族
アルコールの如きをアルコール溶剤は、副反応が生じ、
それらのアルコールへの水の溶解度が高く且つ収率が低
いので使用しない。
1−ブタノール、アミルアルコールの如き低沸点脂肪族
アルコールの如きをアルコール溶剤は、副反応が生じ、
それらのアルコールへの水の溶解度が高く且つ収率が低
いので使用しない。
例えば、0.5モル以上の反応ハツチでは、ブタノール
/ベンゼンまたはブタノール/I−)レニン?容媒では
生成物が得られない。
/ベンゼンまたはブタノール/I−)レニン?容媒では
生成物が得られない。
もし必要であれば、反応は、いずれかの適当な強酸を存
在させて行ってもよい。典型的な強酸としては、硫酸、
トリクロル酢酸、ジクロル酢酸、ソユウM、2.2.2
−)リフルオロコニタノール、トルエンスルボン酸等の
如き各種の無機酸および有機酸を包含する。硫酸および
トリクロロ酢酸が好ましい。優れた結果は、約2.85
のpKaでトリクロロ酢酸により得られζいる。一般的
には約3〜4より低いpKaで満足できる結果が得られ
る。
在させて行ってもよい。典型的な強酸としては、硫酸、
トリクロル酢酸、ジクロル酢酸、ソユウM、2.2.2
−)リフルオロコニタノール、トルエンスルボン酸等の
如き各種の無機酸および有機酸を包含する。硫酸および
トリクロロ酢酸が好ましい。優れた結果は、約2.85
のpKaでトリクロロ酢酸により得られζいる。一般的
には約3〜4より低いpKaで満足できる結果が得られ
る。
強酸を使用することによってスクアライン反応生成物の
暗減衰が改良される。
暗減衰が改良される。
反応温度および反応圧力は、比較的広い範囲にわたって
変えることができ、且つ一般的には使用したアルコール
と第3級アミンによって変化する。
変えることができ、且つ一般的には使用したアルコール
と第3級アミンによって変化する。
反応温度および反応圧力は第1級アルコールと第3級ア
ミンが沸とうしないように調整すべきである。使用した
材料によって、一般的に反応温度は約り0℃〜約130
℃に維持され、1つ反応圧力は一般的には約5 Tor
r〜約200 Torrに保持される。従って、例えば
圧力は通常は約75℃で約10Torrに保持され、2
−エチル−1−ヘキ勺ノールを使用した場合は約110
°Cで約43Torrに保持される。
ミンが沸とうしないように調整すべきである。使用した
材料によって、一般的に反応温度は約り0℃〜約130
℃に維持され、1つ反応圧力は一般的には約5 Tor
r〜約200 Torrに保持される。従って、例えば
圧力は通常は約75℃で約10Torrに保持され、2
−エチル−1−ヘキ勺ノールを使用した場合は約110
°Cで約43Torrに保持される。
反応時間は一般的には、使用した反応温度、溶剤および
第3級アミンによって変化する。
第3級アミンによって変化する。
反応は攪拌しながら行い、且つ反応中に生成した水は、
ディーンースタークトラノプの如き装置を使用する慣用
の技術で除去することができる。
ディーンースタークトラノプの如き装置を使用する慣用
の技術で除去することができる。
使用する反応物である第1級アルコールおよび酸の比率
は臨界的でなく、例えば、使用する特定の反応物、圧力
、および反応混合物等の多数のフアクタ−によって変化
する。しかしながら、一般的には、1モルのスクアリッ
ク酸、約1モル〜約1.2モルの各々の第3級アミンお
よび約21〜約12ρの第1級アルコールを用いて、特
にスクア使用することにより満足できる結果が達成でき
る。
は臨界的でなく、例えば、使用する特定の反応物、圧力
、および反応混合物等の多数のフアクタ−によって変化
する。しかしながら、一般的には、1モルのスクアリッ
ク酸、約1モル〜約1.2モルの各々の第3級アミンお
よび約21〜約12ρの第1級アルコールを用いて、特
にスクア使用することにより満足できる結果が達成でき
る。
しかしながら、一定の反応混合物中の異なる第3級アミ
ンが、スクアリック酸に対して著しく異なる反応速度を
有する場合は、反応性の低い第3級アミンの方をより多
い制器で使用する。上述の通り、反応混合物に強酸も添
加することができる。
ンが、スクアリック酸に対して著しく異なる反応速度を
有する場合は、反応性の低い第3級アミンの方をより多
い制器で使用する。上述の通り、反応混合物に強酸も添
加することができる。
例えば、約21〜約xz)iの2−11チル−へiノー
ルを1モルのスクアリック酸に対し、て用いることによ
り優れた結果が達成されている。一般的には、使用する
溶剤の量牽最少として反応完了後に濾別しなければなら
ない溶剤の量を最、少にするのが望ましい。しかしなが
ら、スクアリック酸に対する溶剤の割合を、1モルのス
クアリック酸に対して約21以下の第1級アルコールと
すると、攪拌が更に困難となる。すべての反応物は同時
に加えてもよいし、あるいは順次添加してもよい。
ルを1モルのスクアリック酸に対し、て用いることによ
り優れた結果が達成されている。一般的には、使用する
溶剤の量牽最少として反応完了後に濾別しなければなら
ない溶剤の量を最、少にするのが望ましい。しかしなが
ら、スクアリック酸に対する溶剤の割合を、1モルのス
クアリック酸に対して約21以下の第1級アルコールと
すると、攪拌が更に困難となる。すべての反応物は同時
に加えてもよいし、あるいは順次添加してもよい。
生した生成物は、濾過の如き慣用の技術で反応混合物か
ら分離でき、メタノール、エタノール、アセトン等の如
きいずれが適当な洗浄液で洗浄し、オーブンドライヤー
の如き慣用の手段で乾燥する。
ら分離でき、メタノール、エタノール、アセトン等の如
きいずれが適当な洗浄液で洗浄し、オーブンドライヤー
の如き慣用の手段で乾燥する。
反応生成物は、非対称と対称のスクアラインの両方を含
有しており、これらは融点データ、赤外分析、C,+3
およびプロトン核共鳴、マススペクトロスコピーおよび
可視吸収スペクトロスコピーによって同定した。また、
そ雀ぞれの置換体の元素分析、例えば炭素、水素、窒素
およびフン素置換体の元素分析も行った。分析から得ら
れたデータを、低級アルコール溶剤を用いるス夛アリツ
ク酸反応方法で調製した同一化合物について得られたデ
ータと比較し、またスクアレート反応で調製した同一の
化合物について得られたデータと比較した。反応生成物
中の非対称と対称のスクアラインの比1率は、使用した
各々の第3級アニリン誘導体の種類と相対量によって変
化する。非対称と対称のスクアラインの両方を含有して
いる反応生成物は、混合物として静電写真像形成部材に
使用することができ、また非対称のスクアラインは、他
の反応生成物から分離でき、しがる後静電写真像形成部
材に使用することができる。
有しており、これらは融点データ、赤外分析、C,+3
およびプロトン核共鳴、マススペクトロスコピーおよび
可視吸収スペクトロスコピーによって同定した。また、
そ雀ぞれの置換体の元素分析、例えば炭素、水素、窒素
およびフン素置換体の元素分析も行った。分析から得ら
れたデータを、低級アルコール溶剤を用いるス夛アリツ
ク酸反応方法で調製した同一化合物について得られたデ
ータと比較し、またスクアレート反応で調製した同一の
化合物について得られたデータと比較した。反応生成物
中の非対称と対称のスクアラインの比1率は、使用した
各々の第3級アニリン誘導体の種類と相対量によって変
化する。非対称と対称のスクアラインの両方を含有して
いる反応生成物は、混合物として静電写真像形成部材に
使用することができ、また非対称のスクアラインは、他
の反応生成物から分離でき、しがる後静電写真像形成部
材に使用することができる。
1実施態様の本発明方法では、約1モルのスクアリック
酸、約1′モル〜約o、2モルの第3級アニリン誘導体
、約1.5モル〜約2.3モルの別の第3級アニリン誘
導体および約130 ”C〜約19’ (1”cの沸点
を有する約2β〜約2OA’の第1級アルコールからな
る混合物を形成す□る。この混合物を、連続的に攪拌し
ながら約75・℃〜約110 ”cの温度に加熱し、そ
の□間は圧力を約10 Torr〜約43T6rrに保
持する。反応混合物を冷却し、且つ所望の反応生成物を
反応混合物から濾過して分離する。
酸、約1′モル〜約o、2モルの第3級アニリン誘導体
、約1.5モル〜約2.3モルの別の第3級アニリン誘
導体および約130 ”C〜約19’ (1”cの沸点
を有する約2β〜約2OA’の第1級アルコールからな
る混合物を形成す□る。この混合物を、連続的に攪拌し
ながら約75・℃〜約110 ”cの温度に加熱し、そ
の□間は圧力を約10 Torr〜約43T6rrに保
持する。反応混合物を冷却し、且つ所望の反応生成物を
反応混合物から濾過して分離する。
組られた生成物は、約1マイクロメータ二〜約25マイ
クロメーターの範囲の微゛細な粒子であった。 ・ □ 本発明方法で調製したスクアライン化合物は光導電性物
質とし−で有用である。これらの化合物は1実施態様に
おい・て、支持基体、本発明で調製したスクアライン化
合物からなる光導電層および電荷輸送層から構成される
層状の感光装置に使用することができる。別の実施態様
では、本発明の感光装置は、基体、電荷輸送層、および
本発明方法で調製したスクアライン化合物からなる光導
電層から構成されている。更に別の実施態様では、印刷
システムで有□用である感光装置が調製され、該装置は
、光発生層と正孔輸送層との間に位置した、本発明方法
で調製したスクアライン化合物からなる層から構成され
る。また、スクアライン光導電性41合物は光発生層と
支持基体との間に位置する。
クロメーターの範囲の微゛細な粒子であった。 ・ □ 本発明方法で調製したスクアライン化合物は光導電性物
質とし−で有用である。これらの化合物は1実施態様に
おい・て、支持基体、本発明で調製したスクアライン化
合物からなる光導電層および電荷輸送層から構成される
層状の感光装置に使用することができる。別の実施態様
では、本発明の感光装置は、基体、電荷輸送層、および
本発明方法で調製したスクアライン化合物からなる光導
電層から構成されている。更に別の実施態様では、印刷
システムで有□用である感光装置が調製され、該装置は
、光発生層と正孔輸送層との間に位置した、本発明方法
で調製したスクアライン化合物からなる層から構成され
る。また、スクアライン光導電性41合物は光発生層と
支持基体との間に位置する。
後者の装置では、スクアライン化合物からなる本発明の
光導電層は、スペクトルの赤外および/または可視範囲
における光発生層の固有の性質を強化あるいは低下させ
ることができる。
光導電層は、スペクトルの赤外および/または可視範囲
における光発生層の固有の性質を強化あるいは低下させ
ることができる。
本発明方法で調製したスクアラインを利用した特定の改
良された感光装置は、支持基体、正孔ブロッキング層、
任意の接着界面層、無機光発生層、本発明方法で調製し
たスクアライン材寧4からなる光導電性層および正孔輸
送層から構成される装置上記の感光装置は、いずれの適
当な周知の方法で調製することができ、そのプロセスパ
ラメーターおよび層の被覆の順序は、所望の装置によっ
て変化する。従って例えば、三層構造の感光装置は、支
持載体上光導電層を設け、次いで電荷輸送層を設りるこ
とによって製作することができる。別の方式では、ブロ
ッキング層と任意の接着層とを有する導電性基体を用意
し、その後その上に光導電層を施蓋することによって扇
型の感光装置を調製することができる。本発明の新規な
スクアラインからなる光導電層並びに輸送層は、溶剤被
覆方法、ラミネート方法あるいは他の適当な方法で形成
することができる。
良された感光装置は、支持基体、正孔ブロッキング層、
任意の接着界面層、無機光発生層、本発明方法で調製し
たスクアライン材寧4からなる光導電性層および正孔輸
送層から構成される装置上記の感光装置は、いずれの適
当な周知の方法で調製することができ、そのプロセスパ
ラメーターおよび層の被覆の順序は、所望の装置によっ
て変化する。従って例えば、三層構造の感光装置は、支
持載体上光導電層を設け、次いで電荷輸送層を設りるこ
とによって製作することができる。別の方式では、ブロ
ッキング層と任意の接着層とを有する導電性基体を用意
し、その後その上に光導電層を施蓋することによって扇
型の感光装置を調製することができる。本発明の新規な
スクアラインからなる光導電層並びに輸送層は、溶剤被
覆方法、ラミネート方法あるいは他の適当な方法で形成
することができる。
本発明の改良された感光装置は、従来のゼログラフィー
像形成複写装置およびプリント装置の如き各種の像形成
装置に組込むことができる。更に、無機光発生層、およ
び本発明のスクアラインからなる光導電層を含む本発明
の改良された感光装置は、iiJ視光および/または赤
外線を利用する像形成およびプリント装置で同時に利用
することができる。この実施態様においては、本発明の
改良された感光装置は負に帯電させることができ、順次
にあるいは同時に約400〜約1,000ナノメータの
波長の光に露光し、次いで現像によって像が得られ、こ
の像を紙に転写する。上記の工程は多数回繰返すことが
できる。
像形成複写装置およびプリント装置の如き各種の像形成
装置に組込むことができる。更に、無機光発生層、およ
び本発明のスクアラインからなる光導電層を含む本発明
の改良された感光装置は、iiJ視光および/または赤
外線を利用する像形成およびプリント装置で同時に利用
することができる。この実施態様においては、本発明の
