JPS60139691A - 置換チオフエンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、＠換チオフェンスルホンアミド系化合物又は
それらを有効成分として含有する除草剤に関する。

更に詳しくは、本発明は一般式Ｎ） わさ４するｔｉｌ湊チオフェンス九ホン戸ミド系化合物
又はそゎらを有効成分として含有するｐｊｉ剤である。

を発明の＠換チオフェンスルホンアミド系化合物は、ナ
トリウム、カリウムなどのアルカり金属塩、マグネシウ
ム、カルシウムなとのアルカリ土類金雇塩或いはジメヂ
ル戸ミ□ン、ｉ〜リエチルアミンなどのｐミン塩を形成
することもてきる。

−前記一般式（Ｉ）の本発明４６合物は、例え１ｆ次の
ような方法によって！２造すること〃で゛きる。

（式中２１　及びｚ２は、一方か′アミノノルホニル菫
て々・す、他方は＋、２，３，３．３−ペンタフルオロ
−１−プロ／＜ニル基である。

２８乃びｚ４は、一方ブインシｐブー１スルホニル薯で
′あり、１１１！方］ま１，２，３，３．３−ペンタフ
ルオロ−１−プロ公ニル基で＆る。

Ｒ（ｊアルキル基、アルケニル基又はフェニル基てあり
、Ｘ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２及びＡ　ｔ１前述の通りである。

）上記反応（ま必要に応じて溶媒の存在Ｔで行なわれる
。

溶媒としてＣよ、ベンゼン、トルエン、ギシレン、クロ
ロクンぜンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、四
重イ１４炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリク
ロ０エタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は
非環状脂肪族炭化水素類ニジエチルエーテル、メチルエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロアラニンなど
のエーテル類：アセトン、メチルエチルケトン、メチル
インブチルケトンなどのケトン類・アセトニトリル、プ
ロピオニトリル、アクリロニトリルなどの＝トリル頚、
ジブチルスルホキシド、スルホランなとの非ブロト二）
性極性溶媒ｌど〃挙げられる。

前記［Ａ１反応１こおいて、必要に応じて反ａＳを促進
させるために、１，８−ジアザビジクロ１５，４．Ｏｌ
　−７−ウンゾセシを添加１−２でもよい。また、前記
［８］反応においては、必要に応じて反応を促進さける
だめの触媒として１，４−ジアザビシクロｆ；、２，２
１オクタンを添加してもま（ハ。

前記［Ａ１の反応式中の（ＩＩ　’）で表ゎされる原料
化合物（３、例えば次のような方法で製造することｊ゛
できる。

７■記［８１の反応式中の（Ｎ）で表わされる原料化合
１勿ＩＪ、例λげ５にの、ｔうｔ７５法で製造すること
ガできる。

〈式中Ｒは、Ａチル　エチル、６−ブＯピル、イソプロ
ピルｎ−ブチル、１′ツブデル、Ｓ令Ｃ−ブチル、ｔａ
ｒｔ−ブチルなどのアルキル基である６） 原料化合１勿の製セ＾法における各反応の反応温度、反
応時間、必要に応じて使用される＋ｓ！媒、アルカリ性
物質などの反応条件は、通常同様の反応における反応条
件から適宜選択できる。なお、本発明化合物の一部の化
合物についてば、前記の方法以ダに例えば次の方法で製
造するごともできる。