改良された感光装置は負に帯電させることができ、順次
にあるいは同時に約400〜約1,000ナノメータの
波長の光に露光し、次いで現像によって像が得られ、こ
の像を紙に転写する。上記の工程は多数回繰返すことが
できる。
本発明の扇型の感光装置の露光および消去は、活性輻射
線源と光導電層との間のいずれかの介在層の透明度に従
って、装置のいずれかの面あるいは両面から行うことが
できる。
線源と光導電層との間のいずれかの介在層の透明度に従
って、装置のいずれかの面あるいは両面から行うことが
できる。
支持基体と光導電層との間には、電荷輸送層を配置して
もよい。更に詳しく云えば、感光装置は、支持基体、不
活性樹脂バインダー材料中に分散させた正孔輸送材料か
らなる正札輸送層、および本発明の新規なスクアライン
化合物単独あるいはそれを樹脂バイングー材料中に分散
させてなる光導電層から構成することができる。
もよい。更に詳しく云えば、感光装置は、支持基体、不
活性樹脂バインダー材料中に分散させた正孔輸送材料か
らなる正札輸送層、および本発明の新規なスクアライン
化合物単独あるいはそれを樹脂バイングー材料中に分散
させてなる光導電層から構成することができる。
一方、本発明の改良された感光装置゛は、基体、正孔ブ
ロッキング金属酸化物層、任意の接着層、電荷キャリヤ
ーを光発生ずる無機層、本発明の新規なスクアライン化
合物からなる有機光導電性材料層および正札輸送層から
構成することができる。
ロッキング金属酸化物層、任意の接着層、電荷キャリヤ
ーを光発生ずる無機層、本発明の新規なスクアライン化
合物からなる有機光導電性材料層および正札輸送層から
構成することができる。
無機の光発生層、有機の光導電層および正札輸送層は、
一般的には樹脂バインダー材料中に分散される。しかし
て例えば、無機光発生層は、不活性樹脂バインダー中に
分散させた無機の光発生性材料から構成することができ
る。
一般的には樹脂バインダー材料中に分散される。しかし
て例えば、無機光発生層は、不活性樹脂バインダー中に
分散させた無機の光発生性材料から構成することができ
る。
一方、光導電層は、無機光発生層と基体との間に設置さ
せることができる。更に詳しく云え番よ、この実施態様
におりる光導電層は、任意の接着層と無機の光発生層と
の間に設けることができる。
せることができる。更に詳しく云え番よ、この実施態様
におりる光導電層は、任意の接着層と無機の光発生層と
の間に設けることができる。
本発明の1つの好ましい感光装置は、約100オングス
トロームの厚さを有する20%光透過性アルミニウム層
で被覆した約3ミルの厚さを有するマイラーウェブから
なる基体、約20オングストロームの厚さを有する酸化
アルミニウムからなる酸化金属層、約0.05ミクロン
の厚さを有するポリエステル接着層(E、J、デュポン
・デ・ネモアス&CO9から49,000ポリエステル
として入手できる。)、約70重量%の樹脂ノくインダ
ー中に分散させた約30重量%のスクアラインからなり
、約0.5ミクロンの厚さを有する光発生層、およびポ
リカーボネート樹脂バインダー中に分散させた約50重
量%のN、N’−ジフェニル−N。
トロームの厚さを有する20%光透過性アルミニウム層
で被覆した約3ミルの厚さを有するマイラーウェブから
なる基体、約20オングストロームの厚さを有する酸化
アルミニウムからなる酸化金属層、約0.05ミクロン
の厚さを有するポリエステル接着層(E、J、デュポン
・デ・ネモアス&CO9から49,000ポリエステル
として入手できる。)、約70重量%の樹脂ノくインダ
ー中に分散させた約30重量%のスクアラインからなり
、約0.5ミクロンの厚さを有する光発生層、およびポ
リカーボネート樹脂バインダー中に分散させた約50重
量%のN、N’−ジフェニル−N。
N′−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミンからなり、約25ミクロ
ンの厚さを有する正札輸送層から構成することができる
。
ェニル)−4,4’−ジアミンからなり、約25ミクロ
ンの厚さを有する正札輸送層から構成することができる
。
本発明の他の実施態様の感光装置は、20%透過性アル
ミニウムの約100オングストロームの層で被覆した約
3ミルの厚さを有するマイラーウェブからなる基体、約
20オングストロームの厚さを有する酸化アルミニウム
からなる金属酸化物正孔ブロッキング層、約0.05ミ
クロンの厚さを有する任意の接着層(E、J、デュポン
・デ・ネモアス&Co、から49,000ポリエステル
として入手できる。)、フェノキシ樹脂バインダー(ア
ランド・ゲミカル・コーポレーションからポリ (ヒド
ロキシエーテル)ベークライトとして入手できる)中に
分散させた約33容量%の三方晶系セレンからなり、約
0.4ミクロンの厚さを有する光発生層、約70容量%
の樹脂バインダー(モンザント・コンパニーからフオー
ムバーOとして入手できる)中に分散させた、スクアリ
ック酸、ジメチルアニリンおよびN、N−ジメチル−m
−トルイジンの反応生成物であり、非対称のスクアライ
ンを含有する30容量%からなり、約0.5ミクロンの
厚さを有する光導電層、および約50重量%のポリカー
ボネート樹脂バインダー中に分散させた約50重量%の
N、N’−ジフェニル−N。
ミニウムの約100オングストロームの層で被覆した約
3ミルの厚さを有するマイラーウェブからなる基体、約
20オングストロームの厚さを有する酸化アルミニウム
からなる金属酸化物正孔ブロッキング層、約0.05ミ
クロンの厚さを有する任意の接着層(E、J、デュポン
・デ・ネモアス&Co、から49,000ポリエステル
として入手できる。)、フェノキシ樹脂バインダー(ア
ランド・ゲミカル・コーポレーションからポリ (ヒド
ロキシエーテル)ベークライトとして入手できる)中に
分散させた約33容量%の三方晶系セレンからなり、約
0.4ミクロンの厚さを有する光発生層、約70容量%
の樹脂バインダー(モンザント・コンパニーからフオー
ムバーOとして入手できる)中に分散させた、スクアリ
ック酸、ジメチルアニリンおよびN、N−ジメチル−m
−トルイジンの反応生成物であり、非対称のスクアライ
ンを含有する30容量%からなり、約0.5ミクロンの
厚さを有する光導電層、および約50重量%のポリカー
ボネート樹脂バインダー中に分散させた約50重量%の
N、N’−ジフェニル−N。
N′−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミンからなり、約25ミクロ
ンの厚さを有する正孔輸送層から構成されている。
ェニル)−4,4’−ジアミンからなり、約25ミクロ
ンの厚さを有する正孔輸送層から構成されている。
基体層は不透明でも実質的に透明でもよく、必要な機械
的性質を有するいずれか適当な材料でよい。しかして、
この基体は市販されているポリマーであるマイラーの如
き有機または有機のポリマー材料、インジウムスズ酸化
物の如き半導電性表面を有する有機または無機材料の層
、アルミニウムあるいは例えばアルミニウム、クロム、
ニッケル、黄銅等の如き導電性材料から形成することが
できる。基体は、柔軟性でも剛性でもよく、且つ例えば
、プレート、円筒ドラム、スクロール、エンドレスの可
撓性ベルト等適当ないずれの形状でもよい。もし必要で
あれば、基体の表面を、例えば樹脂材料の如きカール防
止層で被覆してもよい。
的性質を有するいずれか適当な材料でよい。しかして、
この基体は市販されているポリマーであるマイラーの如
き有機または有機のポリマー材料、インジウムスズ酸化
物の如き半導電性表面を有する有機または無機材料の層
、アルミニウムあるいは例えばアルミニウム、クロム、
ニッケル、黄銅等の如き導電性材料から形成することが
できる。基体は、柔軟性でも剛性でもよく、且つ例えば
、プレート、円筒ドラム、スクロール、エンドレスの可
撓性ベルト等適当ないずれの形状でもよい。もし必要で
あれば、基体の表面を、例えば樹脂材料の如きカール防
止層で被覆してもよい。
基体層の厚さは特に臨界的ではない。経済的見地の如き
ファクターによって、この基体層は、例えば100ミル
を超える実質的な厚さでよく、また、感光装置の残りの
部分が自己支持性であれば省略してもよい。高速機に対
しては約75ミフロン〜約250ミクロンのベルト厚さ
が満足できる。
ファクターによって、この基体層は、例えば100ミル
を超える実質的な厚さでよく、また、感光装置の残りの
部分が自己支持性であれば省略してもよい。高速機に対
しては約75ミフロン〜約250ミクロンのベルト厚さ
が満足できる。
正孔ブロンキング層は、酸化アルミニウムおよびインジ
ウムスズ酸化物を包含する金属酸化物、ポリビニルブチ
ラール、加水分解した3−アミノプロピルトリエトキシ
シランの如きシラン化合物から誘導したポリマーオリゴ
シラン、金属アセチルアセトネートの如き有機金属化合
物等のいずれか適当な材料から構成することができる。
ウムスズ酸化物を包含する金属酸化物、ポリビニルブチ
ラール、加水分解した3−アミノプロピルトリエトキシ
シランの如きシラン化合物から誘導したポリマーオリゴ
シラン、金属アセチルアセトネートの如き有機金属化合
物等のいずれか適当な材料から構成することができる。
この層の主たる目的は電荷をブロッキングすること、す
なわち、帯電中あるいは帯電後に電荷が基体から注入さ
れるのをi止することである。典型的には、この層は約
50オングストローム以下の厚さを有する。
なわち、帯電中あるいは帯電後に電荷が基体から注入さ
れるのをi止することである。典型的には、この層は約
50オングストローム以下の厚さを有する。
いずれか適当な接着層が使用できる。典型的な接着層と
しては、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルピロリドン等の勿きポリマー材料を包含□する。典
型的には、この層は約0.3ミクロン以下の厚さを有す
る。
しては、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルピロリドン等の勿きポリマー材料を包含□する。典
型的には、この層は約0.3ミクロン以下の厚さを有す
る。
無機光発生層は、可視光に感光性であるいずれか適当な
光導電性電荷キャリヤー発生材料から構成することがで
きる。典型的な無機光発生材料としては、アモルファス
セレン、アモルファスセレン合金、ハロゲンをドープし
たアモルファスセレン、ハロゲンをドープしたアモルフ
ァスセレン合金、三方晶系セレン、三方晶系セレンとア
ルカリ金属セレナイトおよびカーボネートとの混合物、
硫化カドミウム、セレン化カドミウム、テルル化カドミ
ウム、硫化セレン化カドミウム、硫化テルル化カドミウ
ム、セレン化テルル化カドミウム、銅、および塩素をド
ープした硫化カドミウム、セレン化カドミウムおよび硫
化セレン化カドミウム等を包含する。典型的なセレンの
合金としては、セレンテルル合金、セレン砒素合金、セ
レンテルル砒素合金および約50〜約200ppmの量
の塩素の如きハロゲン材料を更に含有する上記の如き合
金を包含する。
光導電性電荷キャリヤー発生材料から構成することがで
きる。典型的な無機光発生材料としては、アモルファス
セレン、アモルファスセレン合金、ハロゲンをドープし
たアモルファスセレン、ハロゲンをドープしたアモルフ
ァスセレン合金、三方晶系セレン、三方晶系セレンとア
ルカリ金属セレナイトおよびカーボネートとの混合物、
硫化カドミウム、セレン化カドミウム、テルル化カドミ
ウム、硫化セレン化カドミウム、硫化テルル化カドミウ
ム、セレン化テルル化カドミウム、銅、および塩素をド
ープした硫化カドミウム、セレン化カドミウムおよび硫
化セレン化カドミウム等を包含する。典型的なセレンの
合金としては、セレンテルル合金、セレン砒素合金、セ
レンテルル砒素合金および約50〜約200ppmの量
の塩素の如きハロゲン材料を更に含有する上記の如き合
金を包含する。
無機光発生層は典型的には、約0.055ミフロン〜1
0ミクロンあるいはそれ以上、好ましくは約0.4ミク
ロン−約3ミクロンの厚さを有する。
0ミクロンあるいはそれ以上、好ましくは約0.4ミク
ロン−約3ミクロンの厚さを有する。
しかしながら、この層の厚さは、光導電性材料の添加容
積(これは約5〜約100容量%の範囲で変化する)に
よって主として変化する。一般的には、この層の1¥さ
は、像形成すなわち印刷露光工程で照射される入射光線
の約90%以トを吸収するのに十分である厚さとするの
が望ましい。この層の最大の厚さは、機械的見地、例え
ば可撓性の感光装置が必要とされるかどうかという如き
物理的ファクターによって主として変化する。
積(これは約5〜約100容量%の範囲で変化する)に
よって主として変化する。一般的には、この層の1¥さ
は、像形成すなわち印刷露光工程で照射される入射光線
の約90%以トを吸収するのに十分である厚さとするの
が望ましい。この層の最大の厚さは、機械的見地、例え
ば可撓性の感光装置が必要とされるかどうかという如き
物理的ファクターによって主として変化する。
本発明の感光装置の非常に重要な層は、本明細書に開示
した新規なスクアライン化合物によって形成される。こ
れらの化合物は一般的には、電荷キャリヤー輸送層と電
気的に両立するものであって、光励起した電荷キャリヤ
ー輸送層中に注入でき、更に電荷キャリヤーが光導電層
と電荷輸送層との間の界面を横断して両方向に移動でき
るものである。
した新規なスクアライン化合物によって形成される。こ
れらの化合物は一般的には、電荷キャリヤー輸送層と電
気的に両立するものであって、光励起した電荷キャリヤ
ー輸送層中に注入でき、更に電荷キャリヤーが光導電層
と電荷輸送層との間の界面を横断して両方向に移動でき
るものである。
一般的には、光導電層の厚さは、他の層の厚さおよびこ
の層中に含有されている光導電性材料の割合等の多数の
ファクターによって変化づ゛る。従って、この層の厚さ
は、本発明の光導電性スクアライン化合物が約5%〜約
100容量%の量で存在する場合は、約0.055ミフ
ロン〜10ミクロンの厚さである。更に好ましくは、ご
の層の厚さは、光導電性スクアライン化合物がこの層中
に約30容量%で存在する場合は、約0.255ミフロ
ン〜1ミクロンの厚さの範囲であるべきである。
の層中に含有されている光導電性材料の割合等の多数の
ファクターによって変化づ゛る。従って、この層の厚さ
は、本発明の光導電性スクアライン化合物が約5%〜約
100容量%の量で存在する場合は、約0.055ミフ
ロン〜10ミクロンの厚さである。更に好ましくは、ご
の層の厚さは、光導電性スクアライン化合物がこの層中
に約30容量%で存在する場合は、約0.255ミフロ
ン〜1ミクロンの厚さの範囲であるべきである。
この層の最高の厚さは、機械的見地、例えば柔軟性のあ
る感光装置が必要とされるが否かの如き物理的要因によ
って主として変化する。
る感光装置が必要とされるが否かの如き物理的要因によ
って主として変化する。
無機光発生材料すなわち光導電性材料は100%のそれ
ぞれの層から形成してもよいし、またこれらの材料は各
種の適当な無機または樹脂ポリマーバインダー材料中に
約5容量%〜約95容量%の量で分散させることができ
る。選択できるポリマーバインダー樹脂の例としては、
例えば米国特許第3,121,006号明細書(この明
細書の開示はすべて参照文献として本明細書に包含され
る)に開示されたものを包含する。典型的なポリマーバ
インダー樹脂材料としてせ、ポリエステル、ポリヒニル
ブチラール、ポリカーボネート樹脂、ポリヒニルカルハ
ゾール、エポキシ樹脂、ポリ (ヒドロキシエーテル)
樹脂等を包含する。
ぞれの層から形成してもよいし、またこれらの材料は各
種の適当な無機または樹脂ポリマーバインダー材料中に
約5容量%〜約95容量%の量で分散させることができ
る。選択できるポリマーバインダー樹脂の例としては、
例えば米国特許第3,121,006号明細書(この明
細書の開示はすべて参照文献として本明細書に包含され
る)に開示されたものを包含する。典型的なポリマーバ
インダー樹脂材料としてせ、ポリエステル、ポリヒニル
ブチラール、ポリカーボネート樹脂、ポリヒニルカルハ
ゾール、エポキシ樹脂、ポリ (ヒドロキシエーテル)
樹脂等を包含する。
電4i+14−ヤリャー輸送層は、電荷キャリヤーを効
果的に輸送できるいずれの適当な材料から形成できる。
果的に輸送できるいずれの適当な材料から形成できる。
ごの層は一般的には、約5ミフロン〜約5ミクロンの範
囲の厚さである。約20ミクロンの厚さが好ましく、よ
り低い移動度のキャリヤー輸送分子を有するそれより薄
い層に比して更に効率的で耐摩耗性である。特に好まし
い実施態様でば、輸送層は、高絶縁性で透明な有機樹脂
バインター中に分散さ一已た下記式のジアミン分子から
なっている。
囲の厚さである。約20ミクロンの厚さが好ましく、よ
り低い移動度のキャリヤー輸送分子を有するそれより薄
い層に比して更に効率的で耐摩耗性である。特に好まし
い実施態様でば、輸送層は、高絶縁性で透明な有機樹脂
バインター中に分散さ一已た下記式のジアミン分子から
なっている。
」二記式中のXはオルソCIh 、メタL、II:l
、パラc113、オルソCβ、メタCρ、パラクロルか
らなる群から選ばれる。少なくとも約1012ohm−
cmの抵抗を有し、過度の暗減衰を防止できる高絶縁性
の樹脂は、光発生層からの正孔の注入を支持できる必要
がなく、且つ単独ではその材料中に上記の正孔を輸送で
きない材料である。しかしながら、これらの樹脂は、そ
の中に下記式に相当する約10〜75重量%の置換基を
有するシアミンを含有すれば、電気的に活性となる。
、パラc113、オルソCβ、メタCρ、パラクロルか
らなる群から選ばれる。少なくとも約1012ohm−
cmの抵抗を有し、過度の暗減衰を防止できる高絶縁性
の樹脂は、光発生層からの正孔の注入を支持できる必要
がなく、且つ単独ではその材料中に上記の正孔を輸送で
きない材料である。しかしながら、これらの樹脂は、そ
の中に下記式に相当する約10〜75重量%の置換基を
有するシアミンを含有すれば、電気的に活性となる。
上記式に相当する化合物としては、例えば、N、N’−
ジフェニル−N、N’−ビス(アルキルフェニル)−(
1,1−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(アルキル
基は、2−メチル、3−メチル、4−メチルの如きメチ
ル基、エチル、プロどル、ブチル、ヘキシル等からなる
群から選ばれる。クロル置換体の場合は、その化合物は
、N。
ジフェニル−N、N’−ビス(アルキルフェニル)−(
1,1−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(アルキル
基は、2−メチル、3−メチル、4−メチルの如きメチ
ル基、エチル、プロどル、ブチル、ヘキシル等からなる
群から選ばれる。クロル置換体の場合は、その化合物は
、N。
N’−−ジフェニル−N、N’−ビス(クロロフェニル
)−(1,1’−ヒフェニル)−4,4’−ジアミン(
クロル原子は2−クロロ、3−クロロまたは4−クロロ
である)である。
)−(1,1’−ヒフェニル)−4,4’−ジアミン(
クロル原子は2−クロロ、3−クロロまたは4−クロロ
である)である。
電気的に不活性な樹脂中に分散して、正孔を輸送できる
層を形成できる他の電気的に活性な小分子としては、例
えば、ビス(4−ジエチルアミン−2−メチルフェニル
)フェニルメタン;4′。
層を形成できる他の電気的に活性な小分子としては、例
えば、ビス(4−ジエチルアミン−2−メチルフェニル
)フェニルメタン;4′。
4″−ヒス(ジメチルアミノ)−2’、2#−ジメチル
トリフェニルメタン;ビス−4−(ジエチルアミノフェ
ニル)フェニルメタンおよび4.4′−ヒス(ジメチル
アミノ)−2,2’−ジメチルトリフェニルメタンを包
含する。本発明の目的が達成される限り、他の適当な電
荷キャリヤー輸送分子も輸送中に用いることができる。
トリフェニルメタン;ビス−4−(ジエチルアミノフェ
ニル)フェニルメタンおよび4.4′−ヒス(ジメチル
アミノ)−2,2’−ジメチルトリフェニルメタンを包
含する。本発明の目的が達成される限り、他の適当な電
荷キャリヤー輸送分子も輸送中に用いることができる。
輸送層用の高絶縁性且つ透明、な樹脂材料すなわち不活
性樹脂埜料の、例としては、米国特許第3.121,0
06号明細書(この明細書の開、示はすべて参照文献と
して本明細書に、包含される)に記載されている如き材
料を包含する。有機樹脂材料の特定の例としては、ポリ
カーボネーI・、アクリレ−1つjd5 +77−13
ユ2.ボ1,7−、ヤ2,0ニュ、J9 +7マー、ポ
リエステル、ポリシロキサン、ポリアミI’、ポリウレ
タン、エポキシ並びにブロック、ランダムまたはそれら
の交互コポリマーを包含する。
性樹脂埜料の、例としては、米国特許第3.121,0
06号明細書(この明細書の開、示はすべて参照文献と
して本明細書に、包含される)に記載されている如き材
料を包含する。有機樹脂材料の特定の例としては、ポリ
カーボネーI・、アクリレ−1つjd5 +77−13
ユ2.ボ1,7−、ヤ2,0ニュ、J9 +7マー、ポ
リエステル、ポリシロキサン、ポリアミI’、ポリウレ
タン、エポキシ並びにブロック、ランダムまたはそれら
の交互コポリマーを包含する。
特に好ましい不活性のバインダー材料は、約20.00
0〜約100,000の分子量(MW) 、その中で特
に好ましいものは約50,000〜約ioo、oooの
範囲の分子量を有するポリカーボネート樹脂である。
0〜約100,000の分子量(MW) 、その中で特
に好ましいものは約50,000〜約ioo、oooの
範囲の分子量を有するポリカーボネート樹脂である。
一般的には、これらの樹脂バインダーは、輸送層の全重
量の約10〜約75重量%の活性輸送材料、更に好まし
くは約35〜約50重量%の活性輸送材料を含有する。
量の約10〜約75重量%の活性輸送材料、更に好まし
くは約35〜約50重量%の活性輸送材料を含有する。
支持基体、正孔輸送層および光導電層からなる三層構造
の装置を参照して更に詳しく説明すると、上記支持基体
は、不透明でも実質的に透明でもよく、また、必要な機
械的性質を有する適当な材料でよい。この基体は、無機
または有機のポリマー材料の如き絶縁材料の層、それら
の上に導電性表面を有する有機率たは無機の材料の層ま
たは例えばアルミ、ニウム、クロム、ニッケル、インジ
ウム、酸化錫、黄銅等の如き導電性材料から構成するこ
とができる。また、酸化アルミニウムの如き公知の正孔
ブロッキング層およびポリエステル樹脂の如き接着材料
の層は、必要に応じて上記の基体上に被覆することがで
きる。基体はフレキシブルでも剛性でもよく、また例え
ば、プレート、円筒ドラム、スクロール、エンドレスベ
ル1等の如きいずれの多くの異なる形状を有してもよい
。好ましくは、この基体は、エンドレスベルトの形状で
ある。ベルI・の形状である場合は、ある場合において
は、選択した基体に接着層の被覆を施蓋させ、次いで酸
化アルミニウムの如き正孔ブロッキング層を形成するの
が望ましい。
の装置を参照して更に詳しく説明すると、上記支持基体
は、不透明でも実質的に透明でもよく、また、必要な機
械的性質を有する適当な材料でよい。この基体は、無機
または有機のポリマー材料の如き絶縁材料の層、それら
の上に導電性表面を有する有機率たは無機の材料の層ま
たは例えばアルミ、ニウム、クロム、ニッケル、インジ
ウム、酸化錫、黄銅等の如き導電性材料から構成するこ
とができる。また、酸化アルミニウムの如き公知の正孔
ブロッキング層およびポリエステル樹脂の如き接着材料
の層は、必要に応じて上記の基体上に被覆することがで
きる。基体はフレキシブルでも剛性でもよく、また例え
ば、プレート、円筒ドラム、スクロール、エンドレスベ
ル1等の如きいずれの多くの異なる形状を有してもよい
。好ましくは、この基体は、エンドレスベルトの形状で
ある。ベルI・の形状である場合は、ある場合において
は、選択した基体に接着層の被覆を施蓋させ、次いで酸
化アルミニウムの如き正孔ブロッキング層を形成するの
が望ましい。
光導電層は、必要に応じて樹脂バインダー組成物中に分
散させた本発明の新規なスクアライン化合物から構成す
ることができる。これらめスクアライン化合物は、電荷
輸送層と電子的に両立するものであり、従って光励起し
た電荷キャリヤー輸送層中に注入されることができ、ま
た電荷輸送層と光発生層との間の界面を横切って両方向
に電荷キャリヤーを移動させることができる。
散させた本発明の新規なスクアライン化合物から構成す
ることができる。これらめスクアライン化合物は、電荷
輸送層と電子的に両立するものであり、従って光励起し
た電荷キャリヤー輸送層中に注入されることができ、ま
た電荷輸送層と光発生層との間の界面を横切って両方向
に電荷キャリヤーを移動させることができる。
本発明の光導電性顔料は、各種の適当□な無機または有
機のバインダー材料の如きバインダー材料中に、約5容
量%〜約95容量%の量で分散させるのが好ましい。キ
ャリヤー発生層は入射光の大きな割合を効果的に吸収す
べきであるので、約25容量%〜約75容量%の量の光
導電性スクアライン顔料が好ましい。また、電荷発生層
中に他のキャリヤー輸送分子が存在しない場合には、電
荷を輸送層に輸送し、その対イオンをそのグラウンド面
に輸送するためには、光発生顔料の粒子が接触している
ことが必要である。使用することができるポリマー樹脂
バインダー材料の例としては、例えば米国特許第3,1
21,006号明細書くこの明細書の開示はすべ”ζ参
照文献として本明細書に包含される)に開示されたもの
を包含する。典型的なポリマー樹脂バインダー利料とし
ては、ポリエステル、ポリビニルブチラール、フオーム
バール(Formvar R) 、ポリカーボネート樹
脂、ポリヒニルカルバゾール、エポキシ樹脂、ポリ (
ヒドロキシエーテル)樹脂とし°ζ市販されているフェ
ノ−キシ樹脂等を包含する。
機のバインダー材料の如きバインダー材料中に、約5容
量%〜約95容量%の量で分散させるのが好ましい。キ
ャリヤー発生層は入射光の大きな割合を効果的に吸収す
べきであるので、約25容量%〜約75容量%の量の光
導電性スクアライン顔料が好ましい。また、電荷発生層
中に他のキャリヤー輸送分子が存在しない場合には、電
荷を輸送層に輸送し、その対イオンをそのグラウンド面
に輸送するためには、光発生顔料の粒子が接触している
ことが必要である。使用することができるポリマー樹脂
バインダー材料の例としては、例えば米国特許第3,1
21,006号明細書くこの明細書の開示はすべ”ζ参
照文献として本明細書に包含される)に開示されたもの
を包含する。典型的なポリマー樹脂バインダー利料とし