（式中ＨＡ　Ｌ　＋３ハロゲ〕Ｉ原子てあり、ＲＩ　Ｒ
２及σＡば前述の通っである６） 次にｔＲＲＦｌｌに８１勿１こイ詔乙８Ｎリイ列奄冨己
各（可に、。

合成１５ＩＩ＋−１−［（４，６−シノトキシー１，３
．５−１−リアジン−２−イル）アミノカルボニルｌ　
３−　（１，２，３，３゜３−ペンタフルオロプロへシ
ー１−イル）−２−チオフェンス九ホンｐミ１ミの合成 〔１）窒素気流中、Ｎ−ｔａｒｔ−ブチル−２−ヂオフ
ェンスルンｐミド６．５９をテＩ・ラヒトロフラン＋　
００　＋ｎ　ｕ　ｆこ溶Ｍさせ、０＝＋０℃でｎ−ブチ
ルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（１，６Ｍ）３２ｍｌを
滴下し、１時間撹拌した。その後、０−５℃でトリメチ
ルシリルクロリド５５６９を滴下し、室温で攪拌下１７
Ｂ８間反応させた。反応終了径、生成物を水中に投入し
、塩酸で゛酸性にし、エーテルで′抽出した。抽出層を
水洗、熊本硫酸ナトリウｔ、て乾燥させ、エーテルを減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマト・グラフ（−で・
精製し、結晶をｎ　／＼ギサンで洗浄、乾メ秦して融ａ
＋０２＝１０４℃のＮ−を吻ｒｔ−ブチルー５−トリメ
チルシリル−２−チオフェンスルホンアミド２．７　Ｑ
を得た。

１２］窒素気流中、前記〔１）の方法で得たＩＱ−ｔａ
ｒｔ−ブチル−５−トリメチルシリル−２−チオフェン
スルホンアミド２．０９をエーテル＋　ｏ　ｏ　ｍ　ｉ
　Ｑ溶解・させ、１０−１５℃でｎ−ブチルリチウムの
ｎ％キリンＩＩＦ　ｆｌ　（１，６Ｍ　）　１５　ｍ　
ｌを滴下し、室温で４時間撹拌した。その後、ドライア
イスコンデンサーを取り着け０〜１０℃でヘキサフルオ
ロプロ戸くン１０ｇを導入し、３時間攪拌下に反応させ
た。反応終了後、生成物を水中に投入し、塩酸で酸性に
し、エーテル抽出、水洗、乾燥、エーテルを減圧留去し
、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、融
点９２〜９４℃の１１−を七ｒｔ−ブチル−３−，，（
１１２，，３，３，３−ペンタフルオロプロへ：ノー１
−１′ル）−ｓ−トリメチルシリル−２−チオフェンス
ルホンアミド１．６９を得た。

（３）前記【２）で１１１　！Ｉ　Ｎ　７　ｔａｒｔ−
ブチル−３−（＋、２，３，３ｊ−ペンタフルオロプロ
′くノー１−１′ル）−５−トリメチルシリル−２−チ
オフェンスルホンアミド１．５　ｇ及びトリフルオロ酢
酸４　Ｉｌ＋貝を室温で１３時間撹拌下で・反応させた
。反ｆ；耕了後　生成物を４中に投入し、塩化メチレン
で抽出した。抽出層を浮沈、乾燥させ、塩化メチレンを
減圧留去し、シリカゲルカラム、クロマトグラフィーで
′精製して、融点１２９１４０℃の３−　（＋、２，３
，３，３−公ンタフルオロプロ公ニル−１−イ゛ル＞−
５−ｈリメヂルシリルー２−チオフェンスルホンアミド
０．９３　ｏを得た。。

１日前記【３）で得た３（＋、２，３，３．３−公ンタ
フルオロブ−４＜シー１１−イル）−５−トリメチルシ
リル−２−チオフェンスルホンアミド１ｇ及びＩ・リフ
ルオロメタンスルホン１１１１４ｍ用をＶ扇で・２時間
撹拌下で反応させた。反応終了後、生成物を水中に投入
し、塩化メチレンで・抽出しに０抽出層を水洗、乾燥さ
せ、塩化メチｌノンを減圧留去し、シリカゲルカラムク
ロマ］・グラフィーで・精製して、融点１０８〜１１１
ｔの３−　（Ｌ２，３．３．３−公ンタフルオロブロｌ
くシー１−Ｙル）−２−チオフェンスルホンアミド０６
７ｇを得た。