ては、ポリエステル、ポリビニルブチラール、フオーム
バール(Formvar R) 、ポリカーボネート樹
脂、ポリヒニルカルバゾール、エポキシ樹脂、ポリ (
ヒドロキシエーテル)樹脂とし°ζ市販されているフェ
ノ−キシ樹脂等を包含する。
本発明の新規なスクアライン化合物を利用した感光装置
により像を形成する方法を本発明の範囲に包含される。
により像を形成する方法を本発明の範囲に包含される。
これらの像形成方法は、一般的には、像形成部材上に静
電潜像を形成する工程、形成された像を現像剤組成物で
現像する工程および現像した像を適当な受容部材に転写
してそこに像を永久的に定着させる工程を包含している
。静電潜像は、均一な静電帯電を行い次いで活性輻射線
に露光するごとによる如きいずれか適当な技術で形成す
ることができる。活性輻射線による露光は、広いスペク
トルの白色光源を用いる慣用の光/レンズの手段あるい
はレーザーやイメージバーの如き他の手段によって行う
ことができる。後の2つの実施態様においては、感光装
置が赤外線に感光性である場合である。
電潜像を形成する工程、形成された像を現像剤組成物で
現像する工程および現像した像を適当な受容部材に転写
してそこに像を永久的に定着させる工程を包含している
。静電潜像は、均一な静電帯電を行い次いで活性輻射線
に露光するごとによる如きいずれか適当な技術で形成す
ることができる。活性輻射線による露光は、広いスペク
トルの白色光源を用いる慣用の光/レンズの手段あるい
はレーザーやイメージバーの如き他の手段によって行う
ことができる。後の2つの実施態様においては、感光装
置が赤外線に感光性である場合である。
次に特定の実施態様を参照して本発明を更に詳細に説明
するが、これらの実施例は単なる例示と解すべきである
。本発明は、本明細書に開示された材料、条件またはプ
ロセスパラメーターに限定されると解すべきではない。
するが、これらの実施例は単なる例示と解すべきである
。本発明は、本明細書に開示された材料、条件またはプ
ロセスパラメーターに限定されると解すべきではない。
すべての部および%は特に断りのない限り、重量基準で
ある。
ある。
実施例1
攪拌機械、温度側およびディーン・スタークトラップを
有するコンデンサーを備えた1、OOOmj!の三ソロ
丸底フラスコ中に5.7gのスクアリック酸(0,05
モル)、12.5gのN、N−ジメチル−3−クロロア
ニリン(0,8モル)および300m1lの2−エチル
−1−ヘキサノールを入れた。
有するコンデンサーを備えた1、OOOmj!の三ソロ
丸底フラスコ中に5.7gのスクアリック酸(0,05
モル)、12.5gのN、N−ジメチル−3−クロロア
ニリン(0,8モル)および300m1lの2−エチル
−1−ヘキサノールを入れた。
コンデンサーの頂部で管に連結しているガス入口を用い
て25Torrの真空をかけた。混合物を攪拌しながら
加熱し、95℃で1時間環流させた。真空を破壊し、8
.5gのN、 N−ジメチル−3−フルオロアニリン(
0,61モル)を緑色溶液に力11工た。再度真空をか
け、12時間反応を続けた。混合物を冷却し、且つ濾過
した。青色の結晶性の顔料をメタノールで洗浄し、50
℃で真空乾燥した。
て25Torrの真空をかけた。混合物を攪拌しながら
加熱し、95℃で1時間環流させた。真空を破壊し、8
.5gのN、 N−ジメチル−3−フルオロアニリン(
0,61モル)を緑色溶液に力11工た。再度真空をか
け、12時間反応を続けた。混合物を冷却し、且つ濾過
した。青色の結晶性の顔料をメタノールで洗浄し、50
℃で真空乾燥した。
収率は8.7gであった。
実施例2
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを有す
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(MVlarR)の上に、3−アミノプロピルトリ
エトキシシランの0.22%(0,001モル)溶液を
アルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布して
シロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空気炉中
で乾燥して200オングストロームの厚さを有する乾燥
被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモアス
&Go、から入手したポリエステル樹脂、すなわちデュ
ポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層にバ
ードアプリケーターで施着させた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(MVlarR)の上に、3−アミノプロピルトリ
エトキシシランの0.22%(0,001モル)溶液を
アルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布して
シロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空気炉中
で乾燥して200オングストロームの厚さを有する乾燥
被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモアス
&Go、から入手したポリエステル樹脂、すなわちデュ
ポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層にバ
ードアプリケーターで施着させた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させて約0.5マイク
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
1の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔料
を約0.15 gのバインダーすなわちマークロロン(
Makrolon” ) ()7/l/へ777ブリソ
ケン・バイエルA、 G、から入手したポリカーボネー
ト樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15%
固型分の混合物を形成した。この混合物を、0.5ミル
のギャップを有するバードアプリケーターにより、上記
のポリエステル樹脂コーティング五に塗布して被覆を形
成した。強制空気炉中で135℃の温度で5分間乾燥後
の乾燥被覆は約0.5マイクロメートルの厚さを有して
いた。
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
1の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔料
を約0.15 gのバインダーすなわちマークロロン(
Makrolon” ) ()7/l/へ777ブリソ
ケン・バイエルA、 G、から入手したポリカーボネー
ト樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15%
固型分の混合物を形成した。この混合物を、0.5ミル
のギャップを有するバードアプリケーターにより、上記
のポリエステル樹脂コーティング五に塗布して被覆を形
成した。強制空気炉中で135℃の温度で5分間乾燥後
の乾燥被覆は約0.5マイクロメートルの厚さを有して
いた。
次にこのスクアライン発生層を15%の固型分くこの固
型分は約50重量%のマークロロン8(ファルベンファ
ブリソヶン・バイエルA、Q。
型分は約50重量%のマークロロン8(ファルベンファ
ブリソヶン・バイエルA、Q。
から入手したポリカーボネート樹脂)中に分散した約5
0重量%のN、N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−
メチルフェニル)−1,x′−ビフェニル−4,4′−
ジアミンを含有している)を含有するメチレンクロライ
ド溶液で被覆し、次いで135℃で5分間乾燥した。こ
の電荷輸送層は乾燥後32ミクロンの厚さを有していた
。得られた被覆された装置を電気的に評価するために約
−i ooo〜−1200ボルトに帯電させたとごろ、
約80ポルト/secの暗減衰を示した。約800ナノ
メ・−ターの波長で10エルグの活性ψM射線に鞘光し
たときの放電率は約70%であった。
0重量%のN、N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−
メチルフェニル)−1,x′−ビフェニル−4,4′−
ジアミンを含有している)を含有するメチレンクロライ
ド溶液で被覆し、次いで135℃で5分間乾燥した。こ
の電荷輸送層は乾燥後32ミクロンの厚さを有していた
。得られた被覆された装置を電気的に評価するために約
−i ooo〜−1200ボルトに帯電させたとごろ、
約80ポルト/secの暗減衰を示した。約800ナノ
メ・−ターの波長で10エルグの活性ψM射線に鞘光し
たときの放電率は約70%であった。
実施例3
攪拌機械、温度d1およびディーンー・スタークトラン
プを有するコンデンサーを備えたL 000ml!の三
ソロ丸底フラスコ中に11.4gのスクアリノり酸(0
,1モル)、33gのN、N−ジメチル−3−クロロア
ニリン(0,24モル)および400m1lの2−エチ
ル−1−ヘキサノールを入れた。
プを有するコンデンサーを備えたL 000ml!の三
ソロ丸底フラスコ中に11.4gのスクアリノり酸(0
,1モル)、33gのN、N−ジメチル−3−クロロア
ニリン(0,24モル)および400m1lの2−エチ
ル−1−ヘキサノールを入れた。
コンデンサーの頂部で管に連結しているガス入口を用い
て36Torrの真空をかけた。混合物を撹拌しながら
加熱し、100℃で1時間環流させた。
て36Torrの真空をかけた。混合物を撹拌しながら
加熱し、100℃で1時間環流させた。
反応中に生じた水分をディーン・スタークトランプ中に
集めた。20時間後、混合物を冷却し、且つ濾過した。
集めた。20時間後、混合物を冷却し、且つ濾過した。
青色の結晶性の顔料をメタノールで洗浄し、50℃で真
空乾燥した。収率は23g(59%)であった。
空乾燥した。収率は23g(59%)であった。
実施例4
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを有す
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(MVlar R)の上に、3−アミノプロピルト
リエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶液
をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布し
てシロキサン層を形成した。施蓋した被膜を強制空気炉
中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する乾
燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモア
ス&Co、から入手したポリエステル樹脂、すなわちデ
ュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層に
バードアプリケーターで施蓋させた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(MVlar R)の上に、3−アミノプロピルト
リエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶液
をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布し
てシロキサン層を形成した。施蓋した被膜を強制空気炉
中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する乾
燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモア
ス&Co、から入手したポリエステル樹脂、すなわちデ
ュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層に
バードアプリケーターで施蓋させた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させて約0.5マイク
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
3の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔料
を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロロ
ン(Makrolon” ) (ファルヘンファブリッ
ケン・バイエルA、 G’、から入手したポリカーボネ
ート樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15
%固型分の混合物を形成した。
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
3の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔料