［５）前記（４）で得ｉ３−　（＋、２，３，３．３−
代ンタフルオロプロ公ンー１−イル）−２−チオフェン
スルホンアミド０．３ｇ及びフェニル−Ｎ−４，６−ジ
メトキシ−１，３，５−トリ戸ジン−２−イルカ−バメ
ート０．３１１９をアセトニトリル４ｍｌに、容解させ
、そこへ１，８−ジ戸ザビシク口［５，４，０１−７−
ウンデセン０．　＋　７５　［１を滴下し、室温で２５
時間撹拌下で反応させた。反応終了後、生成物を水中に
投入し、塩酸で酸性１こして析出した結晶を５濾過、水
洗、乾燥して、融点１４９〜１５３℃の目的↑勿０４７
９を１萼だ。

前述の一般的製造法及び前記合成例に準じて製造した本
発明の具体例を記載する。

化合物−１：　＋１−　［（４，６−シメトキシーｊ、
３．５７トリアジンー２−イル）ｐミノカルボニル）−
３−（Ｌ２，３，３，３−公ンタフルオロブロ公ンー１
−イル）−２−チオフェンスルホンアミドｍ、　ｐ、　
＋　４９〜１５３℃ 化合物１に２　：　Ｎ　−Ｆ　（４，６−シメトキシー
１，３．５−トリアジン−２−イル）７７ミノカルボニ
ル）−２−（＋、２，３，３，３−公ンタフルオロブロ
σンー１−１′ル）−３−チオフェンスルホンアミド＋
ａ、ｐ、＋６０〜１６４℃ 本発明は、シス及びトランスの立体異性体を包含するも
のである。

本発明のｌ１ｌ（１！ヂオフ工ンス九ホンｐミド系化合
物は、後記試験例にみる通り、除草剤の有効成分として
使用した場合（ごｌ！ｌわｉｐ＊草効果を示す。持に水
田に繁茂する有害雑草を、水稲に薬害を与えること無く
選択的に且つ低’！ｌで防除できる。

また、そわら有害雑草が、比較的生育の進んＫものであ
っても防除できるので、本田用除草剤として好適なもの
である。

更には、畑地における有害雑草をも防除できるので゛好
ましいもので今る。

イ発明の、霞草声すの適用範囲は、前述のａ耕地■に、
果樹園、桑園、山林、！道、グランド、工場敷地など多
岐にわたり、また適用方法も土壌処理、茎葉処理を一官
選択できる。

才発明障草削を施用する場合、通常は担体、必要に応じ
て希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、界面活性剤などの各
種補助剤と涙金して１粒剤、水和剤、乳剤、液剤などに
製剤して使用する。有効成分子ヒ金物とＩＩ用補助剤と
の適当な配含菫量比Ｕ、一般）こ０．０５：９９．９５
−９０：Ｔｏ、望ましくは、０．１　：　９９．９−６
０　＋　４０である。有効成分化名物の使用適量は、気
象条件　土壌条件、薬剤の製剤形態、χＪ象Ｑｇ草の種
類、施用時期などの相違により一僚に規定できないが、
一般１．２１７’　−ル当すノ施ｔｎ有効成分１　ｊ　
Ｌ、　ｒ　１１、Ｏ，Ｉ　〜Ｉ　’ＯＯＱ、望ましくは
０．５〜５０９で゛あ６゜ 本発明除草剤は、他のａａａ、　ＩＰ料、土壌、薬害軽
減剤などと混用或い１ま併用することができ、この場合
に−４１１だ効°　果・作用性を示すこと７ｆある。他
の除草剤と混用或いは併用する場合、その混合相手除草
剤の有効成分としては、例えば火のようのものｆ季（ブ
られる。

２．４−ジクロロフェニル−３′−メトキシ−４′−二
トロフェニルエーテル、２．４−ジクロロフェニル−３
′−メトキシヵルボニルー４゛−二トロフェニルエーテ
ル、２−り０ロー２’、６’−ジエチルート１−（ブ１
キジメチル）ｐセトアニリド、２−クロロ−２’、６’
−ジエチルート１−（プロポキシエチル）ｐセトｐ二リ
ド、５−（２−メチル−１−ピ公すジルー力ルポニルメ
ヂル）−０，０−ジーｒ、−ブロビルジヂオホスフェー
ト、５−（４−クロロ■ンジル）ｌ＝１．Ｎ−ジエチル
チオールヵーバメート、Ｓ−エチル−へ、キサヒドロ−
１８−アぜピン−１−カーボチオエート、Ｓ−（＋−メ
チル−１−フェアデル）ピ′くリジン−１−カーボチオ
エート、ｏ、ｏ−ジイソプロピル−５−（２−、。

・Ｘンぜンスルフォニルアミノエチル）ホスフォロジヂ
オエート、５−ｔもｒｔ−ブヂルー３−（２，４−ジク
ロロ−５−イソプロポキシフェニル＞　１．３．４−オ
キサジルゾリン−２−オン、公ンズチｐゾールー２−１
′ルオキシー酢ａ！Ｎ−メチルアニリド、ローエチル−
〇−（３−メチル−６−二トロフエニル）　ｓ＠ｃ−ブ
チルホスホロアミドヂオエート、４−　（２，４−ジク
ロ０■ンゾイル）−１，３−ジメチル−５−フェナシル
オキシピラゾール、４ｍ＜２゜４−ジクロ０■ンゾイル
）−Ｌ３−ジメチルビラゾール−５−イル−ｐ−ｈルエ
ンスルホネート、４−　（２，４−ジクロロ−３−メチ
ル公ンゾ１′ル）　−１，３−ジメチル−５−フェナシ
ルオキシピラゾール、４−アミノ−６１ｔａｒｔ−ブチ
ル−３−メヂルヂオ−１゛・劣７．ａ−トす、アジン−
５ｆ４８１−オン、２−（２−クロロ丁４−エヂルｐミ
ノ−８−１・り戸ジニノー６−了ルアミノ）−２−メチ
ルプロピオニトリル、２−クロロ−４−エチルアミノ−
６−イツブロビルｐミノーＳ−トリアジン、３−　（３
，４−ジクロロフェニル）−１−メトキシ−１−メヂル
ウレア、α−（Ａ−（５−トリフルオロメチル−２−ピ
リジルズギシ）フェノキシ１プロピオンａ贅−１−フ゛
デル、α−（４−（２，Ｊ−ジクロロフェノキシ）フェ
ノキシ）プロピオン酸メチル、２−　（＋−（エトキシ
１′ミノ）−ブチルｌ　−５−（２−エチルヂオブロビ
ル）−３−ヒドロキシ−２−シクロヘキセ−ノー１−オ
ン、３．ａ−′）メチル−２，６−ジニｔ・ロー１１−
１−エチルプロピルｐニリン、α、Ｑ１　α−トリフル
オロ−２，６−シニトローＮ、Ｎ−ジプロピル−ｐ−ト
ル１′ジン、ｌ−クロロ−２’、６’−ジＪチルート１
−くメトキシメチル〉アセト・アニリド、２−クロロ−
１＝１−（２−エチル−６−メチルフェニル）−Ｎ−（
２−メトキシ−１−メチルエチル）アセトｐミド、２−
メトキシ−３，６−ジクロロ安息香酸ジメヂルアミン、
２　Ｓ＠Ｃ−ブチル−４，６−シニトロフエノール、Ｓ
−エチルートｌ、Ｎ−ジーｎ−プロピルチオールカーバ
メート、Ｓ−エチル−Ｎ、Ｎ−ジブチルヂオールカーバ
メート 次に本発明防草剤の試験１？Ｉを記載する。