を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロロ
ン(Makrolon” ) (ファルヘンファブリッ
ケン・バイエルA、 G’、から入手したポリカーボネ
ート樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15
%固型分の混合物を形成した。
この混合物を、0.5ミルのギャップを有するハードア
プリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で13
5℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マイク
ロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアライン
発生層を、50重量%のマークロロン8 (ファルベン
ファブリソケンバイエルA、 G、から入手したポリカ
ーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、N−
ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル)−
1,4,’−瞬フェニルー4,4′−ジアミンを含有し
ている電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥後
32ミクロンの厚さを有していた。
プリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で13
5℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マイク
ロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアライン
発生層を、50重量%のマークロロン8 (ファルベン
ファブリソケンバイエルA、 G、から入手したポリカ
ーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、N−
ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル)−
1,4,’−瞬フェニルー4,4′−ジアミンを含有し
ている電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥後
32ミクロンの厚さを有していた。
得られた婢覆された装置を電気的に評価するために約−
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約5
00ポルトイsecの暗減衰を示した。
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約5
00ポルトイsecの暗減衰を示した。
この暗減衰は一男ぎて感衰性の測定は不能であった。
実施例5
攪拌機械、温度材およびディーン・スタークトラップを
有するコンデンサーを備えた1、000mj!の三ソロ
丸底フ?スコ中に5.7gのスクアリック酸(0,05
モル) 、:’、t 、2.8 gのN、N−ジメチル
アニリ7 (0,106モル) 、2.5 g(7)N
、 N −’;メチルーm−トルイジン(0,019−
[フル)および300m6の2−エチル−1−ヘキサノ
ールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連結している
ガス入口を用いて20Torrの真空をかけた。混合物
を撹拌しながら加熱し、90 ”Cで1時間環流させた
。反応中に生じた水分は、ディーン・スタークトランプ
中に集めた。再度真空をかけ、12時間反応を続けた。
有するコンデンサーを備えた1、000mj!の三ソロ
丸底フ?スコ中に5.7gのスクアリック酸(0,05
モル) 、:’、t 、2.8 gのN、N−ジメチル
アニリ7 (0,106モル) 、2.5 g(7)N
、 N −’;メチルーm−トルイジン(0,019−
[フル)および300m6の2−エチル−1−ヘキサノ
ールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連結している
ガス入口を用いて20Torrの真空をかけた。混合物
を撹拌しながら加熱し、90 ”Cで1時間環流させた
。反応中に生じた水分は、ディーン・スタークトランプ
中に集めた。再度真空をかけ、12時間反応を続けた。
24時間後混合物を冷却し、且つ濾過した。青色の結晶
性の顔料をメタノールで洗浄し、50℃で真空乾燥した
。収率は13゜1gであった。
性の顔料をメタノールで洗浄し、50℃で真空乾燥した
。収率は13゜1gであった。
実施例6
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを有す
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の上に、3−アミノプロピル
トリエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶
液をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布
してシロキサン層を形成した。施蓋した被膜を強制空気
炉中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する
乾燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモ
アス&Go、から入手したポリエステル樹脂、すなわち
デュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層
にバードアプリケーターで施蓋させた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の上に、3−アミノプロピル
トリエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶
液をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布
してシロキサン層を形成した。施蓋した被膜を強制空気
炉中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する
乾燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモ
アス&Go、から入手したポリエステル樹脂、すなわち
デュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層
にバードアプリケーターで施蓋させた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させて約0.5マイク
ロメーターの厚さを存するフィルムを形成した。実施例
5の約0.075gの青色の結晶性スクアライン顔料を
、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロロン
(MakrolonR) (ファルヘンファブリノケン
・バイエルA、 G、から入手したボリカーボ不−I・
樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、】5%固
型分の混合物を形成した。
ロメーターの厚さを存するフィルムを形成した。実施例
5の約0.075gの青色の結晶性スクアライン顔料を
、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロロン
(MakrolonR) (ファルヘンファブリノケン
・バイエルA、 G、から入手したボリカーボ不−I・
樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、】5%固
型分の混合物を形成した。
この混合物を、0.5ミルのギヤ・ノブを有するノ\−
トアプリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コー
ティング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で
135℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マ
イクロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアラ
イン発生層を、50重量%のマークロロンll(ファル
ヘンフアプリ・ノケン・バイエルA、 G、から入手し
たポリカーボネート樹脂)中に分散した約50重量%の
N、N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェ
ニル)−1,ビービフェニル−4,4′−ジアミンを含
有している電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾
燥後32ミクロンのIIさを有して0た。
トアプリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コー
ティング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で
135℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マ
イクロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアラ
イン発生層を、50重量%のマークロロンll(ファル
ヘンフアプリ・ノケン・バイエルA、 G、から入手し
たポリカーボネート樹脂)中に分散した約50重量%の
N、N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェ
ニル)−1,ビービフェニル−4,4′−ジアミンを含
有している電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾
燥後32ミクロンのIIさを有して0た。
得られた被覆された装置を電気的に評価するためニ約−
100o〜−1200ボルトに帯電させたところ、約1
20ポル)/secの暗減衰を示した。
100o〜−1200ボルトに帯電させたところ、約1
20ポル)/secの暗減衰を示した。
約800ナノメーターの波長で10エルグの活性輻射線
に露光した時の放電率は約55%であった。
に露光した時の放電率は約55%であった。
実施例7
攪拌機械、温度計およびディーン・スタークトラップを
有するコンデンサーを備えたl、000mβの三ソロ丸
底フラスコ中に5.7gのスフアリ・ツク酸(0,05
モル)、11.4gのN、N−ジメチールアニリン(0
,093モル)、4.2gのN、 N−ジメチル−m−
トルイジン(0,0313モル)および2−エチル−1
−ヘキサノールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連
結しているガス入口を用いて2QTorrの真空をかけ
た。混合物を攪拌しながら加熱し、90℃で1時間環流
させた。反)a> V4’に生じた水分は、ディーン・
スターク1−ラ・ノブ1」に集めた。再度真空をかけ、
12時間反応を続(Jた。24時間後混合物を冷却し、
且つ濾過した。
有するコンデンサーを備えたl、000mβの三ソロ丸
底フラスコ中に5.7gのスフアリ・ツク酸(0,05
モル)、11.4gのN、N−ジメチールアニリン(0
,093モル)、4.2gのN、 N−ジメチル−m−
トルイジン(0,0313モル)および2−エチル−1
−ヘキサノールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連
結しているガス入口を用いて2QTorrの真空をかけ
た。混合物を攪拌しながら加熱し、90℃で1時間環流
させた。反)a> V4’に生じた水分は、ディーン・
スターク1−ラ・ノブ1」に集めた。再度真空をかけ、
12時間反応を続(Jた。24時間後混合物を冷却し、
且つ濾過した。
青色の結晶性の顔料をメタノールで洗浄し、50°Cで
真空乾燥した。収率ば13.6gであった。
真空乾燥した。収率ば13.6gであった。
実施例日
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを有す
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar R)の上に、3−アミノプロピルト
リエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶液
をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布し
てシロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空気炉
中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する乾
燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモア
ス&Co、から入手したポリエステル樹脂、ずなわらデ
j、ボン49000の被覆を、」二記の乾燥したシラン
層にハードアプリケーターで施着させた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar R)の上に、3−アミノプロピルト
リエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶液
をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布し
てシロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空気炉
中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する乾
燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモア
ス&Co、から入手したポリエステル樹脂、ずなわらデ
j、ボン49000の被覆を、」二記の乾燥したシラン
層にハードアプリケーターで施着させた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させ“ζ約0.5マイ
クロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施
例7の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロ
ロン(Makrolon” ) (ファルヘンファブリ
ソケン・バイエルA、 G、から入手したポリカーボネ
ート樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15
%固型分の混合物を形成した。
クロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施
例7の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロ
ロン(Makrolon” ) (ファルヘンファブリ
ソケン・バイエルA、 G、から入手したポリカーボネ
ート樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15
%固型分の混合物を形成した。
この混合物を、0.5ミルのギャップを有するハードア
プリゲータ−により、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で13
5℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マイク
ロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアライン
発生層を、50重量%のマークロロンR(ファルヘンフ
ァフリノゲン・バイエルA、 G、から入手したポリカ
ーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、 N
−ジフェニル−N、N’−ヒス(3−メチルフェニル)
−1,1’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを含有し
ている電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥後
32ミクロンの厚さを有していた。
プリゲータ−により、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で13
5℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マイク
ロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアライン
発生層を、50重量%のマークロロンR(ファルヘンフ
ァフリノゲン・バイエルA、 G、から入手したポリカ
ーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、 N
−ジフェニル−N、N’−ヒス(3−メチルフェニル)
−1,1’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを含有し
ている電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥後
32ミクロンの厚さを有していた。
得られた被覆された装置を電気的に評価するために約−
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約1
20ボルト/secの暗減衰を示した。
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約1
20ボルト/secの暗減衰を示した。
約800ナノメーターの波長で10エルグの活性輻射線
に9■光した時の放電率は約68%であった。
に9■光した時の放電率は約68%であった。
実施例9
攪拌機械、温度B」およびディーツ・スターク1−ラン
プを有するコンデンサーを備えたi、 o o o用l
の三ツロ丸底フラスコ中に5.7gのスク了り・ツク酸
(0,05モル)、7.6gのN、N−ジメチルアニリ
ン(0,0625モル)、8.4gのN、 N−ジメチ
ル−m−)ルイジンおよび300mlの2−エチル−1
−ヘキサノールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連
結しているガス入口を用し)て20Torrの真空をか
けた。混合物を攪拌しながら加熱し、90°Cで1時間
環流させた。反応中に生じた水分は、ディーツ・スター
クトラ・ノブ中に集めた。再度真空をかけ、12時間反
応を続けた。
プを有するコンデンサーを備えたi、 o o o用l
の三ツロ丸底フラスコ中に5.7gのスク了り・ツク酸
(0,05モル)、7.6gのN、N−ジメチルアニリ
ン(0,0625モル)、8.4gのN、 N−ジメチ
ル−m−)ルイジンおよび300mlの2−エチル−1
−ヘキサノールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連
結しているガス入口を用し)て20Torrの真空をか
けた。混合物を攪拌しながら加熱し、90°Cで1時間
環流させた。反応中に生じた水分は、ディーツ・スター
クトラ・ノブ中に集めた。再度真空をかけ、12時間反
応を続けた。
20時間後混合物を冷却し、且つ濾過した。青色の結晶
性の顔料をメタノールで洗浄し、50℃で真゛空乾燥し
た。収率は13.8gであった。
性の顔料をメタノールで洗浄し、50℃で真゛空乾燥し
た。収率は13.8gであった。
実施例1O
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを有す
るアルミニウム化ポリエステルフィルムすなわちマイラ
ー(Mylar R)の上に、3−アミノプロピルトリ
エトキシシランの0.22%(0.001モル)i液を
アルミニウム層にノル−ドアプリケータ−により塗布し
てシロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空気か
中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する乾
燥被膜を形成した。次にE.1.デュポン・デ・ネ1ア
ス&Co.から入手したポリエステル樹脂、すなわちデ
ュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層に
バードアプリケーターで施着させた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルムすなわちマイラ
ー(Mylar R)の上に、3−アミノプロピルトリ
エトキシシランの0.22%(0.001モル)i液を
アルミニウム層にノル−ドアプリケータ−により塗布し
てシロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空気か
中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する乾
燥被膜を形成した。次にE.1.デュポン・デ・ネ1ア
ス&Co.から入手したポリエステル樹脂、すなわちデ
ュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層に
バードアプリケーターで施着させた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させ一C約0.5マイ
クロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施
例9の約0. 0 7 、5 gの青色の結晶性スクア
ライン顔料を、約0. 1 5 gのノーインダー、す
なわちマークロロン(Makrolon” > (ファ
ルヘンファブリッケン・バイエルA.G.から入手した
ポリカーボネート樹脂)およびメチレンクロライF中で
混合肱15%固型分の混合物を形成した。
クロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施
例9の約0. 0 7 、5 gの青色の結晶性スクア
ライン顔料を、約0. 1 5 gのノーインダー、す
なわちマークロロン(Makrolon” > (ファ
ルヘンファブリッケン・バイエルA.G.から入手した
ポリカーボネート樹脂)およびメチレンクロライF中で
混合肱15%固型分の混合物を形成した。
この混合物を、0.5ミルのギヤ・7プを有するノ1−
ドアプリケータ−により、上記のポリエステル樹脂コー
ティング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で
135℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マ
イクロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアラ
イン発生層を、50重量%ツマ−クロロンj′(フアル
ペンファフリノ)f7・バイエルA. G、から入手し
たポリカーボネート樹脂)中に分散した約50重量%の
N,N−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェ
ニル)−t.t’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを
含有している電゛荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層
は乾燥後32ミクロンの厚さを有していた。
ドアプリケータ−により、上記のポリエステル樹脂コー
ティング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で
135℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マ
イクロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアラ
イン発生層を、50重量%ツマ−クロロンj′(フアル
ペンファフリノ)f7・バイエルA. G、から入手し
たポリカーボネート樹脂)中に分散した約50重量%の
N,N−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェ
ニル)−t.t’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを
含有している電゛荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層
は乾燥後32ミクロンの厚さを有していた。
得られた被覆された装置を電気的に評価するために約−
1000〜−1200ボルトに帯電さゼたところ、約′
20ボルト7’secの暗減衰を示□した。
1000〜−1200ボルトに帯電さゼたところ、約′
20ボルト7’secの暗減衰を示□した。
約800ナノメーターの波長で10エルグの活性輻射線
に露光した時の放電率は約45%であった。
に露光した時の放電率は約45%であった。
実施例11
攪拌機械、温度針およびディーツ・スタークトランプを
有するコンデンサーを備えた1,000mj+の三ソロ
丸底フラスコ中に5,7gのスクアリック#(0.05
モル)、12.5gのN,N−ジメチルアニリン(0.
103モル)、5gのN,N−ジメチル−2−フルオロ
アニリン(0.036モル)および300IIllの1
−ヘプタツールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連
結しているガス入口を用いて20Torrの真空をかけ
た。混合物を攪拌しながら加熱し、90℃で1時間環流
させた。反応中に生じた水分は、ディーツ・スタークト
ラップ中に集めた。再度真空をかけ、12時間反応を続
けた。20時間後混合物を冷却し、且つ濾過した。
有するコンデンサーを備えた1,000mj+の三ソロ
丸底フラスコ中に5,7gのスクアリック#(0.05
モル)、12.5gのN,N−ジメチルアニリン(0.