試験例１ １　／　２．０００７’−ルボントに水田±ＩｌＫを詰
め、タマがヤツリ、コナギ、ホタルイ及びアゼナの種子
並びにウリカワの株茎を播種し、湿潤状態に保った。ホ
タルイか゛１葉期に生育した倹約５ｃｍに潅水し、本発
明化合物の本和剤を水で希釈１７、所定量をピ公ットで
・滴下処理し紅。薬剤処理２１日後に生育状態を肉眼て
観察し、下記の基準（１〜５の５点法）にＮ−ブいて生
育抑制程度を評価し、表１の結果を得た。

生育抑制程度 ５　完全な枯死状態 １：無処理区と同様の生育 表　１ 氷験例２ １　／　５　、Ｏ００７）−ルボット１２水田土壌を詰
め、入水後代掻を行ない、翌日２．５葉期の水稲（品Ｉ
Ｉ：日本晴）をポット当り２本移植した。移植後４８目
ｆこ本発明化合物の本和剤を水で希釈し、所定量をピ公
ットで滴下処理した。薬剤処理３０日後に生育状態を肉
眼で観察し、前記ｔｃ験例１の基準に基ブいて評価し、
表２の結果をｆｌ？ｉ。

表　２ 試験例３ 前記試験例１において、更にノビエの種子を播種するこ
と及び２５菓期の水稲（品種二日本晴）をポット当り２
本８値すること、表３に示す各薬剤を処理すること以ダ
は同様にして試験し、表３の結果を得芝。

表　３ （注）表３中の化合物Ａ及び化合物８は次のものである
。、化合物Ａ：２−クロロ−２′、６’−ジエチル−Ｎ
−（プロポキシエチル）アセトアニリド 化合１ＩＩＢ：２−クロＣｌ−２′、６’−ジエチル−
Ｎ−（ブトギシノヂル）ｐセトアニリド 試験例４゜ 前記試験例３において１．ノビエが２巣期に達したとき
に、表４に示す各薬剤を処Ｉ１１すること以夕１は同１
にして試験し、表４の結果を得た。

表　４ （注）表４中の化合物Ｃ及び化合ＩＪＤは次のものであ
る。

化合物Ｃ：Ｓ−エチル−ヘキサヒトＯ−＋　Ｈ−７７ぜ
ピン−１−カーボチオエート 化合物Ｄ：５−（２−メチル−１−ピ公リジル−カルボ
ニルメチル＞−０，０−ジ−ロープロピルジチオホスフ
ェート 試験例５ ＋　：／＋　、ｏ　ｏ　６アールボツトに畑地土壌を詰
め、大豆、トウモロコシ、オナモミ、ｐサガオ、戸メリ
カキンゴジカ、タデ及びアオビユの種子を播種し、約１
ｃｍの覆土４行ない、翌日本発明除草剤の水和剤を５０
０　’ｌ　／ｈａの量の水に希釈して、有効成分が所定
量となるＪうに土壌表面に均一に散布した。

処理後３０日０に各ｔａ物の生育状態を肉眼で観察し、
１０段階（１：無処理区と同幅〜１０一完全に抑制）で
生育抑制程度を評価し、表５の結果を得た。

ｔｃ験例６，６ １／１．Ｏ’００アールポット・に畑地上ｍを詰め、各
種植物の種子を播種した。その後、植物〃一定の生育段
階に達したとき（トウモロコシ７／４葉期、オナモミ７
／４葉期、アサガオが２粟期、アメリカキンゴジカ７／
２葉期、タデが３葉期及びアオビユ１ｆ２１１［期）、
本発明除草剤の水和剤を５０（１／ｈａの鳳の水で′希
釈して、有効成分が所定量とｔＪるように小型スプレー
で！某処理した。処理ｌｌ３０日目（２各種植物の生育
状態を肉１りでｍ察し、舶記試験例５と同様に１０段階
で生育抑制程度を評価し、表６の結Ｊ！！有得た。

次に、本発明除草剤の製剤例を記載する。

製剤例１゜ （１）ベントナイト　６１１１Ｍ （２）ジ−フライＩ−３３重量部 （３）リグニンスルホン酸ソーダ　５重１部（４）化＠
物Ｎ。、１　１重量部 場上の各成分に適量の造粒所要水を加え、混合、造粒し
て校則を得た。