103モル)、5gのN,N−ジメチル−2−フルオロ
アニリン(0.036モル)および300IIllの1
−ヘプタツールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連
結しているガス入口を用いて20Torrの真空をかけ
た。混合物を攪拌しながら加熱し、90℃で1時間環流
させた。反応中に生じた水分は、ディーツ・スタークト
ラップ中に集めた。再度真空をかけ、12時間反応を続
けた。20時間後混合物を冷却し、且つ濾過した。
青色の結晶性の顔料をメタノールで洗浄し、50℃で真
空乾燥した。収率は1 0. 4 gであった。
空乾燥した。収率は1 0. 4 gであった。
実施例12
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを有す
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の−Eに、3−アミノプロピ
ルトリエトキシシランの0.22%(0.001モル)
溶液をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗
布してシロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空
気炉中で乾燥し“ζ200オングストロームの厚さを有
する乾燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・
ネモアス&Co、から入手したポリエステル樹脂、ずな
わらデュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラ
ン層にバードアプリケーターで旋層さ−lた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の−Eに、3−アミノプロピ
ルトリエトキシシランの0.22%(0.001モル)
溶液をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗
布してシロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空
気炉中で乾燥し“ζ200オングストロームの厚さを有
する乾燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・
ネモアス&Co、から入手したポリエステル樹脂、ずな
わらデュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラ
ン層にバードアプリケーターで旋層さ−lた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させて約0.5マイク
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
11の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロ
ロン(MakrolonR) (ファルヘンファブリソ
ケン・バイエルA、 G、から入手したポリカーボネー
ト樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15%
固型分の混合物を形成した。
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
11の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロ
ロン(MakrolonR) (ファルヘンファブリソ
ケン・バイエルA、 G、から入手したポリカーボネー
ト樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15%
固型分の混合物を形成した。
この混合物を、0.5ミルのギャップを有するハート′
アプリゲータ−により、上記のポリエステル樹脂コーテ
ィング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で1
35℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆はPjo、5マ
イクロメートルの1¥さを有していた。次にこのスクア
ライン発生層を、50重量%のマークロロンR(フアル
ペンファブリソケン・バイエルA、G、から入手したポ
リカーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、
N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル
)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミンを含有
している電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥
後32ミクロンの厚さを有していた。
アプリゲータ−により、上記のポリエステル樹脂コーテ
ィング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で1
35℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆はPjo、5マ
イクロメートルの1¥さを有していた。次にこのスクア
ライン発生層を、50重量%のマークロロンR(フアル
ペンファブリソケン・バイエルA、G、から入手したポ
リカーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、
N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル
)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミンを含有
している電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥
後32ミクロンの厚さを有していた。
得られた被覆された装置を電気的に評価するために約−
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約1
20ボルト/seeの暗減衰を示した。
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約1
20ボルト/seeの暗減衰を示した。
約800ナノメーターの波長でIOエルグの活性輻射線
に露光した時の放電率は約55%であった。
に露光した時の放電率は約55%であった。
実施例13
攪拌機械、温度計およびディーン・スタークトラップを
有するコンデンサーを備えた1、000m1の三ソロ丸
底フラスコ中に5.7gのスクアリック酸(0,05モ
ル)、7gのN、N−ジメチル−2−フルオロアニリン
(0,05モル)および300mAの1−ヘプタツール
を入れた。コンデンサーの頂部で管に連結しているガス
入口を用いて25Torrの真空をかけた。混合物を撹
拌しながら加熱し、95℃で1時間環流させた。45分
後真空を破壊し、14gのN、 N−ジメチル−3−フ
ルオロアニリン(0,089モル)を緑色の溶液に加え
た。再度真空をかけ、反応混合物を撹拌しながら加熱し
、18時間環流させた。混合物を冷却し、且つ濾過した
。青色の結晶性の顔料をメタノールで洗浄し、50℃で
真空乾燥した。収率は4.9gであった。
有するコンデンサーを備えた1、000m1の三ソロ丸
底フラスコ中に5.7gのスクアリック酸(0,05モ
ル)、7gのN、N−ジメチル−2−フルオロアニリン
(0,05モル)および300mAの1−ヘプタツール
を入れた。コンデンサーの頂部で管に連結しているガス
入口を用いて25Torrの真空をかけた。混合物を撹
拌しながら加熱し、95℃で1時間環流させた。45分
後真空を破壊し、14gのN、 N−ジメチル−3−フ
ルオロアニリン(0,089モル)を緑色の溶液に加え
た。再度真空をかけ、反応混合物を撹拌しながら加熱し
、18時間環流させた。混合物を冷却し、且つ濾過した
。青色の結晶性の顔料をメタノールで洗浄し、50℃で
真空乾燥した。収率は4.9gであった。
実施例14
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを存す
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の上に、3−アミノプロピル
トリエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶
液をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布
してシロキサン層を形成した。旋層した被膜を強制空気
炉中で乾燥し°C200オングストロームの厚さを有す
る乾燥被膜を形成した。次にB、1.デュポン・デ・ネ
モアス&Co、から入手したポリエステル樹脂、すなゎ
らデュポン49000の被覆を、」二記の乾燥したシラ
ン層にバードアプリケーターで旋層させた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の上に、3−アミノプロピル
トリエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶
液をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布
してシロキサン層を形成した。旋層した被膜を強制空気
炉中で乾燥し°C200オングストロームの厚さを有す
る乾燥被膜を形成した。次にB、1.デュポン・デ・ネ
モアス&Co、から入手したポリエステル樹脂、すなゎ
らデュポン49000の被覆を、」二記の乾燥したシラ
ン層にバードアプリケーターで旋層させた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させて約0.5マイク
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
13の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、ずなわらマークロ
ロン(MakrolonR) (ファルヘンファブリソ
ヶン・バイエルA’、G、がら入手したホ+)カーホネ
ート樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15
%固型分の混合物を形成した。
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
13の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、ずなわらマークロ
ロン(MakrolonR) (ファルヘンファブリソ
ヶン・バイエルA’、G、がら入手したホ+)カーホネ
ート樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15
%固型分の混合物を形成した。
この混合物を、0.5ミルのギャップを有するバードア
プリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で13
5℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マイク
ロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアライン
発生層を、50重景%のマークロロンR(ファルヘンフ
ァプリソヶン・バイエルA、 G、から入手したポリカ
ーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、 N
−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル)
−1,1’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを含有し
ている電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥1
!132ミクロンの厚さを有していた。
プリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で13
5℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マイク
ロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアライン
発生層を、50重景%のマークロロンR(ファルヘンフ
ァプリソヶン・バイエルA、 G、から入手したポリカ
ーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、 N
−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル)
−1,1’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを含有し
ている電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥1
!132ミクロンの厚さを有していた。
得られた被覆された装置を電気的に評価するために約−
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約1
60ポルl−/secの暗減衰を示した。
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約1
60ポルl−/secの暗減衰を示した。
約800ナノメーターの波長で10エルグの活性輻射線
に露光した時の放電率は約65%であった。
に露光した時の放電率は約65%であった。
実施例15
攪拌機械、温度計およびディーン・スタークトラップを
有するコンデンサーを備えた1、 000m6の三ソロ
丸底フラスコ中に28.5 gのスクアリック酸(0,
25モル)、77gのN、N−ジメチル−m−トルイジ
ン(0,57モル)および1250mj!の1−ヘプタ
ツールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連結してい
るガス入口を用いて47Torrの真空をかけた。混合
物を攪拌しながら加熱し、10.5℃で1時間環流させ
た。反応中に生また水分は、ディーン・スタークトラッ
プ中に集めた。7時間後、混合物を冷却し、且つ濾過し
た。
有するコンデンサーを備えた1、 000m6の三ソロ
丸底フラスコ中に28.5 gのスクアリック酸(0,
25モル)、77gのN、N−ジメチル−m−トルイジ
ン(0,57モル)および1250mj!の1−ヘプタ
ツールを入れた。コンデンサーの頂部で管に連結してい
るガス入口を用いて47Torrの真空をかけた。混合
物を攪拌しながら加熱し、10.5℃で1時間環流させ
た。反応中に生また水分は、ディーン・スタークトラッ
プ中に集めた。7時間後、混合物を冷却し、且つ濾過し
た。
青色の結晶性の顔料、をメタノールで洗浄し、50℃で
真空乾燥した。収率は54g(64%)であった。
真空乾燥した。収率は54g(64%)であった。
実施例16
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを有す
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の上に、3−アミノプロピル
トリエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶
液をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布
してシロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空気
炉中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する
乾燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモ
アス&Co、から入手したポリエステル樹脂、すなわち
デュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層
にバードアプリケーターで施着させた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の上に、3−アミノプロピル
トリエトキシシランの0.22%(0,001モル)溶
液をアルミニウム層にバードアプリケーターにより塗布
してシロキサン層を形成した。施着した被膜を強制空気
炉中で乾燥して200オングストロームの厚さを有する
乾燥被膜を形成した。次にE、1.デュポン・デ・ネモ
アス&Co、から入手したポリエステル樹脂、すなわち
デュポン49000の被覆を、上記の乾燥したシラン層
にバードアプリケーターで施着させた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させて約0.5マイク
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
15の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロ
ロン(Makrolon” ) (フプルヘンファブリ
ソケン・バイエルA、G、から入手したポリカーボネー
ト樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15%
固型分の混合物を形成した。
ロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施例
15の約0.075 gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロ
ロン(Makrolon” ) (フプルヘンファブリ
ソケン・バイエルA、G、から入手したポリカーボネー
ト樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15%
固型分の混合物を形成した。
この混合物を、0.5ミルのギャップを有するバードア
プリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被Jlt−形成した。強制空気炉中で
135℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マ
イクロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアラ
イン発生層を、50重量%のマークロロンR(ファルヘ
ンフ1ブリソケン・バイエルA、 G、から入手したボ
リカーポネー;・樹脂)中に分散した約50重量%のN
、 N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェ
ニル)−1,1’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを
含有している電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は
乾燥後32ミクロンの厚さを有していた。
プリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被Jlt−形成した。強制空気炉中で
135℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マ
イクロメートルの厚さを有していた。次にこのスクアラ
イン発生層を、50重量%のマークロロンR(ファルヘ
ンフ1ブリソケン・バイエルA、 G、から入手したボ
リカーポネー;・樹脂)中に分散した約50重量%のN
、 N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェ
ニル)−1,1’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを
含有している電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は
乾燥後32ミクロンの厚さを有していた。
得られた被覆された装置を電気的に評価するために約−
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約4
0ボルト/secの暗減衰を示した。
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約4
0ボルト/secの暗減衰を示した。
約800ナノメーターの波長でIOエルグの活性輻射線
に露光した時の放電率は約25%であった。
に露光した時の放電率は約25%であった。
この対照の実施例は、実施例7の非対称スクアライン反
応生成物の改良された感度を明らかに示している。
応生成物の改良された感度を明らかに示している。
実施例17
攪拌機械、温度計およびディーン・スタークトラップを
有するコンデンサーを備えた5Ilの三ソロ丸底フラス
コ中に114gのスクアリック酸(1,0モル)、28
0gのN、N−ジメチルアニリ7(2,3−1:/l/
)および2500nl(7)1−ヘキサノールを入れた
。コンデンサーの頂部で管に連結しているガス入口を用
いて100Torrの真空をかけた。混合物を攪拌しな
がら加熱し、125℃で環流させた。反応中に生じた水
分は、ディーン・スタークトラップ中に集めた。12時
間後、混合物を冷却し、且つ濾過した。青色の結晶性の
顔料をメタノールで洗浄し、50’cで真空乾燥した。
有するコンデンサーを備えた5Ilの三ソロ丸底フラス
コ中に114gのスクアリック酸(1,0モル)、28
0gのN、N−ジメチルアニリ7(2,3−1:/l/
)および2500nl(7)1−ヘキサノールを入れた
。コンデンサーの頂部で管に連結しているガス入口を用
いて100Torrの真空をかけた。混合物を攪拌しな
がら加熱し、125℃で環流させた。反応中に生じた水
分は、ディーン・スタークトラップ中に集めた。12時
間後、混合物を冷却し、且つ濾過した。青色の結晶性の
顔料をメタノールで洗浄し、50’cで真空乾燥した。
収率は128g(40%)であった。
実施例18
アルミニウムが約150オングストロームの厚さを有す
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の」二に、3−アミツブL1
ピルトリエ1〜キシシランの0.22%(0,001モ
ル)?容?夜をアルミニウム層にハードアプリゲータ−
により塗布してシロキーIJン層を形成した。施着した
被膜を強制空気炉中で乾燥して2 (10オンクストロ
ームの厚さを有する乾燥被nりを形成した。次に1′2
..1.デュポン・デ・ネモアス&Co、から入手した
ポリエステル樹脂、すなわちデュポン49000の被覆
を、上記の乾燥したシラン層Gこハードアプリケーター
で施着させた。
るアルミニウム化ポリエステルフィルム、すなわちマイ
ラー(Mylar ” )の」二に、3−アミツブL1
ピルトリエ1〜キシシランの0.22%(0,001モ
ル)?容?夜をアルミニウム層にハードアプリゲータ−
により塗布してシロキーIJン層を形成した。施着した
被膜を強制空気炉中で乾燥して2 (10オンクストロ
ームの厚さを有する乾燥被nりを形成した。次に1′2
..1.デュポン・デ・ネモアス&Co、から入手した
ポリエステル樹脂、すなわちデュポン49000の被覆
を、上記の乾燥したシラン層Gこハードアプリケーター
で施着させた。
このポリエステル樹脂被覆を乾燥させて約0.5マーイ
クロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施
例12の約0.075gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロ
ロン(Makrolonl+) (ファルヘンファブリ
ソケン・バイエルA、G、から入手したポリカーボネ−
1・樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15
%固型分の混合物を形成した。
クロメーターの厚さを有するフィルムを形成した。実施
例12の約0.075gの青色の結晶性スクアライン顔
料を、約0.15 gのバインダー、すなわちマークロ
ロン(Makrolonl+) (ファルヘンファブリ
ソケン・バイエルA、G、から入手したポリカーボネ−
1・樹脂)およびメチレンクロライド中で混合し、15
%固型分の混合物を形成した。
この混合物を、0.5ミルのギャップを有するバードア
プリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で13
5℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マイク
ロメートルのj¥さを有していた。次にこのスクアライ
ン発生層を、50重量%のマークロロンR(ファルヘン
ファブリソケン・バイエルA、 G、から入手したポリ
カーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、
N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル
)−1,1’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを含有
している電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥
後32ミクロンの厚さを有していた。
プリケーターにより、上記のポリエステル樹脂コーティ
ング上に塗布して被覆を形成した。強制空気炉中で13
5℃の温度で5分間乾燥後の乾燥被覆は約0.5マイク
ロメートルのj¥さを有していた。次にこのスクアライ
ン発生層を、50重量%のマークロロンR(ファルヘン
ファブリソケン・バイエルA、 G、から入手したポリ
カーボネート樹脂)中に分散した約50重量%のN、
N−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メチルフェニル
)−1,1’−ビフェニル−4,4′−ジアミンを含有
している電荷輸送層で被覆した。この電荷輸送層は乾燥
後32ミクロンの厚さを有していた。
得られた被覆された装置を電気的に評価するために約−
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約4
00ボルト/secの暗減衰を示した。
1000〜−1200ボルトに帯電させたところ、約4
00ボルト/secの暗減衰を示した。
この暗減衰速度はあまりにも高く、感度の測定は不能で
あった。この対照の実施例は、実施例7の非対称スクア
ライン反応生成物の改良された感度を明らかに示してい
る。
あった。この対照の実施例は、実施例7の非対称スクア
ライン反応生成物の改良された感度を明らかに示してい
る。
以上、好ましい実施態様を参照して本発明を鮮明したが
、本発明はこれらの実施態様に限定されず、当業者であ
れば、本発明の範囲内において各種の変形や修正が可能
である。
、本発明はこれらの実施態様に限定されず、当業者であ
れば、本発明の範囲内において各種の変形や修正が可能
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 +i+ スクアリック酸、約(50℃〜約190℃の4 の式を有する第1の3級アミンおよび 7 11 ミンかもなる混合物を形成し、且つ該混合物を真空下で
上記1級アルコール、上記第1の3級アミンおよび上記
第2の3級アミンψ沸点下で加熱して非対称スクアライ
ン化合物を形成させることからなる非対称スクアライン
化合物の合成方法。 〔但し、上記式中のR+ 、Rz 、RsおよびRhは
、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、フェニル基
および式 を有する基からなる群からそれぞれ無関係に選ばれ、且
つRs 、Ra 、RtおよびR11は、l(、C11
z 、 Cl1tCII+ 、CFl 、 F 、 C
I 、 BrおよびCOO11からなる群からそれぞれ
無関係に選ばれ、R1およびR4の少な(とも1個は、
R1およびR6がR2とR4と同じ相対的位置において
芳香族環上に位 −置する場合は、R7およびR11と
は異なるものであり、そしてR4は、R1,1〜4個の
炭素原子を有するアルキル基、F 、’CI 、 Br
、 COOff 、”CNおよびCtSからなる群か
ら選ばれる。〕 (Sり 混合物が、約1モルのスクアリック酸、約1モ
ル〜約t、 2モルの第1の3級アミンおよび約1モル
〜約1.2モルの第2の3級アミ“ンからなる特許請求
の範囲第(1)項に記載のスクアラインの合成方法。 (3)溶液を真空中で約60〜約130 ’Cの温度に
加熱することを包含する特許請求の範囲第(1)項に記
載のスクアラインの合成方法。 (4)圧力が約5Lorr〜約200 torrの間に
保持される特許請求の範囲第(2)項に記載のスクアラ
インの合成方法。 (5)長鎖脂肪族アルコールが、長鎖脂肪族アルコール
の混合物からなる特許請求の範囲第(1,1項に記載の
スクアラインの合成方法。 (6) 溶液を加熱する前に該溶液に強酸を導入するこ
とを包含する特許請求の範囲第(1)項に記載のスクア
ラインの合成方法。 (7) 下記式を有する非対称スクアライン。 〔但し、上記式中のR,、R2、R9およびR6は、1
〜4の炭素原子を有するアルキル基、フェニル基および
式 からなる群からそれぞれ無関係に選ばれ、R3、R4、
R7およびR8は、H,CI+、3. CII□C11
3゜CFz 、 F + CI + BrおよびCOO
11からなる群からそれぞれ無関係に選ばれるが、R3
およびR4の少なくとも1方は、R1およびR8が芳香
族環上にR3とR4に相当する同じ位置に存在する場合
には、R7およびR8とは異なるものであり、そしてR
7ば、H,1〜4の炭素原子を有するアルキル基、F
、 CI 、 Br 、 C00II 、CNおよびC
F3からなる群から選ばれる。〕 (8)支持基体および下記式を有する非対称スクアライ
ン化合物からなる光導電性層からなる静電写真像形成部
材。 〔但し、上記式中のR+ 、R2、RsおよびIン。 は、1〜4の炭素原子を有するアルキル基、フェニル基
および式 からなる群からそれぞれ無関係に選ばれ、R,l、Ra
、R,およびR8は、H,CI+3 、 CIIzC
H3゜CF3 、 F + CI + BrおよびC0
0IIからなる群がらそれぞれ無関係に選ばれるが、R
1およびR4の少なくとも1方は、R1およびR,が芳
香族環上にR1とR4に相当する同じ位置に存在する場
合にはR1およびR11とは異なるものであり、そして
R9は、H,l〜4の炭素原子を有するアルキル基、F
、 CI 、 Br 、 C00II 、CNおよび
CF、からなる群から選ばれる。〕 (9)支持基体、下記式を有する非対称スクアライン化
合物からなる光導電性層および電荷輸送層からなる静電
写真像形成部材。 〔但し、上記式中のR+ 、R2、RsおよびR6ば、
1〜4の炭素原子を有するアルキル基、フェニル基およ
び式 からなる群からそれぞれ無関係に選ばれ、R1、R,、
R7およびR1は、■]、 C113、cll、cll
、 。 CFs 、 F 、 CI 、 BrおよびC00I+
からなる群からそれぞれ無関係に選ばれるが、R3およ
びR1の少なくとも1方は、R1およびRIIが芳香族
環上にR3とR1に相当する同じ位置に存在する場合に
はR7およびR8とは異なるものであり、そしてR9は
、■1.1〜4の炭素原子を有するアルキル基、F 、
CI 、 Br 、 C00II 、CNおよびCF
、からなる群から選ばれる。〕 00)スクアライン化合物が、樹脂バインダー中に分散
されており、その量が、スクアラインと樹脂バインダー
の総重量の約30重量%〜約50重量%である特許請求
の範囲第(9)項に記載の静電写真像形成部材。 (11) 正孔輸送層が、ジアミン正孔輸送材料からな
る特許請求の範囲第(9ン項に記載の静電写真像形成部
材。 (12) ジアミン正孔輸送材料が、約10重量%〜約
75重量%の量で樹脂バインダー中に分散している特許
請求の範囲第(11)項に記載の静電写真像形成部材。 (13) ジアミン正孔輸送材料用の樹脂バインダーが
、ポリカーボネート、ポリエステルまたはビニルポリマ
ーである特許請求の範囲第(12)項に記載の静電写真
像形成部材。 (14) ジアミン化合物が、高絶縁性且つ透明な有機
樹脂材料中に分散された下記式の分子からなる特許請求
の範囲第(11)項に記載の静電写真像形成部材。 (但し、上記式中のXは、オルソ(C1li ) 、メ
タ(CIlff ) 、パラ(CI+3 ) 、オルソ
(cl)、メタ(CI) 、バラ(CI)からなる群か
ら選ばれる基である。) (15) ジアミンが、N、N’−ジフェニル−N。 N′−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
干千ル)−4,4’−ジアミンからなる特許請求の範囲
第(14)項に記載の静電写真像形成部材。 (16)支持基体が、導、電性金属からなる、特許請求
の範囲第(9)項に記載の静電写真像形成部材。 (17) 支持基体、金早酸、化物からなる正孔ブロッ
キング層、前記スクアラインからなる光導電性層および
正札輸送層からなる特許請求の範囲第(9)項に記載の
静電写真像形成部材。 □ ’(1,8) 支持基体、金属酸化物からなる正孔ブロ
ッキング層、接着層、前記スクアラインからなる光導電
層および正孔輸送層からなる特許請求の範囲第(9)項
に記載′の静電写真像形成部材。 (19)支持基隼・金、属酸化物からなる正孔ブ°・キ
ング層、接着層、前記スクアラインからなる光導電性層
およびジアミン正孔輸送材料からなる正札輸送層からな
る特許請求の範囲、ffi、、19+、、項に記載の静
電写真像形成部材。 (20) lal像形成表面を有する静電写真像形成部
初成表面上に暗所において実質的に均一な静電電荷を付
与し、且つ(e)該像形成部材を像を形成するように活
性i射線に露光して上記均一な静電電荷を選択的に放電
させることによって静電潜像を形成することからなり、
上記の像形成部材が、支持基体、および下記式の非対称
スクアライン化合物からなる光導電性層からなるもので
あることを特徴とする静電写真像形成方法。 〔但し、上記式中のR+ 、RZ 、RsおよびR6は
、1〜4の炭素原子を有する亨ルキル基、フェニル基お
よび弐 ′ ′ からなるIYからそれぞれ無関係に選ばれ、R3,1ン
4、R7およびR,は、11 、C111,Cl12に
113 。 (’、p3. F 、CI 、BrおよびCOO11か
らなる群からそれぞれ無関係に選ばれるが、R3および
R4の少なくとも1方は、R7およびR8が芳香族環上
に123とR4に相当する同し位置に存在する場合には
、R1およびR8とは異なるものであり、そし7 Rq
ハ、H,l〜4の炭素原子を有するアルキル基、F
、 CI 、 Br 、 C00II 、CNおよびC
F3からなる群から選ばれる。〕
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