製剤例２ （１）ジ−クラ１ト　７８壷菫部 （２）ラバ；リンＳ（商品名、第−工業製薬製）　２重
１ｅｔ（（３〉ツルポール５０３９（商品名：東邦化学
工業製〉５重量部 （４）カーブ１ノツクス（商品名、塩野義製薬製）１５
１１．部以上（１）〜（４）の成分の混合物と、化合物
１に２とを４．１の重量割合Ｃ混合して水和剤を得た。

特許出願人　石ｔｉＭ１業株式会社 手続補正書 昭和５９年３月２７日 １、事件の表示　昭和５８年特許願第２４７５１８号２
、　発明の名称　置換子オフエンスルホン７ミド系化合
物及びそれらを含有する除草剤 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 ４、補正命令の日付　自　発 ５、補正の対象　明細書の発明の詳細な説明の欄６、補
正の内容 （１）明細書１２頁１１行目の［本発明は一−−−−Ｊ
の前に下記の化合物Ｎｏ、３及びＮｏ、４を挿入する。

化合物Ｎｏ、３：　Ｎ−（（４，６−シメトキシピリミ
シンー２−イル）・アミ７カルボニル）−３−（１，２
，３゜３．３−ペンタフルオロプロペン−１−イル）−
２−チオフェンスルホンアミド 論、ｐ、１２９〜１３３°Ｃ 化合物Ｎｏ、４：　Ｎ−（（４−メチル−６−メドキシ
ピリミシンー２−４ル）アミノカルボニル）−３−（１
，２，３，３，３−ペンタフルオロプロペン−１−イル
）−２−チオフェンスルホンアミド　鋤、ｐ、１７１〜
１７５℃ （２）明細書１６真の表１中に下記の化合物Ｎｏ、３及
びＮｏ、４に関する評価を挿入する。

以」−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （式中Ｒ１及びＲ２１まメチル基又はメ［−キシ基てあ
   り、Ａは−ｔリ−又は−ＣＨ〜でゐる）である）Ｔ：表
   わさ１１乙置１色ヂオフェンスルホンアミド系化合物及
   びその塩。 ２、一般式 （式中Ｒ１，７３びＲ２はメチル基又はメＥ・キシ基て
   ゛あり、ＡはモＮ−又は−ｃ　＋４−である）て゛ある
   １７表わさＪするＩＩ換チオフェンスルホンアミド系化
   合物及びその塩の少なくとも一種を有効成分として含有
   することを特徴とする除草剤。 一般式 〈式中２１及び２ンは、一方が１．２，３，３．３−ペ
   ンタフルオロ−＋−７０・・；ニ九藁？＋あり、他方は
   ｐミノスルホニル基て９（式中Ｆ１１　及（ｆ　Ｒ’は
   メチル基９！はメトキシ基であり、Δは＝Ｎ−ヌＩｔ　
   ＝　ＣＨ−であり、Ｒはｐルキル基、戸ルケニル埜叉は
   フェニル基である）で表わされる化合物とを反応させる
   ことを特徴とする一般式 〈式中ｐｌ　、　Ｒ２及びＡＬ１前述の通りである）で
   ある）て表わされる置換ヂオフェンスルホンアミド系化
   合物の製造す法。 一般式　３ （式中２嘗及び２４は、一方が１．２，３，３，３−公
   ンタフルオロー１−プロ公ニル基であり、他方はイソシ
   ルナートスルホニル基である）で表わされる化合物と、
   一般式（式中Ｒ１汲びＲ２’（３メチル基又はメトキシ
   基であ゛す、μ（ま−１１−又は−ＣＨ−である）で表
   わされる化名物とを反応させることを特黴とする一般式 （式中Ｒ１、１１１２及びＡは前述の通っである）であ
   る１で表わされるＮ換チオフェンスルホンアミド系化合
   物の製造方法。